JPH0393813A - 両末端ジチオカルバメート化ポリクロロプレン - Google Patents
両末端ジチオカルバメート化ポリクロロプレンInfo
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- JPH0393813A JPH0393813A JP23038689A JP23038689A JPH0393813A JP H0393813 A JPH0393813 A JP H0393813A JP 23038689 A JP23038689 A JP 23038689A JP 23038689 A JP23038689 A JP 23038689A JP H0393813 A JPH0393813 A JP H0393813A
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Landscapes
- Polymerization Catalysts (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、ブロック共重合体の製造において有用な高分
子光重合開始剤となる両末端ジチオカルバメート化ポリ
クロロプレンに関する。
子光重合開始剤となる両末端ジチオカルバメート化ポリ
クロロプレンに関する。
［従来の技術］
ブロック共重合体の製造法としては、スチレンーブタジ
エンースチレン（Ｓ Ｂ Ｓ）ブロック共重合体の製造
で代表されるように、リビングアニオン重合法が最も一
般的である。クロロブレンのイオン重合については従来
から検討されて来たが、クロロブレン単量体が有する塩
素原子と金属系触媒との相互作用が非常に大きく、塩素
原子の引き抜きによる触媒の失活等の問題があった［例
えば、ブイソコモレキュラ一二エ ソエヂネニア（ Ｖ
ｙｓｏｋｏｉｏｌ．ｓｏｙｅｄ．） ６巻、９号、１６
３７頁、１９６４年、Ｖｙｓｏｋｏｍｏｌ ．Ｓｏｙｅ
ｄ． ３巻、５号、７９８頁、１９６１年、Ｖｙｓｏｋ
ｏｍｏｌ．Ｓｏｙｅｄ． １ ９巻、１２号、２７９３
頁、１９７７年等］。従って、現在のところクロロプレ
ンをイオン重合法により製造することは困難である。
エンースチレン（Ｓ Ｂ Ｓ）ブロック共重合体の製造
で代表されるように、リビングアニオン重合法が最も一
般的である。クロロブレンのイオン重合については従来
から検討されて来たが、クロロブレン単量体が有する塩
素原子と金属系触媒との相互作用が非常に大きく、塩素
原子の引き抜きによる触媒の失活等の問題があった［例
えば、ブイソコモレキュラ一二エ ソエヂネニア（ Ｖ
ｙｓｏｋｏｉｏｌ．ｓｏｙｅｄ．） ６巻、９号、１６
３７頁、１９６４年、Ｖｙｓｏｋｏｍｏｌ ．Ｓｏｙｅ
ｄ． ３巻、５号、７９８頁、１９６１年、Ｖｙｓｏｋ
ｏｍｏｌ．Ｓｏｙｅｄ． １ ９巻、１２号、２７９３
頁、１９７７年等］。従って、現在のところクロロプレ
ンをイオン重合法により製造することは困難である。
他の方法としては、分子鎖末端に官能長を有するテレケ
リックボリマーを用いた高分子反応によるものがあるが
［例えば、特開平１−１０３６０５等］、テレケリック
ボリクロロプレンに関する報告は未だない。
リックボリマーを用いた高分子反応によるものがあるが
［例えば、特開平１−１０３６０５等］、テレケリック
ボリクロロプレンに関する報告は未だない。
［発明が解決しようとする課題］
本発明は、上記に鑑みなされたもので、テレケリックボ
リクロロプレン、即ち、両末端にジチオカルバメート基
をもつポリクロロブレンを提供する。
リクロロプレン、即ち、両末端にジチオカルバメート基
をもつポリクロロブレンを提供する。
［課題を解決するための手段］
即ち、本発明は、下記の一般式（１）
（ １）
（式中、Ｍ１はクロロブレン単量体残基を、ＲＩは炭素
数１〜８のアルキル基を、Ｒ２は炭素数１〜８のアルキ
ル基または水素原子を表す。Ｒ，、Ｒ２は同一であって
も、異なってもかまわない。
数１〜８のアルキル基を、Ｒ２は炭素数１〜８のアルキ
