JPH0375942B2 - - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 78
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 claims description 62
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 50
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 137
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 31
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 16
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 15
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 15
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 14
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 11
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 9
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 8
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 3
- 125000003698 tetramethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 241000270722 Crocodylidae Species 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000036425 denaturation Effects 0.000 description 1
- 238000004925 denaturation Methods 0.000 description 1
- LNNWVNGFPYWNQE-GMIGKAJZSA-N desomorphine Chemical compound C1C2=CC=C(O)C3=C2[C@]24CCN(C)[C@H]1[C@@H]2CCC[C@@H]4O3 LNNWVNGFPYWNQE-GMIGKAJZSA-N 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical compound C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 125000005259 triarylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001003 triarylmethane dye Substances 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、透明な基板上に少なくとも光吸収層
と反射層を有する書き込み可能な光情報記録媒体
とこれに情報を記録する方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a writable optical information recording medium having at least a light absorption layer and a reflection layer on a transparent substrate, and a method for recording information thereon.
レーザ光の照射により、データを記録すること
ができる、いわゆる書き込み可能な光情報記録媒
体は、Te,Bi,Mn等の金属層や、シアニン、メ
ロシアニン、フタロシアニン等の色素層等からな
る記録層を有し、レーザ光の照射により、上記記
録層を変形、昇華、蒸発或は変性させる等の手段
で、ピツトを形成し、データを記録する。この記
録層を有する光情報記録媒体では、ピツトを形成
する際の記録層の変形、昇華、蒸発或は変性等を
容易にするため、記録層の背後に空隙を設けるこ
とが一般に行なわれている。具体的には例えば、
空間部を挟んで2の基板を積層する、いわゆるエ
アサンドイツチ構造と呼ばれる積層構造がとられ
る。
A so-called writable optical information recording medium, which can record data by irradiation with laser light, has a recording layer consisting of a metal layer such as Te, Bi, Mn, etc., or a pigment layer such as cyanine, merocyanine, phthalocyanine, etc. Data is recorded by forming pits by deforming, sublimating, vaporizing, or modifying the recording layer by irradiating it with laser light. In optical information recording media having this recording layer, voids are generally provided behind the recording layer in order to facilitate deformation, sublimation, evaporation, denaturation, etc. of the recording layer when forming pits. . Specifically, for example,
A stacked structure called an air sandwich structure is used in which two substrates are stacked with a space in between.
この光情報記録媒体では、上記透光性を有する
基板1側からレーザ光を照射し、ピツトを形成す
る。そして、記録したデータを再生するときは、
上記基板1側から記録時よりパワーの弱いレーザ
光を照射し、上記ピツトとそれ以外の部分との反
射光の違いにより、信号を読みとる。 In this optical information recording medium, pits are formed by irradiating laser light from the side of the transparent substrate 1. When playing back the recorded data,
A laser beam having a weaker power than during recording is irradiated from the substrate 1 side, and the signal is read based on the difference in reflected light between the pit and other parts.
一方、予めデータが記録され、その後のデータ
の書き込みや消去ができない、いわゆるROM型
光情報記録媒体が情報処理や音響部門で既に広く
実用化されている。この種の光情報記録媒体は、
上記のような記録層を持たず、記録データを再生
するためのピツトを予めプレス等の手段でポリカ
ーボネート製の基板の上に形成し、この上にAu,
Ag,Cu,Al等の金属膜からなる反射層を形成
し、さらにこの上を保護層で覆つたものである。 On the other hand, so-called ROM type optical information recording media, on which data is recorded in advance and cannot be subsequently written or erased, have already been widely put into practical use in the information processing and audio sectors. This type of optical information recording medium is
Without the above-mentioned recording layer, pits for reproducing recorded data are formed in advance on a polycarbonate substrate by means such as pressing, and then Au,
A reflective layer made of a metal film such as Ag, Cu, Al, etc. is formed, and this is further covered with a protective layer.
このROM型光情報記録媒体で最も代表的なも
のが音響部門や情報処理部門等で広く実用化され
ているコンパクトデイスク、いわゆるCDであり、
このCDの記録、再生信号の仕様は、いわゆるCD
フオーマツトとして規格化され、これに準拠する
再生装置は、コンパクトデイスクプレヤー(CD
プレーヤ)として極めて広く普及している。 The most typical ROM-type optical information recording medium is the compact disk, or so-called CD, which is widely used in audio and information processing departments.
The recording and playback signal specifications for this CD are so-called CD
The format has been standardized, and playback devices that comply with this format are compact disc players (CD
It is extremely popular as a player).
上記光情報記録媒体は、何れのものも中心に回
転軸にクランプするための孔を有する円板状形
態、すなわち光デイスクの形態をとる。 Each of the above-mentioned optical information recording media takes the form of a disk, that is, an optical disk, having a hole in the center for clamping to a rotating shaft.
上記光情報記録媒体は、やはりCDと同じレー
ザ光を用いる記録手段であるため、再生に際し、
既に広く普及したCDに準拠することが強く望ま
れる。
The optical information recording medium mentioned above is a recording means that uses the same laser beam as a CD, so when playing back,
It is highly desirable to comply with CD, which is already widely used.
しかしながら、前者の光情報記録媒体は、CD
には無い記録層を有し、さらにこの記録層にピツ
トを形成するのを容易にするために、空隙層等を
有するため、CDに比べてレーザ光の反射率が低
くなる。このため、いわゆるCDについての規格
を定めた上記CDフオーマツトを満足することが
困難である。従つて、従来においては、CDに準
拠可能な書き込み可能な光情報記録媒体を提供す
ることができなかつた。 However, the former optical information recording medium is CD
It has a recording layer that is not found in CDs, and it also has a void layer etc. to make it easier to form pits in this recording layer, so the reflectance of laser light is lower than that of CDs. For this reason, it is difficult to satisfy the above-mentioned CD format, which defines standards for so-called CDs. Therefore, in the past, it has not been possible to provide a writable optical information recording medium that is compatible with CDs.
本発明は、上記従来の問題点を解消するためな
されたもので、70%以上の高い反射率を有し、か
つデータの再生に際し、CDフオーマツトに準拠
する変調度の出力信号が得られる書き込みが可能
な光情報記録媒体を提供することを目的とする。 The present invention has been made in order to solve the above-mentioned conventional problems, and has a high reflectance of 70% or more, and can write data so that an output signal with a modulation degree compliant with the CD format can be obtained when reproducing data. The purpose is to provide a possible optical information recording medium.
すなわち、上記目的を達成するため、本発明に
おいて採用した手段の要旨は、透光性を有する基
板上に少なくとも光吸収層、反射層が順次形成さ
れた光情報記録媒体において、光吸収層の複素屈
折率の実数部nabsと膜厚dabsと再生光の波長λ
とで与えられるρ=nabs・dabs/λが、0.05≦ρ
≦0.6であり、かつ光吸収層の複素屈折率の虚部
kabsが0.3以下である光情報記録媒体及びこれを
用いて上記透光性基板側からレーザ光をレーザ吸
収層に照射し、ピツトを形成する光情報記録方法
である。
That is, in order to achieve the above object, the gist of the means adopted in the present invention is to provide an optical information recording medium in which at least a light absorption layer and a reflection layer are sequentially formed on a light-transmitting substrate. Real part of refractive index nabs, film thickness dabs, and wavelength λ of reproduction light
ρ=nabs・dabs/λ given by is 0.05≦ρ
≦0.6, and the imaginary part of the complex refractive index of the light absorption layer
The present invention provides an optical information recording medium having a kabs of 0.3 or less, and an optical information recording method using the same, in which a laser absorption layer is irradiated with laser light from the transparent substrate side to form pits.
