JPH0386722A - ｎ―アルキル置換シクロヘキシリデンビスフエノールのポリカーボネート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明の目的は、ｔｏ、０００ないし８０，０００、好
ましくは１５．０００ないし７０，０００、特に好まし
くは１８．０００ないし６０，０００及び殊に２０．０
００ないし４０．０００の平均分子量Ｍｗを有し、下記
式（Ｉ） ｋ＠ 式中、 ＲＩ　　Ｒ２Ｒ３及びＲ４は、互いに独立して水素、Ｃ
Ｉ−ＣＩ　２＝炭化水素基またはハロゲンを表しそして
、 Ｒ５及びＲ＠は、水素またはＣ，−ＣＢ−ｎ−アルキル
基であり、それぞれの場合ＲＳ及びＲ１基のどちらか一
方のみがＣ６〜Ｃ，−ｎ−アルキル基である の２官能力−ボネート構造単位を、ポリカーボネートの
２官能力−ボネート構造単位の全量を基準として１００
ないし１０モル％、好ましくは１００ないし２０モル％
、特に好ましくは１００ないし４０モル％、極めて好ま
しくは１００ないし７０モル％の量含有する芳香族ポリ
カーボネートからの熱可塑的加工による成形品の製造で
ある。

日本国特許明細書第６１０６２０３９号、第６１０６２
０４０号及び第６１１０５５５０号は、部分的にまたは
完全に下記式（ＩＡ） 式中、 Ｘ及びＸ′は、水素、ハロゲンまたはメチルでありそし
て Ｒは、水素、ハロゲン、ＯＨ％Ｃ０ＯＨ，アセチルまた
はＣ，−Ｃ，−アルキル（日本国特許第６１０６２０４
０号では、Ｃ，−Ｃ３−アルキルである） の構造単位からなるポリカーボネートを記述する。

式（ＩＡ）はまた、式（１）に該当する構造単位の幾つ
かを含む。前述の日本国特許明細書に記述されるポリカ
ーボネートは、電子写真の光受容体の電荷輸送層（ｃｈ
ａｒｇｅ　　ｔｒａｎｓｐｏｒｔａｔｉｏｎ　　１ａｙ
ｅｒｓ）中のバインダーポリマーとして使用されている
。これらのポリカーボネートは、有機溶媒、例えば、塩
化メチレン中に溶解させることにより処理され、かくし
て得られたポリカーボネート溶液を注型し、その後電荷
輸送物質を導入し、そして有機溶媒を蒸発させ電荷輸送
層を生皮する。前述のポリカーボネートの成形品への熱
可塑加工としての使用は、前述の日本国特許明細書また
はその他にも記述されていない。このような使用は当業
者にも自明のことではない。なぜならシクロへキシリデ
ン環が置換されていないビスフェノール、例えば、ｌ、
ｌ−ビス−（４−巳ドロキシフェニル）−シクロヘキサ
ンを基礎とするポリカーボネートでさえ工業的に使用可
能な成形品を与える溶融体からの加工は、それらの高い
溶融粘度及び架橋及び分解に対する高い感受性のため困
難であるからである。

シクロヘキシリデン環をさらにメチル基で置換されてい
る例えば式（Ｉ）に記載されているものは、工業的に許
容できる熱可塑性加工を許容しないと考えられていた。

驚くべきことに、本発明に従って使用されるポリカーボ
ネートの熱可塑性加工が可能となりそして該加工により
得ることができる成形品は、良好な特性を示すことが見
いだされた。本発明に従って使用されるポリカーボネー
トの溶融体は、驚くほど好く流れそして架橋及び分解に
対して安定である。

式（Ｉ）のカーボネート構造単位は、下記式（ｎ）Ｒ＠ 式中、 Ｒ１，Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、式（Ｉ）と
同一の意味を有する、 のビスフェノールに基づく。

式（Ｉ）及び式（ＩＩ）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ１及
びＲ４は、好ましくは水素、メチル、エチル、フェニル
、シクロヘキシル、塩素又は臭素であり、特に好ましく
は水素、メチル及び臭素であり、殊に水素である。

もしＲＩ　　Ｒ２、Ｒ３及びＲ１基の１つ以上が水素で
ないならば、同一の置換基が好ましい。

もしＲＩ　　Ｒ２、Ｒ３及びＲ６基の２つが水素でない
ならば、カーボネート基（式（Ｉ））またはフェノール
のＯＨ基を基準として、ｏ、ｏ’　−置換が、好ましい
。もしＲ１、Ｒ２Ｒｆｆ及びＲ４基のすべてが水素でな
いならば上記のようにｏ、ｏ、。

