JPH04110751U - Rotary table in arc ion plating equipment - Google Patents

Rotary table in arc ion plating equipment

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JPH04110751U
JPH04110751U JP1102991U JP1102991U JPH04110751U JP H04110751 U JPH04110751 U JP H04110751U JP 1102991 U JP1102991 U JP 1102991U JP 1102991 U JP1102991 U JP 1102991U JP H04110751 U JPH04110751 U JP H04110751U
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JP
Japan
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rotating
revolution
sprocket
fixed
rotary table
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JP1102991U
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Japanese (ja)
Inventor
泊巳 長谷川
Original Assignee
株式会社神戸製鋼所
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 公転テーブルの直径よりも長い寸法の被コー
ティング物であっても、回転中に被コーティング物が互
いに接触しないように各公転テーブル上に載せることを
目的とする。 【構成】 中心軸32に自転テーブル50が回転自在に支持
され、この自転テーブル50に、固定軸54廻りに回転自在
な公転テーブル53が複数個設けられる。各公転テーブル
53はその連動スプロケット56にジグザグ状に巻掛けられ
たチェーン58により連動連結され、また中心軸32に固定
された固定スプロケット59と、1個の公転テーブル53に
固定された回動スプロケット57間にチェーン60が巻掛け
られている。従って、隣合う公転テーブル53同士は互い
に逆方向に回転する。
(57) [Summary] [Purpose] The purpose is to place objects to be coated on each revolving table so that they do not come into contact with each other during rotation, even if the objects to be coated are longer than the diameter of the revolving table. [Structure] A rotating table 50 is rotatably supported on a central axis 32, and a plurality of revolution tables 53 that are rotatable around a fixed axis 54 are provided on this rotating table 50. Each revolution table
53 is interlocked and connected by a chain 58 wound around the interlocking sprocket 56 in a zigzag pattern, and between a fixed sprocket 59 fixed to the central shaft 32 and a rotating sprocket 57 fixed to one revolution table 53. A chain 60 is wrapped around it. Therefore, adjacent revolution tables 53 rotate in opposite directions.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed explanation of the idea]

【0001】0001

【産業上の利用分野】[Industrial application field]

本考案は、アークイオンプレーティング装置における回転テーブルに関する。 The present invention relates to a rotary table in an arc ion plating apparatus.

【0002】0002

【従来の技術】[Conventional technology]

図4はアークイオンプレーティング装置の基本的な構成を示す。図4において 、1 は真空容器、2 は蒸発源で、アーク電源の陰極に接続されている。3 は回転 テーブルで、バイアス電源の陰極に接続されており、この回転テーブル3 上に被 コーティング物4 が載置されている。5 はプロセスガス入口、6 は排気口である 。 FIG. 4 shows the basic configuration of an arc ion plating device. In Figure 4 , 1 is the vacuum vessel, and 2 is the evaporation source, which is connected to the cathode of the arc power source. 3 is rotation The table is connected to the cathode of the bias power supply and is covered on this rotary table 3. Coating material 4 is placed. 5 is the process gas inlet, 6 is the exhaust port .

【0003】 真空中で蒸発源2 を陰極としてアーク放電を起こすと、アークは蒸発源2 表面 上にアークスポットを形成し、その表面上をランダムに走り廻る。そして、アー クスポットに集中するアーク電流のエネルギにより、蒸発材料が瞬時に溶融蒸発 すると同時に金属イオンとなり、真空中に飛び出す。一方、バイアス電圧を被コ ーティング物4 に印加すると、金属イオンが加速されて反応ガス粒子と共に被コ ーティング物4 の表面に密着し、緻密な膜を生成する。0003 When arc discharge occurs in a vacuum using evaporation source 2 as a cathode, the arc will reach the surface of evaporation source 2. It forms an arc spot on top and runs around randomly on its surface. And aa The energy of the arc current concentrated in the arc spot instantly melts and evaporates the evaporation material. At the same time, they turn into metal ions and fly out into the vacuum. On the other hand, if the bias voltage is When the metal ions are It adheres closely to the surface of the coating material 4 and forms a dense film.

【0004】 回転テーブル3 は、従来、図5及び図6に示すように、自転テーブル7 と、そ の周縁部に配置された複数個の公転テーブル8 とを備え、自転テーブル8 上の被 コーティング物4 が金属イオン流に対して均一にさらされ、また被コーティング 物4 に、真空容器1 等から絶縁した状態でバイアス電圧が印加されるようになっ ている。0004 Conventionally, the rotary table 3 is composed of a rotating table 7 and the like, as shown in FIGS. A plurality of revolving tables 8 are arranged around the periphery of the rotating table 8. The coating 4 is uniformly exposed to the metal ion stream and Bias voltage is now applied to object 4 while insulated from vacuum vessel 1, etc. ing.

