JPH04104666U - 露光装置 - Google Patents

露光装置

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JPH04104666U
JPH04104666U JP599991U JP599991U JPH04104666U JP H04104666 U JPH04104666 U JP H04104666U JP 599991 U JP599991 U JP 599991U JP 599991 U JP599991 U JP 599991U JP H04104666 U JPH04104666 U JP H04104666U
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康宏 野々部
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トヨタ自動車株式会社
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 曲面形状の基板を形状に応じて基板全面に一
定量の光量を照射できる露光装置とすること。 【構成】 曲面形状の露光表面をもつ基板が保持される
支持部と、駆動源により回転駆動される駆動部材と、複
数の従動部材と、駆動部材と従動部材を連結する連結部
材と、連結部材の露光表面に対向する表面に保持された
光源とよりなる露光部とからなり、駆動部材の駆動によ
り光源が露光表面と一定距離を維持しつつ露光表面に沿
って移動するように構成された露光装置。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、液晶セルの基板など、特に曲面形状の基板に電極のパタニングを形 成する際に使用される露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、光源よりフォトマスクを通してフォトレジストの塗布されている基板面 に光を照射してその表面にフォトレジストの光硬化パターンを形成させるための 露光装置がある。この露光ではフォトレジストの全面に均一な露光をおこなわな いと光硬化が充分に進行しない部分が残り、現像、エッチングにより形成される 電極パターンは隣接する電極間の絶縁が不十分となりショートを起こしたりする 。特に緻密なパターンを形成する場合は、基板面に均一な光量を照射するように しないとフォトマスクのパターンがフォトレジスト上に再現できないという不具 合が発生する。
【0003】 通常露光装置は、図2に示すように集光カバー42と、集光カバー42の中心 に配置された光源41と、光源41の光を基板43の露光面に対して垂直光線と するレンズ44とを備えたランプハウス40とからなりランプハウス40を上下 の昇降させる昇降機51をもつ。基板の支持部は基板43の露光面の上面側に配 置されるパターンマスク支持台49と、基板43を固定支持し、基板43を裏面 から吸引して固定する吸着用管46の複数の開口が表面に設けられた定盤45と 定盤45を支持する支持台47とから構成されている。なお、昇降機51は支持 台47に係止され、吸着用管46は真空ポンプ48に接続されている。この露光 装置で平面状の基板には均一な光量が全面に照射できる。
【0004】 実開平1−160828号公報には、ウエハ基板の場合に均一な露光をするた めに、基板表面と平行な方向に走査する走査機構を設け、この走査機構により直 線状の光線をフォトレジストの塗布面の基板上を走査させて基板に均一な露光を おこなう露光装置が開示されている。 しかし、基板が曲面状となると、平面状のものと異なり図3に示すように光線 は基板50端部への照射は直角方向とならずフォトレジスト面に一定の光量を照 射することができなくなる。また上記の露光装置で光源を走査させても直線状の 光線が基板面上を移動するのみで、曲面状の端部では基板面に対して直角方向か ら光線が走査機構により直線的に照射できない。
【0005】 このように従来の装置での曲面基板50に対する露光方法では、照射光の単位 面積当たりの照射量が基板の中心から遠ざかる程少なくなることは避けられない 。そして照射量が不足すると、フォトレジストの現像をおこない、エッチングし ても周辺部では所定の電極パターンが形成されておらず、端部の電極は隣接する 電極間の充分な絶縁ができずショートが起きるという不具合が発生する。
【0006】
【考案が解決しようとする課題】
