JPH04105509A - 電線皮膜の剥離方法 - Google Patents

電線皮膜の剥離方法

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JPH04105509A
JPH04105509A JP2223079A JP22307990A JPH04105509A JP H04105509 A JPH04105509 A JP H04105509A JP 2223079 A JP2223079 A JP 2223079A JP 22307990 A JP22307990 A JP 22307990A JP H04105509 A JPH04105509 A JP H04105509A
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JP
Japan
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wire
coating
laser
peeling
molecules
Prior art date
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Pending
Application number
JP2223079A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroki Hirai
宏樹 平井
Koichi Iwata
岩田 幸一
Mitsuru Nishimura
満 西村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ0発明の目的 a)産業上の利用分野 この発明は、レーザーを用い、被覆電線の被覆を除去す
ることに関するものである。
b)従来の技術 従来、絶縁被覆電線の端末処理は、機械的剥離、薬品剥
離、半田付は等が一般に行われていた。機械的剥離は1
.特公昭51−28348にあるようにニッパ−やカッ
ター ワイヤーストリッパー等の刃物により、絶縁被覆
部のみを機械的に除去する方法である。また、薬品剥離
は、特開昭59−96803にあるように、アルカリな
どの薬品を用いて、絶縁被覆部のみを化学的に除去する
方法である。また、半田付けによる剥離は、特公昭52
−92889にあるように半田の熱を利用して絶縁被覆
を除去する方法である。
一方、コンピー−ター OA機器、AV機器などに用い
られる超極細線等において、電線の端末処理を行った後
、基材に電線をボンディングする用途が出てき′〔いる
。この場合、ボンディング時の作業性の向上及び、基材
に対する十分なボンディング強度を得る必要があった。
ボンディング時の作業性の向上を図るには、剥離境界を
はっきりさせる必要があり、基材に対する十分なボンデ
ィング強度を得るためには、剥離境界をはっきりさせ、
完全に被覆を除去する必要があった。しかし、従来の技
術では次に示す種々の問題点があった。例えば、機械的
剥離では、剥離境界をはっきりさせることはできるが、
絶縁被覆を完全に剥離しようとすると、芯線を傷つけた
り、断線させる問題があった。薬品剥離においては、絶
縁被覆は、完全に剥離できるが電線が細いため薬品に漬
けることは、作業性が悪く、また、電線の端末処理部の
位置決めが難しいため要求寸法に得ることが難しい問題
があった。一方最近、特開昭62−92712にあるよ
うにCO2レーザーを用いて、絶縁皮膜を蒸発または、
溶融させて絶縁被覆のみを除去する方法が提案されてい
る。CO2レーザーを用い被覆を剥離する場合、電線の
端末処理部の位置決めは、容易であり要求寸法を得るこ
とができるが、しかし、そのレーザー光の持つ熱的エネ
ルギー密度いて絶縁被覆を蒸発、溶融させるため剥離境
界が明確でなく、金属芯線の近くにおいては、熱が逃げ
るため絶縁被覆の完全な剥離ができずボンディング強度
が十分得られないという問題があった。
ロ6発明の構成 a)課題を解決す・るための手段 この発明の電線被覆の剥離方法は、被覆電線の所望の部
分の被覆をエキシマレーザ−を利用して除去するように
したものである。
b)作用 この発明における電線被覆の剥離方法は、エキシマレー
ザ−を照射して被覆を除去するものである。ここでエキ
シマレーザ−とは、励起状態の原子(または分子)と基
底状態の原子(−!たけ分子)とが、重合し生成された
励起分子の状態の分子が、基底状態に落ちるときに放出
される光を利用したレーザーで、例えば、ArF、 K
rF%XeC1、Arc、Xe2、F2、KrC1、X
eBr、 Xep、 Is、ArC1、Br2レーザー
がある。中でも剥離性、装置の安定性、出力から考えて
、ArF、 KrFが望ましい。本発明では、エキシマ
レーザ−の強度は50〜200mj/cm”として照射
すると皮膜がよりきれいに剥離可能で好ましい。50m
j/cm”以下であると剥離速度が遅く、200mj/
cm2以上であると金属芯線に影響を与える。ここでい
うレーザー強度(エネルギー密度)とは、レーザーのパ
ルスエネルギーをレーザー光のスポット面積で割ったも
のである。
エキシマレーザ−が剥離に適する理由は、紫外光である
ためエネルギーが高く、材料を光化学的に分解できるた
めと考えられる。このレーザー光が材料に照射されると
その高いエネルギーにより照射部の材料の化学結合を切
り、飛散させる。そのため絶縁皮膜の剥離が完全に可能
であり、はっきりした剥離境界を得ることができる。
これに対し、CO2レーザーにより皮膜を剥離する場合
、そのレーザー光の持つ熱的エネルギーを用いて絶縁被
覆を蒸発、溶融させるため剥離境界が明確でなく、金属
芯線の近くにおいては、熱が逃げるので絶縁被覆の完全
な剥離ができない。
本発明において絶縁被覆電線としては、ポリウレタン、
ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、
ポリエステル、ポリビニルホルマール、−7エノキシ、
ポリエーテルサルホン、ポリエーテルイミド、ポリスル
ホン、ポリエーテルケトン、芳香族ポリアミド、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリブチレン1、フッ素樹脂