なお、上記光吸収層は透光性基板上の一部の領
域に形成し、同光吸収層の無い領域を予め信号再
生のピツトを形成されたROM領域とすることも
できる。 The light absorption layer may be formed in a part of the light-transmitting substrate, and the region without the light absorption layer may be used as a ROM region in which pits for signal reproduction are formed in advance.
本発明者らは、透光性基板上に有機色素からな
る光吸収層および金属からなる光反射層を設けた
上記光情報記録媒体から、CDフオーマツトに準
拠した反射率70%以上、かつ変調度として示され
るI11/Itopが0.6以上、I3/Itopが0.3〜0.7という
再生信号を得るためには、光情報記録媒体の光吸
収層の複素屈折率の実数部nabsとその膜厚dabs
と、再生光の波長λとで与えられるρ=nabs・
dabs/λが非常に重要なパラメーターであるこ
とに着目し、この点につき実験およびシミユレー
シヨンを行つた結果、第7図のような関係を得る
ことができた。第7図は、再生光として、波長λ
=780nmの半導体レーザ光を用い、反射層として
Auを用い、或るkの値を有する光吸収層を用い
た場合に、光情報記録媒体の光吸収層の複素屈折
率の実数部nabsとその膜厚dabsと、再生光の波
長λとで与えられるρ=nabs・dabs/λと、基
板側から入射させた光の反射率との関係を示すグ
ラフである。
The present inventors have developed an optical information recording medium in which a light-absorbing layer made of an organic dye and a light-reflecting layer made of a metal are provided on a light-transmitting substrate. In order to obtain a reproduced signal with I11/Itop of 0.6 or more and I3/Itop of 0.3 to 0.7, the real part of the complex refractive index nabs of the light absorption layer of the optical information recording medium and its film thickness dabs must be
and the wavelength λ of the reproduction light, ρ=nabs・
Focusing on the fact that dabs/λ is a very important parameter, we conducted experiments and simulations on this point, and as a result we were able to obtain the relationship shown in Figure 7. Figure 7 shows the wavelength λ as the reproduction light.
= Using 780nm semiconductor laser light as a reflective layer
When using a light absorption layer made of Au and having a certain value of k, the real part nabs of the complex refractive index of the light absorption layer of the optical information recording medium, its film thickness dabs, and the wavelength λ of the reproduction light are It is a graph showing the relationship between the given ρ=nabs·dabs/λ and the reflectance of light incident from the substrate side.
このグラフを見ると、ρが0.6よりも小さいと
きには、ほぼ確実に反射率が70%以上を確保でき
ることがわかる。ρが0.05に満たない領域や、
0.6を越える領域であつても70%以上の反射率が
得られる場合がある。しかし、ρが0.05に満たな
い領域の場合は、光吸収層の膜厚dabsを0.05μm
以下と、相当薄くしなければならないため、デー
タの記録のためのピツトを形成するのが困難とな
り、上記のような再生信号が得られない。また、
0.6を越える領域の場合は、均一な膜厚に制御す
ることが困難になり、記録特性にばらつきが生
じ、I3/Itopが0.3に満たながつたり、ジツター
エラーが増大したりする等の実用上の問題が生じ
る。すなわち、ρを0.05〜0.6とすることにより、
反射率をCDフオーマツトに準拠する70%以上と
することができることがわかる。 Looking at this graph, it can be seen that when ρ is smaller than 0.6, it is almost certainly possible to secure a reflectance of 70% or more. Areas where ρ is less than 0.05,
Even in a region exceeding 0.6, a reflectance of 70% or more may be obtained. However, if ρ is less than 0.05, the thickness of the light absorption layer dabs should be 0.05 μm.
Since it has to be made considerably thinner, it is difficult to form pits for recording data, and the reproduction signal as described above cannot be obtained. Also,
In the case of a region exceeding 0.6, it becomes difficult to control the film thickness to be uniform, leading to variations in recording characteristics, resulting in practical problems such as I3/Itop falling below 0.3 and jitter errors increasing. The problem arises. That is, by setting ρ to 0.05 to 0.6,
It can be seen that the reflectance can be increased to 70% or more, which is compliant with the CD format.
また、本発明者らはこれらの結果をさらに検討
した結果、ρを0.5〜0.6の範囲内に設定しただけ
では必ずしもCD規格に規定されたような出力信
号を安定して得られるわけではなく、kabsが重
要なパラメーターであることを見出だした。第8
図は、反射層にAu膜を用いた光情報記録媒体に
おいて、光吸収層の透光性を変え、ρを一定にし
ながら、その虚部kabsを0に近い値から2.0まで
変化させたときの反射率を変化を示すグラフであ
る。 Furthermore, as a result of further examination of these results, the inventors found that simply setting ρ within the range of 0.5 to 0.6 does not necessarily guarantee a stable output signal as specified in the CD standard. We found that kabs is an important parameter. 8th
The figure shows the results when the imaginary part kabs is changed from a value close to 0 to 2.0 while changing the translucency of the light absorption layer and keeping ρ constant in an optical information recording medium that uses an Au film for the reflective layer. It is a graph showing changes in reflectance.
このグラフをみると、kabsが0に近づけば近
づくほど反射率が高くなることがわかる。本発明
者らは、実験およびシミユレーシヨンの結果よ
り、ρが0.5〜0.6の範囲内で安定して高い反射率
を維持するためには、光吸収層の透光性が十分高
くなければならず、同層の複素屈折率の虚部
kabsが0.3以下である必要があることを見出だし
た。ρが0.05〜0.6の範囲内で、kabsが0.3よりも
大きいと反射率70%以上を確保することは困難で
ある。 Looking at this graph, it can be seen that the closer kabs is to 0, the higher the reflectance. Based on the results of experiments and simulations, the present inventors have found that in order to maintain a stable high reflectance with ρ in the range of 0.5 to 0.6, the light-absorbing layer must have sufficiently high transparency. Imaginary part of the complex refractive index of the same layer
We found that kabs needs to be less than 0.3. If ρ is within the range of 0.05 to 0.6 and kabs is greater than 0.3, it is difficult to ensure a reflectance of 70% or more.
これらの結果より、第9図のような結果を得る
ことができる。第9図は、ρとkabsとの値にお
いてCD規格に準拠する組み合わせの臨界値を示
すグラフである。 From these results, results as shown in FIG. 9 can be obtained. FIG. 9 is a graph showing the critical values of combinations of ρ and kabs that conform to the CD standard.
このグラフからわかるように、CD規格に準拠
する記録信号を得ることができる光情報記録媒体
を提供するためには、ρ=nabs・dabs/λが0.05
〜0.6の範囲であり、かつkabsが0.3以下であるこ
とが必要であることがわかる。 As can be seen from this graph, in order to provide an optical information recording medium that can obtain recording signals compliant with the CD standard, ρ=nabs・dabs/λ must be 0.05.
It can be seen that it is necessary that the value be in the range of ~0.6 and that kabs be 0.3 or less.
さらにいえば、ρ=nabs・dabs/λは、十分
な変調度をとるためには、0.1以上の範囲が望ま
しく、変調度の大きい安定した記録特性を得るた
めには、0.45±0.1の範囲が最も望ましい範囲で
ある。 Furthermore, in order to obtain a sufficient degree of modulation, ρ=nabs・dabs/λ is preferably in the range of 0.1 or more, and in order to obtain stable recording characteristics with a large degree of modulation, the range of 0.45±0.1 is desirable. This is the most desirable range.