Ｏ′−置換が、好ましい。

式（Ｉ）及び（ＩＩ）において、Ｒ５またはＲ６基は、
Ｃ，−Ｃ６−ｎ−アルキル基、例えば、メチル、エチル
、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル及びｎ−ペンチルを表すこ
とができる。しかし、好ましくはメチル及びエチルを表
す。式（Ｉ）及び（ｎ）においてＲ６基は、好ましくは
Ｃ，−Ｃ６−ｎ−アルキル基である。

式（ＩＩ）のビスフェノールの例は以下の通りである。

１．１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチ
ル−シクロヘキサン、 １．１−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル
）−４−メチル−シクロヘキサン、１．１−ビス−（３
，５〜ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−４−メチ
ル−シクロヘキサン、１．１−ビス−（３−クロロ−４
−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−シクロへキサン
、１．１−ビス−（３，５−ジクロロ−４−とドロキシ
フェニル）−４−メチル−シクロヘキサン、１．１−ビ
ス−（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−
４−メチル−シクロヘキ今ン、１．１−ビス−（３−７
エニルー４−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−シク
ロヘキサン、１．１−ビス−（３，５−ジエチル−４−
ヒドロキシフェニル）−４−メチル−シクロヘキサン、
１．１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３−メチ
ル−シクロヘキサン、 １、ｔ−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシ７エ二ル
）−３−メチル−シクロヘキサン、１．１−ビス−（３
，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−メチ
ル−シクロヘキサン、１、ｉ−ビス−（３−クロロ−４
−ヒドロキシフェニル）−３−メチル−シクロヘキサン
、１、ｌ−ビス−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシ
フェニル）−３−メチル−シクロヘキサン、１．１−ビ
ス−（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−
３−メチル−シクロヘキサン、１．１−ビス−（３−フ
ェニル−４−ヒドロキシフェニル）−３−メチル−シク
ロへキサン、１．１−ビス＝（３，５−ジエチル−４−
ヒドロキシフェニル）−３−メチル−シクロヘキサン、
１．１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３−二チ
ルーシクロヘキサン、及び １．１〜ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−４−エチ
ル−シクロヘキサンでアル。

特に好ましいビスフェノールは、： １．１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３−メチ
ル−シクロヘキサン、 １．１−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）−３−メチル−シクロへキサン及びｌ、Ｉ−ビ
ス−（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−
３−メチル−シクロへキサン、である。

１、　１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）３−メチ
ル−シクロヘキサンが特に好ましい。

式（ＩＩ）のビスフェノールは、式（ＩＩ［）のシクロ
ヘキサノン、 及び式 （） ％式％） 式中、 Ｒ１，Ｒ２、Ｒ３Ｒ’　　Ｒ’及びＲ’は、前述ノ意味
を有する、 のフェノールから、０−１００℃で酸触媒（好ましくは
ＨＣＩまたは酸イオン交換体）、そしてもし適当ならば
硫黄含有助触媒例えば、３−メルカプトプロピオン酸の
存在下の製造することができる。

本発明のポリカーボネートは、式（Ｉ）のカーボネート
構造単位に加えて、それぞれの場合１００モル％になる
ための蒲完的な量の２官能力−ポネート構造単位、例え
ば、 式（Ｖｒ）のビスフェノ ールを基礎とする式（ｖ）を含有する。

ＨＯ−Ｚ−ＯＨ−（ＶＩ） 式（Ｖｌ）のビスフェノールは、２が６ないし３０個の
炭素原子を有し、１個またはそれ以上の芳香族環を含有
する芳香族基である式（Ｖｌ）のビスフェノールは、置
換されていることができ、式（ｎ）のものの外に脂肪族
基または脂環式炭化水素基または架橋員としてヘテロ原
子を含有することができる。

