JPH04123398A - 複合半導体メモリ装置 - Google Patents
複合半導体メモリ装置Info
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- JPH04123398A JPH04123398A JP2242343A JP24234390A JPH04123398A JP H04123398 A JPH04123398 A JP H04123398A JP 2242343 A JP2242343 A JP 2242343A JP 24234390 A JP24234390 A JP 24234390A JP H04123398 A JPH04123398 A JP H04123398A
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- semiconductor memory
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- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims description 51
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
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- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体メモリ装置に係り、特に大容量かつ低
速度の半導体メモリ装置に関する。
速度の半導体メモリ装置に関する。
従来、半導体メモリ装置においては、余分にメモリセル
を用意しておき、不良ビットを良ビットに置き換えるこ
とにより、いわゆる欠陥救済が行なわれている。第2図
は、アイ・ニス・ニス・シー・シー・ダイジェスト・オ
ブ・テクニカル・ペーパーズ、1981年刊、第80頁
から第81頁(ISSCCDIGEST OF TEC
HNICAL PAPER5,Feb、。
を用意しておき、不良ビットを良ビットに置き換えるこ
とにより、いわゆる欠陥救済が行なわれている。第2図
は、アイ・ニス・ニス・シー・シー・ダイジェスト・オ
ブ・テクニカル・ペーパーズ、1981年刊、第80頁
から第81頁(ISSCCDIGEST OF TEC
HNICAL PAPER5,Feb、。
1981)、pp、8O−81)に記載されている従来
技術の例である。上記従来技術においては、メモリアレ
イの行選択を切り替えることにより、欠陥救済を行なっ
ている。即ち、行選択に必要なすべてのアドレスの出力
線をプログラム素子に接続し、不良行を選択するアドレ
スが入力された場合には、あらかじめプログラム素子に
プログラムしておくことにより、不良行を選択せず、予
備行を選択し、欠陥救済がなされる。
技術の例である。上記従来技術においては、メモリアレ
イの行選択を切り替えることにより、欠陥救済を行なっ
ている。即ち、行選択に必要なすべてのアドレスの出力
線をプログラム素子に接続し、不良行を選択するアドレ
スが入力された場合には、あらかじめプログラム素子に
プログラムしておくことにより、不良行を選択せず、予
備行を選択し、欠陥救済がなされる。
上記従来技術の問題点は、1つの不良行を予備行に置き
換えるために、行選択用アドレス出力線すべてにプログ
ラム素子を接続する必要があることで、半導体メモリ装
置に多数の不良メモリが存在する場合、これらを予備の
良メモリに置き換えるためには、きわめて多数のプログ
ラム素子が必要となる。したがって、例えば、プログラ
ム素子として広く一般に用いられている、レーザ光によ
るポリシリコンヒユーズの切断を利用した場合、多数の
不良メモリの欠陥救済を行なうためには。
換えるために、行選択用アドレス出力線すべてにプログ
ラム素子を接続する必要があることで、半導体メモリ装
置に多数の不良メモリが存在する場合、これらを予備の
良メモリに置き換えるためには、きわめて多数のプログ
ラム素子が必要となる。したがって、例えば、プログラ
ム素子として広く一般に用いられている、レーザ光によ
るポリシリコンヒユーズの切断を利用した場合、多数の
不良メモリの欠陥救済を行なうためには。
多数のプログラム素子を搭載するための面積が大きくな
り、とうてい望ましいチップサイズで所望の半導体メモ
リ装置が実現できない。本発明の解決しようとするmu
は、不良ビットを有する半導体メモリ装置を用いる場合
に、上記プログラム素子の数を大幅に減らすことである
。
り、とうてい望ましいチップサイズで所望の半導体メモ
リ装置が実現できない。本発明の解決しようとするmu
は、不良ビットを有する半導体メモリ装置を用いる場合
に、上記プログラム素子の数を大幅に減らすことである
。
上記目的は9本発明を下記のように構成することにより
達成される。不良ビットを有する半導体メモリ装置にお
いて、一定数のビットグループ単位に順次番地を割付け
る。これら一定数のビットグループには同時に書込みあ
るいは読みだしがなされる場合もあるし、またなされな
くてもよい。
達成される。不良ビットを有する半導体メモリ装置にお
いて、一定数のビットグループ単位に順次番地を割付け
る。これら一定数のビットグループには同時に書込みあ
るいは読みだしがなされる場合もあるし、またなされな
くてもよい。
次に、あらかじめ上記不良ビットを有する半導体メモリ
装置を試験することにより、各番地のビットグループが
良であるか不良であるかの判定を、2値情報として1個
のプログラム素子に記憶させておく。上記不良ビットを
有する半導体メモリ装置を使用する時には、最初に設定
される初期番地から順次プログラム素子の判定により、
不良ビットグループはとばして、良ビットグループのみ
に書込み読みだしを行なうことができる。このとき、プ
ログラム素子の数は、不良ビットグループの数にかかわ
らず一定であり、不良ビットグループの多数存在する半
導体メモリ装置を利用する場合に、特に有効である。
装置を試験することにより、各番地のビットグループが
良であるか不良であるかの判定を、2値情報として1個
のプログラム素子に記憶させておく。上記不良ビットを
有する半導体メモリ装置を使用する時には、最初に設定
される初期番地から順次プログラム素子の判定により、
不良ビットグループはとばして、良ビットグループのみ
に書込み読みだしを行なうことができる。このとき、プ
ログラム素子の数は、不良ビットグループの数にかかわ
らず一定であり、不良ビットグループの多数存在する半
導体メモリ装置を利用する場合に、特に有効である。
一定数のビットからなるビットグループが良あるいは不
良の判定を2値情報としてプログラム素子に記憶させる
ので、不良ビット数あるいは不良ビットグループの数に
かかわらず、プログラム素子の数は一定であり、任意の
不良ビット数を有する半導体メモリ装置に対して適用可
能である。不良ビットグループをとばして半導体メモリ
装置に書き込みあるいは読出しを行うので、書き込み読
出しのサイクル時間が使用する半導体メモリ装置よりも
十分遅くてもよいアプリケーションにきわめて有効であ
る。
良の判定を2値情報としてプログラム素子に記憶させる
ので、不良ビット数あるいは不良ビットグループの数に
かかわらず、プログラム素子の数は一定であり、任意の
不良ビット数を有する半導体メモリ装置に対して適用可
能である。不良ビットグループをとばして半導体メモリ
装置に書き込みあるいは読出しを行うので、書き込み読
出しのサイクル時間が使用する半導体メモリ装置よりも
十分遅くてもよいアプリケーションにきわめて有効であ
る。
以下、本発明の第1の実施例を第1図(a)(b)によ
り説明する。第1図(a)(b)において、1は第1の
半導体メモリ装置であり、本複合半導体メモリ装置に入
力する情報を2値情報として書き込むことができ、また
記憶された2値情報を読みだすことができる。第1の半
導体メモリ装置は、2値情報を書き込み読みたしができ
る半導体メモリ装置であればよい。2は第2のメモリ装
置であり、第1の半導体メモリ装置の記憶単位あるいは
特定数(たとえば8あるいは16あるいは32あるいは
64等)の記憶単位からなる記憶単位グループに正常に
書き込み読みたしができる(良)か、あるいはできない
(不良)かの判定を2値情報として記憶させるためのも
のである。良あるいは不良の判定情報は、最小記憶単位
に2値情報として記憶させることができるので、第2の
メモリ装置のメモリ容量はきわめて小さくてすむ。第2
のメモリ装置としては、ランダムにあるいは連続して書
き込み読みたしができる半導体メモリ装置あるいは読み
だし専用メモリあるいは不揮発性メモリあるいは一般に
半導体メモリ装置の欠陥救済に使用されるプログラム素
子を用いることができる。第1の半導体メモリ装置のそ
れぞれの記憶単位あるいは特定数の記憶単位からなる記
憶単位グループが良か不良かの判定情報は、これら第1
の半導体メモリ装置における記憶単位あるいは特定数の
記憶単位からなる記憶単位グループの番地と同一番地あ
るいは1対1に対応する第2のメモリ装置の番地に記憶
させる。第1図(a)では、上記同一番地が第1の半導
体メモリ装置および第2のメモリ装置に入力され、第1
図(b)においては第1の半導体メモリ装置に入力され
る番地が番地変換部において入力番地と1対1に対応す
る第2のメモリ装置への入力番地に変換される。3は番
地入力部であり、ここから書き込みたいあるいは読みだ
したい第1の半導体メモリ装置の記憶単位あるいは特定
数の記憶単位からなる記憶単位グループの番地が入力さ
れる。Slはスイッチであり、入力された番地にしたが
って第2のメモリ装置から読みだされる判定情報が良で
あればスイッチS1を導通させ、上記入力番地が第1の
半導体メモリ装置に入力され、第1の半導体メモリ装置
の入力番地に対応する記憶単位あるいは特定数の記憶単
位からなる記憶単位グループに書き込みあるいは読みだ