など有機絶縁材料を被覆したものであればいかなるもの
でも適用可能である。特に基材にボンディングを行うよ
うなボンディングワイヤーにおいて絶縁皮膜を有するも
のに対しては、本発明を用いると明確な剥離境界が得ら
れ、完全に皮膜を除去できるためボンディング強度及び
ボンディングの作業性に優れ有効である。このボンディ
ングワイヤーの芯線は、金、銅、アルミニウム、金メツ
キ銅、金メツキ無酸素銅があり、絶縁皮膜は上記記載の
ような有機絶縁皮膜であればいかなるものでも良い。
また、絶縁被覆電線の皮膜厚は、パルス数を調整するこ
とでいかなる皮膜厚のものヤも剥離可能である。
また、電線の全周を剥離する方法としては、例えば、ミ
ラーやビームスプリッタ−などを用いてレーザー光を多
方向から照射するなどの方法など通常使用される方法が
使用できる。
以下実施例を用い本発明を説明するが、本発明は以下の
実施例に限定されるものではない。
C)実施例 以下にこの発明の実施例を示す。
(実施例1) エキシマレーザ−装置(西ドイツ ラムダフィジク社製
、LPX−105i)でレーザーガスをArFとし、エ
ネルギー密度200mj /cm”、200パルスで金
メツキを施した無酸素銅線(以下金メツキ銅線とする。
)にポリウレタン皮膜を5μm被覆させたものの被覆の
除去を行った。剥離性の評価を行うためSEMにより皮
膜剥離部分の表面写真を取り、EDAX分析を行った。
その結果剥離部分の表面は皮膜残りはみられず、剥離境
界は非常に明確であり、炭素原子は存在せず皮膜が残っ
ていないことがわかった。SEM写真、EDAX分析を
第1図、第2図に示す。
(比較例1) CO2レーザー装置を用いて、エネルギー密度50mj
/cm”で、ポリウレタン皮膜t5μm被覆させた金メ
ツキ銅線の被覆の除去を行った。
SEM及びEDAX分析で評価したところ剥離部分の表
面には、皮膜残りが認められ、剥離境界は不鮮明で、皮
膜残りを示す炭素原子の存在が認められた。SEM写真
、EDAX分析全第3図、第4図に示す。
(実施例2) 実施例1と同様にエキシマレーザ−装置でレーザーガス
ArFを用いて、金メツキ銅線にポリウレタン皮膜を5
μm被覆させた電線にエキシマレーザ−ArFのレーザ
ー光をエネルギー密度30.50.100.150.2
00,250.300.400.500mj/af+2
にて、50Hz、250パルス照射した時の皮膜剥離部
分の皮膜残り、芯線表面荒れの有無、剥離に要する時間
を評価した。ここで皮膜残りは、実施例1と同様に評価
し、芯線表面荒れの有無は、SEM!;:て500倍で
表面の凹凸の有無で評価した。それぞれのエネルギー密
度にふ・ける評価結果を第1表に示す。エネルギー密度
50 m j /cm”以下では、被覆剥離は可能であ
るが剥離時間がかかり、目標剥離時間を達成できなかっ
た。また、エネルギー密度250mj/cm2では、被
覆剥離は可能であるが金属芯線の表面荒れを起こす。し
かし、エネルギー密度50.100,150.200m
j/cm2では、金属芯線に影響を与えることなく、高
速に被覆剥離できた。
第   1   表 (実施例3〜5) 導体に金メツキを施した無酸素銅線の代わりに金線(実
施例3)、銅線(実施例4)、アルミニウム線(実施例
5)全用い、実施例2と同様の実験を行った。その結果
いずれも剥離部分には皮膜残りはなく、剥離時間、導体
の表面状態もまった〈実施例2と同様であった。
ハ1発明の効果 以上のようにこの発明によれば絶縁被覆電線に強度を調
整したエキシマレーザ−を照射することにより絶縁被覆
のみを明確な剥離境界で、金属芯線には損傷を与えるこ
となく除去するのに効果があった。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す電線被覆の剥離部分の
SEM写真、第2図は第1図に示した部分のEDAX分
析チャート、第3図は比較例の電線被覆の剥離部分のS
EM写真、第4図は第3図口目標剥離時間 3秒 葆 図 算3図 第4凹 手 続 補 正 書(方式) %式% 2、発明の名称 電線皮膜の剥離方法 3、補正をする者 事件との関係

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)エキシマレーザーを照射して絶縁皮膜電線の所望
    の部分の被覆を除去することを特徴とした電線被覆の剥
    離方法。
  2. (2)エキシマレーザーのレーザービーム強度が50〜
    200mj/cm^2である特許請求の範囲第1項記載
    の電線被覆の剥離方法。
  3. (3)絶縁被覆電線が絶縁被覆したボンデングワイヤー
    である特許請求の範囲第1項又は第2項記載の電線被覆
    の剥離方法。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5337941A (en) * 1993-03-31 1994-08-16 The Furukawa Electric Co., Ltd. Magnet wire having a high heat resistance and a method of removing insulating film covering magnet wire
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KR100327948B1 (ko) * 1997-10-16 2002-06-26 가네꼬 히사시 피복되고미세한금속와이어및이를이용한반도체장치의조립방법
WO2003079067A1 (fr) * 2002-03-18 2003-09-25 Ntt Electronics Corporation Procede et dispositif pour la fabrication de fibre optique nue
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JP2009231547A (ja) * 2008-03-24 2009-10-08 Tdk Corp 電子部品の継線構造
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