本考案は、上記の事情に鑑みてなされたもので、曲面形状の基板を形状に応じ て基板全面に一定量の光量を照射できる露光装置とすることを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本考案の露光装置は、曲面形状の露光表面をもつ基板が保持される支持部と、 駆動源により回転駆動される駆動部材と、複数の従動部材と、該駆動部材と該 従動部材を連結する連結部材と、該連結部材の該露光表面に対向する表面に保持 された光源とよりなる露光部とからなり、該駆動部材の駆動により該光源が該露 光表面と一定距離を維持しつつ該露光表面に沿って移動するように構成されたこ とを特徴とする。
【0008】 この露光装置は支持部と露光部とから構成され、フォトマスクを通してフォト レジストの塗布された基板面に光線を照射して、フォトリソ法により曲面形状の 基板表面に所定の電極用のパターンを形成する装置である。 この露光装置の支持部は、基板を支持固定し光源との距離を一定に保つように 支持する。たとえば、真空吸引管の開口を表面に複数配置した定盤で基板を固定 し、この定盤を保持する支持台とからなる。この支持台は基板の装着および脱着 が可能なように上下または左右に移動可能とすることが好ましい。
【0009】 この露光装置の露光部分は、駆動部材と、従動部材と、連結部材と、光源とか ら構成されている。 駆動部材は、たとえば、駆動源のモータで駆動部材の駆動ローラーが回転させ る。従動部材は、たとえば、搬送ローラーで基板の曲面形状に応じてその要所に 複数配置され連結部材に係止された光源が基板と一定の距離を保持して移動でき るように支持する。連結部材は、たとえば、ベルトで駆動部材および従動部材に より基板面上を一定の距離を保って移動可能のように配備されている。光源はこ の連結部材に係止され、連結部材の移動に応じて基板面上を基板に対して直角方 向から光線を照射する。光源は、たとえば、紫外線で棒状で集光カバーで一定の 光線となるよう保持することが好ましい。
【0010】 この光源は連結部材が駆動部材により駆動されることで、基板との間を一定の 距離をもって基板全面を一定の速度で移動させることができる。したがって、光 源の移動により端部から端部まで基板面全体にわたって照射することができる。 また、基板面への照射光量は光源の強さ、基板との間の距離、走査速度を調節す ることにより容易に変更することができる。従動部材は、その位置および数を適 宜変更して配置することにより、基板の形状に相応させて光源を基板上に一定の 距離をもって移動させることが容易にできる。
【0011】 光線が常に直角方向から照射されて一定の速度で基板上を移動させることによ り、基板全面に均一に一定光量の光が照射ができる。このため端部でも一定の光 量が確保でき均一なパターンをフォトレジスト上に露光することができる。
【0012】
【作用】
この露光装置は、曲面形状の露光表面をもつ基板が支持部で保持され、駆動源 により回転駆動される駆動部材と、複数の従動部材と、駆動部材と従動部材を連 結する連結部材と、連結部材の露光表面に対向する表面に保持された光源とから なる。この複数の従動部材は、連結部材が光源を係止して基板の露光表面と一定 の間隔を保持して移動できる位置に配置される。これにより駆動源で回転駆動さ れる駆動部材で、連結部材を従動部材を介して基板面上を曲面形状に沿って移動 する。それと同時に連結部材に設けられた光源が露光表面と一定距離を維持しつ つ露光表面に対し常に直角方向の光線を照射しながら一定の速度で移動すること ができる。
【0013】 したがって、基板の露光面全体に均一な光量の照射ができ、所望のパターンを 曲面形状であってもフォトレジスト上に形成することができ、露光むらの発生が 防止できる。 従動部材は、その位置および数を調整して配置することにより基板の曲面形状 に応じて光源を一定の距離を保持して移動させることができる。
【0014】
【実施例】
以下、実施例により具体的に説明する。 図1にこの露光装置の概略説明図を示す。 この露光装置は露光部1と支持部2とから構成され、フォトマスクを通してフ ォトレジストの塗布された基板面に光線を照射して、フォトリソ法により曲面形 状の基板表面に所定の電極用のパターンを形成する装置である。
【0015】 露光部1は駆動源のモータ4と、モータ4の回転でチェーンベルト5を介して 駆動ローラー6を回転する駆動部材3と、基板11の曲面形状に相当する形状に 連結部材のベルト8を保持移動させる複数の搬送用のローラー7からなる従動部 材と、駆動ローター6と搬送用のローラー7とにより回転移動する従動部材のベ ルト8と、ベルト8に保持される紫外線光源9とからなる。このベルト8にはリ ミットスイッチ19用の押し棒20が2ヵ所設けられ、駆動部のモータ4のスイ ッチとなるリミットスイッチ19が押し棒20と接触してベルト8を一定距離移 動させるような位置に配置されている。
