JPH039510A - 電子ビーム露光装置 - Google Patents
電子ビーム露光装置Info
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- JPH039510A JPH039510A JP1144415A JP14441589A JPH039510A JP H039510 A JPH039510 A JP H039510A JP 1144415 A JP1144415 A JP 1144415A JP 14441589 A JP14441589 A JP 14441589A JP H039510 A JPH039510 A JP H039510A
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- coils
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 11
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 3
- 206010010071 Coma Diseases 0.000 abstract description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
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- 241001600434 Plectroglyphidodon lacrymatus Species 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/147—Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
- H01J37/1472—Deflecting along given lines
- H01J37/1474—Scanning means
- H01J37/1475—Scanning means magnetic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
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- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/153—Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/143—Electron beam
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の概要］
微細パターンを持つ集積回路素子を生産する装置の代表
的なものである電子ビーム露光装置に関し、 簡単な構成で、また調整容易に、入射位置決定、垂直入
射、コマ収差僅小化を達成でき、露光装置の分解能を向
上させることができる偏向コイル装置を提供することを
目的とし、 Ｘ、Ｙ偏向コイルが発生するＸ、Ｙ方向磁界とばず同一
面内にＸ、Ｙ偏向補助磁界を発生するように補助コイル
を設け、該偏向コイル及び補助コイルを各々独立の増幅
器に接続して、該偏向コイルに流す電流に応じて該補助
コイルに電流を流し、これらのコイルが発生する磁界の
合成磁界の強さ及び方向を変更可能にするよう構成する
。
的なものである電子ビーム露光装置に関し、 簡単な構成で、また調整容易に、入射位置決定、垂直入
射、コマ収差僅小化を達成でき、露光装置の分解能を向
上させることができる偏向コイル装置を提供することを
目的とし、 Ｘ、Ｙ偏向コイルが発生するＸ、Ｙ方向磁界とばず同一
面内にＸ、Ｙ偏向補助磁界を発生するように補助コイル
を設け、該偏向コイル及び補助コイルを各々独立の増幅
器に接続して、該偏向コイルに流す電流に応じて該補助
コイルに電流を流し、これらのコイルが発生する磁界の
合成磁界の強さ及び方向を変更可能にするよう構成する
。
本発明は、微細パターンを持つ集積回路素子を生産する
