JPH04100866A - Antistatic coating composition - Google Patents

Antistatic coating composition

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JPH04100866A
JPH04100866A JP21814890A JP21814890A JPH04100866A JP H04100866 A JPH04100866 A JP H04100866A JP 21814890 A JP21814890 A JP 21814890A JP 21814890 A JP21814890 A JP 21814890A JP H04100866 A JPH04100866 A JP H04100866A
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JP
Japan
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metal compound
compound
fluoride
coating composition
antistatic coating
Prior art date
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Application number
JP21814890A
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Japanese (ja)
Inventor
Minoru Hasegawa
稔 長谷川
Masayo Hosoda
細田 雅代
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KORUKOOTO ENG KK
Original Assignee
KORUKOOTO ENG KK
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Abstract

PURPOSE:To realize the formation of a film excellent in adhesion to the surface of inorganic or plastic material and also excellent in electroconductivity when heated at low temperatures by mixing a cohydrolyzate of an alcoholic silica sol and a metal compound with a fluoride as the conductivity improver. CONSTITUTION:The title composition comprises a cohydrolyzate of an alcoholic silica sol and a metal compound, obtained by cohydrolyzing a hydrolyzable silicon compound and a cohydrolyzable metal compound in an alcohol solvent, and a fluoride. As the hydrolyzable silicon compound, organic silicates are useful. The preferable cohydrolyzable metal compound may include chlorides and alkoxides of tin, antimony, indium, etc. Among the preferable fluorides are metal fluorides, hydrogen fluoride, ammonium fluoride, etc.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的1 (産業上の利用分野) 本発明は、加水分解ケイ素化合物と導電性金属化合物と
をアルコール滴媒中で共加水分解して得られるアルコー
ル性シリカゾル−金属化合物の共加水分解物と、特定の
導電性改良剤より成る新規な静電防止用コーティング組
成物に関する。
Detailed Description of the Invention [Objective of the Invention 1 (Industrial Application Field) The present invention provides an alcoholic silica sol obtained by co-hydrolyzing a hydrolyzed silicon compound and a conductive metal compound in an alcohol droplet. A novel antistatic coating composition comprising a cohydrolyzate of a metal compound and a specific conductivity improver.

更に詳細には、低い湿度条件においても性能劣化のない
静電気防止性の、あるいは電撃防止性に優れた防げん性
の透明無機質被膜を150℃前後の加熱乾燥という極め
て低い温度で形成することができる静電防止用コーティ
ング組成物に関するものである。
More specifically, it is possible to form a transparent inorganic coating with anti-static properties that does not deteriorate in performance even under low humidity conditions, or with anti-shock properties, at an extremely low temperature of heating and drying at around 150°C. The present invention relates to an antistatic coating composition.

(従来の技術とその限界) 従来、特開昭46− 37119号、特開昭60109
134号、特開昭61−55164号等に示される様に
Si (OR) 4(珪酸エステル)で代表される加水
分解性ケイ素化合物を加水分解して得られる組成物が、
ガラスやプラスチック表面上に静電気防止性、防げん性
、表面保護性を有する無機質被膜を形成することは公知
である。これらの被膜特性の中で静電気防止性は、プラ
スチック表面の静電気防止やブラウン管等の静電気の蓄
積するガラス表面の帯電防止に特に重要なものである。
(Conventional technology and its limitations) Previously, JP-A-46-37119, JP-A-60109
No. 134, JP-A No. 61-55164, etc., a composition obtained by hydrolyzing a hydrolyzable silicon compound represented by Si (OR) 4 (silicate ester) is
It is known to form an inorganic film having antistatic, anti-scald, and surface protective properties on glass or plastic surfaces. Among these coating properties, antistatic properties are particularly important for preventing static electricity on plastic surfaces and on glass surfaces such as cathode ray tubes where static electricity accumulates.

特に後書のブラウン管の場合、最近のコンピューター化
の浸透にともない、作業者がブラウン管に近接あるいは
接触して操作する機械が増加し、画面のし察による眼精
疲労や接触時の静電気的ショックが操作上の障害として
その問題点がクローズアップされている。
Particularly in the case of cathode ray tubes, as mentioned in the afterword, with the recent spread of computerization, the number of machines in which workers operate near or in contact with the cathode ray tubes has increased, causing eye strain due to viewing the screen and electrostatic shock when touching the tubes. The problem has been highlighted as an operational obstacle.

このような問題点に対応して、前記したような加水分解
性ケイ素化合物を加水分解して得られるコーティング組
成物が提案されているのであるが、この種の従来のコー
ティング組成物においては静電気防止性を長期にわたっ
て維持することができず、時間の経過とともに劣化して
しまう難、壱がある。また、静電気防止性が外界(雰囲
気)の温度に依存するため、乾燥時期あるいは乾燥地域
での使用にあたり、その効果に問題がある。
In response to these problems, coating compositions obtained by hydrolyzing the hydrolyzable silicon compounds described above have been proposed, but conventional coating compositions of this type do not have antistatic properties. One problem is that it cannot maintain its properties over a long period of time and deteriorates over time. Furthermore, since the antistatic property depends on the temperature of the outside world (atmosphere), there is a problem in its effectiveness when used in dry periods or in dry regions.

これに対する改良技術として、特開昭61−16452
号において、シリケート材料と無機金属化合物とで構成
された防げん性および静電防止性コーテイング膜を有す
るブラウン管(陰極線管)が提案されている。しかしな
がらこの発明は、シリケート材料が主に、水分散液であ
るリチウム安定化シリカゾルを基本としているため、実
公昭50−26277号に指摘されている様に乾燥性が
悪く、スプレー後に流動状態になりやすく、形成される
粗面のパターンが粗くなる欠点を有している。また、水
性であるためプラスチック表面でははじかれてしまい均
一な被膜ができず、使用範囲がガラスに限定される。な
お、前記した改良技術においてはリチウム安定化シリカ
ゾルの代りにテトラエチルオルソシリケト等の有機シリ
ケートを使用できることが記述されでいるが、テトラエ
チルオルソシリケートは揮発性であり、シリカゾルの様
にシリカ被膜を形成する能力を持たず、防げん性液膜を
付与することは不可能である。
As an improved technique for this, Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-16452
No. 1, a cathode ray tube (cathode ray tube) having a dust-proof and antistatic coating film composed of a silicate material and an inorganic metal compound is proposed. However, in this invention, the silicate material is mainly based on lithium-stabilized silica sol, which is an aqueous dispersion, so as pointed out in Utility Model Publication No. 50-26277, it has poor drying properties and becomes fluid after spraying. However, it has the disadvantage that the pattern of the rough surface that is formed becomes rough. Furthermore, since it is water-based, it is repelled by plastic surfaces and does not form a uniform film, which limits its use to glass. Note that in the improved technique described above, it is stated that organic silicates such as tetraethyl orthosilicate can be used in place of the lithium-stabilized silica sol, but tetraethyl orthosilicate is volatile and does not form a silica film like silica sol. Therefore, it is impossible to apply an anti-scald film.