さらに、本発明の光情報記録媒体のkabsは、
0.3以下であれば、0に近づけば近づくほど反射
率は向上する。従つて、この範囲が最も望まし
い。しかし、0に近づけば近づくほど記録感度が
悪くなるため、0より大きいことが必要である。
具体的には、0.01以上の範囲が望ましく、実に
は、0.05前後が望ましい。 Furthermore, the kabs of the optical information recording medium of the present invention are
If it is 0.3 or less, the closer it gets to 0, the better the reflectance will be. Therefore, this range is most desirable. However, the closer it gets to 0, the worse the recording sensitivity becomes, so it is necessary that it be larger than 0.
Specifically, a range of 0.01 or more is desirable, and in fact, around 0.05 is desirable.
なお、本発明の内容は、他の層がある場合にお
いても適用可能である。たとえば、基板と光吸収
層との間に透明層(たとえばSiO2等のエンハン
ス層、下引き層等)を設けた場合には、この層を
基板の一部として扱つても良く、光吸収層と反射
層との間(たとえば、接着層、硬質層等)を設け
た場合には、これらの層を第2吸収層として考
え、
ρ=(nl・dl+n2・d2)/λとして扱い、多数
層になる場合には、ρ=Σ(ni・di)/λ(但し、
iは整数)とすれば、複数の層がある場合にも同
様に扱うことができる。 Note that the content of the present invention is applicable even when there are other layers. For example, if a transparent layer (for example, an enhancement layer such as SiO2, an undercoat layer, etc.) is provided between the substrate and the light absorption layer, this layer may be treated as a part of the substrate, and it may be treated as a part of the light absorption layer. If a layer is provided between the reflective layer (for example, an adhesive layer, a hard layer, etc.), consider these layers as the second absorbing layer, treat them as ρ = (nl・dl+n 2・d 2 )/λ, and calculate the In the case of layers, ρ=Σ(ni・di)/λ (however,
(i is an integer), it can be handled in the same way even if there are multiple layers.
また、kが0でない場合には、膜厚の比率によ
つて平均値としてのkを
k=1/ΣdiΣdiki
として求めれば単層の場合と同様に扱うことがで
きる。 Further, when k is not 0, it can be handled in the same way as in the case of a single layer by calculating the average value k from the ratio of film thicknesses as k=1/ΣdiΣdiki.
また、基板にグルーブが形成されている場合に
は、dabsは、グルーブ内の光吸収層の膜厚とラ
ンド部の光吸収層の膜厚の平均値であらわされ
る。 Further, when a groove is formed on the substrate, dabs is expressed as the average value of the film thickness of the light absorption layer in the groove and the film thickness of the light absorption layer in the land portion.
透光性基板上の一部の領域に上記光吸収層が形
成され、同光吸収層の無い領域に予め信号再生用
のピツトが形成されたROM領域を有する光情報
記録媒体では、ROM領域に予めプレス等で大量
に画一的なデータを記録しておくことができ、し
かもここには光吸収層が無いため、誤消去や別な
データの誤記録のおそれが無い。また、光吸収層
を有する領域では、使用者独自のデータを任意に
記録することができる。そして、この記録された
データがCD規格に準じた信号をもつて再生でき
るため、上記ROM領域の情報と同様に、市販の
CDブレヤーで再生することができる。 In an optical information recording medium that has a ROM area in which the light absorption layer is formed in a part of the light-transmitting substrate and pits for signal reproduction are formed in the area without the light absorption layer, the ROM area is A large amount of uniform data can be recorded in advance using a press or the like, and since there is no light absorption layer, there is no risk of erroneous erasure or erroneous recording of other data. Further, in the area having the light absorption layer, user's own data can be arbitrarily recorded. Since this recorded data can be played back with a signal that complies with the CD standard, similar to the information in the ROM area mentioned above, it can be played back using commercially available
It can be played on a CD player.
なお、上記作用はデイスク形状の記録媒体に限
らず、カード形状またはテープ形状の光情報記録
媒体においても同様に考えることができる。 Note that the above effect is not limited to disk-shaped recording media, but can be similarly considered in card-shaped or tape-shaped optical information recording media.
次に、図面を参照しながら、本発明の実施例に
ついて詳細に説明する。
Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
本発明による光情報記録媒体の模式的な構造の
例を、第1図〜第3図及び第4図〜第6図に示
す。これらの図面において、1は、透光性を有す
る基板、2は、その上に形成された光吸収層で、
照射されたレーザ光を吸収して発熱し、溶融、蒸
発、昇華、変形または変性し、当該光吸収層2や
基板1の表面にピツトを形成する作用を有する層
である。また3は、その上に形成された反射層、
4は、その外側に設けられた保護層を示す。 Examples of the schematic structure of the optical information recording medium according to the present invention are shown in FIGS. 1 to 3 and 4 to 6. In these drawings, 1 is a light-transmitting substrate, 2 is a light absorption layer formed thereon,
This layer absorbs the irradiated laser beam, generates heat, melts, evaporates, sublimates, deforms, or denatures, and has the function of forming pits on the surface of the light absorption layer 2 and the substrate 1. 3 is a reflective layer formed thereon;
4 indicates a protective layer provided on the outside thereof.
なお、第1図〜第3図で示したのは、透光性基
板1のほぼ全面に光吸収層2を形成した場合であ
るが、第4図〜第6図では、透光性基板1の外周
寄りの一部にのみ光吸収層2が形成され、ここが
記録可能領域11となつており、それより内周側
の部分にROM領域10が形成されている場合で
ある。 1 to 3 show cases in which the light absorption layer 2 is formed on almost the entire surface of the transparent substrate 1, but in FIGS. 4 to 6, the light absorption layer 2 is formed on almost the entire surface of the transparent substrate 1. In this case, the light absorption layer 2 is formed only in a part near the outer periphery, and this becomes the recordable area 11, and the ROM area 10 is formed in the part on the inner periphery side.
以下望ましい具体的実施例について記載する。 Preferred specific examples will be described below.
透光性基板1の材料は、レーザ光に対する屈折
率が1.4〜1.6の範囲の透明度の高い材料で、耐衝
撃性に優れた樹脂が望ましい。具体的には、ポリ
カーボネート、アクリル等が例示できるが、これ
らに限られるわけではない。 The material of the transparent substrate 1 is preferably a highly transparent material with a refractive index in the range of 1.4 to 1.6 with respect to laser light, and a resin with excellent impact resistance. Specific examples include polycarbonate, acrylic, etc., but are not limited to these.
上記のような材料を用いて、基板は例えば射出
成形等の手段により成形される。 The substrate is molded using the materials described above, for example, by injection molding or the like.
このような基板に、スパイラル状にプリグルー
ブが形成されていてもよい。プリグループは、通
常考えられる条件のものであればどのような条件
のものでもよいが、50〜250nmの深さが好適であ
る。 A pregroove may be formed in a spiral shape on such a substrate. The pre-group may be formed under any condition as long as it is normally considered, but a depth of 50 to 250 nm is preferable.
プリグルーブは、基板の射出成形時のスタンパ
を押し当てることにより形成されるのが通常であ
る。 The pregroove is usually formed by pressing a stamper during injection molding of the substrate.