【0016】 支持部2は、基板11を固定する定盤12と、定盤12を一定の位置に昇降さ せる昇降機14と、この昇降機14を動かすギヤ15とモータ16とからなる。 この支持部2で基板11と紫外線光源9との距離を一定に保し、基板11の装着 ・脱着を昇降機14を利用しておこなう。定盤12には基板11を真空吸引によ り吸着させる吸引管13の開口が複数配置され、吸引管13は真空ポンプ18に 接続されている。さらに定盤12の下には照射光線の反射防止用のカバー21が 設けられ、反射光の基板への影響を排除する。
【0017】 この露光装置の作動は、基板11を定盤12に載置し真空ポンプ18を駆動さ せて基板11を吸引管13で真空吸着させて固定させた後、昇降機14をモータ 16を駆動させてギア15を介して紫外線光源9との距離が5mm以内となるま で上昇させる。次に駆動部のモータ4の電源を入れベルト8を左方向に移動させ て紫外線光源9を左方の端部に走行させる。次にリミットスイッチ押し棒20b がリミットスイッチ19を押すことによりモーター4が逆回転し紫外線光源9は 右方向に移動を始めると同時に紫外線光源9の電源が入って点灯して照射を開始 する。紫外線光源9が基板11の右端まで移動してくるとリミットスイッチ押し 棒20aがリミット19に接触してモータ4は停止し紫外線光源9は消灯される 。このようにして基板11への露光は終わる。
【0018】 この装置によれば紫外線光源9が基板11に沿って一定の距離を保持して移動 し、かつどの部位においても紫外線が基板11に対して垂直方向から照射できる 。このため基板11の形状が曲面状であっても基板全面にわたって均一なパタン の形成が可能となる。 なお、光源の移動速度はフォトレジストの種類、膜厚、光源の出力により決定 される。また、基板の形状が変わった場合は、搬送ローラの配置を組み換えるこ とにより対応させることができる。
【0019】
【考案の効果】
この露光装置では光源が基板の曲面形状に沿って走査することができるので、 曲面基板の全面にわたって均一な光線の照射が可能となる。そのため照射後、現 像、エッチング処理して得られる電極パターンは、ショートや断線のない良好な 電極パターンが形成できる。
【0020】 また、従動部材の位置を適宜変更することにより基板と光源との間の距離を一 定に保つことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施例の露光装置の概略説明図である。
【図2】 従来の露光装置の概略説明図である。
【図3】 従来の露光装置に曲面基板を配置した場合の
要部説明図である。
【符号の説明】
1 露光部、 2 支持部、 3 駆動部材、4 モー
タ、 5 チェーンベルト、 6 駆動ローラー、7
ローラー、 8 ベルト、 9 紫外線光源、 10
集光カバー、11 基板、 12 定盤、 13 吸引
管、 14 昇降機、15 ギア、 16 モータ、
18 真空ポンプ、19 リミットスイッチ、 20
リミットスイッチ押し棒、21 反射防止用カバー、

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 曲面形状の露光表面をもつ基板が保持さ
    れる支持部と、駆動源により回転駆動される駆動部材
    と、複数の従動部材と、該駆動部材と該従動部材を連結
    する連結部材と、該連結部材の該露光表面に対向する表
    面に保持された光源とよりなる露光部とからなり、該駆
    動部材の駆動により該光源が該露光表面と一定距離を維
    持しつつ該露光表面に沿って移動するように構成された
    ことを特徴とする露光装置。
JP599991U 1991-02-14 1991-02-14 露光装置 Expired - Lifetime JP2535657Y2 (ja)

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JPH04104666U true JPH04104666U (ja) 1992-09-09
JP2535657Y2 JP2535657Y2 (ja) 1997-05-14

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015507214A (ja) * 2011-12-01 2015-03-05 エルジー・ケム・リミテッド マスク

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JP2015507214A (ja) * 2011-12-01 2015-03-05 エルジー・ケム・リミテッド マスク

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JP2535657Y2 (ja) 1997-05-14

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