【0005】 即ち、図5及び図6において、9 は中空状の中心軸で、この中心軸9 に軸受10 を介して遊星枠11が回転自在に支持されている。遊星枠11の周縁部には軸受12を 介して回転軸13が等間隔おきに配置され、また各回転軸13の上下に、回転台14と 、フレーム15に固定の内歯ギヤー16に咬合する遊星ギヤー17とが設けられている 。そして、各回転台14上に、絶縁ガイシ18を介して公転テーブル8 が取付けられ ている。[0005] That is, in FIGS. 5 and 6, 9 is a hollow central shaft, and a bearing 10 is attached to this central shaft 9. The planetary frame 11 is rotatably supported via. A bearing 12 is installed at the periphery of the planetary frame 11. Rotating shafts 13 are arranged at equal intervals through the rotating shafts 13, and a rotating table 14 and a rotating table 14 are arranged above and below each rotating shaft 13. , a planetary gear 17 that meshes with a fixed internal gear 16 is provided on the frame 15. . Then, a revolution table 8 is attached to each rotation table 14 via an insulating insulator 18. ing.

【0006】 中心軸9 上には絶縁ガイシ19を介して固定台20が、遊星枠11上には絶縁ガイシ 21を介して中間台22が夫々取付けられており、その中間台22上に絶縁ガイシ23を 介して自転テーブル7 が取付けられている。固定台20にはバイアス電源のケーブ ルが接続され、この固定台20から第1ブラシ24、中間台22、第2ブラシ25を介し て各公転テーブル8 にバイアス電圧を印加するように構成されている。第1ブラ シ24は図7に示すように固定台20に、第2ブラシ25は図8に示すように中間台22 に夫々設けられている。[0006] A fixing base 20 is mounted on the center shaft 9 via an insulating insulator 19, and an insulating insulator is mounted on the planetary frame 11. Intermediate stands 22 are respectively installed through the intermediate stands 21, and an insulating insulator 23 is mounted on the intermediate stands 22. A rotating table 7 is attached through the frame. The bias power cable is attached to the fixed base 20. from this fixed base 20 via the first brush 24, intermediate base 22, and second brush 25. It is configured to apply a bias voltage to each revolution table 8. 1st bra The brush 24 is mounted on the fixed base 20 as shown in FIG. 7, and the second brush 25 is mounted on the intermediate stage 22 as shown in FIG. are provided in each.

【0007】 この回転テーブル3 においては、遊星枠11が中間軸9 廻りに回転すると、これ と一体に自転テーブル7 が自転する。一方、回転軸13の遊星ギヤー17が内歯ギヤ ー16に咬合しているので、遊星枠11の自転と共に回転軸13廻りに公転テーブル8 が公転する。また、この時、バイアス電圧は、固定台20、ブラシ24、中間台22、 ブラシ25を経て公転テーブル8 に印加される。[0007] In this rotary table 3, when the planet frame 11 rotates around the intermediate shaft 9, this The rotating table 7 rotates together with the rotating table 7. On the other hand, the planetary gear 17 of the rotating shaft 13 is an internal gear. -16, so as the planetary frame 11 rotates, the table 8 revolves around the rotation axis 13. revolves. Also, at this time, the bias voltage is fixed base 20, brush 24, intermediate base 22, It is applied to the revolution table 8 via the brush 25.

【0008】[0008]

【考案が解決しようとする課題】[Problem that the idea aims to solve]