基板1と光吸収層との間に、SiO2等の耐溶層
やエンハンス層をコーテイングしておいてもよ
い。 A melt-resistant layer or an enhancement layer such as SiO 2 may be coated between the substrate 1 and the light absorption layer.
光吸収層2の材料は、光吸収性の有機色素が望
ましく、シアニン色素、ポリメチン色素、トリア
リールメタン色素、ピリリウム色素、フエナンス
レン色素、テトラデヒドロコリン色素、トリアリ
ールアミン色素、スクアリリウム色素、クロコニ
ツクメンチ色素、フタロシアニン色素、アズレニ
ウム色素等が例示できるが、これらに限定される
ものではなく、低融点金属等、公知の記録層材料
を用いても本発明の効果を得ることが可能であ
る。 The material for the light absorption layer 2 is preferably a light-absorbing organic dye, such as a cyanine dye, a polymethine dye, a triarylmethane dye, a pyrylium dye, a phenanthrene dye, a tetradehydrocholine dye, a triarylamine dye, a squarylium dye, or a crocodile dye. Examples include dyes, phthalocyanine dyes, azulenium dyes, etc., but the present invention is not limited to these, and the effects of the present invention can also be obtained using known recording layer materials such as low melting point metals.
なお、光吸収層2には、他の色素、樹脂(例え
ばニトロセルロース等の熱可塑性樹脂、熱可塑性
エラストマー)、液ゴム等を含んでいても良い。 Note that the light absorption layer 2 may contain other dyes, resins (for example, thermoplastic resins such as nitrocellulose, thermoplastic elastomers), liquid rubber, and the like.
光吸収層2は、上記の色素および任意の添加剤
を公知の有機溶媒(たとえばアルコール、アセチ
ルアセトン、トルエン等)で溶解・溶媒和したも
のをプリグルーブが形成された透光性基板、また
はさらに基板上に他の層をコーテイングした基板
の表面に形成される。 The light absorption layer 2 is a light-transmitting substrate on which pregrooves are formed, or a substrate in which the above-mentioned dye and optional additives are dissolved and solvated in a known organic solvent (for example, alcohol, acetylacetone, toluene, etc.). It is formed on the surface of a substrate that has other layers coated on top.
この場合の形成手段としては、蒸着法、LB法、
スピンコート法等が挙げられるが、光吸収層の濃
度、粘度、溶剤の乾燥速度を調節することにより
層厚を制御できるために、スピコート法が望まし
い。 Formation methods in this case include vapor deposition method, LB method,
Examples include a spin coating method, but the spin coating method is preferable because the layer thickness can be controlled by adjusting the concentration, viscosity, and drying rate of the solvent of the light absorption layer.
なお、第4図〜第6図のようなROM領域10
を有する光情報記録媒体は、透光性基板1の表面
のROM領域10となる部分に信号再生用のピツ
ト9(第5図参照)をスタンパ等で予め形成して
おき、その外側の記録可能領域11にのみ上記材
料をコーテイングして光吸収層2を形成すること
により得られる。 In addition, the ROM area 10 as shown in FIGS. 4 to 6
In the optical information recording medium, pits 9 for signal reproduction (see FIG. 5) are formed in advance on the surface of the transparent substrate 1 in a portion that will become the ROM area 10 using a stamper, etc., and the outside of the pits 9 are recordable. It is obtained by coating only the region 11 with the above material to form the light absorption layer 2.
反射層3は、金属膜が望ましく、例えば、金、
銀、アルミニウムあるいはこれらを含む合金を、
蒸着法、スパツタ法等の手段により形成される。
光情報記録媒体の反射率が70%以上を有すること
が必要であるため、金または金を含む合金を主体
とする金属で形成することが望ましい。さらに、
反射層の酸化を防止するための耐酸化層等の他の
層を介在させてもよい。 The reflective layer 3 is preferably a metal film, such as gold,
Silver, aluminum or alloys containing these,
It is formed by a method such as a vapor deposition method or a sputtering method.
Since it is necessary for the optical information recording medium to have a reflectance of 70% or more, it is desirable to form the optical information recording medium from a metal mainly composed of gold or an alloy containing gold. moreover,
Other layers such as an oxidation-resistant layer may be interposed to prevent oxidation of the reflective layer.
なお、光吸収層の反射層側の層は、基板側の層
に比べて熱変形温度が高く、かつ硬度が高いもの
であることが望ましい。このように構成すること
によつて記録信号のブロツクエラーレートの低減
に効果が認められる。 Note that it is desirable that the layer on the reflective layer side of the light absorption layer has a higher thermal deformation temperature and higher hardness than the layer on the substrate side. This configuration is effective in reducing the block error rate of recording signals.
保護層4は耐衝撃性の優れた樹脂によつて形成
されることが望ましい。たとえば紫外線硬化樹脂
をスピンコート法により塗布し、紫外線を照射し
て硬化させることにより形成する。また、ウレタ
ン等の弾性材で形成してもよい。 It is desirable that the protective layer 4 be formed of a resin with excellent impact resistance. For example, it is formed by applying an ultraviolet curable resin using a spin coating method and curing it by irradiating it with ultraviolet rays. Alternatively, it may be formed of an elastic material such as urethane.
本発明による光情報記録媒体は、光吸収層2に
レーザ光を照射することにより、光吸収層2にピ
ツトを形成するものに限られない。例えば、光吸
収層より反射層側にある層を基板1側にある層に
比べて熱変形し難い層で形成した場合、レーザ光
より引き起こされた光吸収層2のエネルギーは基
板1側の層に与えられ、その結果、基板1側の層
に凸状、波状もしくは凹状のピツトが形成され
る。 The optical information recording medium according to the present invention is not limited to one in which pits are formed in the light absorption layer 2 by irradiating the light absorption layer 2 with laser light. For example, if a layer closer to the reflective layer than the light absorbing layer is formed with a layer that is less susceptible to thermal deformation than a layer closer to the substrate 1, the energy of the light absorbing layer 2 caused by the laser beam will be transferred to the layer closer to the substrate 1. As a result, convex, wavy or concave pits are formed in the layer on the substrate 1 side.
本実施例の場合においては、第3図と第5図に
模式的に示すように、記録後の光デイスクの上記
基板1の光吸収層2と接する表面部分に、吸収層
側に突出したピツト5が確認でき、このようにし
て形成されたピツト5の再生波形は、CDのそれ
と同様のものであることがわかつている。 In the case of this embodiment, as schematically shown in FIGS. 3 and 5, pits protruding toward the absorption layer are formed on the surface of the optical disc after recording, which is in contact with the light absorption layer 2 of the substrate 1. 5 can be confirmed, and it is known that the reproduced waveform of the pit 5 thus formed is similar to that of a CD.
記録信号の再生は、基板側から読取りレーザを
照射することにより、ピツト部分の反射光とピツ
ト以外の部分の反射光の光学的位相差を読み取る
ことにより行われる。 Reproduction of the recorded signal is performed by irradiating a reading laser from the substrate side and reading the optical phase difference between the reflected light from the pit portion and the reflected light from the portion other than the pit.
この構成の具体的実施例について、以下に説明
する。 A specific example of this configuration will be described below.
実施例 1
幅0.8μm、深0.08μm、ピツチ1.6μmのスパイラ
ル状のプリグループが形成された厚さ1.2mm、外
径120mmφ、内径16mmφのポリカーボネート基板
1を射出成形法により成形した。Example 1 A polycarbonate substrate 1 having a thickness of 1.2 mm, an outer diameter of 120 mmφ, and an inner diameter of 16 mmφ on which a spiral pre-group with a width of 0.8 μm, a depth of 0.08 μm, and a pitch of 1.6 μm was formed was molded by injection molding.