式（Ｖｌ）のジフェノールの例は、以下の通りである。

ヒドロキノン レソルシノール ジヒドロキシジフェニル ビス−（ヒドロキシフェニル）−アルカンビス−（ヒド
ロキシフェニル）−シクロアルカンビス−（ヒドロキシ
フェニル）スルフィドビス−（ヒドロキシフェニル）エ
ーテルビス−（ヒドロキシフェニル）ケトン ビス−（ヒドロキシフェニル）スルホンビス−（ヒドロ
キシフェニル）スルホキシドσ、σ°−ビス−（ヒドロ
キシフェニル）−ジイソプロピルベンゼン 及びそれらの環アルキル化及び環ハロゲン化化合物であ
る。

これらの及びさらに適する他のジフェノールは、例えば
、米国特許明細書第３０２８３６５号、第２９９９８３
５号、第３１４８１７２号、第３２７５６０１号、第２
９９１２７３号、第３２７１３６７号、第３０６２７８
１号、第２９７０１３１号及び第２９９９８４６号、西
ドイツ国特許公開明細書第１５７０７０３号、第２０６
３０５０号、第２０６３０５２号及び第２２１１９５６
号、フランス国特許明細書第１５６　］、　５１８号及
びモノグラフ「エイチ　シュネル著、ポリカーボネート
の化学と物理（Ｈ，５ｃｈｎｅ　Ｉ　Ｉ、Ｃｈｅｍ＋５
ｔｒｙ　　　ａｎｄ　　　Ｐｈｙｓｉｃｓ　　　ｏｆ　
　　Ｐｏ１ｙｃａｒｂｏｎａｔ、ｅｓ）、　　Ｉｎｔｅ
ｒｓｃｉｅｎｃｅ出版社、ニューヨーク、１９６４午」
に記述される。

好ましい他のジフェノールの例は以下の通りである。

４．４′−ジヒドロキシジフェニル ２．２〜ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン ２．４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−２メチル
ブタン １．１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘ
キサン α、α′−ヒス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジ
イソプロピルベンゼン ２．２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル
）−プロパン ２．２−ビス−（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル
）−プロパン ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）
−メタン ２．２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）−プロパン ビス＝（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）
スルホン ２．４−ヒス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）−２−メチルブタン １．１−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）−シクロヘキサン α、α′−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシ
フェニル）−ｐ−ジイソプロピル−ベンゼン ２．２−ビス−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフ
ェニル）−１０パン及ヒ ２．２−ビス−（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフ
ェニル）−プロパン 特に好ま１−い式（Ｖｌ）のジフェノールの例は以下の
通りである。

２．２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン ２．２−ビス−（３，５〜ジメチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）−プロパン ２．２−ビス〜（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフ
ェニル）−プロパン ２．２−ビス−（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフ
ェニル）−プロパン及ヒ ｌ、１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘ
キサン ２、２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン
が、特に好ましい。

他のジフェノールを単独でまたは混合物として用いるこ
とができる。

ｌ官能化合物を、分子量の調節のため連鎖停止剤として
通常の濃度で使用することができる。適する化合物は、
例えば、第２級アミン、フェノール及び酸塩化物である
。フェノール、例えば、ｔｅｒｔ、−ブチルフェノール
または他のアルキル−置換フェノールが好ましい。少量
の下記式（） 式中、Ｒは、枝別れしたＣ６−及び／又はＣ９〜アルキ
ル基を表す、 のフェノールが、分子量の調節のために特に適する。好
ましくはアルキル基ＲにおいてＣＨ，プロトンの含有量
は４７ないし８９％の間であり、そしてＣＨ及びＣＨ２
プロトンの含有量は５３ないし１１％の間である。また
好ましくはＲは、ＯＨ基と対比して〇−及び／又はｐ−
位でありモしてオルト含有量の上限は特に好ましくは２
０％である。

いくつかの特に適するフェノールは、フェノール、ｐ−
ｔｅｒｔ、−ブチルフェノール、ヒドロキシジフェニル
、ｐ−クミルフェノール、及び特にｐ−３＋　５−ジメ
チルへブチルフェノール及びｍ−及びｐ−１，１，３，
３−テトラメチルブチルフェノールである。ｐ−１，１
，３，３−テトラメチルブチルフェノールが、殊に好ま
しい。連鎖停止剤は、一般に、使用されるジフェノール
の量を基準として０．１ないし１０．好ましくは０゜５
ないし８モル％の量で用いられる。