従来の回転テーブル7 では、各回転軸13の下端の遊星ギヤー17を内歯ギヤー16 に咬合させて、自転テーブル7 の回転に連動して各公転テーブル8 を回転させる ようにしているので、各公転テーブル8 は全て同方向に回転する。そのため、図 5に仮想線で示すように、公転テーブル8 上に、それよりもはみ出す大きさの被 コーティング物4 を載せると、各公転テーブル8 が回転軸13廻り回転する時に、 隣合う被コーティング物4 が互い接触することになる。従って、公転テーブル8 上に載置し得る被コーティング物4 の長さに制限があり、公転テーブル8 の直径 よりも長いような被コーティング物4 の場合には利用し得ない欠点がある。 In the conventional rotary table 7, the planetary gear 17 at the lower end of each rotating shaft 13 is replaced by an internal gear 16. and rotate each revolution table 8 in conjunction with the rotation of the rotation table 7. Therefore, all the revolution tables 8 rotate in the same direction. Therefore, fig. As shown by the imaginary line in Figure 5, there is a cover on the revolution table 8 that is larger than that. When the coating material 4 is placed, when each revolution table 8 rotates around the rotation axis 13, Adjacent objects 4 to be coated come into contact with each other. Therefore, the revolution table 8 There is a limit to the length of the object to be coated 4 that can be placed on it, and the diameter of the revolving table 8 If the object to be coated 4 is longer than that, there is a disadvantage that it cannot be used.

【0009】 本考案は、かかる点に鑑み、公転テーブルの直径よりも長い被コーティング物 でも、回転中に接触しないように載せ得る回転テーブルを提供することを目的と する。[0009] In view of this, the present invention has been developed to coat objects that are longer than the diameter of the revolving table. However, the purpose is to provide a rotary table that can be placed on the table without touching it while rotating. do.

【0010】0010

【課題を解決するための手段】[Means to solve the problem]

本考案は、中心軸32により回転自在に支持された自転テーブル50に複数個の公 転テーブル53を備え、公転テーブル53上に被コーティング物61を載せるようにし たアークイオンプレーティング装置における回転テーブルにおいて、隣合う各公 転テーブル53同士が逆方向に回転するように、自転テーブル50の回転に連動して 各公転テーブル53を回転させる駆動手段を設けたものである。 In the present invention, a plurality of public A rotating table 53 is provided, and the object to be coated 61 is placed on the rotating table 53. On the rotary table of arc ion plating equipment, each adjacent public Interlocking with the rotation of the rotating table 50 so that the rotating tables 53 rotate in opposite directions A driving means for rotating each revolution table 53 is provided.

【0011】[0011]

【作用】[Effect]

自転テーブル50が中心軸32廻りに回転すると、駆動手段が自転テーブル50の回 転に連動して各公転テーブル53をその軸心廻りに回転させる。この時、各公転テ ーブル53は、隣合う公転テーブル53同士が逆方向となるように回転する。従って 、公転テーブル53の直径よりも長い被コーティング物61を載置する場合には、そ の位相をずらせて載置する等によって、被コーティング物61の接触、ぶつかりを 防止でき、より長い被コーティング物61の載置が可能である。 When the rotating table 50 rotates around the central axis 32, the driving means rotates the rotating table 50. In conjunction with the rotation, each revolution table 53 is rotated around its axis. At this time, each revolution The table 53 rotates so that adjacent revolution tables 53 are in opposite directions. Therefore , when placing an object 61 to be coated that is longer than the diameter of the revolution table 53, Avoid contact or collision with the object to be coated 61 by placing the objects out of phase. This allows the object 61 to be coated to be placed for a longer period of time.

【0012】0012

【実施例】【Example】

以下、本考案の実施例を図面に基づいて詳述する。図1及び図2において、30 は固定フレームで、この固定フレーム30上に絶縁材31を介して中空状の中心軸32 がボルトにより取付けられている。33は回転枠で、中心のボス部34及び軸受35を 介して中心軸32に回転自在に套嵌支持されており、ボス部34の下端に入力スプロ ケット36が固定されている。37は駆動軸で、固定フレーム30に軸受38を介して回 転自在に支持されている。また駆動軸37の上端にはフランジ部39上に絶縁材40を 介して駆動スプロケット41が、下端には伝動スプロケット42が夫々固定されてい る。駆動スプロケット41はチェーン43を介して入力スプロケット36に、伝動スプ ロケット42はチェーン44、中間スプロケット45、中間軸46、ベベルギヤー47等を 介して図外の駆動モータに夫々連続連結されている。中間スプロケット45、ベベ ルギヤー47は中間軸46の上下にあり、また中間軸46は下部フレーム48に回転自在 に支持されている。49はテンションスプロケットである。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail based on the drawings. In Figures 1 and 2, 30 is a fixed frame, and a hollow central shaft 32 is mounted on this fixed frame 30 through an insulating material 31. is attached with bolts. 33 is a rotating frame with a central boss part 34 and a bearing 35. The input sprocket is rotatably supported on the center shaft 32 through the input sprocket at the lower end of the boss portion 34. ket 36 is fixed. 37 is a drive shaft, which rotates to the fixed frame 30 via a bearing 38. It is rotatably supported. Additionally, an insulating material 40 is placed on the flange portion 39 at the upper end of the drive shaft 37. A drive sprocket 41 is fixed through the sprocket, and a transmission sprocket 42 is fixed to the lower end. Ru. The drive sprocket 41 connects to the input sprocket 36 via the chain 43, and the transmission sprocket Rocket 42 includes chain 44, intermediate sprocket 45, intermediate shaft 46, bevel gear 47, etc. They are each successively connected to a drive motor (not shown) via the drive motor. Intermediate sprocket 45, bebe The gears 47 are located above and below the intermediate shaft 46, and the intermediate shaft 46 is rotatable on the lower frame 48. is supported by 49 is the tension sprocket.