光吸収層を形成するための有機色素として、
0.65gの1,1′ジブチル3,3,3′,3′テトラメチ
ル4,5,4′,5′ジベンゾインドジカーボシアニ
ンパークロレート(日本感光色素(株)製、品番
NK3219)を、ジアセトンアルコール溶剤10c.c.に
溶解し、これを上記の基板1の上にスピンコート
法により塗布し、膜厚0.13μmの色素膜からなる
光吸収層2を形成した。この光吸収層2の複素屈
折率は、nabs=2.7,kabs=0.05である。後述す
るように、再生光の半導体レーザの波長λ=
780nmであり、ρ=nabs・dabs/λ=0.45であ
る。 As an organic dye to form a light absorption layer,
0.65g of 1,1'dibutyl 3,3,3',3'tetramethyl 4,5,4',5'dibenzoindodicarbocyanine perchlorate (manufactured by Nippon Kanko Shiki Co., Ltd., product number
NK3219) was dissolved in 10 c.c. of diacetone alcohol solvent, and this was applied onto the above substrate 1 by spin coating to form a light absorption layer 2 consisting of a dye film with a thickness of 0.13 μm. The complex refractive index of this light absorption layer 2 is nabs=2.7 and kabs=0.05. As described later, the wavelength λ of the semiconductor laser of the reproduction light is
The wavelength is 780 nm, and ρ=nabs·dabs/λ=0.45.
このデイスクの全面にスパツタリング法によ
り、膜厚600オングストロームのAu膜を成膜し、
反射層3を形成した。この反射層3の複素屈折率
はnref=0.16,kref=4.67である。さらに、この
反射層3の上に紫外線硬化性樹脂をスピンコート
し、これに紫外線を照射して硬化させ、厚み
10μmの保護層4を形成した。 An Au film with a thickness of 600 angstroms was formed on the entire surface of this disk by sputtering method.
A reflective layer 3 was formed. The complex refractive index of this reflective layer 3 is nref=0.16 and kref=4.67. Furthermore, an ultraviolet curable resin is spin-coated on this reflective layer 3, and is cured by irradiating ultraviolet rays to increase the thickness.
A protective layer 4 of 10 μm was formed.
こうして得られた光デイスクに、波長780nmの
半導体レーザを線速1.2m/sec、記録パワー
6.0mWで照射し、EFM信号を記録した。そして、
この光デイスクを、市販のCDプレーヤ(Aurex
XR−V73、再生光の波長λ=780nm)で再生し
た。この光デイスクの反射率が72%、I11/Itop
が0.65,I3/Itopが0.35であつた。 A semiconductor laser with a wavelength of 780 nm was applied to the optical disk obtained in this way at a linear velocity of 1.2 m/sec and a recording power.
It was irradiated with 6.0 mW and the EFM signal was recorded. and,
Insert this optical disc into a commercially available CD player (Aurex
Reproduction was performed using XR-V73 (reproduction light wavelength λ = 780 nm). The reflectance of this optical disc is 72%, I11/Itop
was 0.65, and I3/Itop was 0.35.
CD規格では、反射率が70%以上、I11/Itopが
0.6以上、I3/Itopが0.3〜0.7と定められており、
この実施例よる光デイスクは、この規格を満足し
ている。 The CD standard requires a reflectance of 70% or more and an I11/Itop of
0.6 or more, I3/Itop is defined as 0.3 to 0.7,
The optical disk according to this embodiment satisfies this standard.
実施例 2
上記実施例1と同様に成形されたポリカーボネ
ート基板1に、光吸収層を形成するための有機色
素として、0.5gの1,1′ジエチル3,3,3′,
3′テトラメチル5,5′ジエトキシインドジカーボ
シアニンアイオダイドを、イソプロピルアルコー
ル溶剤10c.c.に溶解したものをスピンコート法によ
り塗布し、膜0.10μmの色素膜からなる光吸収層
2を形成した。この光吸収層2の複素屈折率は、
nabs=2.65,kabs=0.05であり、ρ=nabs・
dabs/λ=0.34である。Example 2 0.5g of 1,1'diethyl 3,3,3',
A solution of 3'tetramethyl 5,5'diethoxyindodicarbocyanine iodide in 10 c.c. of isopropyl alcohol solvent is applied by spin coating to form a light absorption layer 2 consisting of a dye film with a thickness of 0.10 μm. Formed. The complex refractive index of this light absorption layer 2 is
nabs=2.65, kabs=0.05, and ρ=nabs・
dabs/λ=0.34.
このデイスクの全面にスパツタリング法によ
り、膜厚500オングストロームのCu膜を成膜し、
反射層3を形成した。この反射層3の複素屈折率
はnref=0.12,kref=4.89である。さらに、この
反射層3の上に紫外線硬化性樹脂をスピンコート
し、これに紫外線を照射して硬化させ、厚み
10μmの保護層を形成した。 A Cu film with a thickness of 500 angstroms was formed on the entire surface of this disk by sputtering method.
A reflective layer 3 was formed. The complex refractive index of this reflective layer 3 is nref=0.12 and kref=4.89. Furthermore, an ultraviolet curable resin is spin-coated on this reflective layer 3, and is cured by irradiating ultraviolet rays to increase the thickness.
A protective layer of 10 μm was formed.
こうして得られた光デイスクに、波長780nmの
半導体レーザを線速1.2m/sec、記録パワー
6.0mWで照射し、EFM信号を記録した。そして、
この光デイスクを、上記実施例1で用いたのと同
じCDプレーヤで再生した。この結果、光デイス
クの反射率が71%、I11/Itopが0.63,I3/Itopが
0.33であつた。従つて、この実施例による光デイ
スクも、上記実施例と同様に、CD規格を満足し
ている。 A semiconductor laser with a wavelength of 780 nm was applied to the optical disk obtained in this way at a linear velocity of 1.2 m/sec and a recording power.
It was irradiated with 6.0 mW and the EFM signal was recorded. and,
This optical disc was played on the same CD player used in Example 1 above. As a result, the reflectance of the optical disk was 71%, I11/Itop was 0.63, and I3/Itop was
It was 0.33. Therefore, the optical disc according to this embodiment also satisfies the CD standard like the above embodiment.
実施例 3
上記実施例1と同様に成形されたポリカーボネ
ート基板1に、膜厚900オングストロームの
GaAs膜をスパツタリング法により成膜し、光吸
収層2を形成した。この光吸収層2の複素屈折率
は、nabs=3.6,kabs=0.07であり、ρ=nabs・
dabs/λ=0.42である。Example 3 A film with a thickness of 900 angstroms was applied to a polycarbonate substrate 1 molded in the same manner as in Example 1 above.
A GaAs film was formed by a sputtering method to form a light absorption layer 2. The complex refractive index of this light absorption layer 2 is nabs=3.6, kabs=0.07, and ρ=nabs・
dabs/λ=0.42.
このデイスクの全面にスパツタリング法によ
り、膜厚550オングストロームのAg膜を成膜し、
反射層3を形成した。この反射層3の複素屈折率
はnref=0.086,kref=5.29である。さらに、この
反射層3の上に紫外線硬化性樹脂をスピンコート
し、これに紫外線を照射して硬化させ、厚み
10μmの保護層を形成した。 An Ag film with a thickness of 550 angstroms was formed on the entire surface of this disk by sputtering method.