装置の代表的なものである電子ビーム露光装置に関する
。
装置の代表的なものである電子ビーム露光装置に関する
。
集積回路素子のパターンの微細化、高集積化は年々向上
しており、現在ではサブミクロンのパターン幅の集積回
路素子の生産も一般的なことである。つれて電子ビーム
露光装置も、益々微細パターンの高精度、高速露光が要
求されている。本発明はこの電子ビーム露光装置の特に
電磁偏向の調整に係るものである。
しており、現在ではサブミクロンのパターン幅の集積回
路素子の生産も一般的なことである。つれて電子ビーム
露光装置も、益々微細パターンの高精度、高速露光が要
求されている。本発明はこの電子ビーム露光装置の特に
電磁偏向の調整に係るものである。
電子ビーム露光装置は第９図に示すように、カソード２
１、グリッド２２、アノード２３などからなる電子銃２
０と、収束レンズ２５、縮小レンズ２６．２７、対物レ
ンズ２８などの各種レンズ、および偏向器２９などを備
え、電子ビームで移動ステージ３１上のウェハ３０を露
光する。露光には、ビームを細く点状に絞ってその点で
パターンを描くタイプのもの、ビームをステンシルに通
してビーム断面をパターン化か、そのパターンをウェハ
に焼付けるタイプのもの、ブランキングアパーチャアレ
イを用いドツトプリンタの要領で描画するものなどがあ
るが、第９図は後者で、３２はそのブランキングアパー
チャアレイである。このアパーチャアレイの各アパーチ
ャには偏向電極があり、各アパーチャを通るビームはド
ツトパターンに従って該偏向電極で偏向され又は偏向さ
れず、偏向されたものはビームＢ２の如くなってスリッ
ト３３で除去され、偏向されないものはスリットを通っ
てウェハへ向かう。こうしてビームがパターン化される
。
１、グリッド２２、アノード２３などからなる電子銃２
０と、収束レンズ２５、縮小レンズ２６．２７、対物レ
ンズ２８などの各種レンズ、および偏向器２９などを備
え、電子ビームで移動ステージ３１上のウェハ３０を露
光する。露光には、ビームを細く点状に絞ってその点で
パターンを描くタイプのもの、ビームをステンシルに通
してビーム断面をパターン化か、そのパターンをウェハ
に焼付けるタイプのもの、ブランキングアパーチャアレ
イを用いドツトプリンタの要領で描画するものなどがあ
るが、第９図は後者で、３２はそのブランキングアパー
チャアレイである。このアパーチャアレイの各アパーチ
ャには偏向電極があり、各アパーチャを通るビームはド
ツトパターンに従って該偏向電極で偏向され又は偏向さ
れず、偏向されたものはビームＢ２の如くなってスリッ
ト３３で除去され、偏向されないものはスリットを通っ
てウェハへ向かう。こうしてビームがパターン化される
。
ウェハの手前には偏向コイル２９などがあり（電磁偏向
の場合）、ビームのウェハ入射位置の決定などを行なう
。従来の偏向コイルの例を第７図、第８図に示す。第７
図では１組の偏向コイルをブリコイル１とメインコイル
５で構成し、これらを直列にしてアンプ４１の出力端に
接続して同一電流を流す。４３は偏向信号制御部、４２
はＤＡ変換器である。ブリコイルｌとメインコイルは位
置関係（高さ即ち垂直方向での位置及び回転即ち水平面
上での各コイルの軸心のなす角度の関係）が所望になる
ように、ひいては電子ビームに所望の偏向を与えるよう
に配置する。
の場合）、ビームのウェハ入射位置の決定などを行なう
。従来の偏向コイルの例を第７図、第８図に示す。第７
図では１組の偏向コイルをブリコイル１とメインコイル
５で構成し、これらを直列にしてアンプ４１の出力端に
接続して同一電流を流す。４３は偏向信号制御部、４２
はＤＡ変換器である。ブリコイルｌとメインコイルは位
置関係（高さ即ち垂直方向での位置及び回転即ち水平面
上での各コイルの軸心のなす角度の関係）が所望になる
ように、ひいては電子ビームに所望の偏向を与えるよう
に配置する。
第８図では偏向コイルをブリコイル１、メインコイル５
、およびポストコイル９の３個で構成する。この偏向コ
イルの機能はビームの振れ量（ウェハ入射位置）を決定
する他、ビームがウェハに垂直に入射するようにするこ