一方、プラスチックやガラスなどの物質表面を導電性と
する方法として、SnO□、 InzO3等の電子導電
性の被膜を物質表面に形成すれば良いが、その被膜形成
には蒸着法やスパッタリング法によらなければ密着性が
悪く、コスト高になるばかりか、大型の対象物への適用
は不可能である。この種の改良技術として、特開昭61
−26679号に、コーティング法による5n02.I
n20gの導電膜の形成法が開示されているが、無機質
の被膜を形成させるためには500℃以上での焼成が必
要である。従って、基材が耐熱性の無機材料に限定され
、プラスチック等には応用できないという欠点がある。
On the other hand, as a method of making the surface of materials such as plastics and glass conductive, it is sufficient to form an electronically conductive film such as SnO□ or InzO3 on the surface of the material, but the film can be formed by vapor deposition or sputtering. Without it, adhesion would be poor and costs would be high, and application to large objects would be impossible. As this type of improved technology, JP-A-61
-26679, 5n02. by coating method. I
Although a method for forming a conductive film of n20 g is disclosed, baking at 500° C. or higher is required to form an inorganic film. Therefore, the base material is limited to heat-resistant inorganic materials, and there is a drawback that it cannot be applied to plastics or the like.

(発明が解決しようとする問題点) 本発明者らは、前記した従来技術の問題点を解決すべく
鋭意検討を重ねた。その結果、加水分解性ケイ素化合物
と該加水分解性ケイ素化合物と共加水分解することがで
きる導電性金属化合物とをアルコール溶媒中で共加水分
解して得られるアルコール性シリカゾルに、特定の導電
性改良剤を配合した場合、無機質あるいはプラスチック
基材表面に対して密着性に優れるとともに、驚くべきこ
とに150℃前後という極めて低い加熱乾燥温度のもと
て導電性に優れた被膜を形成することができることを見
い出し、本発明を完成するに至った。
(Problems to be Solved by the Invention) The present inventors have made extensive studies to solve the problems of the prior art described above. As a result, an alcoholic silica sol obtained by cohydrolyzing a hydrolyzable silicon compound and a conductive metal compound that can be co-hydrolyzed with the hydrolyzable silicon compound in an alcohol solvent has a specific conductivity improvement. When compounded with this agent, it has excellent adhesion to the surface of inorganic or plastic substrates, and surprisingly, it is possible to form a film with excellent conductivity at extremely low heating and drying temperatures of around 150°C. They discovered this and completed the present invention.

[発明の効果] (問題点を解決するための手段) 本発明を概説すれば、本発明は、 (il加水分解性ケイ素化合物、及び前記ケイ素化合物
と共加水分解することができる導電性の金属化合物とを
アルコール溶媒中で共加水分解して得られるアルコール
性シリカゾルと金属化合物との共加水分解物。
[Effects of the Invention] (Means for Solving the Problems) To summarize the present invention, the present invention provides the following features: A co-hydrolyzate of an alcoholic silica sol and a metal compound obtained by co-hydrolyzing the compound in an alcohol solvent.

(ii)導電性改良剤としてのフッ化物。(ii) Fluoride as a conductivity improver.

とからなることを特徴とする静電防止用コーティング組
成物に関するものである。
The present invention relates to an antistatic coating composition comprising:

以下、本発明の構成について詳しく説明する。Hereinafter, the configuration of the present invention will be explained in detail.

本発明のアルコール性シリカゾルと導電性の金属化合物
との共加水分解物は、−11Uには加水分解性ケイ素化
合物と、前記ケイ素化合物と共加水分解性でかつ導電性
の金属化合物とをアルコール溶媒中で触媒の存在、また
は不存在下で所定量の水を作用せしめて部分加水分解し
て調製することができる。
The co-hydrolyzate of the alcoholic silica sol and a conductive metal compound of the present invention is prepared by adding a hydrolyzable silicon compound and a conductive metal compound co-hydrolyzable with the silicon compound to -11U in an alcohol solvent. It can be prepared by partially hydrolyzing a predetermined amount of water in the presence or absence of a catalyst.

このようにして調製されるアルコール性シリカゾル−金
属化合物の共加水分解物は、シロキサンすなわち5i−
0−5i鎖(または網)に金属(劇化合物の一部あるい
は全てがSi−0−M結合により結合されたもの(以下
、アルコール性シリカゾル−金属化合物共加水分解物と
もいう。)からなるコロイド分散液であり、生成するコ
ロイド粒子の粒径は約50〜80人で、無色透明、低粘
度の液体である。
The alcoholic silica sol-metal compound cohydrolyzate thus prepared is a siloxane, i.e. 5i-
A colloid consisting of a 0-5i chain (or network) in which a part or all of a metal compound is bonded via a Si-0-M bond (hereinafter also referred to as an alcoholic silica sol-metal compound co-hydrolyzate). It is a dispersion liquid, and the particle size of the colloid particles produced is about 50 to 80 particles, and it is a colorless, transparent, and low viscosity liquid.

前記アルコール性シリカゾル−金属化合物共加水分解物
の調製に使用される加水分解性ケイ素化合物としては、 数式 %式%[] で示される有機シリケート化合物が用いられる。
As the hydrolyzable silicon compound used to prepare the alcoholic silica sol-metal compound co-hydrolyzate, an organic silicate compound represented by the formula % [ ] is used.