しなされる。第2のメモリ装置から読みだされる判定情
報が不良であればスイッチS1を導通させず、したがっ
て上記入力番地が第1の半導体メモリ装置に入力されず
、第1の半導体メモリ装置の入力番地に対応する記憶単
位あるいは特定数の記憶単位からなる記憶単位グループ
に書き込みあるいは読みだしはなされない。このように
、第1の実施例によれば、きわめて小さなメモリ容量の
第2のメモリ装置を設けることにより、不良となる記憶
単位あるいは特定数の記憶単位からなる記憶単位グルー
プの多少にかかわらず、第1の半導体メモリ装置の良と
判定される記憶単位あるいは特定数の記憶単位からなる
記憶単位グループのみに対して書き込み読みだしのでき
る半導体メモリ装置として利用することができる。
り説明する。第1図(a)(b)において、1は第1の
半導体メモリ装置であり、本複合半導体メモリ装置に入
力する情報を2値情報として書き込むことができ、また
記憶された2値情報を読みだすことができる。第1の半
導体メモリ装置は、2値情報を書き込み読みたしができ
る半導体メモリ装置であればよい。2は第2のメモリ装
置であり、第1の半導体メモリ装置の記憶単位あるいは
特定数(たとえば8あるいは16あるいは32あるいは
64等)の記憶単位からなる記憶単位グループに正常に
書き込み読みたしができる(良)か、あるいはできない
(不良)かの判定を2値情報として記憶させるためのも
のである。良あるいは不良の判定情報は、最小記憶単位
に2値情報として記憶させることができるので、第2の
メモリ装置のメモリ容量はきわめて小さくてすむ。第2
のメモリ装置としては、ランダムにあるいは連続して書
き込み読みたしができる半導体メモリ装置あるいは読み
だし専用メモリあるいは不揮発性メモリあるいは一般に
半導体メモリ装置の欠陥救済に使用されるプログラム素
子を用いることができる。第1の半導体メモリ装置のそ
れぞれの記憶単位あるいは特定数の記憶単位からなる記
憶単位グループが良か不良かの判定情報は、これら第1
の半導体メモリ装置における記憶単位あるいは特定数の
記憶単位からなる記憶単位グループの番地と同一番地あ
るいは1対1に対応する第2のメモリ装置の番地に記憶
させる。第1図(a)では、上記同一番地が第1の半導
体メモリ装置および第2のメモリ装置に入力され、第1
図(b)においては第1の半導体メモリ装置に入力され
る番地が番地変換部において入力番地と1対1に対応す
る第2のメモリ装置への入力番地に変換される。3は番
地入力部であり、ここから書き込みたいあるいは読みだ
したい第1の半導体メモリ装置の記憶単位あるいは特定
数の記憶単位からなる記憶単位グループの番地が入力さ
れる。Slはスイッチであり、入力された番地にしたが
って第2のメモリ装置から読みだされる判定情報が良で
あればスイッチS1を導通させ、上記入力番地が第1の
半導体メモリ装置に入力され、第1の半導体メモリ装置
の入力番地に対応する記憶単位あるいは特定数の記憶単
位からなる記憶単位グループに書き込みあるいは読みだ
しなされる。第2のメモリ装置から読みだされる判定情
報が不良であればスイッチS1を導通させず、したがっ
て上記入力番地が第1の半導体メモリ装置に入力されず
、第1の半導体メモリ装置の入力番地に対応する記憶単
位あるいは特定数の記憶単位からなる記憶単位グループ
に書き込みあるいは読みだしはなされない。このように
、第1の実施例によれば、きわめて小さなメモリ容量の
第2のメモリ装置を設けることにより、不良となる記憶
単位あるいは特定数の記憶単位からなる記憶単位グルー
プの多少にかかわらず、第1の半導体メモリ装置の良と
判定される記憶単位あるいは特定数の記憶単位からなる
記憶単位グループのみに対して書き込み読みだしのでき
る半導体メモリ装置として利用することができる。
第2図(a)(b)に、本発明の第2の実施例を示す。
これら実施例は、第1図(aOb)に判定情報書換え部
93を追加したもので、判定情報書換え部93により、
経時変化により不良記憶単位あるいは不良記憶単位グル
ープが増加した場合に、第2のメモリ装置に記憶されて
いる良不良判定情報を書き替えることができる。
93を追加したもので、判定情報書換え部93により、
経時変化により不良記憶単位あるいは不良記憶単位グル
ープが増加した場合に、第2のメモリ装置に記憶されて
いる良不良判定情報を書き替えることができる。
次に、本発明の第3の実施例を第4図により説明する。
第4図において、1はに個の半導体メモリ装置11から
なる第1の半導体メモリ装置であり、本複合半導体メモ
リ装置に入力する情報を2値情報として書き込むことが
でき、また記憶された2値情報を読みだすことができる
。2は第2のメモリ装置であり、第1の半導体メモリ装
置の記憶単位あるいは特定数の記憶単位からなる記憶単
位グループに正常に書き込み読みたしができる(良)か
、あるいはできない(不良)かの判定を2値情報として
記憶する1本実施例においては、良の判定に1を、不良
の判定に0を記憶させている。Slはスイッチであり、
第2のメモリ装置から読みだされる判定情報が1の場合
スイッチS1は導通、0の場合81は非導通となるよう
設定されている。4はインバータ回路で、第2のメモリ
装置から読みだされる判定情報が入力される。
なる第1の半導体メモリ装置であり、本複合半導体メモ
リ装置に入力する情報を2値情報として書き込むことが
でき、また記憶された2値情報を読みだすことができる
。2は第2のメモリ装置であり、第1の半導体メモリ装
置の記憶単位あるいは特定数の記憶単位からなる記憶単
位グループに正常に書き込み読みたしができる(良)か
、あるいはできない(不良)かの判定を2値情報として
記憶する1本実施例においては、良の判定に1を、不良
の判定に0を記憶させている。Slはスイッチであり、
第2のメモリ装置から読みだされる判定情報が1の場合
スイッチS1は導通、0の場合81は非導通となるよう
設定されている。4はインバータ回路で、第2のメモリ
装置から読みだされる判定情報が入力される。
91は、カウンターから出力される番地に変化が生じた
場合にクロックパルスを発生する回路部であり、−例え
ば第5図の回路構成にて実現することができる。第5図
において、95はPチャネルMOSトランジスター96
はNチャネルMOSトランジスターである。92は遅延
回路であり、91から出力されるクロックパルスを所定
の時間遅延させてクロックパルスCL2を出力する。5
はAND論理素子であり、インバータ4の出力および遅
延回路92から出力されるクロックパルスが入力される
。6はOR論理素子であり、AND論理素子5の出力お
よび本複合半導体メモリ装置を利用する機器のシステム
クロックに相当するクロックパルスCLIが入力される
。7はカウンターであり、起動時に初期番地に設定され
た後。
場合にクロックパルスを発生する回路部であり、−例え
ば第5図の回路構成にて実現することができる。第5図
において、95はPチャネルMOSトランジスター96
はNチャネルMOSトランジスターである。92は遅延
回路であり、91から出力されるクロックパルスを所定
の時間遅延させてクロックパルスCL2を出力する。5
はAND論理素子であり、インバータ4の出力および遅
延回路92から出力されるクロックパルスが入力される
。6はOR論理素子であり、AND論理素子5の出力お
よび本複合半導体メモリ装置を利用する機器のシステム
クロックに相当するクロックパルスCLIが入力される
。7はカウンターであり、起動時に初期番地に設定され
た後。
OR論理素子6の1出力により、カウンターの内容が更
新される。第2の実施例は、クロックパルスCLIの周
期がクロックパルスCL2の周期より十分長い場合であ
る。以下、本実施例の動作を第4図により説明する。番
地情報がカウンター7から出力され第2のメモリ装置に
入力されると、良不良判定情報が第2のメモリ装置から
出力される。判定情報が1 (良)の場合には、スイッ
チS1が導通し上記番地情報が第1の半導体メモリ装置
に入力され、上記番地情報に対応する第1の半導体メモ
リ装置の記憶単位あるいは特定数の記憶単位からなる記
憶単位グループに書き込みあるいは読みだしがなされる
。このとき、インバータ4の出力はOであり、クロック
パルスCL2にかかわらずAND論理素子5の出力はO
となり、したがって次のクロックパルスCLIが入力さ
れるまではOR論理素子6の出力はOであり、カウンタ
ー内容は更新されない。判定情報がO(不良)の場合に
は、スイッチS1は非導通となり、第1の半導体メモリ
装置には書き込みあるいは読みだしがなされす、インバ
ータ4の出力が1となり、クロックパルスCL2が入力
することによりAND論理素子5の出力は1となり、し
たがってクロックパルスCL1にかかわらずOR論理素
子6の出力が1となり、カウンター内容が更新される。
新される。第2の実施例は、クロックパルスCLIの周
期がクロックパルスCL2の周期より十分長い場合であ
る。以下、本実施例の動作を第4図により説明する。番
地情報がカウンター7から出力され第2のメモリ装置に
入力されると、良不良判定情報が第2のメモリ装置から
出力される。判定情報が1 (良)の場合には、スイッ
チS1が導通し上記番地情報が第1の半導体メモリ装置
に入力され、上記番地情報に対応する第1の半導体メモ
リ装置の記憶単位あるいは特定数の記憶単位からなる記
憶単位グループに書き込みあるいは読みだしがなされる
。このとき、インバータ4の出力はOであり、クロック
パルスCL2にかかわらずAND論理素子5の出力はO
となり、したがって次のクロックパルスCLIが入力さ
れるまではOR論理素子6の出力はOであり、カウンタ
ー内容は更新されない。判定情報がO(不良)の場合に
は、スイッチS1は非導通となり、第1の半導体メモリ
装置には書き込みあるいは読みだしがなされす、インバ
ータ4の出力が1となり、クロックパルスCL2が入力
することによりAND論理素子5の出力は1となり、し
