JPH039312A - レーザ光発射系の光学的特性調整装置 - Google Patents

レーザ光発射系の光学的特性調整装置

Info

Publication number
JPH039312A
JPH039312A JP1143385A JP14338589A JPH039312A JP H039312 A JPH039312 A JP H039312A JP 1143385 A JP1143385 A JP 1143385A JP 14338589 A JP14338589 A JP 14338589A JP H039312 A JPH039312 A JP H039312A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
laser light
emission system
light
laser beam
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1143385A
Other languages
English (en)
Inventor
Satoru Tanaka
覚 田中
Yasushi Murata
靖 村田
Fumio Matsui
文雄 松井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Pioneer Corp
Original Assignee
Pioneer Electronic Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Pioneer Electronic Corp filed Critical Pioneer Electronic Corp
Priority to JP1143385A priority Critical patent/JPH039312A/ja
Publication of JPH039312A publication Critical patent/JPH039312A/ja
Priority to US07/683,590 priority patent/US5079429A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/58Photometry, e.g. photographic exposure meter using luminescence generated by light

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明はレーザ光発射系から発せられる紫外レーザなど
の非可視光についてその先軸のずれ修正あるいは焦点距
離の調整などを行なうための光学的特性調整装置に関す
る。
背景技術 紫外レーザ光に感応するスクリーンを走査する紫外レー
ザビームを発するレーザ光発射系の調整をなすために、
レーザ光発射系から発せられる紫外レーザの光軸及び焦
点の位置を知る必要がある。
従来、これを知るための特別の治具はなく、紫外レーザ
に感応して可視光を発する蛍光材を混入した紙を用いる
などしていた。すなわち、この紙の表面に紫外レーザが
照射されることにより照射部分の蛍光材が可視光を発し
、これを当該装置の操作者が目視しなからレーザ光発射
系や調整用機器を操作して所要の調整をなすのである。
しかしながら、紙は紫外レーザが照射される片面のみが
輝くだけである故、上記の調整用機器を、操作者が該片
面上の輝点を目視しつつこれを操作し得る範囲内に配置
する必要があり、操作者の作業域が狭められて不具合で
あった。
発明の概要 本発明は上記した点に鑑みてなされたものであって、そ
の目的とするところは非可視光の光軸などを確認し乍ら
の操作者の作業域が広く操作性良好なる光学的特性調整
装置を提供するところである。
本発明によるレーザ光発射系の光学的特性調整装置は、
非可視光に感応して可視光を発する発光材を含もする透
明基板と、該透明基板をレーザ光発射系からのレーザ光
の光軸に対して直角に位置決めする位置決め手段とから
なることを特徴としている。
実施例 以下、本発明の実施例としてのレーザ光発射系の光学的
特性調整装置を添イ1図面を参照しつつ説明する。
第1図に示(7たように、当該光学的特性調整装置は、
レーザ光発射系11から発せられる紫外レーザを受ける
矩形状かつ平板状の基板12と、基板12を保持する枠
部材13 aを含むスタンド]3とを有している。基板
12は、透明な樹脂に紫外レーザに感応して可視光を発
する発光材を含有せしめてなり、これに紫外レーザを照
射せぬ限りは全体的に所定の透明度を保っている。なお
、基板12の表面には互いに直交する2本の基準線12
a及び12bが描かれている。
スタンド13は、その保持した基板12の主面が紫外レ
ーザの光軸コ5に対して常に直角となるように位置決め
されている。また、スタンド13はレーザ光発射系11
に対I〜で近接及び離間し得、これによってレーザ光発
射系11のレーザ光発射部11aに対する基板12の距
離Lxが可変となっている。
尚、当該光学的特性調整装置はレーザ光発射系1コが発
する紫外レーザの光軸15のずれ調整及び焦点距離の調
整をなすためのものであり、これらの各調整は、当該装
置の操作者がレーザ光発射系11自体や操作者の周辺に
設置した図示せぬ調整用機器を適宜操作することにより
行なわれる。
上記した構成の光学的特性調整装置においては、レーザ
光発射系1コから発せられた紫外レーザが基板12に照
射されることにより、基板12に含有された発光材が可
視光を発し、基板12に、1ノ一ザ光発射系1]からの
距離に応じた径の輝点16が現れる。操作者はこの輝点
16を基板12の光照射面側あるいは光照射面とは反対
側から観察することが出来、」二連した:A整用機器及
び1ノ一ザ光発射系]8〕の調整部を操作して所要の調
整を行なう。
なお、上記した構成において、スタンド13を移動させ
て紫外レーザの焦点を基板12上に位置せしめ、このと
きの基板12とレーザ光発射系11のレーザ光照射部1
1gとの距離L xを測定することにより、紫外レーザ
の焦点距離を直ちに知ることが出来る。また、基板12
の表面に設けた基準線12a及び12bに沿って目盛(
図示せず)を付すことにより、紫外レーザの光軸15の
ずれ量も迅速に測定することが出来る。
尚、」二連した実施例においては、レー・ザ光発射系1
1から基板]2に照射されるレーザ光が紫外レーザであ
る場合について説明しまたが、基板12に含有せしめる
発光材を適宜選定することにより紫外レーザ以外の非可
視光を発するレーザ光発射系についても各種の調整をな
すことが可能であることは言うまでもない。
発明の効果 以上詳述した如く、本発明によるレーザ光発射系の光学
的特性調整装置においては、非可視光に感応して可視光
を発する発光材を含有する透明基板と、該透明基板を1
ノ−ザ光発射系からのレーザ光の光軸に対して直角に位
置決めする位置決め手段とから成る。
このように、非可視光に感応17て可視光を発する発光
材が透明な基板に含有された構成の故、非可視光の照射
により基板に生じた輝点は基板の光照射面側のるならず
光照射面とは反対側からも目視することが出来、装置操
作者が非可視光の光軸などを確認1、ながう調整作業を
行ない得る作業域が広く、操作性が向上しているのであ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例としてのレーザ光発射系の光学
的特性調整装置の要部の斜視図である。 主要部分の符号の説明 11・・・・・・レーザ光発射系 12・・・・・・透明基板 13・・・・・・スタンド