前記した有機シリケートの具体例としては、例えば、5
iCff 4. Si iOMe) 4. Si (O
CzH514、Si (QC3H71,,5i(OC,
H9)4. iAc:014Si、およびこれらの縮合
物、例えばCβ3SiO3iCj23. fcH301
:+S+03t(OCH313,fc2Fsol 3S
iO5i fOc2H5) 3.1Aco) 、5iO
3i(OAc)2.や市販のエチルシリケート40(コ
ルコロ■社製)等がある。
Specific examples of the organic silicates mentioned above include, for example, 5
iCff4. Si iOMe) 4. Si (O
CzH514,Si (QC3H71,,5i(OC,
H9)4. iAc:014Si, and condensates thereof, such as Cβ3SiO3iCj23. fcH301
:+S+03t(OCH313, fc2Fsol 3S
iO5i fOc2H5) 3.1Aco) , 5iO
3i(OAc)2. and commercially available ethyl silicate 40 (manufactured by Corcoro ■).

これらのケイ素化合物は、従来知られた方法、例えばア
ルコール溶媒中で所定量の水を加えて、酸触媒存在下あ
るいは不存在下で反応させることにより容易に加水分解
物を得ることができる。そのような酸触媒としては、無
機酸も有機酸も好都合に使用でき、無機酸としては、例
えば塩酸、硫酸、硝酸7リン酸、はう酸などが好ましく
、また有機酸としては、ギ酸、酢酸、修酸、及びp−ト
ルエンスルホン酸などが好ましく用いられる。その触媒
量は、ケイ素化合物に対して、通常1.0ppm〜5%
程度が好ましく採用される。5%を越えて使用しても目
的物は得られるが、特に良い結果は期待できない。
Hydrolysates of these silicon compounds can be easily obtained by a conventionally known method, for example, by adding a predetermined amount of water to an alcohol solvent and reacting in the presence or absence of an acid catalyst. As such acid catalysts, both inorganic and organic acids can be conveniently used; the inorganic acids are preferably hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, heptaphosphoric acid, phosphoric acid, etc., and the organic acids are formic acid, acetic acid, etc. , oxalic acid, p-toluenesulfonic acid, and the like are preferably used. The amount of catalyst is usually 1.0 ppm to 5% based on the silicon compound.
degree is preferably adopted. Although the desired product can be obtained even if it is used in an amount exceeding 5%, particularly good results cannot be expected.

ケイ素化合物の配合量は、溶液の固形分(シリカ分)2
〜IO重量%となるように加えるのが好ましい。配合す
る水の量は、ケイ素化合物の加水分解率が70〜500
%、好ましくは100〜300%になる量が用いられる
。使用される溶媒としては、メタノール、エタノール、
プロパツール、ブタノール等のアルコール類が好ましい
The amount of silicon compound added is the solid content (silica content) of the solution 2
It is preferable to add it in an amount of ˜IO weight %. The amount of water to be blended is such that the hydrolysis rate of the silicon compound is 70 to 500.
%, preferably from 100 to 300%. Solvents used include methanol, ethanol,
Alcohols such as propatool and butanol are preferred.

反応温度は、室温が有利に採用されるが、それ以上の温
度でも良(、また反応時間は温度、触媒量により異なる
が一般に1〜48時間である。
The reaction temperature is preferably room temperature, but a higher temperature may also be used (and the reaction time varies depending on the temperature and amount of catalyst, but is generally 1 to 48 hours).

本発明は、前記加水分解性ケイ素化合物をアルコール媒
体中で所定量の水により加水分解するに際して、共加水
分解性でかつ導電性の金属化合物を併用することを特徴
とするものである。
The present invention is characterized in that when the hydrolyzable silicon compound is hydrolyzed with a predetermined amount of water in an alcoholic medium, a co-hydrolyzable and conductive metal compound is used in combination.

本発明のアルコール性シリカゾル−金属化合物共加水分
解物の調製に使用される導電性の金属化合物としては、
最終的に導電性の化合物を与えるものであればいずれで
もよ(、Sn、 In。
The conductive metal compound used in the preparation of the alcoholic silica sol-metal compound co-hydrolyzate of the present invention includes:
Any compound that ultimately provides a conductive compound may be used (Sn, In, etc.).

sb等の金属塩化物、硝酸塩、硫酸塩、カルボン酸塩、
アルコキシド、アセチルアセトナート錯体、及びこれら
の混合物が代表的なものであり、反応性、経済性、被膜
の透明性9強度や密着性及び静電防止性等の性能面から
錫の塩化物やアルコキシドが好ましい。なお、塗布液の
処理工程や被覆の特性として塩素の有無を考慮しなけれ
ばならないときは、錫の塩化物か錫のアルコキシドのど
ちらかを使用すればよい。周知の如く、錫、アンチモン
、インジウムの金&:酸化物は導電性に優れたものであ
る。
Metal chlorides, nitrates, sulfates, carboxylates such as sb,
Typical examples include alkoxides, acetylacetonate complexes, and mixtures thereof.Tin chlorides and alkoxides is preferred. In addition, when the presence or absence of chlorine must be taken into consideration in the treatment process of the coating liquid or the characteristics of the coating, either tin chloride or tin alkoxide may be used. As is well known, gold &: oxides of tin, antimony, and indium have excellent electrical conductivity.

本発明において、共加水分解性の金属化合物、例えば前
記した錫のアルコキシドを使用する場合、該化合物は水
の存在下において水と急激に反応し、白濁化してしまい
、前記した加水分解性ケイ素化合物あるいは手の部分縮
合物(エチルシリケート40など)と効率的に共加水分
解反応を起さない。従って、このような場合には以下の
態様で共加水分解反応を制御し、十分に共加水分解反応
を行なわせることが重要である。
In the present invention, when a co-hydrolyzable metal compound, such as the above-mentioned tin alkoxide, is used, the compound rapidly reacts with water in the presence of water and becomes cloudy, and the above-mentioned hydrolyzable silicon compound Alternatively, it does not co-hydrolyze efficiently with partial condensates of hands (such as ethyl silicate 40). Therefore, in such cases, it is important to control the co-hydrolysis reaction in the manner described below to ensure that the co-hydrolysis reaction is carried out sufficiently.