【0013】 50は自転テーブルであって、回転枠33上にスペーサ51を介して固定されている 。この自転テーブル50の周縁部には周方向に等間隔おきに8個の丸孔52が形成さ れており、その各孔52に公転テーブル53が夫々配置されている。 各公転テーブル53はその上面側に被コーティング物61を載置するためのもので あって、回転枠33に固定された中空状の固定軸54に軸受55を介して回転自在に支 持されている。そして、各公転テーブル53の下端には連動スプロケット56が固設 され、また1個の公転テーブル53には上下中間部に回動スプロケット57が固設さ れている。各連動スプロケット56には、周方向に隣合う各公転テーブル53を互い に逆方向に回転させるように導電性のチェーン58がジグザグ状に巻掛けられてい る。また回動スプロケット57には中心軸32の上端部に固定された固定スプロケッ ト59との間に導電性のチェーン60が巻掛けられている。[0013] 50 is a rotating table, which is fixed on the rotating frame 33 via a spacer 51. . Eight round holes 52 are formed at equal intervals in the circumferential direction on the peripheral edge of the rotating table 50. A revolution table 53 is arranged in each hole 52. Each revolution table 53 is for placing the object to be coated 61 on its upper surface. A hollow fixed shaft 54 fixed to the rotating frame 33 is rotatably supported via a bearing 55. held. An interlocking sprocket 56 is fixed at the bottom end of each revolution table 53. In addition, one revolution table 53 has a rotating sprocket 57 fixedly installed in the upper and lower intermediate parts. It is. Each interlocking sprocket 56 has two revolution tables 53 adjacent to each other in the circumferential direction. A conductive chain 58 is wound in a zigzag pattern so that the chain rotates in the opposite direction. Ru. The rotating sprocket 57 also has a fixed sprocket fixed to the upper end of the center shaft 32. A conductive chain 60 is wound between the gate 59 and the conductive chain 60.

【0014】 中心軸32は固定フレーム30との間に介在された絶縁材31により固定フレーム30 から電気的に絶縁され、また駆動スプロケット41は絶縁材40により駆動軸37、固 定フレーム30等から電気的に絶縁されている。従って、中心軸32、回転枠33、自 転テーブル50及び公転テーブル53は、固定フレーム30側から電気的に完全に絶縁 されており、その中心軸32の下端部にバイアス電源のケーブルが接続されている 。[0014] The central axis 32 is attached to the fixed frame 30 by an insulating material 31 interposed between the fixed frame 30 and the fixed frame 30. The drive sprocket 41 is electrically insulated from the drive shaft 37 by the insulating material 40. It is electrically insulated from the fixed frame 30 and the like. Therefore, the central axis 32, the rotation frame 33, and the The rotation table 50 and the revolution table 53 are completely electrically isolated from the fixed frame 30 side. The bias power cable is connected to the lower end of the central axis 32. .

【0015】 上記構成において、駆動モータを起動すると、ベベルギヤー47、中間軸46、中 間スプロケット45、チェーン44、伝動スプロケット42等を介して駆動軸37が回転 する。そして、この駆動軸37の駆動スプロケット41からチェーン43、入力スプロ ケット36を介して回転枠33が中心軸32廻りに回転し、自転テーブル50が回転枠33 と一体に自転する。[0015] In the above configuration, when the drive motor is started, the bevel gear 47, intermediate shaft 46, Drive shaft 37 rotates via intermediate sprocket 45, chain 44, transmission sprocket 42, etc. do. From the drive sprocket 41 of this drive shaft 37 to the chain 43, the input sprocket The rotating frame 33 rotates around the central axis 32 via the bracket 36, and the rotating table 50 rotates around the rotating frame 33. It rotates as one.