ル基または水素原子を表す。Ｒ，、Ｒ２は同一であって
も、異なってもかまわない。
Ｒｌ、Ｒ２は環状であってもよく、その場合、Ｒ１また
はＲ２は３〜８個のメチレン基からなる。
はＲ２は３〜８個のメチレン基からなる。
ここで、ｎは１０〜５０００の自然数である。）で表さ
れる、両末端ジチオカルバメート化ポリクロロブレンに
関するものである。
れる、両末端ジチオカルバメート化ポリクロロブレンに
関するものである。
本発明の両末端ジチオカルバメート化ポリクロロブレン
は、下記の一般式（２） （２） （式中、Ｒ１は戻素数１〜８のアルキル基を、Ｒ２は炭
素数１〜８のアルキル基または水素原子を表す。Ｒ，
、Ｒ２は同一であっても、異なってもかまわない。Ｒ．
、Ｒ２は環状であってもよく、その場合、Ｒｌまたは
Ｒ２は３〜８個のメチレン基からなる。）で表される、
２ｆｌｌのジチオカーバメイト旦を有する開始剤を用い
て、クロロブレンを光重合することにより合或される。
は、下記の一般式（２） （２） （式中、Ｒ１は戻素数１〜８のアルキル基を、Ｒ２は炭
素数１〜８のアルキル基または水素原子を表す。Ｒ，
、Ｒ２は同一であっても、異なってもかまわない。Ｒ．
、Ｒ２は環状であってもよく、その場合、Ｒｌまたは
Ｒ２は３〜８個のメチレン基からなる。）で表される、
２ｆｌｌのジチオカーバメイト旦を有する開始剤を用い
て、クロロブレンを光重合することにより合或される。
本発明で用いられるジチオカルバメート化合物としては
、バラキシリレンビスＮ，Ｎジメチルジチオカルバメー
ト、バラキシリレンビスＮ，Ｎジエチルジチオカルバメ
ート、パラキシリレンビスＮ，Ｎジプロピルジチオ力ル
バメート、パラキシリレンビスＮ，Ｎジブチルジチオ力
ルバメート、バラキシリレンビスＮ，Ｎジペンチルジチ
オカルバメート、バラキシリレンビスＮ，Ｎジヘキシル
ジチオ力ルバメート、パラキシリレンビスＮ， Ｎジヘ
プチルジチオ力ルバメート、バラキシリレンビスＮ，Ｎ
ジオクチルジチオ力ルバメート、バラキシリレンビスＮ
メチルジチオカルバメート、バラキシリレンビスＮエチ
ルジチオカルバメート、バラキシリレンビスＮプロビル
ジチオカルバメート、バラキシリレンビスＮブチルジチ
オ力ルバメート、バラキシリレンビスＮペンチルジチオ
力ルバメート、バラキシリレンビスＮヘキシルジチオ力
ルバメート、バラキシリレンビスＮヘプチルジチオ力ル
バメート、バラキシリレンビスＮオクチルジチオカルバ
メート、パラキシリレンビスＮシクロトリメチレンジチ
オカルバメート、パラキシリレンビスＮシクロテトラメ
チレンジチオ力ルバメート、バラキシリレンビスＮシク
ロベンタメチレンジチオ力ルバメート、バラキシリレン
ビスＮシクロヘキサメチレンジチオ力ルバメート、パラ
キシリレンビスＮシクロヘブタメチレンジチオ力ルバメ
ート、バラキシリレンビスＮシクロオクタメチレンジチ
オ力ルバメート等が例示される。
、バラキシリレンビスＮ，Ｎジメチルジチオカルバメー
ト、バラキシリレンビスＮ，Ｎジエチルジチオカルバメ
ート、パラキシリレンビスＮ，Ｎジプロピルジチオ力ル
バメート、パラキシリレンビスＮ，Ｎジブチルジチオ力
ルバメート、バラキシリレンビスＮ，Ｎジペンチルジチ
オカルバメート、バラキシリレンビスＮ，Ｎジヘキシル
ジチオ力ルバメート、パラキシリレンビスＮ， Ｎジヘ
プチルジチオ力ルバメート、バラキシリレンビスＮ，Ｎ
ジオクチルジチオ力ルバメート、バラキシリレンビスＮ
メチルジチオカルバメート、バラキシリレンビスＮエチ
ルジチオカルバメート、バラキシリレンビスＮプロビル
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オ力ルバメート、バラキシリレンビスＮペンチルジチオ
力ルバメート、バラキシリレンビスＮヘキシルジチオ力
ルバメート、バラキシリレンビスＮヘプチルジチオ力ル
バメート、バラキシリレンビスＮオクチルジチオカルバ
メート、パラキシリレンビスＮシクロトリメチレンジチ
オカルバメート、パラキシリレンビスＮシクロテトラメ
チレンジチオ力ルバメート、バラキシリレンビスＮシク