(])先行的に加水分解性ケイ素化合物をアルコール溶
媒中で、所定量の水の存在下で加水分解してアルコール
性シリカゾルを調製し、次いでこの反応系に錫、アンチ
モン、インジウムから選ばれる少なくとも1種のアルコ
キシドを少量ずつ供給して共加水分解を行なわしめる。
(]) A hydrolyzable silicon compound is previously hydrolyzed in an alcohol solvent in the presence of a predetermined amount of water to prepare an alcoholic silica sol, and then at least one selected from tin, antimony, and indium is added to the reaction system. Cohydrolysis is carried out by feeding one type of alkoxide in small amounts.

(ii)前記金属成分がアルコキシド、ケイ素のアルコ
キシド、及びアルコール溶媒の混合溶液中に、前記金属
成分のアルコキシドの加水分解に必要な水を少量ずつ供
給し、前記金属成分のアルコキシドを先行的に加水分解
させ、次いで所定量の水を添加してケイ素のアルコキシ
ドを加水分解させて調製する。
(ii) Water necessary for hydrolysis of the alkoxide of the metal component is supplied little by little into a mixed solution of the alkoxide of the metal component, the alkoxide of silicon, and an alcohol solvent, and the alkoxide of the metal component is preliminarily hydrated. It is prepared by decomposing it and then adding a predetermined amount of water to hydrolyze the silicon alkoxide.

fiiil 前記金属成分のアルコシキトとアルコール
溶媒との混合溶液中に、金属成分のアルコキシドの加水
分解に必要な水を少量ずつ供給し、金属成分のアルコキ
シドを先行的に加水分解させ、次いでこの反応系にケイ
素のアルコキシド及び水を添加してケイ素のアルコキシ
ドを加水分解させて調製する。
fiii. Water necessary for hydrolyzing the alkoxide of the metal component is supplied little by little into the mixed solution of the alkoxylate of the metal component and an alcohol solvent to preliminarily hydrolyze the alkoxide of the metal component, and then to this reaction system. It is prepared by adding silicon alkoxide and water to hydrolyze the silicon alkoxide.

なお、前記(iil fiii)の態様における水の供
給法としては、水を同伴ガス(例えばN2ガス)ととも
に気体状態で供給する方法が好ましい。
In addition, as a method for supplying water in the aspect (iii) above, it is preferable to supply water in a gaseous state together with an accompanying gas (for example, N2 gas).

本発明において、共加水分解反応に際して、静電防止性
能を電子導電型により発現させることを期待して、これ
ら金属化合物に対してドーピング的役割を果す金属化合
物、例えば錫化合物に対してアンチモン化合物を併・用
することは有効なことである。
In the present invention, in the cohydrolysis reaction, an antimony compound is added to a metal compound that plays a doping role for these metal compounds, such as a tin compound, in the hope that the antistatic performance will be expressed by the electronic conductivity type. It is effective to use them together.

加水分解性ケイ素化合物と金属化合物との配合比につい
ては、金属化合物の添加割合を増せば静電防止効果は高
くなるが、一方基材への密着付が低下し、また被膜形成
能も低下し、白化等を生じ均一な被膜を形成できなくな
るので、これらを勘案して決められる。一般には加水分
解性ケイ素化合物から得られるシリカ 100重量部に
対し、金属化合物から得られる金属酸化物が概ねIO乃
至100重量部、好ましくは15乃至50重量部となる
ように配合される。
Regarding the blending ratio of the hydrolyzable silicon compound and the metal compound, increasing the proportion of the metal compound added increases the antistatic effect, but on the other hand, the adhesion to the substrate decreases, and the ability to form a film also decreases. , whitening, etc. may occur, making it impossible to form a uniform film, so these should be taken into consideration when deciding. Generally, the metal oxide obtained from the metal compound is blended in an amount of about IO to 100 parts by weight, preferably 15 to 50 parts by weight, to 100 parts by weight of silica obtained from the hydrolyzable silicon compound.

なお、前記加水分解性ケイ素化合物と金属化合物との共
加水分解反応を酸性触媒の存在下で行なう場合、生成す
るアルコール性シリカゾル金属化合物共加水分解物中に
触媒量として残る塩酸などの酸が、塗布時に基材表面と
化学反応を起して基材表面を活性化する。そしてこれに
より、本発明のコーティング組成物は基材表面に強固に
結合するようになる。従って酸性触媒の存在下で共加水
分解を行なうことは有効な方法である。
In addition, when the co-hydrolysis reaction between the hydrolyzable silicon compound and the metal compound is carried out in the presence of an acidic catalyst, an acid such as hydrochloric acid remaining in a catalytic amount in the alcoholic silica sol metal compound co-hydrolyzate produced, When applied, a chemical reaction occurs with the base material surface to activate the base material surface. This allows the coating composition of the present invention to firmly bond to the surface of the substrate. Therefore, carrying out cohydrolysis in the presence of an acidic catalyst is an effective method.

次に、本発明の静電防止用コーティング組成物において
、より静電防止能を改善するための添加剤としてのフッ
化物について説明する。
Next, fluoride as an additive for further improving the antistatic ability in the antistatic coating composition of the present invention will be explained.

金属塩(例えば塩化錫)溶液に還元剤、更にフッ化物を
添加したコーティング剤をガラス面に塗布し、これを6
00℃に加熱することにより被膜抵抗の小さい被膜が形
成できることは知られている(窯協66 [7] 、 
1958第52〜第53頁)。しかし、この技術におい
てフッ什物の作用機構は不明であり、高温焼成であり、
かつ形成される被膜も不透明なものである。
A coating agent made by adding a reducing agent and fluoride to a metal salt (for example, tin chloride) solution is applied to the glass surface, and this is coated with 6
It is known that a film with low film resistance can be formed by heating to 00°C (Kiln Association 66 [7],
1958, pp. 52-53). However, the mechanism of action of fluorine in this technology is unknown, and high temperature firing is required.
Moreover, the film formed is also opaque.