【0016】 この時、各公転テーブル53は回転枠33、自転テーブル50と共に中心軸32廻りに 回転し公転するが、その公転テーブル53の1個に設けられた回動スプロケット57 と固定スプロケット59との間にチェーン60が巻掛けられ、また各公転テーブル53 の連動スプロケット56にチェーン58がジグザグ状に巻掛けられているため、自転 テーブル50の自転に伴って各公転テーブル53が固定軸54廻りに図1の矢印方向に 夫々回転する。従って、各公転テーブル53は、隣合う一対の公転テーブル53同士 が逆方向となるように固定軸54廻りに回転するので、被コーティング物61が公転 テーブル53の直径よりも大である場合にも、回転中における被コーティング物61 同士の接触、ぶつかりをなくすことができる。[0016] At this time, each revolution table 53 rotates around the central axis 32 together with the rotating frame 33 and the rotating table 50. The rotating sprocket 57 provided on one of the revolving tables 53 rotates and revolves. A chain 60 is wound between the fixed sprocket 59 and each revolving table 53. Since the chain 58 is wrapped around the interlocking sprocket 56 in a zigzag pattern, the As the table 50 rotates, each revolving table 53 moves around the fixed axis 54 in the direction of the arrow in Figure 1. Each rotates. Therefore, each revolution table 53 is a pair of adjacent revolution tables 53. The object to be coated 61 revolves around the fixed shaft 54 so that the Even if the diameter of the object 61 is larger than that of the table 53, It is possible to eliminate contact and collision between them.

【0017】 即ち、各公転テーブル53上に被コーティング物61を最初に載せる際に、隣合う 公転テーブル53上の被コーティング物61の位相をずらす等、互いに接触しないよ うな位置に載せておけば、その後に各公転テーブル53が固定軸54廻りに自転して も、被コーティング物61相互の接触、ぶつかりを防止できる。依って、同じ寸法 の公転テーブル53であっても、より長い被コーティング物61を載せることができ る。[0017] That is, when first placing the object 61 on each revolution table 53, The phases of the objects 61 to be coated on the revolving table 53 are shifted to prevent them from coming into contact with each other. If it is placed in such a position, each revolving table 53 will then rotate around the fixed axis 54. Also, it is possible to prevent the objects 61 to be coated from coming into contact with each other or colliding with each other. Therefore, the same dimensions Even with a revolving table 53, a longer object 61 to be coated can be placed. Ru.

【0018】 一方、バイアス電源からケーブルを経て中心軸32の下部にバイアス電圧が印加 される。そして、この中心軸32の電圧は、固定スプロケット59、チェーン60、回 動スプロケット57を経て1個の公転テーブル53に印加されると共に、この1個の 公転テーブル53から連動スプロケット56、チェーン58を介して他の各公転テーブ ル53に印加される。[0018] On the other hand, a bias voltage is applied to the lower part of the center axis 32 from the bias power supply via the cable. be done. The voltage of this central shaft 32 is determined by the fixed sprocket 59, chain 60, The voltage is applied to one revolution table 53 via the dynamic sprocket 57, and this one From the revolution table 53 to each other revolution table via the interlocking sprocket 56 and chain 58 53.

【0019】 このようにチェーン58,60 を介して中心軸32から各公転テーブル53に電圧を印 加すれば、チェーン58,60 とスプロケット56,57,59間には必ず金属接触部がある ので、スパークを発生することなく各公転テーブル53に電圧を印加できる。 図3は本考案の別の実施例を示す。即ち、図1及び図2の実施例では、自転テ ーブル50の回転に連動して各公転テーブル53を回転させる駆動手段をスプロケッ ト56,57,59とチェーン58,60 により構成し、特にチェーン58を各連動スプロケッ ト56にジグザグ状に巻掛けて、隣合う各公転テーブル53を逆方向に回転させるよ うにしている。しかし、駆動手段は、これに限定されるものではなく、図3に示 すように、各公転テーブル53のボス部の下端に連動ギヤー62を設け、隣接する各 公転テーブル53の連動ギヤー62同士を互いに咬合させても良い。なお、この場合 には、連動ギヤー62を介して各公転テーブル53にバイアス電圧を印加することに なる。[0019] In this way, voltage is applied from the central axis 32 to each revolving table 53 via the chains 58, 60. In addition, there is always a metal contact between chain 58, 60 and sprocket 56, 57, 59. Therefore, voltage can be applied to each revolution table 53 without generating sparks. FIG. 3 shows another embodiment of the invention. That is, in the embodiments of FIGS. 1 and 2, the rotating The driving means for rotating each revolution table 53 in conjunction with the rotation of the table 50 is a sprocket. Consisting of parts 56, 57, 59 and chains 58, 60, especially chain 58 is connected to each interlocking sprocket. 56 in a zigzag pattern to rotate each adjacent revolving table 53 in the opposite direction. I'm doing it. However, the driving means is not limited to this, and is shown in FIG. An interlocking gear 62 is provided at the lower end of the boss portion of each revolution table 53 so that each The interlocking gears 62 of the revolution table 53 may be engaged with each other. In addition, in this case In this case, a bias voltage is applied to each revolution table 53 via the interlocking gear 62. Become.