ロベンタメチレンジチオ力ルバメート、バラキシリレン
ビスＮシクロヘキサメチレンジチオ力ルバメート、パラ
キシリレンビスＮシクロヘブタメチレンジチオ力ルバメ
ート、バラキシリレンビスＮシクロオクタメチレンジチ
オ力ルバメート等が例示される。
クロロプレンの光重合反応においては、該ジチオカルバ
メートの分解、ラジカル発生に必要な波長、例えば３０
０〜５００ｎｍの紫外線を用いる。
メートの分解、ラジカル発生に必要な波長、例えば３０
０〜５００ｎｍの紫外線を用いる。
重合反応は、開始剤に紫外線が到達するのであれば、塊
状、溶液状、懸濁状、分散状、スラリー状、エマルジョ
ン状のいずれの状態で行なっても問題はない。
状、溶液状、懸濁状、分散状、スラリー状、エマルジョ
ン状のいずれの状態で行なっても問題はない。
溶液重合に用いる溶剤としては、３００〜５００ｎｍの
紫外線に特性吸収を持たず、連鎖移動定数の小さいもの
が好ましく、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベ
ンゼンなどの芳香族系炭化水素溶媒、酢酸エチルなどが
例示される。重合は、脱酸素下または窒素、アルゴン等
の不活性雰囲気下で行う。重合温度は、−８０〜５０℃
の範囲であれば問題ないが、０〜３０℃が最も好ましい
。
紫外線に特性吸収を持たず、連鎖移動定数の小さいもの
が好ましく、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベ
ンゼンなどの芳香族系炭化水素溶媒、酢酸エチルなどが
例示される。重合は、脱酸素下または窒素、アルゴン等
の不活性雰囲気下で行う。重合温度は、−８０〜５０℃
の範囲であれば問題ないが、０〜３０℃が最も好ましい
。
［発明の効果］
本発明によれば、ブロック共重合体の製造において有用
な高分子開始剤が得られる。即ち、本発明で得られる両
末端ジチオカルバメート化ボリクロロブレンを光重合開
始剤とし、種々のモノマー例えば、アクリル酸エステル
、メタクリル酸エステル、及び、スチレンなどのラジカ
ル重合性小量体を光重合すれば、クロロブレンゴムを中
間プロックとするＡＢＡ型ブロック共重合体が得られる
。
な高分子開始剤が得られる。即ち、本発明で得られる両
末端ジチオカルバメート化ボリクロロブレンを光重合開
始剤とし、種々のモノマー例えば、アクリル酸エステル
、メタクリル酸エステル、及び、スチレンなどのラジカ
ル重合性小量体を光重合すれば、クロロブレンゴムを中
間プロックとするＡＢＡ型ブロック共重合体が得られる
。
［実施例］
以下、実施例により本発明を説明するが、これは何等本
発明を限定するものではない。
発明を限定するものではない。
尚、本発明の共重合体の同定および定性に用いた分折方
広及び条件を以下に記す。
広及び条件を以下に記す。
１
（１）プロトン核磁気共鳴スペクトル（ Ｈ−ＮＭ
Ｒ） 機ＭＩ Ｖａｒｌａｎ ＥＭ３ｆ３０Ａ ＮＭＲ Ｓ
ｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ（２）蒸気圧浸透圧計 機種 ＫＮＡＵＥＲ Ｖａｐｏｕｒ Ｐｒｅｓｓｕｒｅ
Ｏｓ＋ＩｌｏＬＩｅｔ−−Ｏｒ （３）イオウ量側定一フラスコ燃焼法 吸収液 ３％過酸化水素溶液 滴定液 ０．０１Ｎ酢酸バリウム溶液 実施例１ 理工科学産業株式会社製の光化学反応装置（ＩＯＯＷ水
銀灯ＵＶＬ−１００ＨＡ内臓）を用いて、以下の手順に
より重合を行なった。尚、７４１量体、溶媒および開始
剤は、常法により十分乾燥ならびに脱気を行った後重合
に用いた。
Ｒ） 機ＭＩ Ｖａｒｌａｎ ＥＭ３ｆ３０Ａ ＮＭＲ Ｓ
ｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ（２）蒸気圧浸透圧計 機種 ＫＮＡＵＥＲ Ｖａｐｏｕｒ Ｐｒｅｓｓｕｒｅ
Ｏｓ＋ＩｌｏＬＩｅｔ−−Ｏｒ （３）イオウ量側定一フラスコ燃焼法 吸収液 ３％過酸化水素溶液 滴定液 ０．０１Ｎ酢酸バリウム溶液 実施例１ 理工科学産業株式会社製の光化学反応装置（ＩＯＯＷ水