と、及びコマ収差を０とすること、である。なお図では
ブリ、メイン。
、およびポストコイル９の３個で構成する。この偏向コ
イルの機能はビームの振れ量（ウェハ入射位置）を決定
する他、ビームがウェハに垂直に入射するようにするこ
と、及びコマ収差を０とすること、である。なお図では
ブリ、メイン。
ポスト各コイルは１つのみ示すが、実際はＸ、 Ｙ用に
各一対ずつある。
各一対ずつある。
しかし第８図の３コイル型でも、ビーム振れ量を所望量
にし、垂直入射を達成し、コマ収差を０にするためには
、各コイル間の垂直方向（電子ビーム進行方向）の位置
関係と回転方向の位置関係を正確に所定状態に合わせる
必要がある。
にし、垂直入射を達成し、コマ収差を０にするためには
、各コイル間の垂直方向（電子ビーム進行方向）の位置
関係と回転方向の位置関係を正確に所定状態に合わせる
必要がある。
しかしながら、各コイルを正確に所望特性のものに製作
すること、および各コイルを電子ビーム露光装置に組込
んで位置関係を正確に所望状態にすることには限界があ
る。結局、可能な精度で製作したコイルを露光装置に組
込み、位置関係を種々変えて最適位置を見出すことにな
るが、コイル位置を変えるには露光装置の真空を解除し
、装置を分解しなければならず、手数がか＼る。
すること、および各コイルを電子ビーム露光装置に組込
んで位置関係を正確に所望状態にすることには限界があ
る。結局、可能な精度で製作したコイルを露光装置に組
込み、位置関係を種々変えて最適位置を見出すことにな
るが、コイル位置を変えるには露光装置の真空を解除し
、装置を分解しなければならず、手数がか＼る。
調整は各コイルに流す電流を個々に変えることによって
も可能であるが、これには各コイルを専用のアンプで駆
動する必要があり、大電流（数アンペア）アンプが各コ
イルに必要になる。
も可能であるが、これには各コイルを専用のアンプで駆
動する必要があり、大電流（数アンペア）アンプが各コ
イルに必要になる。
本発明はか＼る点を改善し、簡単な構成で、また調整容
易に、入射位置決定、垂直入射、コマ収差僅小化を達成
でき、露光装置の分解能を向上させることができる偏向
コイル装置を提供することを目的とするものである。
易に、入射位置決定、垂直入射、コマ収差僅小化を達成
でき、露光装置の分解能を向上させることができる偏向
コイル装置を提供することを目的とするものである。
〔課題を解決するための手段〕
第１図に示すように本発明ではプリコイルｌ。
３、メインコイル５，７、ポストコイル９．１１の他に
補助メインコイル５ａ、７ａ、補助ポストコイル９ａ、
ｌｌａを設け、これらの補助コイルはブリ、メイン、ポ
ストコイル駆動アンプ４１とは別のアンプ４４．４５で
駆動する。
補助メインコイル５ａ、７ａ、補助ポストコイル９ａ、
ｌｌａを設け、これらの補助コイルはブリ、メイン、ポ
ストコイル駆動アンプ４１とは別のアンプ４４．４５で
駆動する。
補助メインコイル５ａ、７ａは、メインコイル５．７の
作る磁界と同方向の磁界を作るように配置する。補助ポ
ストコイルについても同様である。
作る磁界と同方向の磁界を作るように配置する。補助ポ
ストコイルについても同様である。
補助コイルはブリ２メイン、ポスト各コイルに設けても
、またはその１つまたは２つに対して設けてもよい。補
助メインコイルを設ける高さは、その磁界の中心がメイ
ンコイルの磁界の中心と一致するようにしても、または
上／下にずれるようにしてもよい。
、またはその１つまたは２つに対して設けてもよい。補
助メインコイルを設ける高さは、その磁界の中心がメイ
ンコイルの磁界の中心と一致するようにしても、または
上／下にずれるようにしてもよい。
プリコイル、ポストコイル、メインコイルが発合成磁界
はＳｕｍとなり、これで所望の偏向が行なわれるとする
。しかし任意のコイル、組立て状態でこのようになると
は限らない。例えばメインコイル５，７の作る磁界が第
２図のＭａｒであり、ポストコイルの作る磁界がＦｏｒ
であったとすると、合成磁界はＳｕ−にならない、これ
をＳｕａ＋にするにをＭａ、Ｐｏにすればよく、この補
助偏向磁界を発生するのが補助メインコイル５ａ、７ａ
