JPH04117639A - 光デイスク原盤露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、２ビーム露光光学系を用いた光ディスク原盤
露光装置に関する。

従来の技術 従来、２ビーム露光光学系を備えた光ディスク原盤露光
装置としては、例えば、特開昭６２−２４３１３９号公
報に開示されているものがある。

これは、レーザ光源から発せられる単一ビームを複数の
ビームに分割するビームスプリッタと、それら分割され
た複数のビーム間に微小な角度差を設けた状態で再び合
成する合成手段と、この合成されたビームの径を拡大す
るビームエキスパンダと、その拡大後のビームを対物レ
ンズにより集光して光ディスク原盤の表面に照射する照
射手段とを備えた構成となっている。これにより、ビー
ムスプリッタにより分割され光ディスク原盤に照射され
る複数のビームの光スポツト間隔を合成手段を用いて常
に一定の距離に保つことができるため、光ディスク原盤
に形成されるピットの作製精度の信頼性を従来に比べ一
段と向上させる二とができる。

発明が解決しようとする課題 上述したような光ディスク原盤露光装置のように、初期
に定めた光学系の位置の設定においては精度良く露光を
行うことができても、レーザ光源として用いられるアル
ゴンレーザ自体のアライメントの調整誤差又は温湿度の
わずかな差による装置変形による光軸の変動や、可動体
である対物レンズアクチュエータの経時的変位によるレ
ンズ位置ずれによって、光ディスク原盤に形成されるピ
ットドやグルーブ間の距離が変動してしまい、これによ
り、光ディスク原盤から光ディスクになった時に微妙な
トラックのオフセットずれが発生してしまうことになる
。

また、２ビーム露光法において、一方のビームが信号光
で他方のビームがグルーブ光のような場合、信号光は変
調され断続する信号でありグルーブ光のように常に照射
する光と異なるため、その信号の検出が困難となる。そ
こで、従来においてそのような信号光の光軸調整を行う
方法としては、信号光が信号変調器に入射する前の光軸
位置を検出し、ミラー又はレンズ等を用いてその光軸位
置を常に一定にする方法がとられており、これにより２
ビームのスポット間隔の調整を図っている。

しかし、このような調整方法では、新たにミラーやレン
ズ等を用いて調整を行っているためその調整機構が複雑
化し、装置全体の変位又は対物レンズの変位によりスポ
ット間隔が変動してしまう恐れがある。

課題を解決するための手段 そこで、このような問題点を解決するために、本発明は
、レーザ光源から出射された光を２ビームに分割する２
ビーム露光光学系を備え、この２ビーム露光光学系によ
り分離された２ビームを対物レンズにより集光して光デ
ィスク原盤に露光することによりピットやグルーブの形
成を行う光ディスク原盤露光装置において、前記２ビー
ム露光光学系の少なくとも一方のビームの光路上に前記
光ディスク原盤の半径方向に前記ビームの光軸を偏向さ
せる偏向装置を配設し、この員向装置により偏向された
ビームを含む２ビームが前記光ディスク原盤に照射され
これにより反射された前記２ビームを検出する２ビーム
検出手段を設け、この２ビーム検出手段により検出され
た信号をもとに前記偏向装置を駆動制御し前記光情報記
録媒体上に照射される前記２ビームのスポット間隔を常
に一定の距離に保っ２ビームスポツト間隔制御手段を設
けた。

また、予め入力されるトラックピッチの間隔をもとに光
情報記録媒体に照射される２ビームの光スポットの照射
位置がトラック間に位置するように制御する２ビーム照
射位置制御手段を設けた。

さらに、２ビーム検呂手段は、互いに偏光方向が直交す
る２ビームが入射しかつ光情報記録媒体により反射され
たビームを各々の偏光成分の方向に分離する偏光部材と
、この偏光部材により分離された各々のビームの光軸位
置を検出する複数に分割された受光面をもつ受光素子と
により構成した。

作用 これにより、光情報記録媒体により反射された２ビーム
の光軸の変動を検出し、光スポットの相対的な位置変動
を求め、その先軸の変動量の補正を行うようにしたので
、２ビームの光情報記録媒体に照射される光スポットの
間隔を常に一定の距離に保つことが可能となる。