銀灯ＵＶＬ−１００ＨＡ内臓）を用いて、以下の手順に
より重合を行なった。尚、７４１量体、溶媒および開始
剤は、常法により十分乾燥ならびに脱気を行った後重合
に用いた。
反応器を十分窒素置換した後、下記の構造式で表される
バラキシリレンビスＮ，Ｎジエチルジチオカーバメイト
（以下ＸＤＣと略称する。）２．．４０ｇ，ベンゼン２
００ｇ，クロロブレン単量体５１．３ｇを仕込み、窒素
雰囲気下十分攪拌しながら１０℃で約２０時間紫外線照
射を行なった。重合終了後、反応溶液を多量のメタノー
ルに注ぎ再沈精製し、真空乾燥することにより、７４％
の収率でクロロプレンボリマーが得られた。また、液体
クロマトグラフィーより、生或ボリマー中には未反応の
ＸＤＣが含まれないことを確認した。よってＩＤＣは全
てクロロブレンボリマーに付加したものと考えられる。
バラキシリレンビスＮ，Ｎジエチルジチオカーバメイト
（以下ＸＤＣと略称する。）２．．４０ｇ，ベンゼン２
００ｇ，クロロブレン単量体５１．３ｇを仕込み、窒素
雰囲気下十分攪拌しながら１０℃で約２０時間紫外線照
射を行なった。重合終了後、反応溶液を多量のメタノー
ルに注ぎ再沈精製し、真空乾燥することにより、７４％
の収率でクロロプレンボリマーが得られた。また、液体
クロマトグラフィーより、生或ボリマー中には未反応の
ＸＤＣが含まれないことを確認した。よってＩＤＣは全
てクロロブレンボリマーに付加したものと考えられる。
蒸気圧浸透圧計により、生或ボリマーの数平均分子量を
ＩＩｐＪ定したところ、６６５０であった。また該ポリ
マーのイオウ含有量を測定したところ、１．９ｗｔ％で
あった。従って、該ボリマーは１分子当たり平均２．０
個のジチオカルバメート基を有するものと推定された。
ＩＩｐＪ定したところ、６６５０であった。また該ポリ
マーのイオウ含有量を測定したところ、１．９ｗｔ％で
あった。従って、該ボリマーは１分子当たり平均２．０
個のジチオカルバメート基を有するものと推定された。
生成ボリマーのＨ−ＮＭＲ測定を行った結果、第１図に
示すようにポリマーはジチオカルバメート基を含有し、
その単量体残基のモル比が、クロロブレン単量体残基／
ジチオカルバメート基一３４．９であった。
示すようにポリマーはジチオカルバメート基を含有し、
その単量体残基のモル比が、クロロブレン単量体残基／
ジチオカルバメート基一３４．９であった。
以上の粘果から、該ポリマーは両末端にジチオカルバメ
ート基を有するポリクロロブレンであると結論づけられ
る。
ート基を有するポリクロロブレンであると結論づけられ
る。
実施例２
実施例１で用いたキシリレンビスＮ，Ｎジエチルジチオ
カルバメート２．′４ ０ ｇの代わりに、下記の構逍
式 で表されるパラキシリレンビスＮエチルジチオカルバメ
ート（以下ＸＥＣと略称する。）２．０８ｇ１ベンゼン
２００ｇ，クロロプレン単ユ体６０．５ｇを仕込み、窒
素雰囲気下十分攪拌しながら１０℃で約２０時間紫外線
照射を行なった。
カルバメート２．′４ ０ ｇの代わりに、下記の構逍
式 で表されるパラキシリレンビスＮエチルジチオカルバメ
ート（以下ＸＥＣと略称する。）２．０８ｇ１ベンゼン
２００ｇ，クロロプレン単ユ体６０．５ｇを仕込み、窒
素雰囲気下十分攪拌しながら１０℃で約２０時間紫外線
照射を行なった。
重合終了後、反応溶液を多量のメタノールに注ぎ再沈情
製し、具空乾燥することにより、６２％の収率でクロロ
プレンボリマーが得られた。また、液体クロマトグラフ
ィーより、生成ポリマー中には未反応のＸＣＰＣが含ま
れないことを確認した。
製し、具空乾燥することにより、６２％の収率でクロロ
プレンボリマーが得られた。また、液体クロマトグラフ
ィーより、生成ポリマー中には未反応のＸＣＰＣが含ま
れないことを確認した。
よってｘｃｐｃは全てクロロプレンポリマーに付加した
ものと考えられる。
ものと考えられる。
蒸気圧浸透圧計により、生成ボリマーの数平均分子量を
測定したところ、６３９０であった。また該ボリマーの
イオウ含有量を測定したところ、２．０ｗｔ％であった