たがってクロックパルスCL1にかかわらずOR論理素
子6の出力が1となり、カウンター内容が更新される。
続いて、更新された番地がカウンターから出力されて第
2のメモリ装置に入力され、出力される良不良の判定情
報にしたがって上記と同様の動作がなされる。このよう
にして、最初に設定された番地から、順次良と判定され
る第1の半導体メモリ装置の記憶単位あるいは特定数の
記憶単位からなる記憶単位グループにのみ書き込みある
いは読みだしがなされる。すなわち、第1の半導体メモ
リ装置において不良と判定される第1の半導体メモリ装
置の記憶単位あるいは特定数の記憶単位からなる記憶単
位グループの数にかかわらず、それら記憶単位あるいは
特定数の記憶単位からなる記憶単位グループをとばして
、良と判定される記憶単位あるいは特定数の記憶単位か
らなる記憶単位グループにのみに書き込み読みたしがで
きる。
2のメモリ装置に入力され、出力される良不良の判定情
報にしたがって上記と同様の動作がなされる。このよう
にして、最初に設定された番地から、順次良と判定され
る第1の半導体メモリ装置の記憶単位あるいは特定数の
記憶単位からなる記憶単位グループにのみ書き込みある
いは読みだしがなされる。すなわち、第1の半導体メモ
リ装置において不良と判定される第1の半導体メモリ装
置の記憶単位あるいは特定数の記憶単位からなる記憶単
位グループの数にかかわらず、それら記憶単位あるいは
特定数の記憶単位からなる記憶単位グループをとばして
、良と判定される記憶単位あるいは特定数の記憶単位か
らなる記憶単位グループにのみに書き込み読みたしがで
きる。
第6図は、第3の実施例において特に同一番地により同
時に書き込み読みだしがなされる記憶単位グループがM
個の記憶単位(Mビット)からなる第4の実施例につい
て示したもので、その動作については既に説明した第3
の実施例(第4図)と同様である。第6図において、1
2はM個の記憶単位(Mビット)からなる記憶単位グル
ープ、13は上記M個の記憶単位(Mビット)からなる
記憶単位グループ内の存在する書き込みあるいは読みた
しが正常にされない不良記憶単位、14は第1の半導体
メモリ装置内のすべての上記記憶単位グループに対して
順次つけられた番地。21は第2のメモリ装置内のすべ
ての記憶単位に対して順次つけられた番地であり、上記
第1の半導体メモリ装置内のすべての上記記憶単位グル
ープに対してつけられた番地と同数設けられる。22は
第2のメモリ装置の各記憶単位に記憶される判定情報で
あり、1あるいは0の2値情報からなる。本実施例では
、第1の半導体メモリ装置内の1番地の記憶単位グルー
プには不良記憶単位が含まれず、第2のメモリ装置内の
1番地の記憶単位にはあらかじめ良判定情報1が書き込
まれている。第1の半導体メモリ装置内の2番地の記憶
単位グループには不良記憶単位が含まれるので、第2の
メモリ装置内の2番地の記憶単位にはあらかじめ不良判
定情報Oが書き込まれる。このように、一般に第1の半
導体メモリ装置内のh番地の記憶単位グループに不良記
憶単位が含まれない場合には第2のメモリ装置内のh番
地の記憶単位に良判定情報1があらかじめ書き込まれ、
不良記憶単位が含まれる場合には第2のメモリ装置内の
h番地の記憶単位に不良判定情報Oがあらかじめ書き込
まれる。
時に書き込み読みだしがなされる記憶単位グループがM
個の記憶単位(Mビット)からなる第4の実施例につい
て示したもので、その動作については既に説明した第3
の実施例(第4図)と同様である。第6図において、1
2はM個の記憶単位(Mビット)からなる記憶単位グル
ープ、13は上記M個の記憶単位(Mビット)からなる
記憶単位グループ内の存在する書き込みあるいは読みた
しが正常にされない不良記憶単位、14は第1の半導体
メモリ装置内のすべての上記記憶単位グループに対して
順次つけられた番地。21は第2のメモリ装置内のすべ
ての記憶単位に対して順次つけられた番地であり、上記
第1の半導体メモリ装置内のすべての上記記憶単位グル
ープに対してつけられた番地と同数設けられる。22は
第2のメモリ装置の各記憶単位に記憶される判定情報で
あり、1あるいは0の2値情報からなる。本実施例では
、第1の半導体メモリ装置内の1番地の記憶単位グルー
プには不良記憶単位が含まれず、第2のメモリ装置内の
1番地の記憶単位にはあらかじめ良判定情報1が書き込
まれている。第1の半導体メモリ装置内の2番地の記憶
単位グループには不良記憶単位が含まれるので、第2の
メモリ装置内の2番地の記憶単位にはあらかじめ不良判
定情報Oが書き込まれる。このように、一般に第1の半
導体メモリ装置内のh番地の記憶単位グループに不良記
憶単位が含まれない場合には第2のメモリ装置内のh番
地の記憶単位に良判定情報1があらかじめ書き込まれ、
不良記憶単位が含まれる場合には第2のメモリ装置内の
h番地の記憶単位に不良判定情報Oがあらかじめ書き込
まれる。
このような状態で、既に第3の実施例(第4図)で説明
したような動作がなされ、不良を含まない記憶単位グル
ープだけに順次書き込みあるいは読みだしがなされる。
したような動作がなされ、不良を含まない記憶単位グル
ープだけに順次書き込みあるいは読みだしがなされる。
第7図に第5の実施例を示す。第5の実施例では、第1
の半導体メモリ装置内のM個の記憶単位からなる記憶単
位グループのうち特定のi個については正常に書き込み
あるいは読みだしのできない不良記憶単位の存在にかか
わらず当該記憶単位グループを良とする。このような方
式は、例えば次のような応用の場合に有効である。すな
わち、アナログ情報をA/D変換してディジタル情報と
して第1の半導体メモリ装置に記憶する場合、小さい量
子化電圧に対応する(最下位ビット側の)一部特定数の
記憶単位については正常な書き込み読みたしが行なわれ
なくとも、当該記憶単位グループから記憶情報を出力後
、これらディジタル情報をD/A変換した場合に得られ
るアナログ情報に生じる誤差は小さくてすむ。したがっ
て、要求されるアナログ情報の精度に応じて、最下位ビ
ット側の一部特定数の記憶単位については正常な書き込
み読みたしが行なわれなくとも、当該記憶単位グループ
を良と判定することが可能である。第7図においては、
第1の半導体メモリ装置における2番地の記憶単位グル
ープ内の不良記憶単位が左側iビット内にあるので、上
記2番地の記憶単位グループを良と判定する。したがっ
て、1番地、2番地の記憶単位グループは良、3番地の
記憶単位グループは不良、4番地の記憶単位グループは
良、5番地、6番地の記憶単位グループは不良であり、
第2のメモリ装置の同一番地に良の場合は1)不良の場
合はOが書き込まれている。これ以外の本実施例の動作
は既に述べたとうりである。
の半導体メモリ装置内のM個の記憶単位からなる記憶単
位グループのうち特定のi個については正常に書き込み
あるいは読みだしのできない不良記憶単位の存在にかか
わらず当該記憶単位グループを良とする。このような方
式は、例えば次のような応用の場合に有効である。すな
わち、アナログ情報をA/D変換してディジタル情報と
して第1の半導体メモリ装置に記憶する場合、小さい量
子化電圧に対応する(最下位ビット側の)一部特定数の
記憶単位については正常な書き込み読みたしが行なわれ
なくとも、当該記憶単位グループから記憶情報を出力後
、これらディジタル情報をD/A変換した場合に得られ
るアナログ情報に生じる誤差は小さくてすむ。したがっ
て、要求されるアナログ情報の精度に応じて、最下位ビ
ット側の一部特定数の記憶単位については正常な書き込
み読みたしが行なわれなくとも、当該記憶単位グループ
を良と判定することが可能である。第7図においては、
第1の半導体メモリ装置における2番地の記憶単位グル
ープ内の不良記憶単位が左側iビット内にあるので、上
記2番地の記憶単位グループを良と判定する。したがっ
て、1番地、2番地の記憶単位グループは良、3番地の
記憶単位グループは不良、4番地の記憶単位グループは
良、5番地、6番地の記憶単位グループは不良であり、
第2のメモリ装置の同一番地に良の場合は1)不良の場
合はOが書き込まれている。これ以外の本実施例の動作
は既に述べたとうりである。
第8図は本発明の第6の実施例である。第6の実施例に
おいては、第2のメモリ装置に、第1の半導体メモリ装
置内の当該番地の記憶単位グループが良あるいは不良の
判定情・報に加えて当該番地の記憶単位グループが不良
の場合には当該番地から不良記憶単位グループが連続す
る数(スキップ情報値)をあらかじめ記憶させておく。
おいては、第2のメモリ装置に、第1の半導体メモリ装
置内の当該番地の記憶単位グループが良あるいは不良の
判定情・報に加えて当該番地の記憶単位グループが不良
の場合には当該番地から不良記憶単位グループが連続す
る数(スキップ情報値)をあらかじめ記憶させておく。
以下、本実施例の動作を第8図を用いて説明する。7は
レジスターであり、初期番地設定用スイッチSoにより
初期番地がレジスターに格納され、レジスターに格納さ
れた番地により第2のメモリ装置の良不良判定情報およ
びスキップ情報値が読みだされる。判定が良の場合には
判定情報は1であり、スキップ情報値は常にOである。
レジスターであり、初期番地設定用スイッチSoにより
初期番地がレジスターに格納され、レジスターに格納さ
れた番地により第2のメモリ装置の良不良判定情報およ
びスキップ情報値が読みだされる。判定が良の場合には
判定情報は1であり、スキップ情報値は常にOである。
したがって、スイッチS1が導通し、第1の半導体メモ
リ装置内の当該番地の記憶単位グループに書き込みある
いは読みたしが行なわれ、また、加算器により現番地に
1が加算された値が、クロックパルスCLIによりスイ
ッチS2が導通され次のレジスター内容として格納され
る。判定が不良の場合には、判定情報Oおよびスキップ
情報値として不良記憶単位グループが連続する数が第2
のメモリ装置より出力される。したがって、スイッチS