また、２ビーム照射位置制御手段を設けたことにより、
トラックピッチ間隔が変わってもそれに対応してトラッ
ク間に確実にピットを形成することができるため、高密
度の光情報記録媒体に対応させることができる。

実施例 本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。

図面は本装置の全体構成を示すものである。この場合、
２ビーム露光光学系１と、偏向装置２と、２ビーム検出
手段３と、２ビームスポツト間隔制御手段４とに大きく
分類することができる。前記２ビーム露光光学系１には
分割ミラー５が設けられており、この分割ミラー５によ
り分離された一方の光路上には、ミラー６．７と、光量
変調器８と、信号変調器９とが順次配設されている。ま
た、他方の光路上には、ミラー１０と、光量変調器１１
と、信号変調器１２と、ミラー１３と、λ／２板１４と
が配設されている。そして、それら２つの合成される光
路上に位置して偏光素子１５が設けられている。その一
方の光路上の前記信号変調器９と前記偏光素子１５との
間に位置して、前記偏向装置２が配設されている。

また、前記偏光素子１５を透過して２ビームが合成され
た光路上には偏光部材としてのダイクロイックミラーＩ
６が配設されている。このダイクロイックミラー１６に
より反射された光路上には、偏光部材としての偏光素子
１７が設けられ、また、これにより透過又は反射された
光を検出する受光素子１８．１９が配設されている。こ
の場合、前記ダイクロイックミラー１６と前記偏光素子
１７と受光素子１８．１９とは、２ビーム検出手段３を
なしている。一方、ダイクロイックミラー１６を透過し
た光路上には、対物レンズ２０、光情報記録媒体として
の光ディスク原盤２１が順次設けられている。

さらに、前記受光素子１９は比較回路２２に接続され、
前記受光素子１８は演算回路２３に接続されている。前
記比較回路２２にはフォーマット回路２４が接続され、
前記演算回路２３にはドライバー２５が接続され、この
ドライバー２５は前記偏向装置２に接続されている。こ
の場合、前記比較回路２２と前記演算回路２３と前記フ
ォーマット回路２４と前記ドライバー２５とは、２ビー
ムスポツト間隔制御手段４をなしている。

このような構成において、レーザ光源としてのＡｒレー
ザ２６から出射された直線偏光光は、ミラー５を介して
２ビームに分割される。その一方のビームａは、ミラー
６．７により反射され、光量変調器８、信号変調器９、
偏向装置２を順次介して偏光素子１５に入射する。他方
のビームｂは、ミラー１０、光量変調器１１、信号変調
器１２、ミラー１３、λ／２板１４を順次介して偏光素
子１５に入射する。

この場合、ビームａはいわゆるフォーマットプリピット
列の作成用に用い、ビームｂはグルーブ露光用に用いら
れる。そして、その偏光素子１５により合成された２ビ
ームは、ダイクロイックミラー１６を透過して対物レン
ズ２０により集光され光ディスク原盤２１上に照射され
、これによりピットやグルーブの形成が行われる。

また、その光ディスク原盤２１により反射された２ビー
ムは、ダイクロイックミラー１６により反射され、偏光
素子１７に入射することにより各々の偏光方向に再分割
される。すなわち、ビームａは反射され２分割受光面を
もつ受光素子１９に導かれ、ビームｂは透過して４分割
受光面をもつ受光素子１８に導かれる。

この場合、受光素子１９により検出された光は信号光で
あり、この出力信号はフォーマット回路２４と同期した
比較回路２２に送られることによりそのビームａの光軸
位置がサンプリングされる。

その後、そのビームａの光軸位置の内容を含む出力信号
と、他方のビームｂを検出した受光素子１８からの出力
信号とは、演算回路２３に送られることによって、それ
ら２つのビームの光軸位置の差分が求められる。そして
、その差分量に応じた値がドライバー２５を介して光偏
向器２にフィードバックされることによってビームａの
光軸の補正がなされ、これにより、光ディスク原盤２１
上における２ビームａ、ｂの光軸位置が常に一定の間隔
を保つように調整される。

上述したように、２ビームａ、ｂによる２つのスポット
間の光ディスク原盤２１からの反射光の光軸の相対位置
が常に一定になるように、一方の光の入射光軸を偏向装
置２を用いて変えることによって、どちらのビームａ、
ｂの光軸位置が変動してもそれら２つのビームａ、ｂの
スポット間隔は常に一定に保たれることになり、これに
より信号検出の誤差の低減が図れピットやグルーブを正
確な位置に形成することが可能となる。