。従って、該ポリマーは１分子当たり平均２．０個のジ
チオカルバメート基を有するものと推定された。
測定したところ、６３９０であった。また該ボリマーの
イオウ含有量を測定したところ、２．０ｗｔ％であった
。従って、該ポリマーは１分子当たり平均２．０個のジ
チオカルバメート基を有するものと推定された。
生成ポリマーのＨ−ＮＭＲ測定を行った結果、ポリマー
はジチオカルバメート基を含有し、その単量体残越のモ
ル比が、クロロブレン単量体残基／ジチオカルバメート
基−３４．１であった。
はジチオカルバメート基を含有し、その単量体残越のモ
ル比が、クロロブレン単量体残基／ジチオカルバメート
基−３４．１であった。
以上の結果から、該ポリマーは両末端にジチオカルバメ
ート基を有するポリクロロプレンであると結論づけられ
る。
ート基を有するポリクロロプレンであると結論づけられ
る。
実施例３
実施例１で用いたキシリレンビスＮ，Ｎジエチルジチオ
カルバメート２．４０ｇの代わりに、下記の構遣式 で表されるバラキシリレンビスＮシクロペンタメチレン
ジチオ力ルバメート（以下ｘｃｐｃと略称する。）２．
５４ｇ，ベンゼン２ ０ ０ ｇ，クロロプレン単量体
６５．５ｇを仕込み、窒素雰囲気下十分攪拌しながら１
０℃で約２０時間紫外線照射を行なった。重合終了後、
反応溶液を多量のメタノールに注ぎ再沈精製し、真空乾
燥することにより、６７％の収率でクロロブレンボリマ
ーが得られた。また、液体クロマトグラフィーより、生
或ボリマー中には未反応のｘｃｐｃが含まれないことを
確認した。よってｘｃｐｃは全てクロロブレンボリマー
に付加したものと考えられる。
カルバメート２．４０ｇの代わりに、下記の構遣式 で表されるバラキシリレンビスＮシクロペンタメチレン
ジチオ力ルバメート（以下ｘｃｐｃと略称する。）２．
５４ｇ，ベンゼン２ ０ ０ ｇ，クロロプレン単量体
６５．５ｇを仕込み、窒素雰囲気下十分攪拌しながら１
０℃で約２０時間紫外線照射を行なった。重合終了後、
反応溶液を多量のメタノールに注ぎ再沈精製し、真空乾
燥することにより、６７％の収率でクロロブレンボリマ
ーが得られた。また、液体クロマトグラフィーより、生
或ボリマー中には未反応のｘｃｐｃが含まれないことを
確認した。よってｘｃｐｃは全てクロロブレンボリマー
に付加したものと考えられる。
蒸気圧浸透圧計により、生成ボリマーの数平均分子量を
測定したところ、７８８０であった。また該ボリマーの
イオウ含有量を測定したところ、１．６ｗｔ％であった
。従って、該ボリマーは１分子当たり平均２．０個のジ
チオカルバメート基を有するものと推定された。
測定したところ、７８８０であった。また該ボリマーの
イオウ含有量を測定したところ、１．６ｗｔ％であった
。従って、該ボリマーは１分子当たり平均２．０個のジ
チオカルバメート基を有するものと推定された。
生或ボリマーの｝Ｉ − Ｎ Ｍ Ｒ ｉｔ）ｊ定を行
った結果、ボリマーはジチオカルバメート基を含有し、
その単量体残基のモル比が、クロロブレン単量体残基／
ジチオカルバメート基−４１．６であった。
った結果、ボリマーはジチオカルバメート基を含有し、
その単量体残基のモル比が、クロロブレン単量体残基／
ジチオカルバメート基−４１．６であった。
以上の結果から、該ボリマーは両末端にジチオカルバメ
ート基を有するポリクロロプレンであると結論づけられ
る。
ート基を有するポリクロロプレンであると結論づけられ
る。
第１図は、本発明の実施例１で得られたポリマーのプロ
トン核磁気共鳴スペクトルを示す。
トン核磁気共鳴スペクトルを示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）下記の一般式（１） ▲数式、化学式、表等があります▼（１） （式中、Ｍ＿１はクロロプレン単量体残基を、Ｒ＿１は
炭素数１〜８のアルキル基を、Ｒ＿２は炭素数１〜８の
アルキル基または水素原子を表す。Ｒ＿１、Ｒ＿２は同
一であっても、異なってもかまわない。 Ｒ＿１、Ｒ＿２は環状であってもよく、その場合、Ｒ＿