1は導通されず、第1の半導体メモリ装置内の当該番地
の記憶単位グループには書き込みあるいは読みだしは行
なわれず、加算器により現番地にスキップ情報値が加算
された値が、クロックパルスCL2によりスイッチS2
が導通することにより次のレジスター内容として格納さ
れる。引き続きレジスターに新たに格納された番地によ
り、第2のメモリ装置の良不良判定情報およびスキップ
情報値が読みだされ、良判定の場合はスイッチS1が導
通して第1の半導体メモリ装置内の当該番地の記憶単位
グループに書き込みあるいは読みたしが行なわれ、不良
判定の場合にはスイッチS1は導通されず、第1の半導
体メモリ装置内の当該番地の記憶単位グループには書き
込みあるいは読みだしは行なわれず、加算器によりレジ
スターに格納されている番地に新たなスキップ情報値が
加算された値が、クロックパルスCL2によりスイッチ
S2が導通することにより、再び次のレジスター内容と
して格納される。このようにして、不良記憶単位グルー
プが多数連続する場合には、不良判定情報および連続す
る不良記憶単位グループの数−(スキップ情報値)によ
り正常に書き込み読みだしのできない不良記憶単位グル
ープを少ない時間でとばすことができる。したがって、
クロックパルスCLIの周期とクロックパルスCL2の
周期の差を小さくすることができ、本発明による複合半
導体メモリをさらに高速の周期で用いることができる。
リ装置内の当該番地の記憶単位グループに書き込みある
いは読みたしが行なわれ、また、加算器により現番地に
1が加算された値が、クロックパルスCLIによりスイ
ッチS2が導通され次のレジスター内容として格納され
る。判定が不良の場合には、判定情報Oおよびスキップ
情報値として不良記憶単位グループが連続する数が第2
のメモリ装置より出力される。したがって、スイッチS
1は導通されず、第1の半導体メモリ装置内の当該番地
の記憶単位グループには書き込みあるいは読みだしは行
なわれず、加算器により現番地にスキップ情報値が加算
された値が、クロックパルスCL2によりスイッチS2
が導通することにより次のレジスター内容として格納さ
れる。引き続きレジスターに新たに格納された番地によ
り、第2のメモリ装置の良不良判定情報およびスキップ
情報値が読みだされ、良判定の場合はスイッチS1が導
通して第1の半導体メモリ装置内の当該番地の記憶単位
グループに書き込みあるいは読みたしが行なわれ、不良
判定の場合にはスイッチS1は導通されず、第1の半導
体メモリ装置内の当該番地の記憶単位グループには書き
込みあるいは読みだしは行なわれず、加算器によりレジ
スターに格納されている番地に新たなスキップ情報値が
加算された値が、クロックパルスCL2によりスイッチ
S2が導通することにより、再び次のレジスター内容と
して格納される。このようにして、不良記憶単位グルー
プが多数連続する場合には、不良判定情報および連続す
る不良記憶単位グループの数−(スキップ情報値)によ
り正常に書き込み読みだしのできない不良記憶単位グル
ープを少ない時間でとばすことができる。したがって、
クロックパルスCLIの周期とクロックパルスCL2の
周期の差を小さくすることができ、本発明による複合半
導体メモリをさらに高速の周期で用いることができる。
第9図(a)は本発明の第7の実施例であり、第9図(
b)(c)は本実施例の動作に必要なタロツクパルスC
L○、/CLO,CLIの波形を示したものである。第
9(a)図の実施例では1本発明による複合半導体メモ
リ装置を音声の録音に用いた場合に、音声の再生時に生
じる頭切れの防止が可能となる。以下第9図(a)(b
)(c)により動作を説明する。読みだしを開始したい
番地を初期番地設定スイッチSOを導通させることによ
りカウンターに格納し、読みだしの開始信号によりクロ
ックパルスCLOが低電位にされ(/CLOが高電位に
され)、スイッチS3が導通される。このとき、スイッ
チS4は非導通状態である。カウンター7から出力され
る番地により第2の体メモリ装置から良不良判定情報が
出力され、カウンター8に入力される。カウンター8で
は良判定情報1をカウントし、所定数Noに達するまで
出力端子9に1を出力する。32は可減算カウンターで
あり、9の出力が1である間クロックパルスCL2が高
電位となるたびにAND論理回路素子5の出力が1とな
り、カウンター内容が1ずつ減少する。
b)(c)は本実施例の動作に必要なタロツクパルスC
L○、/CLO,CLIの波形を示したものである。第
9(a)図の実施例では1本発明による複合半導体メモ
リ装置を音声の録音に用いた場合に、音声の再生時に生
じる頭切れの防止が可能となる。以下第9図(a)(b
)(c)により動作を説明する。読みだしを開始したい
番地を初期番地設定スイッチSOを導通させることによ
りカウンターに格納し、読みだしの開始信号によりクロ
ックパルスCLOが低電位にされ(/CLOが高電位に
され)、スイッチS3が導通される。このとき、スイッ
チS4は非導通状態である。カウンター7から出力され
る番地により第2の体メモリ装置から良不良判定情報が
出力され、カウンター8に入力される。カウンター8で
は良判定情報1をカウントし、所定数Noに達するまで
出力端子9に1を出力する。32は可減算カウンターで
あり、9の出力が1である間クロックパルスCL2が高
電位となるたびにAND論理回路素子5の出力が1とな
り、カウンター内容が1ずつ減少する。
所定数NOは、頭切れが生じない記憶単位グループの数
により決められる。上記手順により、カウンター内容は
設定された初期番地より頭切れが生じない記憶単位グル
ープの良と判定される数だけ後戻りした番地に設定され
る。この後、クロックパルスCLOが高電位にされ、即
ちクロックパルス/CLOが低電位にされ、スイッチS
3は非導通となり、スイッチS4が導通となる。したが
って、カウンター32に格納されている番地により第2
のメモリ装置の良不良判定情報が読みだされ、既に第1
〜第6の実施例にて説明したのと同様の手順により第1
の半導体メモリ装置に書き込み読みたしが行なわれる。
により決められる。上記手順により、カウンター内容は
設定された初期番地より頭切れが生じない記憶単位グル
ープの良と判定される数だけ後戻りした番地に設定され
る。この後、クロックパルスCLOが高電位にされ、即
ちクロックパルス/CLOが低電位にされ、スイッチS
3は非導通となり、スイッチS4が導通となる。したが
って、カウンター32に格納されている番地により第2
のメモリ装置の良不良判定情報が読みだされ、既に第1
〜第6の実施例にて説明したのと同様の手順により第1
の半導体メモリ装置に書き込み読みたしが行なわれる。
第10図に本発明の第8の実施例を示す。半導体メモリ
装置においては、第10図の13に示すように、記憶単
位グループ内の特定の記憶単位が連続して不良になる(
いわゆるビット線不良あるいはワード線不良)ことがし
ばしば生じる。このとき第1の半導体メモリ装置内の同
一半導体メモリ装置の記憶単位グループに順次番地を定
めると。
装置においては、第10図の13に示すように、記憶単
位グループ内の特定の記憶単位が連続して不良になる(
いわゆるビット線不良あるいはワード線不良)ことがし
ばしば生じる。このとき第1の半導体メモリ装置内の同
一半導体メモリ装置の記憶単位グループに順次番地を定
めると。
不良となる記憶単位グループの連続数がきわめて大きく
なり、例えば第4の実施例(第6図)であれば、不良記
憶単位グループをスキップするための時間が多大となり
(即ち、必要となるクロックパルスCL2の数がきわめ
て多大となり)必要なりロックパルスCLIの周期内に
良と判定される記憶単位グループに書き込み読出しがで
きなくなる可能性が大きくなる。このような不都合を回
避するためには、第10図に示すように、記憶単位グル
ープへの番地付けを異なる半導体メモリ装置を順次選択
することにより行えば良い。即ち、半導体メモリ装置(
1)の第1の記憶単位グループに1番地、半導体メモリ
装置(2)の第1の記憶単位グループに2番地、・・・
・・・、半導体メモリ装置(K)の第1の記憶単位グル
ープにに番地、半導体メモリ装置(1)の第2の記憶単
位グループにに+1番地、半導体メモリ装置(2)の第
2の記憶単位グループにに+22番地いうように番地付
けを行えば、連続して不良となる記憶単位グループ数は
小さくなり、上述のような不具合は生じなくなる。
なり、例えば第4の実施例(第6図)であれば、不良記
憶単位グループをスキップするための時間が多大となり
(即ち、必要となるクロックパルスCL2の数がきわめ
て多大となり)必要なりロックパルスCLIの周期内に
良と判定される記憶単位グループに書き込み読出しがで
きなくなる可能性が大きくなる。このような不都合を回
避するためには、第10図に示すように、記憶単位グル
ープへの番地付けを異なる半導体メモリ装置を順次選択
することにより行えば良い。即ち、半導体メモリ装置(
1)の第1の記憶単位グループに1番地、半導体メモリ
装置(2)の第1の記憶単位グループに2番地、・・・
・・・、半導体メモリ装置(K)の第1の記憶単位グル
ープにに番地、半導体メモリ装置(1)の第2の記憶単
位グループにに+1番地、半導体メモリ装置(2)の第
2の記憶単位グループにに+22番地いうように番地付
けを行えば、連続して不良となる記憶単位グループ数は
小さくなり、上述のような不具合は生じなくなる。
上で述べた不良となる記憶単位グループの連続数を大き
くしないための他の実施例を第11図に示す。第11図
は第1の半導体メモリ装置を詳細に示したものである。
くしないための他の実施例を第11図に示す。第11図
は第1の半導体メモリ装置を詳細に示したものである。
通常、半導体メモリ装置は複数のメモリアレイブロック
から構成されている。
から構成されている。
第11図において、第1の半導体メモリ装置内の半導体
メモリ装置(1)(2)・・・・・・(K)は、それぞ
れ2個のメモリアレイブロック[1]、[2]、[3]