A reflective layer 3 was formed. The complex refractive index of this reflective layer 3 is nref=0.086 and kref=5.29. Furthermore, an ultraviolet curable resin is spin-coated on this reflective layer 3, and is cured by irradiating ultraviolet rays to increase the thickness.
A protective layer of 10 μm was formed.
こうして得られた光デイスクに、波長780nmの
半導体レーザを線速1.2m/sec、記録パワー
6.0mWで照射し、EFM信号を記録した。そして、
この光デイスクを、上記実施例1で用いたのと同
じCDプレーヤで再生した。この結果、光デイス
クの反射率が73%、I11/Itopが0.63,I3/Itopが
0.35であつた。従つて、この実施例による光デイ
スクも、上記実施例と同様に、CD規格を満足し
ている。 A semiconductor laser with a wavelength of 780 nm was applied to the optical disk obtained in this way at a linear velocity of 1.2 m/sec and a recording power.
It was irradiated with 6.0 mW and the EFM signal was recorded. and,
This optical disc was played on the same CD player used in Example 1 above. As a result, the reflectance of the optical disk was 73%, I11/Itop was 0.63, and I3/Itop was
It was 0.35. Therefore, the optical disc according to this embodiment also satisfies the CD standard like the above embodiment.
実施例 4
幅0.5μm、深さ0.15μm、ピツチ1.6μmのスパイ
ラル状のプリグループが形成された厚さ1.2mm、
外径120mmφ、内径15mmφのポリカーボネート基
板1を射成形法により成形した。Example 4 A 1.2 mm thick spiral pre-group with a width of 0.5 μm, a depth of 0.15 μm, and a pitch of 1.6 μm was formed.
A polycarbonate substrate 1 having an outer diameter of 120 mmφ and an inner diameter of 15 mmφ was molded by injection molding.
光吸収層を形成するための有機色素として、実
施例1と同じ色素0.050gとニトロセルロース
0.005gを、イソプロピルアルコール溶剤10c.c.に溶
解し、これを上記の基板1の上にスピンコート法
により塗布し、平均膜厚0.025μmの色素膜からな
る光吸収層2を形成した。この光吸収層2の複素
屈折率は、nabs=2.0,kabs=0.04である。再生
光の半導体レーザの波長λ=780nmであり、ρ=
nabs・dabs/λ=0.064である。 As an organic dye for forming a light absorption layer, 0.050 g of the same dye as in Example 1 and nitrocellulose were used.
0.005 g was dissolved in 10 c.c. of isopropyl alcohol solvent, and this was applied onto the above substrate 1 by spin coating to form a light absorption layer 2 consisting of a dye film with an average thickness of 0.025 μm. The complex refractive index of this light absorption layer 2 is nabs=2.0 and kabs=0.04. The wavelength of the semiconductor laser for reproduction light is λ = 780 nm, and ρ =
nabs・dabs/λ=0.064.
このデイスクの全面に蒸着法により、膜厚500
オングストロームのAu膜を成膜し、反射層3を
形成した。この反射層3の複素屈折率はnref=
0.16,kref=4.67である。さらに、この反射層3
の上に紫外線硬化性樹脂をスピンコートし、これ
に紫外線を照射して硬化させ、厚み10μmの保護
層4を形成した。 A film with a thickness of 500 mm is coated on the entire surface of this disk using a vapor deposition method.
A reflective layer 3 was formed by depositing an angstrom-thick Au film. The complex refractive index of this reflective layer 3 is nref=
0.16, kref=4.67. Furthermore, this reflective layer 3
An ultraviolet curable resin was spin-coated on top of the resin and cured by irradiating ultraviolet rays to form a protective layer 4 with a thickness of 10 μm.
こうして得られた光デイスクに、実施例1と同
様に波長780nmの半導体レーザによつて、EFM
信号を記録し、市販のCDプレーヤで再生した。
この光デイスクの反射率は82%、I11/Itopが
0.60,I3/Itopが0.31であり、この実施例による
光デイスクは、CD規格を満足している。 EFM was applied to the thus obtained optical disk using a semiconductor laser with a wavelength of 780 nm as in Example 1.
The signal was recorded and played back on a commercially available CD player.
The reflectance of this optical disc is 82%, and I11/Itop is
0.60, I3/Itop is 0.31, and the optical disc according to this embodiment satisfies the CD standard.
実施例 5
上記実施例1と同様に成形されたポリカーボネ
ート基板1に光吸収層を形成するための有機色素
として、1,1′ジブチル3,3,3′,3′テトラメ
チル5,6,5′,6′テトラメトキシインドジカー
ボシアニンパークロレート0.050gとニトロセルロ
ース0.005gを、ジアセトンアルコール溶剤10c.c.に
溶解し、これを上記の基板1の上にスピンコート
法により塗布し、膜厚0.020μmの色素膜からなる
光吸収層2を形成した。この光吸収層2の複素屈
折率は、nabs=2.0,kabs=0.29であり、再生光
の半導体レーザの波長λ=780nmであり、ρ=
nabs・dabs/λ=0.051である。Example 5 1,1′ dibutyl 3,3,3′,3′ tetramethyl 5,6,5 0.050 g of ′,6′ tetramethoxy indodicarbocyanine perchlorate and 0.005 g of nitrocellulose were dissolved in 10 c.c. of diacetone alcohol solvent, and this was applied onto the above substrate 1 by spin coating to form a film. A light absorption layer 2 made of a dye film with a thickness of 0.020 μm was formed. The complex refractive index of this light absorption layer 2 is nabs = 2.0, kabs = 0.29, the wavelength of the semiconductor laser of the reproduction light is λ = 780 nm, and ρ =
nabs・dabs/λ=0.051.
このデイスクの全面に蒸着法により、膜厚500
オングストロームのAu膜を成膜し、反射層3を
形成し、さらに、この反射層3の上に紫外線硬化
性樹脂をスピンコートし、これに紫外線を照射し
て硬化させ、厚み10μmの保護層4を形成した。 A film with a thickness of 500 mm is coated on the entire surface of this disk using a vapor deposition method.
A reflective layer 3 is formed by depositing an angstrom-thick Au film, and then an ultraviolet curable resin is spin-coated on the reflective layer 3 and cured by irradiating ultraviolet rays to form a protective layer 4 with a thickness of 10 μm. was formed.
こうして得られた光デイスクに、実施例1と同
様に波長780nmの半導体レーザによつて、EFM
信号を記録し、市販のCDプレーヤで再生した。
この光デイスクの反射率は70%、I11/Itopが
0.61,I3/Itopが0.30であり、この実施例による
光デイスクは、CD規格を満足している。 EFM was applied to the thus obtained optical disk using a semiconductor laser with a wavelength of 780 nm as in Example 1.
The signal was recorded and played back on a commercially available CD player.
The reflectance of this optical disc is 70%, and I11/Itop is
0.61, I3/Itop is 0.30, and the optical disc according to this embodiment satisfies the CD standard.
実施例 6
直径46〜100mmφの範囲(ROM領域10)に、
幅0.6μm、深さ0,10μm、ピツチ1.6μmのスパイ
ラル状のCDフオーマツト信号が再生できるプレ
ピツト8が成形され、その外の直径100〜117mmφ
の範囲(記録可能領域11)に、幅0.7μm、深さ
0.07μm、ピツチ1.6μmのスパイラル状のプリグル
ープが形成された厚さ1.2mm、外径120mmφ、内径
15mmφのポリカーボネート基板1を射出成形法に
より成形した。Example 6 In the range of diameter 46 to 100 mmφ (ROM area 10),
A pre-pit 8 is molded that can reproduce a spiral CD format signal with a width of 0.6 μm, a depth of 0.10 μm, and a pitch of 1.6 μm, and the outer diameter is 100 to 117 mmφ.