また、本実施例では、図面に示すような構成において、
予め入力されるトラックピッチの間隔をもとに光ディス
ク原盤２１に照射される２ビームａ、ｂの光スポットの
照射位置がトラック間に位置するように制御する図示し
ない２ビーム照射位置制御手段を設けたので、光ディス
ク原盤２１の内外周のピッチ間隔を変え外周はど記録容
量を増やすような場合においても、予めトラックピッチ
間隔を偏向装置２、フィードバック回路である２ビーム
スポツト間隔制御手段４にバイアス電圧として加えるこ
とにより、常にグルーブの間に位置してピットを形成す
ることができ、これにより高密度記録に対応することも
可能となる。

発明の効果 本発明は、レーザ光源から出射された光を２ビームに分
割する２ビーム露光光学系を備え、この２ビーム露光光
学系により分離された２ビームを対物レンズにより集光
して光ディスク原盤に露光することによりピットやグル
ーブの形成を行う光ディスク原盤露光装置において、前
記２ビーム露光光学系の少なくとも一方のビームの光路
上に前記光ディスク原盤の半径方向に前記ビームの光軸
を偏向させる偏向装置を配設し、この偏向装置により偏
向されたビームを含む２ビームが前記光ディスク原盤に
照射されこれにより反射された前記２ビームを検出する
２ビーム検出手段を設け、この２ビーム検出手段により
検出された信号をもとに前記偏向装置を駆動制御し前記
光情報記録媒体上に照射される前記２ビームのスポット
間隔を常に一定の距離に保つ２ビームスポツト間隔制御
手段を設けたので、光情報記録媒体により反射された２
ビームの光軸の変動を検出し、光スポットの相対的な位
置変動を求め、その先軸の変動量の補正を行うことによ
って、２ビームの光情報記録媒体に照射される光スポッ
トの間隔を常に一定の距離に保つことが可能となり、こ
れによりピットやグルーブを常に正確な位置に形成する
ことができるものである。

また、予め入力されるトラックピッチの間隔をもとに光
情報記録媒体に照射される２ビームの光スポットの照射
位置がトラック間に位置するように制御する２ビーム照
射位置制御手段を設けたので、トラックピッチ間隔が変
わってもそれに対応してトラック間に確実にピットを形
成することができ、これにより、高密度の光情報記録媒
体に対応させることが可能となるものである。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の一実施例を示す構成図である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、レーザ光源から出射された光を２ビームに分割する
   ２ビーム露光光学系を備え、この２ビーム露光光学系に
   より分離された２ビームを対物レンズにより集光して光
   ディスク原盤に露光することによりピットやグルーブの
   形成を行う光ディスク原盤露光装置において、前記２ビ
   ーム露光光学系の少なくとも一方のビームの光路上に前
   記光ディスク原盤の半径方向に前記ビームの光軸を偏向
   させる偏向装置を配設し、この偏向装置により偏向され
   たビームを含む２ビームが前記光ディスク原盤に照射さ
   れこれにより反射された前記２ビームを検出する２ビー
   ム検出手段を設け、この２ビーム検出手段により検出さ
   れた信号をもとに前記偏向装置を駆動制御し前記光情報
   記録媒体上に照射される前記２ビームのスポット間隔を
   常に一定の距離に保つ２ビームスポット間隔制御手段を
   設けたことを特徴とする光ディスク原盤露光装置。 ２、予め入力されるトラックピッチの間隔をもとに光情
   報記録媒体に照射される２ビームの光スポットの照射位
   置がトラック間に位置するように制御する２ビーム照射
   位置制御手段を設けたことを特徴とする請求項１記載の
   光ディスク原盤露光装置。 ３、２ビーム検出手段は、互いに偏光方向が直交する２
   ビームが入射しかつ光情報記録媒体により反射されたビ
   ームを各々の偏光成分の方向に分離する偏光部材と、こ
   の偏光部材により分離された各々のビームの光軸位置を
   検出する複数に分割された受光面をもつ受光素子とより
   なることを特徴とする請求項１記載の光ディスク原盤露
   光装置。