成形品への熱可塑性加工のために本発明に従って使用さ
れるポリカーボネートは、式（１）及び（ｖ）の２価の
カーボネート構造単位の性質及び割合及び平均分子量Ｍ
ｗの前述の要求を満足する限り、少なくとも２つのポリ
カーボネートの任意の混合物でよいと理解される。しか
しながら、合成により特定される組成を有するポリカー
ボネート、つまり後の混合により得ることができないも
のが好ましい。

本発明に従って使用されるポリカーボネートは、それ自
身既知の方法で相界面法（ｐｈａｓｅ　　１ｎｔｅｒｆ
ａｃｅ　　ｐｒｏｃｅｓｓ）により製造することができ
る（エイチ　シュネル著、ポリカーボネートの化学と物
理（Ｈ，５ｃｈｎｅ　ｌ　ｌ。

Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　　ａｎｄ　　Ｐｈｙｓｉｃｓｏｆ
　　Ｐｏ１ｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ）、Ｐ。

ｌｙｍｅｒ　　Ｒｅｖｉｅｗｓ、　　Ｖｏｌ、Ｕ、３３
頁１ｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ　　Ｐｕｂｌ、１９６４午
参照）。

この方法では、式（ＩＩ）のジフェノールを水性のアル
カリ相に溶解する。式（ＩＩ）のジフェノール及び他の
ジフェノール、例えば、式（Ｖｌ）のものの混合物を他
のジフェノールとのコーポリカーボネートの製造に使用
する。例えば式（■）の、連鎖停止剤を、分子量の調節
のために添加することができる。該反応は次にホスゲン
を用いて、好ましくはポリカーボネートを溶解する、不
活性有機相の存在下で相界面縮合法により行う。反応温
度は一般にＯ℃〜４０°Ｃの間である。

使用される式（ｎ）のジフェノール及び式（Ｖｌ）の他
のジフェノールに加えて、それらのモノ−及び／又はビ
ス−クロロカルボン酸エステルを共に使用することもで
き、それらは、有機溶媒中の溶液として添加される。つ
ぎに連鎖停止剤の量は式（ｎ）のジフェノラート構造単
位及びもし適当ならば他のジフェノラート構造単位、例
えば、式１）のもののモル数による。もしクロロカルボ
ン酸エステルが用いられるならば、ホスゲンの量は同様
に既知の方法により対応して減少させることができる。

相界面重縮合のために使用することができる有機相及び
連鎖停止剤及びもし適当ならばクロロカルボン酸エステ
ルの溶液のために使用することができる有機溶媒は、例
えば、塩素化炭化水素、例えば、クロロホルム、ジクロ
ロエタン、ジー及びテトラクロロエチレン、テトラクロ
ロエチレン、テトラクロロエタン、塩化メチレン、クロ
ロベンゼン及びジクロロベンゼン、及び非塩素化炭化水
素、例えば、トルエン及びキシレン、並びにこれらの溶
媒の混合物、特に塩化メチレン及びクロロベンゼンの混
合物である。もし適当ならば、使用される連鎖停止剤は
、同一の溶媒に溶解させることができる。

相界面重縮合のために使用される有機相は、例えば、塩
化メチレン、クロロベンゼンまたはトルエン並びに塩化
メチレン及びクロロベンゼンの混合物である。

使用される水性のアルカリ相は、例えば、水性ＮａＯＨ
溶液またはＫＯＨ溶液である。

本発明に従って使用されるポリカーボネートの相界面法
による製造は通常の方法により、触媒、例えば、ｔｅｒ
ｔ、−アミン、相移動（ｐ　ｈ　ａ　ｓ　ｅｔｒａ、ｎ
５ｆｅｒ）触媒、例えば、ｔｅｒｔ。

−脂肪族アミン、例えば、トリブチルアミン、トリエチ
ルアミン、Ｎ−エチル−ピペリジン及び特に第４級アン
モニウム及びホスホニウム化合物及びクラウンエーテル
、例えば、臭化テトラブチルアンモニウム、臭化トリフ
ェニルベンジルホスホニウムにより反応させることがで
きる。該触媒は、一般に使用されるジフェノールを基準
として０゜０５ないし３０モル％の量使用される。該触
媒は、一般にホスゲン化の前またはホスゲン化の間また
はその後に添加される。