(recordable area 11), width 0.7μm, depth
0.07μm, pitch 1.6μm spiral pre-group formed, thickness 1.2mm, outer diameter 120mmφ, inner diameter
A polycarbonate substrate 1 with a diameter of 15 mm was molded by injection molding.
光吸収層を形成するための有機色素として、実
施例1と同じ色素0.8gを、アセチルアセトン溶剤
10c.c.に溶解し、これを上記の基板1の直径100mm
φより外周側の部分、つまり記録可能領域11の
上にのみスピンコー法により塗布し、膜厚
0.17μmの色素膜からなる光吸収層2を形成した。
この光吸収層2の複素屈折率は、nabs=2.7,
kabs=0.05である。再生光の半導体レーザの波長
λ=780nmであり、ρ=nabs・dabs/λ=0.59で
ある。 As an organic dye for forming a light absorption layer, 0.8 g of the same dye as in Example 1 was added to an acetylacetone solvent.
10c.c. and apply this to the above substrate 1 with a diameter of 100mm.
Coating is performed only on the outer peripheral side of φ, that is, on the recordable area 11, by the spin coat method, and the film thickness is
A light absorption layer 2 consisting of a 0.17 μm dye film was formed.
The complex refractive index of this light absorption layer 2 is nabs=2.7,
kabs=0.05. The wavelength of the semiconductor laser for reproduction light is 780 nm, and ρ=nabs·dabs/λ=0.59.
このデイスクの全面に蒸着法により、膜厚500
オングストロームのAu膜を成膜し、反射層3を
形成し、さらに、この反射層3の上に紫外線硬化
性樹脂をスピンコートし、これに紫外線を照射し
て硬化させ、厚み10μmの保護層4を形成した。 A film with a thickness of 500 mm is coated on the entire surface of this disk using a vapor deposition method.
A reflective layer 3 is formed by depositing an angstrom-thick Au film, and then an ultraviolet curable resin is spin-coated on the reflective layer 3 and cured by irradiating ultraviolet rays to form a protective layer 4 with a thickness of 10 μm. was formed.
こうして得られた光デイスクの上記記録可能領
域に、実施例1と同様に波長780nmの半導体レー
ザによつて、EFM信号を記録し、ROM領域及び
記録可能領域について市販のCDプレーヤで再生
した。この光デイスクの記録可能領域の反射率は
70%、I11/Itopが0.62,I3/Itopが0.32であり、
ROM領域の反射率が90%、I11/Itopが0.80,
I3/Itopが0.50であつた。従つて、この実施例に
よる光デイスクは、上記ROM領域及び記録可能
領域の何れもがCD規格を満足している。 As in Example 1, an EFM signal was recorded in the recordable area of the optical disc thus obtained using a semiconductor laser with a wavelength of 780 nm, and the ROM area and the recordable area were reproduced with a commercially available CD player. The reflectance of the recordable area of this optical disc is
70%, I11/Itop is 0.62, I3/Itop is 0.32,
Reflectance of ROM area is 90%, I11/Itop is 0.80,
I3/Itop was 0.50. Therefore, in the optical disc according to this embodiment, both the ROM area and the recordable area satisfy the CD standard.
実施例 7
直径46〜100mmφの範囲(ROM領域10)に、
幅0.6μm、深さ0.10μm、ピツチ1.6μmのスパイラ
ル状のCDフオーマツト信号が再生できるプレピ
ツト8が形成され、その外側の直径100〜117mmφ
の範囲(記録可能領域11)に、幅0.5μm、深さ
0.18μm、ピツチ1.6μmのスパイラルプリグループ
が形成された厚さ1.2mm、外径120mmφ、内径15mm
φのポリカーボネート基板1を射出成形法により
成形した。Example 7 In the range of diameter 46 to 100 mmφ (ROM area 10),
A pre-pit 8 is formed that can reproduce a spiral CD format signal with a width of 0.6 μm, a depth of 0.10 μm, and a pitch of 1.6 μm, and its outer diameter is 100 to 117 mmφ.
(recordable area 11), width 0.5μm, depth
Thickness 1.2mm, outer diameter 120mmφ, inner diameter 15mm with spiral pre-loop of 0.18μm and pitch 1.6μm formed.
A polycarbonate substrate 1 having a diameter of φ was molded by injection molding.
光吸収層を形成するための有機色素として、
1,1′ジエチル3,3,3′,3′テトラメチル5,
7,5′,7′テトラメトキシインドジカーボシアニ
ンパークロレート0.55gを、ジアセトンアルコー
ル溶剤10c.c.に溶解し、これを上記の基板1の直径
100mmφより外周側の部分、つまり記録可能領域
11の上にのみスピンコート法により塗布し、平
均膜厚120nmの色素膜からなる光吸収層2を形成
した。この光吸収層2の複素屈折率は、nabs=
2.9,kabs=0.20である。再生光の半導体レーザ
の波長λ=780nmであり、ρ=nabs・dabs/λ
=0.45である。 As an organic dye to form a light absorption layer,
1,1'diethyl3,3,3',3'tetramethyl5,
Dissolve 0.55 g of 7,5',7' tetramethoxy indodicarbocyanine perchlorate in 10 c.c. of diacetone alcohol solvent, and add this to the diameter of substrate 1 above.
The light absorbing layer 2 made of a dye film with an average thickness of 120 nm was formed by applying it by spin coating only on the portion on the outer peripheral side of 100 mmφ, that is, on the recordable area 11. The complex refractive index of this light absorption layer 2 is nabs=
2.9, kabs=0.20. The wavelength of the semiconductor laser for reproduction light is λ = 780 nm, and ρ = nabs・dabs/λ
=0.45.
このデイスクの全面に蒸着法により、膜厚500
オングストロームのAu膜を成膜し、反射層3を
形成し、さらに、この反射層3の上に紫外線硬化
性樹脂をスピンコートし、これに紫外線を照射し
て硬化させ、厚み10μmの保護層4を形成した。 A film with a thickness of 500 mm is coated on the entire surface of this disk using a vapor deposition method.
A reflective layer 3 is formed by depositing an angstrom-thick Au film, and then an ultraviolet curable resin is spin-coated on the reflective layer 3 and cured by irradiating ultraviolet rays to form a protective layer 4 with a thickness of 10 μm. was formed.
こうして得られた光デイスクの上記記録可能領
域に、実施例1と同様に波長780nmの半導体レー
ザによつて、EFM信号を記録し、ROM領域及び
記録可能領域について市販のCDプレヤーで再生
した。この光デイスクの記録可能領域の反射率は
70%、I11/Itopが0.70,I3/Itopが0.40であり、
ROM領域は反射率、I11/Itop、I3/Itopは上記
実施例6と同様であつた。従つて、この実施例に
よる光デイスクは、上記ROM領域及び記録可能
領域の何れもがCD規格を満足している。 An EFM signal was recorded on the above-mentioned recordable area of the thus obtained optical disc using a semiconductor laser having a wavelength of 780 nm as in Example 1, and the ROM area and the recordable area were reproduced using a commercially available CD player. The reflectance of the recordable area of this optical disc is
70%, I11/Itop is 0.70, I3/Itop is 0.40,
The reflectance of the ROM area, I11/Itop, and I3/Itop were the same as in Example 6 above. Therefore, in the optical disc according to this embodiment, both the ROM area and the recordable area satisfy the CD standard.