。
メモリ装置(1)(2)・・・・・・(K)は、それぞ
れ2個のメモリアレイブロック[1]、[2]、[3]
。
・・・・+ [p]から構成されている。第11図13
に示すように、記憶単位グループ内の特定の記憶単位が
連続して不良になるのは、同一メモリアレイブロック内
で生じ、他のメモリアレイブロックで同じ位置の記憶単
位グループについて特定の記憶単位が連続して不良にな
る確率は小さく、さらにすべてのメモリアレイブロック
において同じ位置の記憶単位グループについて特定の記
憶単位が連続して不良になることはきわめてまれである
。したがって、第10図に示すように、記憶単位グルー
プへの番地付けを異なるメモリアレイブロックを順次選
択することにより行えば良い。即ち、メモリアレイブロ
ック[1コの第1の記憶単位グループに1番地、メモリ
アレイブロック[2]の第1の記憶単位グループに2番
地、メモリアレイブロック[3コの第1の記憶単位グル
ープに3番地、・・・・・メモリアレイブロック[p]
の第1の記憶単位グループにp番地、メモリアレイブロ
ック[1]の第2の記憶単位グループにp+1番地、半
導体メモリ装置メモリアレイブロック[2コの第2の記
憶単位グループにp+2番地というように順次番地付け
を行えば、連続して不良となる記憶単位グループ数は小
さくなり、上述のような不具合は生じなくなる。
に示すように、記憶単位グループ内の特定の記憶単位が
連続して不良になるのは、同一メモリアレイブロック内
で生じ、他のメモリアレイブロックで同じ位置の記憶単
位グループについて特定の記憶単位が連続して不良にな
る確率は小さく、さらにすべてのメモリアレイブロック
において同じ位置の記憶単位グループについて特定の記
憶単位が連続して不良になることはきわめてまれである
。したがって、第10図に示すように、記憶単位グルー
プへの番地付けを異なるメモリアレイブロックを順次選
択することにより行えば良い。即ち、メモリアレイブロ
ック[1コの第1の記憶単位グループに1番地、メモリ
アレイブロック[2]の第1の記憶単位グループに2番
地、メモリアレイブロック[3コの第1の記憶単位グル
ープに3番地、・・・・・メモリアレイブロック[p]
の第1の記憶単位グループにp番地、メモリアレイブロ
ック[1]の第2の記憶単位グループにp+1番地、半
導体メモリ装置メモリアレイブロック[2コの第2の記
憶単位グループにp+2番地というように順次番地付け
を行えば、連続して不良となる記憶単位グループ数は小
さくなり、上述のような不具合は生じなくなる。
以上述べてきた実施例では、第2のメモリ装置から良不
良判定情報を記憶する最小記憶単位即ち1ビツトのみ読
みだされることを仮定して述べてきたが、半導体メモリ
装置には複数ビット(例えば、2あるいは4あるいは8
あるいは9あるいは16等)同時に書き込み読出しされ
るものがある。
良判定情報を記憶する最小記憶単位即ち1ビツトのみ読
みだされることを仮定して述べてきたが、半導体メモリ
装置には複数ビット(例えば、2あるいは4あるいは8
あるいは9あるいは16等)同時に書き込み読出しされ
るものがある。
第12図は、rビット同時に書き込み読出しされる半導
体メモリ装置を第2のメモリ装置として用いた場合の本
発明の他の実施例である。第1の半導体メモリ装置に入
力される番地を、同時に読出しされるrビットから1ビ
ツトあるいは特定数の複数ビットを選択するための低次
番地と、第2のメモリ装置からrビットの情報を読みだ
すための高次番地とに分ける。高次番地により同時に読
出しされるrビットの情報は、まず情報−時格納装置3
3に格納される。続いて低次番地により情報−時格納装
M33に格納されているrビットの情報から必要な1あ
るいは特定数の複数ビットが取りだされる。これ以外の
動作は既に上で述べた他の実施例と同様である。
体メモリ装置を第2のメモリ装置として用いた場合の本
発明の他の実施例である。第1の半導体メモリ装置に入
力される番地を、同時に読出しされるrビットから1ビ
ツトあるいは特定数の複数ビットを選択するための低次
番地と、第2のメモリ装置からrビットの情報を読みだ
すための高次番地とに分ける。高次番地により同時に読
出しされるrビットの情報は、まず情報−時格納装置3
3に格納される。続いて低次番地により情報−時格納装
M33に格納されているrビットの情報から必要な1あ
るいは特定数の複数ビットが取りだされる。これ以外の
動作は既に上で述べた他の実施例と同様である。
第13図は、第12図の実施例において特に第2のメモ
リ装置から同時に8ビツトの情報が読みだされる場合の
実施例で、高次番地としてはA3以上の番地が第2のメ
モリ装置に入力され、低次番地としてA2AIAOの番
地が情報−時格納装置33に入力され、情報−時格納装
置33に格納されている情報から1ビツトをとりだし、
スイッチS1に入力することができる。
リ装置から同時に8ビツトの情報が読みだされる場合の
実施例で、高次番地としてはA3以上の番地が第2のメ
モリ装置に入力され、低次番地としてA2AIAOの番
地が情報−時格納装置33に入力され、情報−時格納装
置33に格納されている情報から1ビツトをとりだし、
スイッチS1に入力することができる。
本発明の他の実施例を第14図に示す。第14図の実施
例においては、不良と判定される記憶単位グループのか
わりに、他の良と判定される記憶単位グループに書き込
み読みだしを行なう。初期番地設定スイッチSOにより
カウンター7に初期番地が設定され、同時に初期番地が
変換回路部34に入力されて変換回路部34の8力によ
りカウンター35が初期設定される。次に、カウンター
7から出力される番地が第2のメモリ装置に入力され、
良不良の判定情報が38に出力される。
例においては、不良と判定される記憶単位グループのか
わりに、他の良と判定される記憶単位グループに書き込
み読みだしを行なう。初期番地設定スイッチSOにより
カウンター7に初期番地が設定され、同時に初期番地が
変換回路部34に入力されて変換回路部34の8力によ
りカウンター35が初期設定される。次に、カウンター
7から出力される番地が第2のメモリ装置に入力され、
良不良の判定情報が38に出力される。
判定情報が良(1)の場合は、スイッチS1が導通され
、既にカウンター7から出力されている番地が第1の半
導体メモリ装置に入力され、第1の半導体メモリ装置に
書き込みあるいは読みだしがなされる。判定情報が不良
(0)の場合は、第2のメモリ装置の出力線38に0が
出力されるため、スイッチS1は導通されず、インバー
タ36の出力がカウンター35に入力され、カウンター
内容が更新され、更新されたカウンター内容により第3
のメモリ族[37に格納されている第1の半導体メモリ
装置内の良なる記憶単位グループの番地が出力[39に
出力される。同時にインバータ36の出力が1であるの
で、スイッチS5が導通され出力線39に出力された番
地が第1の半導体メモリ装置に入力され、入力された番
地の第1の半導体メモリ装置の記憶単位グループに書き
込みあるいは読みだしがなされる。第14図の実施例は
、第3のメモリ装置37に格納される第1の半導体メモ
リ装置の良なる記憶単位グループの番地を、最終番地側
から順次入力した場合である。
、既にカウンター7から出力されている番地が第1の半
導体メモリ装置に入力され、第1の半導体メモリ装置に
書き込みあるいは読みだしがなされる。判定情報が不良
(0)の場合は、第2のメモリ装置の出力線38に0が
出力されるため、スイッチS1は導通されず、インバー
タ36の出力がカウンター35に入力され、カウンター
内容が更新され、更新されたカウンター内容により第3
のメモリ族[37に格納されている第1の半導体メモリ
装置内の良なる記憶単位グループの番地が出力[39に
出力される。同時にインバータ36の出力が1であるの
で、スイッチS5が導通され出力線39に出力された番
地が第1の半導体メモリ装置に入力され、入力された番
地の第1の半導体メモリ装置の記憶単位グループに書き
込みあるいは読みだしがなされる。第14図の実施例は
、第3のメモリ装置37に格納される第1の半導体メモ
リ装置の良なる記憶単位グループの番地を、最終番地側
から順次入力した場合である。
以上述べてきた本発明の実施例においては、第1の半導
体メモリ装置、第2のメモリ装置、スイッチ、カウンタ
ー、レジスター、インバータ。
体メモリ装置、第2のメモリ装置、スイッチ、カウンタ
ー、レジスター、インバータ。
AND論理素子、OR論理素子、加算器、変換素子、あ
るいは第3のメモリ装置等を個別の装置としてきたが、
当然のことながら、これらのすべであるいは一部を同一
チップ内に搭載したLSIチップとして実現することも
可能である。第15図(a)は、第1図(a)の実施例
を1チツプに搭載した本発明の他の実施例であり、第1
5図(b)は、第1図(b)の実施例を1チツプに搭載
した本発明の他の実施例である。また、第16図は、第
6図の実施例を1チツプに搭載した本発明の他の実施例
である。このように、第1図から第14図までの本発明
の実施例について、それぞれその実施例を構成するため
に必要な素子のすべであるいは一部を1チツプ化して実
現することができる。
るいは第3のメモリ装置等を個別の装置としてきたが、
当然のことながら、これらのすべであるいは一部を同一
チップ内に搭載したLSIチップとして実現することも
可能である。第15図(a)は、第1図(a)の実施例
を1チツプに搭載した本発明の他の実施例であり、第1
5図(b)は、第1図(b)の実施例を1チツプに搭載
した本発明の他の実施例である。また、第16図は、第
6図の実施例を1チツプに搭載した本発明の他の実施例
である。このように、第1図から第14図までの本発明
の実施例について、それぞれその実施例を構成するため
に必要な素子のすべであるいは一部を1チツプ化して実
現することができる。
第17図に、本発明の他の実施例を示す。第17図の実
施例では、第2のメモリ装置を用いるかわりに、プログ