これに対して、本発明は前記したアルコール性シリカゾ
ル−金属化合物共加水分解物において、例えば金属化合
物が塩化錫(SnC1! 、)のとき、塩化錫成分をフ
ッ化物により低温領域において導電性を示す酸化錫(S
nO□)に変換させやすい中間体を形成させるという観
点からフッ化物を使用するものである。また、フッ化物
による電子導電型の酸化錫(SnO□)の形成とともに
、添加されるフッ化物によりイオン導電性的側面も発現
させるという観点からフッ化物を使用するものである。
In contrast, in the present invention, in the alcoholic silica sol-metal compound co-hydrolyzate, for example, when the metal compound is tin chloride (SnC1!), the tin chloride component is replaced with fluoride to exhibit conductivity in a low temperature range. Tin oxide (S
Fluoride is used from the viewpoint of forming an intermediate that is easily converted to nO□). Further, fluoride is used from the viewpoint that the fluoride forms electronically conductive tin oxide (SnO□), and the added fluoride also exhibits ion conductive properties.

後述する実施例で実証されるように、アルコール性シリ
カゾル−金属化合物共加水分解物に対し、フッ化物を添
加すると、表面抵抗値が10’Ωという優れた静電防止
性能が発現される。
As demonstrated in the Examples described later, when fluoride is added to the alcoholic silica sol-metal compound co-hydrolyzate, excellent antistatic performance with a surface resistance value of 10'Ω is exhibited.

本発明において静電防止性(導電性)改良剤として使用
することができるフッ化物は、フッ化金属、フッ化水素
、フッ化アンモニウムなどであり、これらは組成物全体
に対し0.05〜0.5重量%使用すれば十分である。
Fluorides that can be used as antistatic (conductivity) improvers in the present invention include metal fluoride, hydrogen fluoride, ammonium fluoride, etc. It is sufficient to use .5% by weight.

前記したフッ化金属としては、フッ化アルミニウム、フ
ッ化カリウム、フッ化アンチモン、フッ化スズ、フッ化
チタン、フッ化鉄、フッ化ナトリウムなどがある。
Examples of the metal fluoride mentioned above include aluminum fluoride, potassium fluoride, antimony fluoride, tin fluoride, titanium fluoride, iron fluoride, and sodium fluoride.

本発明の(itアルコール性シリカゾル−金属化合物共
加水分解物とfiilフッ化物よ1りなる静電気防止性
コーティング組成物は、通常コーティング法、例えば浸
せき法、バーコード法、ロールコート法、スピナーコー
ト法、スプレー法等により、ガラスやプラスチック表面
上に適用され、 150℃前後の低温乾燥または加熱処
理により密着性、耐久性に優れた静電気防止性の透明無
機質被膜とすることができる。また、例えば特願昭60
−175686号に示されている様な方法により本発明
の静電防止コーティング組成物をブラウン管フェースプ
レート表面上にスプレー塗布すれば、該表面上に防げん
性と堅牢な電撃防止能力を兼備えた被膜を形成すること
ができる。
The antistatic coating composition of the present invention comprising an alcoholic silica sol-metal compound co-hydrolyzate and a fiil fluoride can be prepared by a conventional coating method, such as a dipping method, a barcoding method, a roll coating method, or a spinner coating method. It can be applied to a glass or plastic surface by a spray method or the like, and can be made into an antistatic transparent inorganic film with excellent adhesion and durability by low-temperature drying or heat treatment at around 150°C. 1986
When the antistatic coating composition of the present invention is spray-coated onto the surface of a cathode ray tube face plate by a method as shown in No. 175686, a coating having both anti-shock properties and robust anti-shock properties is formed on the surface. can be formed.

本発明の静電気防止性コーティング組成物が静電気防止
効果を発現する作用機構は、第1図を用いて次のように
説明することができる。
The mechanism by which the antistatic coating composition of the present invention exhibits the antistatic effect can be explained as follows using FIG.

第1図は、ガラス表面に本発明になる静電気防止性コー
ティング組成物を塗布した場合の、静電気防止効果の発
現機構を示す概念説明図である。
FIG. 1 is a conceptual explanatory diagram showing the mechanism by which the antistatic effect is produced when the antistatic coating composition of the present invention is applied to a glass surface.

一般的にガラスは、fsiO,l−’の鎖を基本骨格と
する無規則網目構造(シロキサン網)をしており、その
表面に水酸基(OH)を有している。
Generally, glass has an irregular network structure (siloxane network) having fsiO,l-' chains as its basic skeleton, and has hydroxyl groups (OH) on its surface.

方、加水分解性ケイ素化合物の方も加水分解によりオリ
ゴマー化あるいは高分子量化してシロキサン網中に若干
のシラール基fsi−OHI を有するものとなる。そ
してアルコール性シリカゾルのゲル化過程で両者はガラ
ス界面において、第1図に示されるようにガラス表面の
ケイ酸分子の酸素原子とゲル体側のシラノール基の水素
原子、ガラス表面の水酸基とゲル体側のシロキサン網中
の酸素原子との間で水素結合し強固に結合するようにな
る。
On the other hand, the hydrolyzable silicon compound is also oligomerized or made to have a high molecular weight by hydrolysis, and has some silal groups fsi-OHI in the siloxane network. During the gelation process of the alcoholic silica sol, both oxygen atoms of the silicic acid molecules on the glass surface, hydrogen atoms of the silanol groups on the gel body side, and hydroxyl groups on the glass surface and hydrogen atoms of the silanol groups on the gel body side meet at the glass interface, as shown in Figure 1. Hydrogen bonds form with oxygen atoms in the siloxane network, forming a strong bond.