本発明により使用される該ポリカーボネートは、第１反
応生成物から既知の方法、例えば、相界面重縮合で得ら
れる有機相をその中にポリカーボネートを溶解したまま
分離しそして中性で電解質を含まないもので洗浄しそし
て次に例えば、脱蔵化押出機（ｄｅｖｏｌａｔｉｌｉｚ
ａｔｉｏｎ　　ｅｘｔｒｕｄｅｒ）を使用してグラニュ
レートとしてまたは非溶媒（ｎｏｎ−ｓｏ　Ｉｖｅｎ　
ｔ）の用いて沈殿させそして続いて乾燥させることによ
り、または噴霧気化により粉末またはペレットとしてポ
リカーボネートが得られるという手順により分離するこ
とができる。

熱可塑性ポリカーボネートのための通常の添加剤、例え
ば、安定剤、離型剤、顔料、防火剤、帯電防止剤、導電
性付与剤（ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｉｔｙａｄｄｉｔｉｖｅ
ｓ）、充填剤及び強化物質を、成形品への加工の前また
は加工中に本発明に従って使用されるポリカーボネート
に通常の量で添加することができる。

可能な防火剤は、以下の通りである。

１、アルカリ金属、アルカリ土類金属及び脂肪族及び芳
香族スルホン酸、カルボン酸、及びホスホン酸のアンモ
ニウム塩。これらはおおくの方法で、例えば、Ｆ、ＣＩ
、Ｂｒ、またはアルキルにより置換されることができる
。これらの塩状（ｓａｔｔ−１ｉｋｅ）防火剤は、オリ
ゴマー及びポリマーであることができる。塩状（ｓａｌ
ｔ−１ｉｋｅ）防火剤は、特に以下の特許出願に記述さ
れている。

西ドイツ国特許公開第１６９４６４０号、第１９３０２
５７号、第２０４９３５８号、第２２１２９８７号、第
２１４９３１１号、第２２５３０７２号、第２７０３７
１０号、第２４５８５２７号、第２４５８９６８号、第
２４６０７８６号、第２４６０７８７号、第２６４０７
８８号、第２４６０９３５号、第２４６０９３７号、第
２４６０９４４号、第２４６０９４５号、第２４６０９
４６号、第２４６１０６３号、第２４６１０７７号、第
２４６１１４４号、第２４６１１４５号、第２４６１１
４６号、第２２６４４１１４号、第２６４５４１５号、
第２６４６１２０号、第２６４７２７１号、第２６４８
１２８号、第２６４８１３１号、第２６５３３２７号、
第２７４４０１５号、第２７４４０１６号、第２７４４
０１７号、第２７４４０１８号、第２７４５５９２号、
第２９４８８７１号、第２９４８４３９号及び第３００
２１２２号。

２、もし適当ならば相乗剤、例えば、ハロゲン化芳香族
と組み合わせた、有機ハロゲン化合物。このような物質
は特に以下の特許出願に記述されている。西ドイツ国特
許公開第２６３１７５６号、日本国特許出願第５１−１
１９０５９号、西ドイツ国特許公開第３３４２６３６号
、ヨーロッパ特許出願第３１９５９号及び西ドイツ国特
許公開第３０２０３７５号及び第２６３１７５６号。

３、ハロゲン化フタルイミド及びフタルイミドスルホネ
ート 西ドイツ国特許公Ｎ第２７０３７１０号、第３２０３９
０５号、８３３２２０５７号、第３３３７８５７号及び
第３０２３８１８号 ４、ハロゲン含有複合酸の塩、例えば、氷晶石、テトラ
フルオロ硼酸の塩、及びフルオロケイ酸の塩であり、特
に西ドイツ国特許公開第２１４９３１１号及び第３０２
３８１８号に記載されている。

５、例えば、ドイツ国公開明細書第２５３５２６２号、
第２１９５５６３号、第２９４８４３９号及び第３０２
３８１８号に記載されている、部分的にまたは完全にフ
ッ素化されたポリオレフィン。

６、ヨーロッパ特許出願第７１１２５号及び第１４３２
２号及びＷＯ８６／４９１１号のスルホンアミド、ジス
ルホンアミド及びその塩。

７、硫黄原子及び赤リン、西ドイツ国特許公開第２４３
５５０８号及び第２３５５２１１号８．７エロセンまた
はその誘導体西ドイツ国特許公開第２６４４４３７号 ９、ジフェニルスルホン、西ドイツ国特許公開第２１２
９２０４号 １０、ニッケル塩、西ドイツ国特許公開第１９１８２１
６号 Ｌｚ、ポリフェニレンスルフィド、西ドイツ国特許公開
第２５０３３３６Ｊ＋及びヨーロッパ特許出＠第８７０
３８号 １２、塩酸、硫酸、りん酸、硝酸、硫化水素、硼酸のア
ルカリ金属及びアルカリ土類金属並びに亜鉛の塩及びこ
れらの酸の酸塩、ＷＯ３７１５４２、米国特許第４４０
８００５号及びヨーロッパ特許出願第１７４６８４号 １３、シロキサン、西ドイツ国特許公開第２５３５２６
１号 防火のためｌこ使用することができるコモノマーは、以
下の通りである。