、補助ポストコイル９ａ、ｌｌｂである。補助メイン／
ボストコイル共Ｘ方向コイルとＹ方向コイルがあるから
、これらのコイルの電流とその比を調整することにより
補助偏向磁界Ａｍ、Ａｏを発生することは可能である。
はＳｕｍとなり、これで所望の偏向が行なわれるとする
。しかし任意のコイル、組立て状態でこのようになると
は限らない。例えばメインコイル５，７の作る磁界が第
２図のＭａｒであり、ポストコイルの作る磁界がＦｏｒ
であったとすると、合成磁界はＳｕ−にならない、これ
をＳｕａ＋にするにをＭａ、Ｐｏにすればよく、この補
助偏向磁界を発生するのが補助メインコイル５ａ、７ａ
、補助ポストコイル９ａ、ｌｌｂである。補助メイン／
ボストコイル共Ｘ方向コイルとＹ方向コイルがあるから
、これらのコイルの電流とその比を調整することにより
補助偏向磁界Ａｍ、Ａｏを発生することは可能である。
補助偏向磁界Ａｍ、Ａｏの発生には補助コイルの電流を
独立に調整する必要があり、このため第１図ではコイル
駆動アンプを４１．４４．４５と各々独立にしている。
独立に調整する必要があり、このため第１図ではコイル
駆動アンプを４１．４４．４５と各々独立にしている。
補助コイルは微調整用であるから数ターン程度、小電流
、でよく、従ってその駆動アンプ４４．４５も大型には
ならない。
、でよく、従ってその駆動アンプ４４．４５も大型には
ならない。
補助コイルを当該偏向コイルに対して高さ方向位置をず
らして配置すると、補助コイル電流の調整で当該偏向コ
イルを上、下に移動させたと同様の効果が得られる。
らして配置すると、補助コイル電流の調整で当該偏向コ
イルを上、下に移動させたと同様の効果が得られる。
第３図に偏向コイル及び補助コイルの駆動回路を示す。
偏向系においてコマ収差を極小（−〇）にする条件と、
電子ビームの偏向量を所定量にする条件と、高精度化を
図るための垂直入射の条件を入れると、コイルは３つ必
要になる。これらのプリ メイン、ポスト各コイルがＸ
偏向系では１と２．５と６．９とｔｏ、Ｙ偏向系では３
と４゜７と８．１１と１２であり、これらは直列にして
アンプ４１ｘ、４１ｙに接続する。Ｘ偏向系の補助メイ
ンコイル５ａと６ａ、補助ポストコイル９ａと１０ａは
アンプ４４ｘ、４５ｘへ接続し、Ｙ偏向系の補助メイン
コイル７ａと８ａ、補助ポストコイルｌｌａと１２ａは
アンプ４４ｙ、４５ｙへ接続する。４２ｘ、４２ｙはＸ
、Ｙ偏向系のＤ／Ａ変換器、４３ｘ、４３ｙは同偏向信
号制御部である。
電子ビームの偏向量を所定量にする条件と、高精度化を
図るための垂直入射の条件を入れると、コイルは３つ必
要になる。これらのプリ メイン、ポスト各コイルがＸ
偏向系では１と２．５と６．９とｔｏ、Ｙ偏向系では３
と４゜７と８．１１と１２であり、これらは直列にして
アンプ４１ｘ、４１ｙに接続する。Ｘ偏向系の補助メイ
ンコイル５ａと６ａ、補助ポストコイル９ａと１０ａは
アンプ４４ｘ、４５ｘへ接続し、Ｙ偏向系の補助メイン
コイル７ａと８ａ、補助ポストコイルｌｌａと１２ａは
アンプ４４ｙ、４５ｙへ接続する。４２ｘ、４２ｙはＸ
、Ｙ偏向系のＤ／Ａ変換器、４３ｘ、４３ｙは同偏向信
号制御部である。
第４図にこれらのコイルの配置状態を示す、（ａ）は上
面図、（ハ）は斜視図であるが、相互の位置関係の説明
用であり、実際の通りではない。コイル１゜２を直列に
接続して矢印方向に電流を流すと磁界Ｂ□が図示方向に
発生する。これがプリコイルによるＸ方向磁界であり、
Ｙ方向磁界はコイル３゜４を直列にして電流を流すこと
により発生する。
面図、（ハ）は斜視図であるが、相互の位置関係の説明
用であり、実際の通りではない。コイル１゜２を直列に
接続して矢印方向に電流を流すと磁界Ｂ□が図示方向に
発生する。これがプリコイルによるＸ方向磁界であり、
Ｙ方向磁界はコイル３゜４を直列にして電流を流すこと
により発生する。
メインコイル、ポストコイル等についても同様である。
ブリ、メイン、ポスト各コイルを直列にし、シミュレー
ションにより最適解を求めると、各コイルの位置関係が
決定される。この決定された位置関係を満足するように