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 非可視光に感応して可視光を発する発光材を含有する透
    明基板と、前記透明基板をレーザ光発射系からのレーザ
    光の光軸に対して直角に位置決めする位置決め手段とか
    らなるレーザ光発射系の光学的特性調整装置。
JP1143385A 1989-06-06 1989-06-06 レーザ光発射系の光学的特性調整装置 Pending JPH039312A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1143385A JPH039312A (ja) 1989-06-06 1989-06-06 レーザ光発射系の光学的特性調整装置
US07/683,590 US5079429A (en) 1989-06-06 1991-04-11 Optical characteristic adjusting apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1143385A JPH039312A (ja) 1989-06-06 1989-06-06 レーザ光発射系の光学的特性調整装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH039312A true JPH039312A (ja) 1991-01-17

Family

ID=15337545

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1143385A Pending JPH039312A (ja) 1989-06-06 1989-06-06 レーザ光発射系の光学的特性調整装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US5079429A (ja)
JP (1) JPH039312A (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5533508A (en) * 1991-10-31 1996-07-09 Pdt Systems, Inc. Vivo dosimeter for photodynamic therapy
US6211524B1 (en) 1997-04-18 2001-04-03 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Enhanced radiation detectors using luminescent materials
CA2210122C (en) * 1997-07-09 2003-09-23 Husky Injection Molding Systems Ltd. Power electrical enclosure
CN102364377B (zh) * 2011-11-02 2013-02-13 齐齐哈尔大学 激光扩束镜系统的调节方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3123711A (en) * 1964-03-03 Fajans
JPS63191884A (ja) * 1987-02-03 1988-08-09 Mitsui Toatsu Chem Inc 発光性樹脂組成物
FR2613845B1 (fr) * 1987-04-10 1993-09-17 Thomson Csf Dispositif de visualisation d'informations lumineuses par projection sur une paroi transparente et son utilisation pour la navigation aerienne
JPH01129062A (ja) * 1987-11-13 1989-05-22 Mitsui Toatsu Chem Inc 発光性樹脂組成物
US4916319A (en) * 1988-04-22 1990-04-10 Tauton Technologies, Inc. Beam intensity profilometer

Also Published As

Publication number Publication date
US5079429A (en) 1992-01-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69725631T2 (de) Laser-Nivelliervorrichtung
EP0277542B1 (de) Optoelektronischer Abstandssensor
DE69631342T2 (de) Bilderzeugende vorrichtung zur visualisation von zeichen auf einem ebenen spiegelnden substrat
US5038258A (en) Illuminating arrangement for illuminating an object with incident light
US7130035B2 (en) Target for surveying instrument
US5359640A (en) X-ray micro diffractometer sample positioner
CA2084408A1 (en) Illumination system and method for a high definition light microscope
JPH039312A (ja) レーザ光発射系の光学的特性調整装置
CN109759714A (zh) 一种基于飞秒激光成丝的大幅面打标系统及打标范围标定方法
JPH0587735A (ja) 視程測定装置
US4178513A (en) Art object analyzer
US4611115A (en) Laser etch monitoring system
US20050201716A1 (en) Transmitter for light barriers, light grids and the like
DE4339710C2 (de) Optoelektronische Abstandsmeßeinrichtung
US6337742B2 (en) Device for ascertaining the relative position of a reference axis of an object relative to a reference beam, in particular a laser beam
JPH02259515A (ja) ケイ光x線膜厚測定装置
JP2602523B2 (ja) カソードルミネッセンス測定装置
KR930018270A (ko) 코팅층내의 결점 검출 시스템 및 그 방법
JP2642124B2 (ja) カソードルミネッセンス測定装置
US20020163716A1 (en) Method for adjusting a microscope and microscope with a device for adjusting a light beam
KR100736485B1 (ko) 투사형 표시 시스템의 램프 위치 조정 장치 및 방법
RU2541268C2 (ru) Устройство для сохранения ориентации дрели при сверлении
JPH07208993A (ja) 水準測量用可視レーザターゲット
JP2591496Y2 (ja) レーザ露光装置
JPS59218289A (ja) レ−ザ加工用サイドノズル