１１塩化及び臭化ＢＰＡ及び４，４゛−ジヒドａキシ−
ジフェニルスルフィド、ヨーロッパ特許出願第３１９５
８号及び第６１０６０号 ２、シロキサンブロック、西ドイツ国特許公開第３３３
４７８２号 ３、ジヒドロキシ−ジフェニルスルホン、米国特許第３
９１２６８８号 ４、スルホアニリド末端基、ヨーロッパ特許出願第８２
４８３号 防火方法は個々にまたは共に使用することができる。

防火剤は、個々に、または数種の添加剤を併せて、好ま
しくは押出機またはニーダ−中で、式（ＩＩ）の共縮合
されたジフェノールを含有するポリカーボネートの中に
混和される。多くの場合、防火剤は、すでに製造中にポ
リカーボネート中にまたは出発物質中に添加される事が
できる。防火剤は、さらに、続いて乾燥するまで溶液を
濃縮することによりポリカーボネートの溶液中に添加す
る事ができる。防火剤添加物は、好ましくは０゜００１
ないし５０重量％、そして防火のためのコモノマーは、
好ましくは０．１ないし５０モル％の量で使用すること
ができる。

特に、例えば、グラファイト、カーボンブラック、金属
繊維、金属粉、珪藻土、石英、カオリン、粘土、ＣａＦ
、、Ｃａ　ＣＯ，、酸化アルミニウム、ガラス繊維、炭
素繊維、セラミック繊維及び無機顔料を用いることがで
き、そしてまた、離型剤としては、例えば、多塩基性ア
ルコールと長鎖のカルボン酸とのエステル、例えば、グ
リセロールステアレート、ペンタエリトリトールアトラ
スデアレート及びトリメチロールプロパントリステアレ
ートを用いることができる。

本発明にしたがって使用されるポリカーポネ−トは、熱
可塑性加工の方法、例えば、噴射成形、押出、吹出成形
、回転式注型、ホットプレスまたは熱形成により成形品
へ熱可塑的に加工することができ、そして、例えば上記
添加剤を添加することができる。成形品は、例えば、噴
射成形された形状大きさを変えた成形品、押出成形され
た成形品例えば、形材、チューブ、シート、ファイバ及
びフィルム、吹き出し成形された製品、例えば、ボトル
、容器及び発光体、及び熱成形品として理解される。

本発明により使用されるポリカーボネートの成形品は、
例えば、電気部門及び建設部門において、もし高い熱変
形温度と同時に非常に明るい色が必要であるとき、有利
に用いることができる。さらにそれらは、もし高い耐熱
性及び高い光学的品質が必要であるとき、光学的データ
貯蔵の分野で、例えば、再書き込みのできる光学的貯蔵
ディスク（ｏｐｔｉｃａｌ　　ｓｔｏｒａｇｅ　　ｄｉ
ｓｋ）においてさらに有利に用いることができる。

実施例１ １．１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３メチル
−シクロヘキサンのポリカーボネート１８４ｇ　（４，
６モル）のＮａＯＨ及び２８２ｇ（１モル）の１．ｌ−
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３−メチル−シク
ロヘキサンｗ０３１の水に溶解させた。３．１ｇ　（０
，０３３モル）のフェノールを溶解した３１の塩化メチ
レンを添加した。１４８．５ｇ　（１，５モル）のホス
ゲンを次に激しく撹拌しながら２５℃で３０分間にわた
って該混き溶液中を通過させた。１．１３ｇ：０．０１
モル）のＮ−エチルピリリジンを添加した後、該混合溶
液を２５°Ｃで６０分間激しく撹拌した。ビスフェルレ
ートを含まないアルカリ水性相が、分離除去された。希
リン酸を用いて酸性化した後、有機相を電解質を含まな
くなるまで水で洗浄し、そして蒸発させｔ；。結果とし
て得られたポリカーボネートを次に乾燥させることによ
り残った塩化メチレンを除去した。それは、無色で相対
粘度ｖｒｅｌ＝ｌ−３０４（ｃ−５ｇ／Ｉ及び２５℃で
塩化メチレン中で測定した）であった。