ラム素子57を用いて本発明を実現したものである。プ
ログラム素子57は、例えば第18図(a)あるいは第
18図(b)の構成で実現できる。第18図(a)にお
いて、76はヒユーズ素子である。ヒユーズ素子は、通
常は低抵抗の導通状態にあり、例えばレーザ光を照射す
る等により断線させて、非導通状態にすることができる
。71はゲート幅が小さくゲート長の大きなPチャネル
型MOSトランジスタであり、入力信号C3Bを低電位
とすることによりきわめて小さな電流(1〜100μ八
程度)を流すことができる。72はPチャネル型MO8
)−ランジスタであり、そのゲート電位が低電位とされ
たときの等価抵抗値はヒユーズ素子73の抵抗値よりも
十分高い値に設定される。74)および75はインバー
タ素子である。第18図(a)の動作は次のように説明
される。まず、C3Bが低電位とされ本回路が動作状態
となる。ヒユーズ素子73が導通している場合は、ヒユ
ーズ素子73の抵抗値がPチャネル型MOSトランジス
タ71.72両者のオン抵抗値よりも十分低い値となる
ため、ノード76は十分低い電位(はぼ接地電位付近)
となる。したがって、インバータ74の出力は高電位(
Vcc)となり、インバータ75の出力は低電位(接地
レベル)となる。このとき、Pチャネル型MOSトラン
ジスタ72のゲート電位は高電位となっており、ノード
73の電位が低電位であることを妨げない。次に、ヒユ
ーズ素子76が非導通となった場合は、導通状態にある
Pチャネル型MOS)−ランジスタフ1によりノード7
3が高電位となり、インバータ74の出力は低電位(接
地レベル)となる。したがって、Pチャネル型MOSト
ランジスタ72のゲート電位は低電位となり、Pチャネ
ル型MOSトランジスタ72が導通状態となるので、ノ
ード73の電位が高電位に保持される。また、インバー
タ75の出力は高電位となる。第18図(b)の場合8
6はヒユーズ素子である。81はやはりゲート幅が小さ
くゲート長の大きなNチャネル型MOSトランジスタで
あり、入力信号C8を高電位とすることによりきわめて
小さな電流(1〜100μ八程度)を流すことができる
。82はNチャネル型MOSトランジスタであり、その
ゲート電位が高電位とされたときの等価抵抗値はヒユー
ズ素子83の抵抗値よりも十分高い値に設定される。8
4および85はインバータ素子である。第18図(b)
の動作は次のように説、明される。まず、C8が高電位
とされ本回路が動作状態となる。ヒユーズ素子86が導
通している場合は、ヒユーズ素子86の抵抗値がNチャ
ネル型MOSトランジスタ81.82両者のオン抵抗値
よりも十分低い値となるため、ノード83は十分高い電
位(はぼVcc電位付近)となる。
施例では、第2のメモリ装置を用いるかわりに、プログ
ラム素子57を用いて本発明を実現したものである。プ
ログラム素子57は、例えば第18図(a)あるいは第
18図(b)の構成で実現できる。第18図(a)にお
いて、76はヒユーズ素子である。ヒユーズ素子は、通
常は低抵抗の導通状態にあり、例えばレーザ光を照射す
る等により断線させて、非導通状態にすることができる
。71はゲート幅が小さくゲート長の大きなPチャネル
型MOSトランジスタであり、入力信号C3Bを低電位
とすることによりきわめて小さな電流(1〜100μ八
程度)を流すことができる。72はPチャネル型MO8
)−ランジスタであり、そのゲート電位が低電位とされ
たときの等価抵抗値はヒユーズ素子73の抵抗値よりも
十分高い値に設定される。74)および75はインバー
タ素子である。第18図(a)の動作は次のように説明
される。まず、C3Bが低電位とされ本回路が動作状態
となる。ヒユーズ素子73が導通している場合は、ヒユ
ーズ素子73の抵抗値がPチャネル型MOSトランジス
タ71.72両者のオン抵抗値よりも十分低い値となる
ため、ノード76は十分低い電位(はぼ接地電位付近)
となる。したがって、インバータ74の出力は高電位(
Vcc)となり、インバータ75の出力は低電位(接地
レベル)となる。このとき、Pチャネル型MOSトラン
ジスタ72のゲート電位は高電位となっており、ノード
73の電位が低電位であることを妨げない。次に、ヒユ
ーズ素子76が非導通となった場合は、導通状態にある
Pチャネル型MOS)−ランジスタフ1によりノード7
3が高電位となり、インバータ74の出力は低電位(接
地レベル)となる。したがって、Pチャネル型MOSト
ランジスタ72のゲート電位は低電位となり、Pチャネ
ル型MOSトランジスタ72が導通状態となるので、ノ
ード73の電位が高電位に保持される。また、インバー
タ75の出力は高電位となる。第18図(b)の場合8
6はヒユーズ素子である。81はやはりゲート幅が小さ
くゲート長の大きなNチャネル型MOSトランジスタで
あり、入力信号C8を高電位とすることによりきわめて
小さな電流(1〜100μ八程度)を流すことができる
。82はNチャネル型MOSトランジスタであり、その
ゲート電位が高電位とされたときの等価抵抗値はヒユー
ズ素子83の抵抗値よりも十分高い値に設定される。8
4および85はインバータ素子である。第18図(b)
の動作は次のように説、明される。まず、C8が高電位
とされ本回路が動作状態となる。ヒユーズ素子86が導
通している場合は、ヒユーズ素子86の抵抗値がNチャ
ネル型MOSトランジスタ81.82両者のオン抵抗値
よりも十分低い値となるため、ノード83は十分高い電
位(はぼVcc電位付近)となる。
したがって、インバータ84の出力は低電位(はぼ接地
電位)となり、Nチャネル型MOSトランジスタ82の
ゲート電位は低電位となり、ノード83の電位が低電位
であることを妨げない。次に、ヒユーズ素子86が非導
通の場合は、導通状態にあるNチャネル型MO8)−ラ
ンジスタ81によりノード83が低電位となり、インバ
ータ84の出力は高電位(はぼVccレベル)となる。
電位)となり、Nチャネル型MOSトランジスタ82の
ゲート電位は低電位となり、ノード83の電位が低電位
であることを妨げない。次に、ヒユーズ素子86が非導
通の場合は、導通状態にあるNチャネル型MO8)−ラ
ンジスタ81によりノード83が低電位となり、インバ
ータ84の出力は高電位(はぼVccレベル)となる。
したがって、Nチャネル型MOSトランジスタ82のゲ
ート電位は高電位となり、Nチャネル型MOSトランジ
スタ82が導通状態となるので、ノード83の電位が低
電位に保持される。また、インバータ85の出力87は
低電位となる。このように、第18図(a)のプログラ
ム素子は、ヒユーズ素子が導通状態のときには出カフ7
は低電位(接地電位)となり、ヒユーズ素子が切断され
非導通状態となることにより出カフ7は高電位(Vcc
電位)となる。また、第18図(b)のプログラム素子
は、ヒユーズ素子が導通状態のときには出力87は高電
位(Vcc電位)となり、ヒユーズ素子が切断され非導
通状態となることにより出力87は低電位(接地電位)
となる。これは、第18図(a)あるいは第18図(b
)の回路素子が、1ビツトの2値情報を記憶するメモリ
素子として使用できることを意味する。
ート電位は高電位となり、Nチャネル型MOSトランジ
スタ82が導通状態となるので、ノード83の電位が低
電位に保持される。また、インバータ85の出力87は
低電位となる。このように、第18図(a)のプログラ
ム素子は、ヒユーズ素子が導通状態のときには出カフ7
は低電位(接地電位)となり、ヒユーズ素子が切断され
非導通状態となることにより出カフ7は高電位(Vcc
電位)となる。また、第18図(b)のプログラム素子
は、ヒユーズ素子が導通状態のときには出力87は高電
位(Vcc電位)となり、ヒユーズ素子が切断され非導
通状態となることにより出力87は低電位(接地電位)
となる。これは、第18図(a)あるいは第18図(b
)の回路素子が、1ビツトの2値情報を記憶するメモリ
素子として使用できることを意味する。
さて、このようなプログラム素子を用いる実施例を第1
7図により説明する。AO,Al、・・・・・Anは最
初の番地を指定するためのアドレス信号であり、アドレ
スバッファ51を経た後、初期値設定信号により初期値
設定用ゲート52が開き、カウンター53に入力され番
地情報としてカウンター内容が設定される。次に、カウ
ンター53から出力される番地情報がデコーダ56に入
力され。
7図により説明する。AO,Al、・・・・・Anは最
初の番地を指定するためのアドレス信号であり、アドレ
スバッファ51を経た後、初期値設定信号により初期値
設定用ゲート52が開き、カウンター53に入力され番
地情報としてカウンター内容が設定される。次に、カウ
ンター53から出力される番地情報がデコーダ56に入
力され。
デコーダの出力線1,2.・・・・・・、にのうち唯1
本のみ高電位とされ他のすへての出力線は低電位状態と
なる。57は、例えば第18図(b)の回路構成で得ら
れるプログラム素子である。あらかじめ、カウンターか
ら出力される番地により選択される第1の半導体メモリ
部の記憶単位グループが良と判定される場合には、当該
番地により選択されるデコーダ56の出力線に設けられ
るプログラム素子のヒユーズ素子を切断せず導通状態と
しておき、不良と判定される場合には同プログラム素子
のヒユーズ素子を切断して非導通状態としておく。即ち
、第1の半導体メモリ部の記憶単位グループが良と判定
される場合にはプログラム素子の出力を高電位に、不良
と判定される場合にはプログラム素子の出力を低電位に
設定しておく。デコーダ出力線59が高電位となると、
スイッチ58が導通される。良と判定される記憶単位グ
ループを選択にいった場合には出力共通線60が高電位
となり、ゲート54が開き、またコントロール回路によ
り第1の半導体メモリ部が動作状態となり、上記番地で
選択される記憶単位グループに書き込みあるいは読出し
がなされる。不良と判定される記憶単位グループを選択