各コイルを配置するが、取付は精度等の問題で最適解を
満足できなかった分については補助メイン／ボストコイ
ルに流す電流により調整する。
ションにより最適解を求めると、各コイルの位置関係が
決定される。この決定された位置関係を満足するように
各コイルを配置するが、取付は精度等の問題で最適解を
満足できなかった分については補助メイン／ボストコイ
ルに流す電流により調整する。
第５図および第６図は、補助コイルを各２組ずつ設けた
例を示す、５ａと５ｂ、６ａと６ｂはＸメインコイル５
，６に対する一対の補助コイル、７ａと７ｂ、８ａと８
ｂはＹメインコイル７．８に対する一対の補助コイルで
ある。同様に９ａと９ｂ、１０ａと１０ｂはＸボストコ
イル９．ｌＯに対する、またｌｌａとｌｌｂ、１２ａと
１２ｂはＹボストコイル１１．１２に対する補助コイル
である。これらは当Ｊ亥メイン／ボストコイルの中央に
、高さ位置を変えて配設し、それぞれのアンプ４６ｘ、
４７ｘ、４６ｙ、４７ｙで駆動する。
例を示す、５ａと５ｂ、６ａと６ｂはＸメインコイル５
，６に対する一対の補助コイル、７ａと７ｂ、８ａと８
ｂはＹメインコイル７．８に対する一対の補助コイルで
ある。同様に９ａと９ｂ、１０ａと１０ｂはＸボストコ
イル９．ｌＯに対する、またｌｌａとｌｌｂ、１２ａと
１２ｂはＹボストコイル１１．１２に対する補助コイル
である。これらは当Ｊ亥メイン／ボストコイルの中央に
、高さ位置を変えて配設し、それぞれのアンプ４６ｘ、
４７ｘ、４６ｙ、４７ｙで駆動する。
第４図で説明したようにＸメインコイル５，６に電流を
流すとＸ方向磁界Ｂｘ！が生じるが、このとき同方向の
磁界を生じるように上側の補助Ｘコイル５ａ、６ａに電
流を流すと、磁界ＢＸｚの上部が強められ、コイル５．
６が全体として上方へ移動したのと同じ効果を生じる。
流すとＸ方向磁界Ｂｘ！が生じるが、このとき同方向の
磁界を生じるように上側の補助Ｘコイル５ａ、６ａに電
流を流すと、磁界ＢＸｚの上部が強められ、コイル５．
６が全体として上方へ移動したのと同じ効果を生じる。
補助コイル５ａ。
６ａの電流方向を逆にすると磁界Ｂ、の上部が弱められ
、コイル５．６が全体として下方へ移動したのと同じ効
果を生じる。コイル５ｂ、６ｂについても同様で、磁界
ＢＸ！と同方向の磁界を生じる向きに電流を流すとコイ
ル５，６が下方へ移動したと同様の効果を生じ、該電流
の方向を逆にするとコイル５．６が上方へ移動したと同
様の効果を生じる。
、コイル５．６が全体として下方へ移動したのと同じ効
果を生じる。コイル５ｂ、６ｂについても同様で、磁界
ＢＸ！と同方向の磁界を生じる向きに電流を流すとコイ
ル５，６が下方へ移動したと同様の効果を生じ、該電流
の方向を逆にするとコイル５．６が上方へ移動したと同
様の効果を生じる。
Ｙ方向の補助メインコイル７＆と８ａ、７ｂと８ｂ、ポ
ストコイルに対する補助コイル、についても同様である
。このように、高さ方向で位置のずれた補助コイルで実
質上メイン、ポスト各コイルなどを上／下に移動する効
果が得られる。この上／上移動で、第２図のベクトルＭ
ａ、Ｐｏを回転させることがでてき、各アンプのゲイン
を変えることでこの効果の大きさを変えることができる
。
ストコイルに対する補助コイル、についても同様である
。このように、高さ方向で位置のずれた補助コイルで実
質上メイン、ポスト各コイルなどを上／下に移動する効
果が得られる。この上／上移動で、第２図のベクトルＭ
ａ、Ｐｏを回転させることがでてき、各アンプのゲイン
を変えることでこの効果の大きさを変えることができる
。
コイル電流の調整にはアンプのゲインを変える他、偏向
信号制御部４３で加減乗除してその出力を変えるように
してもよい。偏向信号制御部４３は、Ｘ、Ｙ系で共通と
し、共通制御部でＸ、Ｙに関し加減乗除を行なっておき
、その後、各々並列にＤＡＣ，アンプを通してコイルを
駆動してもよい。
信号制御部４３で加減乗除してその出力を変えるように
してもよい。偏向信号制御部４３は、Ｘ、Ｙ系で共通と
し、共通制御部でＸ、Ｙに関し加減乗除を行なっておき
、その後、各々並列にＤＡＣ，アンプを通してコイルを
駆動してもよい。