実施例２ ビスフェノールＡ及び１．ｈ−ビス−（４−ヒドロキシ
フェニル）−３−メチル−シクロヘキサンのモル比ｌ：
ｌでのコポリマー 使用されたビスフェノールの半分の量が１１４ｇ（０，
５モル）の２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）
−フロパン（ビスフェノールＡ）により置き換えられた
以外は実施例１が繰り返されｌこ。

結果として得られたポリカーボネートは、相対粘度ηｒ
ｅｌ＝１．３０６　（ｃ＝５ｇ／ｌ及び２５℃で塩化メ
チレン中で測定した）であった。

実施例３ １、　１−ビス−（４−ヒドロキンフェニル）４−メチ
ル−シクロヘキサンのポリカーボネートビスフェノール
の代わりに２８２ｇ　（１モル）のｌ、ｌ−ビス−（４
−ヒドロキシフェニル）４−メチル−シクロヘキサンが
使用された以外実施例１が繰り返された。結果として得
られたポリカーボネートは、相対粘度＋ｙｒｅ！−１−
３１９（ｃ−５ｇ／Ｉ及び２５°Ｃで塩化メチレン中で
測定した）であった。

実施例４ 実施例１が繰り返されたが、しかし１０モル％のジフェ
ノールが３．３″、５．５’　−テトラブロモ−ビスフ
ェノールＡにより置き換えられた。

結果として得られたポリカーボネートは、相対粘度ｙ＋
ｔｅｌ＝１．３０２であった。

実施例５〜３７ 防火剤により処理されたポリカーボネートの耐火試験の
結果を表１にまとめる。防火剤は、Ｗｅｒｎｅｒ　　＆
　　ＰｆｌｅｉｄｅｒｅｒのＺＳＫ３２２スクリユ一押
出機により混和された。

燃焼特性は、ＡＳＴＭ−Ｄ　　２８６３−７０に従って
０２インデツクスにより評価された。これらの試験のた
めに８０ｘ６ｘ３ｍｍの大きさの試験棒が噴射成形によ
り製造された。

本発明の主な態様と特徴は以下の通りである。

１１下記式（Ｉ） １ 式中、 Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、互いに独立して水素、Ｃ
１〜Ｃ１−炭化水素基またはハロゲンを表しそして、 Ｒ５及びＲ６は、水素またはＣ＋−Ｃｓ−ｎ−アルキル
基であり、それぞれの場合ＲＳ及びＲ・基のどちらか一
方のみがＣ１〜Ｃ，−ｎ−アルキル基である の２官能力−ボネート構造単位を、ポリカーボネート中
の２官能力−ボネート構造単位の全量を基準として１０
０ないし１０モル％の量含有する、１０．０００ないし
ａｏ、ｏｏｏの平均分子量Ｍｗを有する芳香族ポリカー
ボネートを熱可塑的に成形することを特徴とする成形品
の製造方法。

２、添加剤及び／又はコモノマーにより難燃化された上
記ｌ記載の芳香族ポリカーボネートを熱可塑的に成形す
ることからなる上記ｌの方法。

３、上記ｌ記載の芳香族ポリカーボネートから製造され
た成形品 ４、熱可塑性成形による成形品製造のための上記ｌ記載
の芳香族ポリカーボネートの使用。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、 Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾４は、互いに独立して
   水素、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿２−炭化水素基またはハロゲン
   を表しそして、 Ｒ＾５及びＲ＾６は、水素またはＣ＿１〜Ｃ＿５−ｎ−
   アルキル基であり、それぞれの場合Ｒ＾５及びＲ＾６基
   のどちらか一方のみがＣ＿１〜Ｃ＿５−ｎ−アルキル基
   である の２官能カーボネート構造単位を、ポリカーボネート中
   の２官能カーボネート構造単位の全量を基準として１０
   ０ないし１０モル％の量含有する、１０，０００ないし
   ８０，０００の平均分子量Ｍｗを有する芳香族ポリカー
   ボネートを熱可塑的に成形することを特徴とする成形品
   の製造方法。