１またはＲ＿２は３〜８のメチレン基からなる。 ここで、ｎは１０〜５０００の自然数である。）で表さ
れる、両末端ジチオカルバメート化ポリクロロプレン。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23038689A JPH0393813A (ja) | 1989-09-07 | 1989-09-07 | 両末端ジチオカルバメート化ポリクロロプレン |
| DE69009380T DE69009380T2 (de) | 1989-09-07 | 1990-09-07 | Chloroprenpolymerisat. |
| US07/578,535 US5089601A (en) | 1989-09-07 | 1990-09-07 | Chloroprene polymer |
| EP90117302A EP0421149B1 (en) | 1989-09-07 | 1990-09-07 | Chloroprene polymer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23038689A JPH0393813A (ja) | 1989-09-07 | 1989-09-07 | 両末端ジチオカルバメート化ポリクロロプレン |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0393813A true JPH0393813A (ja) | 1991-04-18 |
Family
ID=16907062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23038689A Pending JPH0393813A (ja) | 1989-09-07 | 1989-09-07 | 両末端ジチオカルバメート化ポリクロロプレン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0393813A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019017470A1 (ja) * | 2017-07-21 | 2019-01-24 | デンカ株式会社 | クロロプレン系重合体及びその製造方法 |
| CN114891222A (zh) * | 2022-07-01 | 2022-08-12 | 华南理工大学 | 一种分子量不连续的聚（n-取代）二硫代氨基甲酸酯类化合物及其制备方法与应用 |
-
1989
- 1989-09-07 JP JP23038689A patent/JPH0393813A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019017470A1 (ja) * | 2017-07-21 | 2019-01-24 | デンカ株式会社 | クロロプレン系重合体及びその製造方法 |
| KR20200032718A (ko) * | 2017-07-21 | 2020-03-26 | 덴카 주식회사 | 클로로프렌계 중합체 및 그의 제조 방법 |
| US11254807B2 (en) | 2017-07-21 | 2022-02-22 | Denka Company Limited | Chloroprene polymer and production method therefor |
| CN114891222A (zh) * | 2022-07-01 | 2022-08-12 | 华南理工大学 | 一种分子量不连续的聚（n-取代）二硫代氨基甲酸酯类化合物及其制备方法与应用 |
| CN114891222B (zh) * | 2022-07-01 | 2023-09-26 | 华南理工大学 | 一种分子量不连续的聚（n-取代）二硫代氨基甲酸酯类化合物及其制备方法与应用 |
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