【0020】[0020]

【考案の効果】[Effect of the idea]

本考案によれば、隣合う各公転テーブル53同士が逆方向に回転するように、自 転テーブル50の回転に連動して各公転テーブル53を回転させる駆動手段を設けて いるので、公転テーブル53の直径よりも長い被コーティング物61であっても、回 転中に互いに接触しないように各公転テーブル53上に載せることが可能である。 従って、同じ公転テーブル53でも長い被コーティング物61を載せ得る利点がある 。 According to the present invention, each adjacent revolving table 53 is automatically rotated in opposite directions. Driving means for rotating each revolution table 53 in conjunction with the rotation of the rotation table 50 is provided. Therefore, even if the object to be coated 61 is longer than the diameter of the revolving table 53, it can be rotated. It is possible to place them on each revolution table 53 so that they do not come into contact with each other during rotation. Therefore, there is an advantage that a long object to be coated 61 can be placed on the same revolving table 53. .

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】本考案の一実施例を示す回転テーブルの平面図
である。
FIG. 1 is a plan view of a rotary table showing an embodiment of the present invention.

【図2】本考案の一実施例を示す回転テーブルの断面図
である。
FIG. 2 is a sectional view of a rotary table showing an embodiment of the present invention.

【図3】本考案の他の実施例を示す回転テーブルの平面
図である。
FIG. 3 is a plan view of a rotary table showing another embodiment of the present invention.

【図4】アークイオンプレーティング装置の断面図であ
る。
FIG. 4 is a cross-sectional view of the arc ion plating apparatus.

【図5】従来の回転テーブルの平面図である。FIG. 5 is a plan view of a conventional rotary table.

【図6】従来の回転テーブルの断面図である。FIG. 6 is a sectional view of a conventional rotary table.

【図7】従来の第1ブラシ部分の平面図である。FIG. 7 is a plan view of a conventional first brush portion.

【図8】従来の第2ブラシ部分の平面図である。 31 絶縁材 32 中心軸 33 回転枠 50 自転テーブル 53 公転テーブル 54 固定軸 56 連動スプロケット 57 回動スプロケット 58 チェーン 59 固定スプロケット 60 チェーン 61 被コーティング物FIG. 8 is a plan view of a conventional second brush portion. 31 Insulating material 32 Center axis 33 Rotating frame 50 Rotating table 53 Revolution table 54 Fixed axis 56 Interlocking sprocket 57 Rotating sprocket 58 chain 59 Fixed sprocket 60 chain 61 Object to be coated

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】 中心軸(32)により回転自在に支持された
自転テーブル(50)に複数個の公転テーブル(53)を備え、
公転テーブル(53)上に被コーティング物(61)を載せるよ
うにしたアークイオンプレーティング装置における回転
テーブルにおいて、隣合う各公転テーブル(53)同士が逆
方向に回転するように、自転テーブル(50)の回転に連動
して各公転テーブル(53)を回転させる駆動手段を設けた
ことを特徴とするアークイオンプレーティング装置にお
ける回転テーブル。
Claim 1: A rotating table (50) rotatably supported by a central axis (32) is provided with a plurality of revolving tables (53),
In the rotary table of an arc ion plating apparatus in which the object to be coated (61) is placed on the revolving table (53), the rotary table (50) is arranged so that the adjacent revolving tables (53) rotate in opposite directions. ) A rotary table for an arc ion plating apparatus, characterized in that it is provided with a driving means for rotating each revolution table (53) in conjunction with the rotation of the rotary table (53).
JP1102991U 1991-03-04 1991-03-04 Rotary table in arc ion plating equipment Pending JPH04110751U (en)

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JP1102991U JPH04110751U (en) 1991-03-04 1991-03-04 Rotary table in arc ion plating equipment

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