また、金属化合物の方は、加水分解性ケイ素化合物との
共加水分解過程において、少なくとも一部が第1図に示
されるようにSi−0−M(Mは金属原子)結合を形成
し、両者は強固に結合するとともにその表面部に導電性
を付与するようになる。即ち、金属化合物は加水分解性
ケイ素化合物のアルコール性加水分解物を介して、ガラ
ス表面に強固な導電層を形成する。その際、添加された
フッ化物がゲル化反応時に金属化合物を電子導電性物質
に変化させたり、ゲル化層のイオン導電性の発現に大き
な役割を果す。
Furthermore, in the co-hydrolysis process with the hydrolyzable silicon compound, at least a portion of the metal compound forms a Si-0-M (M is a metal atom) bond as shown in FIG. is strongly bonded and provides electrical conductivity to its surface. That is, the metal compound forms a strong conductive layer on the glass surface via the alcoholic hydrolyzate of the hydrolyzable silicon compound. At that time, the added fluoride plays a major role in changing the metal compound into an electronically conductive substance during the gelation reaction and in developing the ionic conductivity of the gelled layer.

なお、基材がプラスチックの場合も、アルコール性シリ
カゾル−金属化合物共加水分解物のゲル化過程でのシロ
キサン網の無機質高分子がプラスチック表面に投錯効果
により強く密着するようになるので、同様に強固な導電
層がプラスチック基村上に形成される。
In addition, when the base material is plastic, the inorganic polymer of the siloxane network during the gelation process of the alcoholic silica sol-metal compound co-hydrolyzate comes to adhere strongly to the plastic surface due to the complexation effect, so the same effect can be applied. A strong conductive layer is formed on the plastic substrate.

(実施例) 以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明する。(Example) Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.

なお、実施例中、配合比率は全て重量基準である。In addition, in the examples, all compounding ratios are based on weight.

実施例1゜ メタノール72,6部、エチルシリケート40(コルコ
ート■製エチルシリケートの部分加水分解物)7.5部
、四塩化錫1.7部を均一に混合し、水17.5部と濃
塩酸0.45部を加え共加水分解を行ない、更に塩化ア
ンチモン0.15部を加え反応させた。
Example 1 72.6 parts of methanol, 7.5 parts of ethyl silicate 40 (partial hydrolyzate of ethyl silicate manufactured by Colcote ■), and 1.7 parts of tin tetrachloride were mixed uniformly, and mixed with 17.5 parts of water and concentrated. 0.45 part of hydrochloric acid was added to perform cohydrolysis, and 0.15 part of antimony chloride was further added to react.

得られた共加水分解液50部にイソプロピルアルコール
(IPA)15部、n−ブタノール35部、及びフッ化
アンモニウム0,1部を加え、静電気防止性コーティン
グ組成物を調製した。
An antistatic coating composition was prepared by adding 15 parts of isopropyl alcohol (IPA), 35 parts of n-butanol, and 0.1 part of ammonium fluoride to 50 parts of the obtained co-hydrolyzed solution.

この静電気防止性コーティング組成物を150X80X
2+amのガラス板に浸せき法で塗布し、定温乾燥器を
用いて150℃で1時間乾燥硬化させた。
Apply this antistatic coating composition to 150X80X
It was coated on a 2+am glass plate by a dipping method, and dried and cured at 150° C. for 1 hour using a constant temperature dryer.

比較例1゛。Comparative example 1゛.

フッ化アンモニウムを添加せずに実施例1と同じ手順で
調製した静電気防止性コーティング組成物を実施例1と
同じ手順で塗布し硬化させた。
An antistatic coating composition prepared according to the same procedure as in Example 1 without the addition of ammonium fluoride was applied and cured according to the same procedure as in Example 1.

実施例1及び比較例1により得られた被膜について次の
事項について評価を行なった。評価は以下の方法によっ
た。
The coatings obtained in Example 1 and Comparative Example 1 were evaluated regarding the following items. The evaluation was based on the following method.

・外 観 被膜を目視で観察し、透明なものをO1白化のあるもの
を×とした。
・The external appearance of the film was visually observed, and those that were transparent and those with O1 whitening were rated as ×.

・耐水性 50℃の湯に24時間浸漬し、その後の被膜の状態を調
べた。被膜状態が良好なものを○とした。
・Water resistance The film was immersed in hot water at 50°C for 24 hours, and the state of the film was then examined. Those with good coating conditions were rated as ○.

・密着性 被膜上にセロファンテープを貼り、瞬時に引き剥した時
、膜の剥離のないものを○とした。
- When cellophane tape was applied on the adhesive film and instantly peeled off, the film was rated ○ if it did not peel off.

・表面硬度 LION消ゴムNo、50−50で往復25回(計50
回)摩擦し、キズの状況を評価した。
・Surface hardness LION eraser No. 50-50, 25 times back and forth (total 50
(times)) and evaluated the scratches.

(評価基準) Oニキズなし ×:キズあり 結果を第1表に示す。(Evaluation criteria) No blemishes ×: There are scratches The results are shown in Table 1.

第  1  表 また、実施例1及び比較例1により得た被膜(試験試料
)について、表面抵抗値と電荷減衰時間について測定し
た。測定は以下の方法によっな。
Table 1 Furthermore, the surface resistance value and charge decay time of the coatings (test samples) obtained in Example 1 and Comparative Example 1 were measured. Measure using the following method.

・表面抵抗値の測定 東京電子■製スタックTR−3型により測定した。・Measurement of surface resistance value Measurement was carried out using a stack TR-3 model manufactured by Tokyo Denshi ■.

・電荷減衰時間の測定 試験試料に±5KVの電荷を印加し、この電荷の減衰(
ゼロボルト(Ov)への減衰)を経時的に測定した。米
国賛IL規格によりElectrotech社製5ta
tic Decay Meterにより測定した。
・Measurement of charge decay time A charge of ±5 KV is applied to the test sample, and the decay of this charge (
The decay to zero volts (Ov) was measured over time. 5ta manufactured by Electrotech according to the US IL standard
Measured using a tic Decay Meter.

そして表面抵抗値、電荷減衰時間の測定は20℃、10
〜15%RHの極低湿度の加速条件下で30日間 露し
経時的に測定した。その結果、実施例1の静電気防止性
コーティング組成物より調製した被膜の表面抵抗特性及
び電荷減衰特性は、経時的にみてほとんど劣化しないこ
とがわかった。一方、比較例1のものは、表面抵抗特性
が悪く、しかも電荷減衰特性が直線的に増大することが
わかった。
The surface resistance value and charge decay time were measured at 20°C and 10°C.
It was exposed for 30 days under accelerated conditions of extremely low humidity of ~15% RH and measured over time. As a result, it was found that the surface resistance characteristics and charge decay characteristics of the coating prepared from the antistatic coating composition of Example 1 hardly deteriorated over time. On the other hand, it was found that Comparative Example 1 had poor surface resistance characteristics, and moreover, the charge decay characteristics increased linearly.