にいった場合には出力共通線60が低電位となり、ゲー
ト54は開かず、また第1の半導体メモリ部は待機状態
となり、上記番地で選択される第1の半導体メモリ部の
記憶単位グループに書き込みあるいは読出しはなされな
い。このときは、第6図で説明したように論理素子4,
5.6とクロックパルスCL2によりカウンター53の
内容が1だけ増加し、更新されたカウンター53の内容
が再びデコーダ56に入力され、上で説明したのと同じ
手順が繰り返され、第1の半導体メモリ部の良と判定さ
れる記憶単位グループのみに書き込みあるいは読出しが
なされる。
本のみ高電位とされ他のすへての出力線は低電位状態と
なる。57は、例えば第18図(b)の回路構成で得ら
れるプログラム素子である。あらかじめ、カウンターか
ら出力される番地により選択される第1の半導体メモリ
部の記憶単位グループが良と判定される場合には、当該
番地により選択されるデコーダ56の出力線に設けられ
るプログラム素子のヒユーズ素子を切断せず導通状態と
しておき、不良と判定される場合には同プログラム素子
のヒユーズ素子を切断して非導通状態としておく。即ち
、第1の半導体メモリ部の記憶単位グループが良と判定
される場合にはプログラム素子の出力を高電位に、不良
と判定される場合にはプログラム素子の出力を低電位に
設定しておく。デコーダ出力線59が高電位となると、
スイッチ58が導通される。良と判定される記憶単位グ
ループを選択にいった場合には出力共通線60が高電位
となり、ゲート54が開き、またコントロール回路によ
り第1の半導体メモリ部が動作状態となり、上記番地で
選択される記憶単位グループに書き込みあるいは読出し
がなされる。不良と判定される記憶単位グループを選択
にいった場合には出力共通線60が低電位となり、ゲー
ト54は開かず、また第1の半導体メモリ部は待機状態
となり、上記番地で選択される第1の半導体メモリ部の
記憶単位グループに書き込みあるいは読出しはなされな
い。このときは、第6図で説明したように論理素子4,
5.6とクロックパルスCL2によりカウンター53の
内容が1だけ増加し、更新されたカウンター53の内容
が再びデコーダ56に入力され、上で説明したのと同じ
手順が繰り返され、第1の半導体メモリ部の良と判定さ
れる記憶単位グループのみに書き込みあるいは読出しが
なされる。
第19図は、本発明の第16の実施例である。
上述した複合半導体メモリ装置の入出力に信号変換装置
を接続することにより、2値のディジタル信号の信号に
たいしても本発明が利用可能である。
を接続することにより、2値のディジタル信号の信号に
たいしても本発明が利用可能である。
第20図は、本発明の第17の実施例であり、第16の
実施例(第19図)において特に複合半導体メモリ装置
の入力部の信号変換装置としてA/D変換装置を、複合
半導体メモリ装置の出力部の信号変換装置としてD/A
変換装置を接続したものである。本実施例によれば、音
声信号、画像信号等一般にアナログ信号の記憶再生に用
いることができる。
実施例(第19図)において特に複合半導体メモリ装置
の入力部の信号変換装置としてA/D変換装置を、複合
半導体メモリ装置の出力部の信号変換装置としてD/A
変換装置を接続したものである。本実施例によれば、音
声信号、画像信号等一般にアナログ信号の記憶再生に用
いることができる。
第21図は本発明の第18の実施例であり、特に良不良
判定部を第1の半導体メモリ装置内に設けたもので、第
2のメモリ装置を設けることなく、本発明の複合半導体
メモリ装置が実現できる。
判定部を第1の半導体メモリ装置内に設けたもので、第
2のメモリ装置を設けることなく、本発明の複合半導体
メモリ装置が実現できる。
本発明によれば、不良ビットを有する半導体メモリ装置
において、半導体メモリ装置のそれぞれの記憶単位グル
ープに対して1ビツトの良不良判定情報を第2のメモリ
装置に記憶させることにより、小容量の第2のメモリ装
置を用意することで。
において、半導体メモリ装置のそれぞれの記憶単位グル
ープに対して1ビツトの良不良判定情報を第2のメモリ
装置に記憶させることにより、小容量の第2のメモリ装
置を用意することで。
任意の数の不良ビットを有する半導体メモリ装置の良記
憶単位グループのみに書き込みあるいは読みたしができ
る。したがって、従来不良半導体メモリ装置として利用
できなかった、多数の不良ビットを有する半導体メモリ
装置を利用できるようになり、きわめて安価かつ大容量
の半導体メモリ装置を実現できる。
憶単位グループのみに書き込みあるいは読みたしができ
る。したがって、従来不良半導体メモリ装置として利用
できなかった、多数の不良ビットを有する半導体メモリ
装置を利用できるようになり、きわめて安価かつ大容量
の半導体メモリ装置を実現できる。
第1図は、本発明の第1の実施例、第2図は。
本発明の第2の実施例、第3図は従来技術例、第4図は
、本発明の第3の実施例、第5図は本発明の実施例の中
で用いるクロックパルス発生回路、第6図は本発明の第
4の実施例、第7図は本発明の第5の実施例、第8図は
本発明の第6の実施例、第9図(a)は本発明の第7の
実施例、第9図(b)(c)は第7の実施例の動作説明
のためのクロックパルス波形図、第10図は本発明の第
8の実施例、第11図は本発明の第9の実施例、第12
図は本発明の第10の実施例、第13図は本発明の第1
1の実施例、第14図は本発明の第12の実施例、第1
5図は本発明の第13の実施例、第16図は本発明の第
14の実施例、第17図は本発明の第15の実施例、第
18図は第15の実施例で用いるプログラム素子の回路
例、第19図は本発明の第16の実施例、第20図は本
発明の第17の実施例、第21図は本発明の第18の実
施例である。 1・・第1の半導体メモリ装置、2・・・第2のメモリ
装置、3・・・番地入力線、4・・・インバータ、5・
・・AND論理素子、6・・・OR論理素子、7・・・
カウンター、8・・・カウンター、11・・・半導体メ
モリ装置、12・・・記憶単位グループ、13・・・不
良記憶単位、14・・・記憶単位グループに割り付けた
番地、21・・・第2のメモリ装置の番地、22・・・
良不良判定情報、31・・・加算器、32・・・番地変
換部、33・・情報−時格納装置、34・・・番地変換
部、35・・・カウンター、36・・・インバーター、
37・・・第3のメモリ装置、38・・・第2のメモリ
装置の出力、39・・・第3のメモリ装置の出力、51
・・・アドレスバッファ、52・・・初期値設定用ゲー
ト、53・・・カウンター、54・・・ゲート、55・
・・第1の半導体メモリ装置、56・・・デコーダ、5
7・・・プログラム素子、58・・・スイッチ、60・
・・プログラム素子の共通出力線、71,72.95−
PチャネルMoSトランジスタ、73,83・・・ノー
ド、74,75゜84.85・・・インバータ、77.
87・・・出力端子、81.82,96・・・Nチャネ
ルMoSトランジスタ、76.86・・・ヒユーズ素子
、91・・・番地遷移時クロックパルス発生部、92・
・・遅延回路、100゜101・・・1チツプ化された
本発明の実施例、110・・・第1の半導体メモリ装置
の良不良判定記憶部、101・・・第1の半導体メモリ
装置のデータ記憶部。 So、Sl、82.S3.S4.S5・スイッチ、CL
O,/CLO,CLI、CL2=−りo、7クバ纂 I 図(、L) 鷺 目 (b) z 図 (a) 不 凹 (bン ■ 図 図 CLZ−一口flJ”’L −u 鷺 を 図 CLZ−」U七1・・・」シー− 纂 図 ctz −−−jl−一−■ 図 ctz z 、 、 、−ロー 軍 図 ((i) CLZ−」1njし・・・−ロー (、l−1 CL) 図 (b) 鏡上(吟 冨 lρ 図 CL2−」1n」[・・・−ロー 1z 図 1−1の斗j翠仏メ(シリ1E1【 (デ′−タ鏝容P) 竿 !3 図 図 第 図 図(b) r /乙 図 Cl3−」1n」し°°°−ロー Cl3−!「UUt・−口− 不ls図 <a) 第13 図(b) ■ 図
、本発明の第3の実施例、第5図は本発明の実施例の中
で用いるクロックパルス発生回路、第6図は本発明の第
4の実施例、第7図は本発明の第5の実施例、第8図は
本発明の第6の実施例、第9図(a)は本発明の第7の
実施例、第9図(b)(c)は第7の実施例の動作説明
のためのクロックパルス波形図、第10図は本発明の第
8の実施例、第11図は本発明の第9の実施例、第12
図は本発明の第10の実施例、第13図は本発明の第1
1の実施例、第14図は本発明の第12の実施例、第1
5図は本発明の第13の実施例、第16図は本発明の第
14の実施例、第17図は本発明の第15の実施例、第
18図は第15の実施例で用いるプログラム素子の回路
例、第19図は本発明の第16の実施例、第20図は本
発明の第17の実施例、第21図は本発明の第18の実
施例である。 1・・第1の半導体メモリ装置、2・・・第2のメモリ
装置、3・・・番地入力線、4・・・インバータ、5・
・・AND論理素子、6・・・OR論理素子、7・・・
カウンター、8・・・カウンター、11・・・半導体メ
モリ装置、12・・・記憶単位グループ、13・・・不
良記憶単位、14・・・記憶単位グループに割り付けた
番地、21・・・第2のメモリ装置の番地、22・・・
良不良判定情報、31・・・加算器、32・・・番地変
換部、33・・情報−時格納装置、34・・・番地変換
部、35・・・カウンター、36・・・インバーター、
37・・・第3のメモリ装置、38・・・第2のメモリ
装置の出力、39・・・第3のメモリ装置の出力、51
・・・アドレスバッファ、52・・・初期値設定用ゲー
ト、53・・・カウンター、54・・・ゲート、55・
・・第1の半導体メモリ装置、56・・・デコーダ、5
7・・・プログラム素子、58・・・スイッチ、60・
・・プログラム素子の共通出力線、71,72.95−
PチャネルMoSトランジスタ、73,83・・・ノー
ド、74,75゜84.85・・・インバータ、77.