ブリ、メイン、ポストと３段型にする他に、更に多段ま
たは少数段にしてもよい。１段型の場合は、この偏向コ
イルのビーム偏向方向と試料を載せたステージの移動方
向を合わせるために補助コイルを使用できる。
たは少数段にしてもよい。１段型の場合は、この偏向コ
イルのビーム偏向方向と試料を載せたステージの移動方
向を合わせるために補助コイルを使用できる。
以上説明したように本発明によれば、偏向コイルに付設
した補助コイルに流す電流により、偏向コイルが作る磁
界を修正し、簡単、容易にビーム偏向を所望通りにする
ことができ、ひいては露光装置の分解能を高めることが
できる。
した補助コイルに流す電流により、偏向コイルが作る磁
界を修正し、簡単、容易にビーム偏向を所望通りにする
ことができ、ひいては露光装置の分解能を高めることが
できる。
補助コイルは偏向コイルとは別個の増幅器で駆動するの
で、所望の修正磁界を容易に発生でき、偏向コイル系の
各コイルを別個に駆動する場合より、増幅器が大型にな
らない。
で、所望の修正磁界を容易に発生でき、偏向コイル系の
各コイルを別個に駆動する場合より、増幅器が大型にな
らない。
また補助コイルを当該偏向コイルに高さ方向中心をずら
して配置することにより、該補助コイルの電：ｆＬ調整
で当該偏向コイルを上／下に移動したと同様な効果が得
られ、露光装置の真空を破らずに偏向コイルの上下位置
調整が事実上可能になる。
して配置することにより、該補助コイルの電：ｆＬ調整
で当該偏向コイルを上／下に移動したと同様な効果が得
られ、露光装置の真空を破らずに偏向コイルの上下位置
調整が事実上可能になる。
第１図は本発明の原理説明図、
第２図は第１図の動作説明図、
第３図は本発明の実施例を示すブロック図、第４図は第
３図の各コイルの配置を示す説明図、第５図は本発明の
他の実施例を示すブロック図、第６図は第５図の各コイ
ルの配置を示す説明図、第７図および第８図は従来例を
示すブロック図、第９図は電子ビーム露光装置の構造説
明図である。 第１図で４１．４４．４５はアンプ、４２はＤ／Ａ変換
器、４３は偏向信号制御部である。
３図の各コイルの配置を示す説明図、第５図は本発明の
他の実施例を示すブロック図、第６図は第５図の各コイ
ルの配置を示す説明図、第７図および第８図は従来例を
示すブロック図、第９図は電子ビーム露光装置の構造説
明図である。 第１図で４１．４４．４５はアンプ、４２はＤ／Ａ変換
器、４３は偏向信号制御部である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、Ｘ、Ｙ偏向コイル（５、７、・・・・・・）が発生
するＸ、Ｙ方向磁界とほゞ同一面内にＸ、Ｙ偏向補助磁
界を発生するように補助コイル（５ａ、７ａ、・・・・
・・）を設け、 該偏向コイル及び補助コイルを各々独立の増幅器（４１
、４４、・・・・・・）に接続して、該偏向コイルに流
す電流に応じて該補助コイルに電流を流し、これらのコ
イルが発生する磁界の合成磁界の強さ及び方向を変更可
能にしてなることを特徴とする電子ビーム露光装置。 ２、補助コイルは当該偏向コイルに、高さ方向位置をず
らして配置され、該補助コイルに流す電流により、当該
偏向コイルを上、下に移動したのと同じ効果を生じるよ
うにされてなることを特徴とする請求項１記載の電子ビ
ーム露光装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1144415A JPH039510A (ja) | 1989-06-07 | 1989-06-07 | 電子ビーム露光装置 |
| DE69028248T DE69028248T2 (de) | 1989-06-07 | 1990-06-07 | Elektronenstrahl-Belichtungsgerät |
| EP90306176A EP0402125B1 (en) | 1989-06-07 | 1990-06-07 | Electron beam exposure apparatus |
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