実施例2、比較例2 実施例1および比較例1で調製した静電気防止性コーテ
ィング組成物をブラウン管フェースプレート外表面に0
.7+l1m径のノズルを用いてスプレー塗布し、80
℃1時間加熱乾燥することにより該フェースプレート外
表面に微細な凹凸層を有する防げん処理されたブラウン
管フェースプレートを作成した。
Example 2, Comparative Example 2 The antistatic coating composition prepared in Example 1 and Comparative Example 1 was coated on the outer surface of a cathode ray tube face plate.
.. Spray coating using a nozzle with a diameter of 7+l1m,
By heating and drying at ℃ for 1 hour, an anti-scald cathode ray tube face plate having a fine uneven layer on the outer surface of the face plate was prepared.

この夫々のフェースパネルについて、光沢度、解像度、
表面抵抗値、電荷減衰時間、表面硬度(消ゴム試験、引
っかき試験)を測定した。
Regarding each face panel, glossiness, resolution,
Surface resistance value, charge decay time, and surface hardness (eraser test, scratch test) were measured.

ただし、評価は以下の方法で行なった。However, the evaluation was performed using the following method.

・光沢度は、JISZ−8471光沢度測定方法で行な
った。
- Glossiness was measured using the JISZ-8471 glossiness measurement method.

・解像度は、Microcopy Re5olutio
n Te5t ChartfNational Bur
eau of 5tandards、1963. A)
を用いて数値を目視で判断した。数値の高い方が解像力
に優れていることを示す。
・Resolution is Microcopy Re5olutio
n Te5t ChartfNational Bur
eau of 5standards, 1963. A)
The numerical values were visually judged using the . A higher value indicates better resolution.

・表面抵抗値、電荷減衰時間、表面硬度(消ゴム試験)
は、実施例1、比較例1と同じ方法で測定し、表面硬度
(引っかき試験)は、LISK5400 (19791
−6−14鉛筆を用い、 500 gの荷重をかけて行
なった。試験後、被膜にキズのないものを○、キズのあ
るものを×とした。
・Surface resistance value, charge decay time, surface hardness (eraser test)
was measured by the same method as in Example 1 and Comparative Example 1, and the surface hardness (scratching test) was measured using LISK5400 (19791
-6-14 pencil was used and a load of 500 g was applied. After the test, those with no scratches on the film were rated ○, and those with scratches were rated ×.

結果を第2表に示す。The results are shown in Table 2.

(以下余白) 実施例3.比較例3゜ 実施例1の四塩化錫にかえて、錫のアルコキシドを用い
た実施例を示す。
(Left below) Example 3. Comparative Example 3 An example is shown in which tin alkoxide was used instead of tin tetrachloride in Example 1.

fil エタノール35.2部とエチルシリケート40
の3.3部を均一に混合し、これに水1.2部と濃硝酸
2.8部を加え、加水分解を行なった。次に、IPA2
3.0部、酢酸エチル20部、セロソルブアセテート1
0.0部を加えて希釈液を調製した(以下、A液と称す
る)。
fil 35.2 parts of ethanol and 40 parts of ethyl silicate
3.3 parts of the above were uniformly mixed, and 1.2 parts of water and 2.8 parts of concentrated nitric acid were added thereto for hydrolysis. Next, IPA2
3.0 parts, ethyl acetate 20 parts, cellosolve acetate 1
A diluted solution was prepared by adding 0.0 part (hereinafter referred to as solution A).

(ii) n−ブタノール20.0部と酸化物基準で1
0%のアンチモンを含有するn−ブトキシスズのn−ブ
タノール溶液(5nOz分:30%)2.3部を均一に
混合し、これに濃硝酸0.2部を加えて反応を行なわし
めた(以下、この反応により調製された反応液をB液と
称する)。
(ii) 20.0 parts of n-butanol and 1 part on oxide basis
2.3 parts of n-butoxytin n-butanol solution (5nOz portion: 30%) containing 0% antimony was mixed uniformly, and 0.2 part of concentrated nitric acid was added to carry out the reaction (hereinafter referred to as , the reaction solution prepared by this reaction is called Solution B).

fiiil上記A液中に、B液を1時間かけて添加した
。次いで、これにメタノール4.9部とフッ化アンモニ
ウム0.1部を均一混合したものを添加し、目的とする
静電防止用コーテイング液を調製した。
fiiiil Solution B was added to the above solution A over 1 hour. Next, a homogeneous mixture of 4.9 parts of methanol and 0.1 part of ammonium fluoride was added thereto to prepare the intended antistatic coating liquid.

前記のようにして調製した静電防止用コーテイング液を
ガラス基板上にディッピングにより塗布し、電気定温乾
燥器を用いて150℃で乾燥し、静電防止性、即ち表面
抵抗値の測定を行なった。
The antistatic coating liquid prepared as described above was applied onto a glass substrate by dipping, dried at 150°C using an electric constant temperature dryer, and the antistatic property, that is, the surface resistance value was measured. .

なお、比較のために、前記A液とB液からなるコーテイ
ング液を用いて、同様に表面抵抗値を測定した。結果を
第3表に示す。
For comparison, the surface resistance value was similarly measured using a coating liquid consisting of the liquid A and liquid B. The results are shown in Table 3.