87・・・出力端子、81.82,96・・・Nチャネ
ルMoSトランジスタ、76.86・・・ヒユーズ素子
、91・・・番地遷移時クロックパルス発生部、92・
・・遅延回路、100゜101・・・1チツプ化された
本発明の実施例、110・・・第1の半導体メモリ装置
の良不良判定記憶部、101・・・第1の半導体メモリ
装置のデータ記憶部。 So、Sl、82.S3.S4.S5・スイッチ、CL
O,/CLO,CLI、CL2=−りo、7クバ纂 I 図(、L) 鷺 目 (b) z 図 (a) 不 凹 (bン ■ 図 図 CLZ−一口flJ”’L −u 鷺 を 図 CLZ−」U七1・・・」シー− 纂 図 ctz −−−jl−一−■ 図 ctz z 、 、 、−ロー 軍 図 ((i) CLZ−」1njし・・・−ロー (、l−1 CL) 図 (b) 鏡上(吟 冨 lρ 図 CL2−」1n」[・・・−ロー 1z 図 1−1の斗j翠仏メ(シリ1E1【 (デ′−タ鏝容P) 竿 !3 図 図 第 図 図(b) r /乙 図 Cl3−」1n」し°°°−ロー Cl3−!「UUt・−口− 不ls図 <a) 第13 図(b) ■ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)少なくとも1個の半導体メモリ装置により構成され
る第1の半導体メモリ装置において、上記第1の半導体
メモリ装置には、書き込みあるいは読みだしのできない
不良記憶単位あるいは不良記憶単位グループを少なくと
も1個有し、上記不良記憶単位あるいは不良記憶単位グ
ループの記憶番地に関する情報をあらかじめ記憶させて
おく第2のメモリ装置をすくなくとも1個有し、上記第
2のメモリ装置に記憶されている第1の半導体メモリ装
置の不良記憶単位あるいは不良記憶単位グループの記憶
番地については第1の半導体メモリ装置に書き込みある
いは読みだしを行なわず、良記憶単位あるいは良記憶単
位グループについてのみ第1の半導体メモリ装置に書き
込みあるいは読みだしを行なうことを特徴とする複合半
導体メモリ装置。 2)特許請求の範囲第1項記載の複合半導体メモリ装置
であって、特に上記第1の半導体メモリ装置が所定の番
地順に書き込みあるいは読みだしがなされることを特徴
とする複合半導体メモリ装置。 3)特許請求の範囲第1項もしくは第2項記載の複合半
導体メモリ装置であって、特に上記複合半導体メモリ装
置の書き込みあるいは読みだし時間が、上記第1あるい
は第2のメモリ装置の書き込みあるいは読みだし時間よ
りも長いことを特徴とする複合半導体メモリ装置。 4)特許請求の範囲第1項ないし第3項記載の複合半導
体メモリ装置であって、特に上記第1の半導体メモリ装
置において、記憶単位(ビット)あるいは複数の記憶単
位(ビット)からなる記憶単位グループに順次番地を割
り付け、上記番地に対応する上記記憶単位グループ内に
不良ビットが存在するかあるいは存在しないかの情報を
、上記番地に対応する上記第2のメモリ装置にあらかじ
め記憶させておき、上記第1の半導体メモリ装置に書き
込みあるいは読みだしを行なう場合には、まず上記番地
に対応する上記第2のメモリ装置の記憶情報を読みだし
、上記番地に対応する上記第1の半導体メモリ装置の記
憶単位あるいは記憶単位グループに不良ビットが存在し
ない場合には、上記第1の半導体メモリ装置の記憶単位
あるいは記憶単位グループに記憶情報を書き込みあるい
は読みだし、不良ビットが存在する場合には当該番地に
対応する第1の半導体メモリ装置の記憶単位あるいは記
憶単位グループに記憶情報を書き込みあるいは読みだし
を行なわず、次の番地に進め、再び上記第2のメモリ装
置の良不良判定にしたがって第1の半導体メモリ装置の
記憶単位あるいは記憶単位グループに書き込みあるいは
読みだしを行なうあるいは行なわないことを特徴とする
複合半導体メモリ装置。 5)特許請求の範囲第4項記載の複合半導体メモリ装置
であって、特に上記番地が最小単位ごとに増加あるいは
減少することにより、第1の半導体メモリ装置に書き込
みあるいは読みだしを行なうことを特徴とする複合半導
体メモリ装置。 6)特許請求の範囲第1項ないし第5項記載の複合半導
体メモリ装置であって、特に上記第2のメモリ装置が不
揮発性メモリ装置あるいは読みだし専用メモリ装置であ
ることを特徴とする複合半導体メモリ装置。 7)特許請求の範囲第1項ないし第5項記載の複合半導
体メモリ装置であって、特に上記第1の半導体メモリ装
置がランダムアクセスメモリ装置であることを特徴とす
る複合半導体メモリ装置。 8)特許請求の範囲第1項ないし第5項記載の複合半導
体メモリ装置であって、特に上記第1の半導体メモリ装
置がランダムアクセスメモリ装置であり、かつ上記第2
の半導体メモリ装置が不揮発性メモリ装置あるいは読み
だし専用メモリ装置であることを特徴とする複合半導体
メモリ装置。 9)特許請求の範囲第1項ないし第5項記載の複合半導
体メモリ装置であって、特に上記第1の半導体メモリ装
置および第2のメモリ装置が共にランダムアクセスメモ
リであることを特徴とする複合半導体メモリ装置。 10)特許請求の範囲第1項ないし第9項記載の複合半
導体メモリ装置であって、特に1つの番地選択時に同時
に書込みあるいは読みだされるデータ数が2以上であり
、上記同時に書込みあるいは読みだされるデータのうち
特定の1以上のデータに不良記憶単位が存在する場合に
は、これら不良記憶単位にかかわらず当該番地の全デー
タを良ビットである場合と全く同様に第1の半導体メモ
リ装置に書込みあるいは読みだしを行なうことを特徴と
する複合半導体メモリ装置。 11)特許請求の範囲第1項ないし第10項記載の複合
半導体メモリ装置であって、特に第2のメモリ装置に、
第1の半導体メモリ装置における各番地の記憶単位ある
いは記憶単位グループが良あるいは不良の判定情報に加
え、当該番地から連続する不良記憶単位あるいは不良記
憶単位グループの番地数の情報をも記憶させておくこと
を特徴とする複合半導体メモリ装置。 12)特許請求の範囲第1項ないし第10項記載の複合
半導体メモリ装置であって、特に第2のメモリ装置に第
1の半導体メモリ装置における記憶単位あるいは記憶単
位グループが良あるいは不良の判定情報を記憶させ、第
3のメモリ装置に当該番地から連続する不良記憶単位あ
るいは不良記憶単位グループの番地数の情報を記憶させ
ておくことを特徴とする複合半導体メモリ装置。 13)特許請求の範囲第1項ないし第10項記載の複合
半導体メモリ装置であって、特に第2のメモリ装置に第
1の半導体メモリ装置における記憶単位あるいは記憶単
位グループが良あるいは不良の判定情報と、上記記憶単
位あるいは記憶単位グループが不良である場合には、第
1の半導体メモリ装置内の他の良と判定される記憶単位
あるいは記憶単位グループの番地を記憶させておき、上
記不良の判定情報がえられたときには、上記第2のメモ
リ装置に記憶されている第1の半導体メモリ装置内の他
の良と判定される記憶単位あるいは記憶単位グループの
番地に従い、上記第1の半導体メモリ装置内の他の良と
判定される記憶単位あるいは記憶単位グループに書き込
みあるいは読みだしを行なうことを特徴とする複合半導
体メモリ装置。 14)特許請求の範囲第1項ないし第10項記載の複合
半導体メモリ装置であって、特に第2のメモリ装置に第
1の半導体メモリ装置における記憶単位あるいは記憶単
位グループが良あるいは不良の判定情報を記憶させ、上
記記憶単位あるいは記憶単位グループが不良である場合
には、第3の半導体メモリ装置に第1の半導体メモリ装
置内の他の良と判定される記憶単位あるいは記憶単位グ
ループの番地を記憶させておき、上記不良の判定情報が
えられたときには、上記第3の半導体メモリ装置に記憶
されている番地に従い、第1の半導体メモリ装置内の他
の良と判定される記憶単位あるいは記憶単位グループに
書き込みあるいは読みだしを行なうことを特徴とする複
合半導体メモリ装置。 15)特許請求の範囲第1項ないし第14項記載の複合
半導体メモリ装置であって、特に読みだしを行う際に、
読みだしを開始する番地から良ビット番地を特定数だけ
前に遡った番地から読みだしを開始することを特徴とす
る複合半導体メモリ装置。 16)特許請求の範囲第1項ないし第14項記載の複合
半導体メモリ装置であって、特に第1の半導体メモリ装
置が複数の半導体メモリ装置から構成され、記憶単位グ
ループへの番地の割付けを、同一の上記半導体メモリ装
置内で所定数以上連続して割り付けないで、1あるいは
所定数同一の上記半導体メモリ装置内で番地を割り付け
た後、他の上記半導体メモリ装置内において再び所定数
以内連続して番地を割り付けることを特徴とする複合半
導体メモリ装置。 17)特許請求の範囲第1項ないし第14項記載の複合
半導体メモリ装置であって、特に第1の半導体メモリ装
置を構成する半導体メモリ装置が複数のメモリアレイか
らなり、記憶単位グループへの番地の割付けを、半導体
メモリ装置内の同一のメモリアレイ内で所定数以上連続
して割り付けないで、1あるいは所定数同一のメモリア
レイ内で番地を割り付けた後、他のメモリアレイ内にお
いて再び所定数以内連続して番地を割り付けることを特
徴とする複合半導体メモリ装置。 18)特許請求の範囲第1項ないし第17項記載の複合
半導体メモリ装置であって、特に第2のメモリ装置が同
時に複数出力する型のメモリ装置で、上記複合半導体メ
モリ装置に入力される番地を高次番地と低時番地にわけ
、高次番地を第2のメモリ装置に入力することにより同
時に複数出力される情報を、低時番地により必要な1あ
るいは一定数のビットを選択することを特徴とする複合
半導体メモリ装置。 19)少なくとも1個の半導体メモリ装置により構成さ
れる第1の半導体メモリ装置において、上記第1の半導
体メモリ装置には、書き込みあるいは読みだしのできな
い不良記憶単位あるいは不良記憶単位グループを少なく
とも1個有し、上記不良記憶単位あるいは不良記憶単位
グループの記憶番地に関する情報をあらかじめ記憶させ
ておく第2のメモリ装置をすくなくとも1個有し、上記
第2のメモリ装置に記憶されている第1の半導体メモリ
装置の不良記憶単位あるいは不良記憶単位グループの記
憶番地については第1の半導体メモリ装置に書き込みあ
るいは読みだしを行なわず、第3の半導体メモリ装置に
格納されている第1の半導体メモリ装置の良記憶単位あ
るいは良記憶単位グループの番地を読出しこの番地によ
り第1の半導体メモリ装置の良記憶単位あるいは良記憶
単位グループについて書き込みあるいは読みだしを行な
うことを特徴とする複合半導体メモリ装置。 20)特許請求の範囲第1項ないし第17項記載の複合
半導体メモリ装置であって、特に第2のメモリ装置が、
高電位レベルあるいは低電位レベルの2値情報を設定で
きるプログラム素子であることを特徴とする複合半導体
メモリ装置。 21)特許請求の範囲第1項ないし第17項記載の複合
半導体メモリ装置であって、特に上記複合半導体メモリ
装置の入力部あるいは出力部に信号変換装置を接続する
ことを特徴とする複合半導体メモリ装置。 22)特許請求の範囲第21項記載の複合半導体メモリ
装置であって、特に入力部に接続する信号変換装置がA
/D変換装置であることを特徴とする複合半導体メモリ
装置。 23)特許請求の範囲第21項記載の複合半導体メモリ
装置であって、特に出力部に接続する信号変換装置がD
/A変換装置であることを特徴とする複合半導体メモリ
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2242343A JPH04123398A (ja) | 1990-09-14 | 1990-09-14 | 複合半導体メモリ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2242343A JPH04123398A (ja) | 1990-09-14 | 1990-09-14 | 複合半導体メモリ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04123398A true JPH04123398A (ja) | 1992-04-23 |
Family
ID=17087788
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2242343A Pending JPH04123398A (ja) | 1990-09-14 | 1990-09-14 | 複合半導体メモリ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04123398A (ja) |
-
1990
- 1990-09-14 JP JP2242343A patent/JPH04123398A/ja active Pending
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