第  3  表 〔発明の効果1 本発明になる静電気防止性コーティング組成物は、各種
基材上において50℃前後の極めで低い加熱処理により
高度の静電防止性を有する被膜を形成することができる
。また、形成された被膜は極低温度条件下での加速試験
においても、従来のシリコのみから構成される被膜の表
面抵抗及び電荷減衰性能が急速に劣化するのに対し、は
とんど劣化することがない。現実的には、これほどの低
湿度環境にさらされることは極めて希であるため、本発
明のものは半永久的にその効果を維持すると言うことが
できる。
Table 3 [Effects of the Invention 1 The antistatic coating composition of the present invention can form a film having high antistatic properties on various substrates by extremely low heat treatment at around 50°C. . In addition, even in accelerated tests under extremely low temperature conditions, the formed film deteriorates rapidly, whereas the surface resistance and charge attenuation performance of conventional films made only of silicon deteriorate rapidly. Never. In reality, it is extremely rare to be exposed to such a low humidity environment, so it can be said that the product of the present invention maintains its effects semi-permanently.

また、本発明になる静電気防止性コーティング組成物を
、例えばブラウン管フェースプレートの表面処理に適用
した場合、高度の帯電防止(電撃防止)能を有し、かつ
アルコール性で揮発性が良くスプレー後に流動すること
がないため微細な凹凸パターンから成る防げん性に優れ
た被膜を形成させることができる。即ち、本発明により
一度の処理(単一の工程)によりブラウン管フェースプ
レートに高度の帯電防止(電撃防止)性と優れた防げん
性を付与することができるため、防げん性ブラウン管を
高い生産性のもとに製造することができる。
Furthermore, when the antistatic coating composition of the present invention is applied to the surface treatment of a cathode ray tube face plate, for example, it has a high degree of antistatic (antistatic) ability, is alcoholic, has good volatility, and is free flowing after spraying. Therefore, it is possible to form a film with excellent anti-scald properties consisting of a fine uneven pattern. In other words, the present invention makes it possible to impart high antistatic properties (anti-electric shock) and excellent anti-scald properties to the cathode ray tube face plate through a single treatment (single process), making it possible to produce anti-electrostatic cathode ray tubes with high productivity. and can be manufactured.

更に、本発明の静電気防止コーティング組成物の加熱処
理温度が高くても 150℃前後であるため、合成樹脂
成形品の表面性も優れた静電気防止性の被膜を形成する
ことができる。
Furthermore, since the heat treatment temperature of the antistatic coating composition of the present invention is around 150° C., it is possible to form an antistatic coating with excellent surface properties on synthetic resin molded articles.

以上のように、本発明になる静電気防止性コーティング
組成物の工業的利用価値は多大である。
As described above, the antistatic coating composition of the present invention has great industrial utility value.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はガラス表面における静電気防止効果の発現機構
を示す概念説明図である。
FIG. 1 is a conceptual explanatory diagram showing the mechanism by which the antistatic effect occurs on the glass surface.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、(i)加水分解性ケイ素化合物と共加水分解性の金
属化合物をアルコール溶媒中で 共加水分解して得られるアルコール性シリカゾル−金属
化合物の共加水分解物, (ii)フッ化物, を含んでなることを特徴とする静電防止用 コーティング組成物。 2、加水分解性ケイ素化合物が、有機シリケートである
請求項第1項に記載の静電防止用 コーティング化合物。 3、共加水分解性の金属化合物が、塩化物またはアルコ
キシドである請求項第1項に記載の静電防止用コーティ
ング組成物。 4、共加水分解性の金属化合物が、錫、アンチモン、イ
ンジウムから選ばれた化合物である請求項第3項に記載
の静電防止用コティング組成物。 5、アルコール性シリカゾル−金属化合物が、加水分解
性ケイ素化合物あるいはその部分縮合物と共加水分解性
の金属化合物をアルコール溶媒中で混合し、共加水分解
して調製したものである請求項第1項に記載の静電防止
用コーティング組成物。 6、共加水分解性の金属化合物が、錫、アンチモン、イ
ンジウムから選ばれる金属の塩化物である請求項第5項
に記載の静電防止用コーティング組成物。 7、アルコール性シリカゾル−金属化合物が、加水分解
性ケイ素化合物をアルコール溶媒中で加水分解して得ら
れるアルコール性シリカゾルに、共加水分解性の金属化
合物を少量ずつ供給し、前記アルコール性シリカゾルと
共加水分解性の金属化合物を共加水分解して調製したも
のである請求項第1項に記載の静電防止用コーティング
組成物。 8、共加水分解性の金属化合物が、錫、アンチモン、イ
ンジウムから選ばれる金属のアルコキシドである請求項
第7項に記載の静電防止用コーティング組成物。 9、フッ化物が、フッ化金属、フッ化水素、フッ化アン
モニウムから選ばれるものである請求項第1項に記載の
静電防止用コーティング組成物。
[Claims] 1. (i) an alcoholic silica sol-metal compound co-hydrolyzate obtained by co-hydrolyzing a hydrolyzable silicon compound and a co-hydrolyzable metal compound in an alcohol solvent; (ii) ) A fluoride, an antistatic coating composition comprising: 2. The antistatic coating compound according to claim 1, wherein the hydrolyzable silicon compound is an organic silicate. 3. The antistatic coating composition according to claim 1, wherein the co-hydrolyzable metal compound is a chloride or an alkoxide. 4. The antistatic coating composition according to claim 3, wherein the co-hydrolyzable metal compound is a compound selected from tin, antimony, and indium. 5. Claim 1, wherein the alcoholic silica sol-metal compound is prepared by mixing a hydrolyzable silicon compound or a partial condensate thereof and a co-hydrolyzable metal compound in an alcohol solvent and co-hydrolyzing the mixture. The antistatic coating composition described in . 6. The antistatic coating composition according to claim 5, wherein the co-hydrolyzable metal compound is a chloride of a metal selected from tin, antimony, and indium. 7. Alcoholic silica sol - A metal compound is prepared by supplying a co-hydrolyzable metal compound little by little to the alcoholic silica sol obtained by hydrolyzing a hydrolyzable silicon compound in an alcoholic solvent, and co-hydrolyzing it with the alcoholic silica sol. The antistatic coating composition according to claim 1, which is prepared by cohydrolyzing a hydrolyzable metal compound. 8. The antistatic coating composition according to claim 7, wherein the co-hydrolyzable metal compound is a metal alkoxide selected from tin, antimony, and indium. 9. The antistatic coating composition according to claim 1, wherein the fluoride is selected from metal fluoride, hydrogen fluoride, and ammonium fluoride.
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