比較例 1
上記実施例1と同様に成形されたポリカーボネ
ート基板1に、同実施例と同じ有機色素0.065g
を、イソプロピルアルコール溶剤10c.c.に溶解した
ものをスピンコート法により塗布し、膜厚
0.01μmの色素膜からなる光吸収層2を形成した。
この光デイスクにおけるρは、nabs・dabs/λ
=0.035である。Comparative Example 1 0.065 g of the same organic dye as in Example 1 was added to polycarbonate substrate 1 molded in the same manner as in Example 1 above.
was dissolved in 10 c.c. of isopropyl alcohol solvent and applied by spin coating.
A light absorption layer 2 consisting of a 0.01 μm dye film was formed.
ρ in this optical disk is nabs・dabs/λ
=0.035.
このデイスクの全面にスパツタリング法によ
り、膜厚600オングストロームのAl膜を成膜し、
反射層3を形成した。この反射層3の複素屈折率
はnref=1.87,kref=7.0である。さらに、この反
射層3の上に紫外線硬化性樹脂をスピンコート
し、これに紫外線を照射して硬化させ、厚み
10μmの保護層を形成した。 An Al film with a thickness of 600 angstroms was formed on the entire surface of this disk by sputtering method.
A reflective layer 3 was formed. The complex refractive index of this reflective layer 3 is nref=1.87 and kref=7.0. Furthermore, an ultraviolet curable resin is spin-coated on this reflective layer 3, and is cured by irradiating it with ultraviolet rays to increase the thickness.
A protective layer of 10 μm was formed.
こうして得られた光デイスクに、波長780nmの
半導体レーザを線速1.2m/secで照射し、EFM信
号の記録を試みたが、記録パワー10mWをもつて
しても十分な記録が行えなかつた。そして、この
光デイスクを、上記実施例1で用いたのと同じ
CDプレーヤで再生した。この結果、光デイスク
の反射率が70%であるが、I11/Itopが0.20,I3/
Itopが0.08であつた。すなわち、kabsが0.3以下
であつたとしても、ρが0.05よりも小さい場合に
は、反射率は70%を確保できる場合はあるが、変
調度がとれなくなり、CD規格を満足することが
できないことがわかる。 An attempt was made to record an EFM signal on the optical disc thus obtained by irradiating a semiconductor laser with a wavelength of 780 nm at a linear velocity of 1.2 m/sec, but sufficient recording was not possible even with a recording power of 10 mW. Then, this optical disk was used in the same way as that used in Example 1 above.
Played on a CD player. As a result, the reflectance of the optical disk is 70%, but I11/Itop is 0.20 and I3/Itop is 0.20.
Itop was 0.08. In other words, even if kabs is 0.3 or less, if ρ is less than 0.05, it may be possible to secure a reflectance of 70%, but the modulation depth will not be adequate and the CD standard will not be satisfied. I understand.
比較例 2
上記実施例1と同様に成形されたポリカーボネ
ート基板1に、同実施例と同じ有機色素1.3gを、
イソプロピルアルコール溶剤10c.c.に溶解したもの
をスピンコート法により塗布し、膜厚0.26μmの
色素膜からなる光吸収層2を形成した。この光デ
イスクでは、ρ=nabs・dahs/λ=0.90である。Comparative Example 2 1.3 g of the same organic dye as in Example 1 was added to a polycarbonate substrate 1 molded in the same manner as in Example 1 above.
A solution dissolved in 10 c.c. of isopropyl alcohol solvent was applied by spin coating to form a light absorption layer 2 consisting of a dye film with a thickness of 0.26 μm. In this optical disc, ρ=nabs·dahs/λ=0.90.
このデイスクの全面にスパツタリング法によ
り、膜厚600オングストロームのAu膜を成膜し、
反射層3を形成した。さらに、この反射層3の上
に紫外線硬化性樹脂をスピンコートし、これに紫
外線を照射して硬化させ、厚み10μmの保護層を
形成した。 An Au film with a thickness of 600 angstroms was formed on the entire surface of this disk by sputtering method.
A reflective layer 3 was formed. Further, an ultraviolet curable resin was spin-coated on this reflective layer 3, and was cured by irradiating ultraviolet rays to form a protective layer with a thickness of 10 μm.
こうして得られた光デイスクに、波長780nmの
半導体レーザを線速1.2m/sec、記録パワー
6.0mVで照射し、EFM信号を記録した。そして、
この光デイスクを、上記実施例1で使用したのと
同じCDプレーヤで再生した。この結果、光デイ
スクの反射率は62%、I11/Itopは0.60,I3/Itop
は0.30であり、再生信号のアイパターンが明瞭で
なく、エヤー発生が多く見られた。この結果か
ら、kabsが0.3以下であつたとしても、ρが0.6よ
りも大きい場合には、反射率が低くなり、CD規
格を満足することができないことがわかる。 A semiconductor laser with a wavelength of 780 nm was applied to the optical disk obtained in this way at a linear velocity of 1.2 m/sec and a recording power.
It was irradiated at 6.0 mV and the EFM signal was recorded. and,
This optical disc was played on the same CD player used in Example 1 above. As a result, the reflectance of the optical disc is 62%, I11/Itop is 0.60, I3/Itop
was 0.30, the eye pattern of the reproduced signal was not clear, and a lot of air was observed. From this result, it can be seen that even if kabs is 0.3 or less, if ρ is larger than 0.6, the reflectance becomes low and the CD standard cannot be satisfied.
比較例 3
上記実施例1と同様に成形されたポリカーボネ
ート基板1に、光吸収層2を形成するための有機
色素として、0.58gの1,1′ジエチル3,3,3′,
3′テトラメチルインドトリカーボシアニンパーク
ロレート(日本感光色素(株)製、品番NK2885)
を、イソプロピルアルコール溶剤10c.c.に溶解した
ものをスピンコート法により塗布し、膜厚
0.12μmの色素膜からなる光吸収層2を形成した。
この光吸収層2の複素屈折率は、nabs=2.7,
kabs=1.6であり、ρ=nabs・dabs/λ=0.42で
ある。Comparative Example 3 0.58 g of 1,1' diethyl 3,3,3',
3'Tetramethylindotricarbocyanine perchlorate (manufactured by Nippon Kanko Shiki Co., Ltd., product number NK2885)
was dissolved in 10 c.c. of isopropyl alcohol solvent and applied by spin coating.
A light absorption layer 2 consisting of a 0.12 μm dye film was formed.
The complex refractive index of this light absorption layer 2 is nabs=2.7,
kabs=1.6, and ρ=nabs·dabs/λ=0.42.
このデイスクの全面にスパツタリング法によ
り、膜厚600オングストロームのAg膜を成膜し、
反射層3を形成した。さらに、この反射層3の上
に紫外線硬化性樹脂をスピンコートし、これに紫
外線を照射して硬化させ、厚み10μmの保護層を
形成した。 An Ag film with a thickness of 600 angstroms was formed on the entire surface of this disk by sputtering method.
A reflective layer 3 was formed. Further, an ultraviolet curable resin was spin-coated on this reflective layer 3, and was cured by irradiating ultraviolet rays to form a protective layer with a thickness of 10 μm.
こうして得られた光デイスクに、波長780nmの
半導体レーザを線速1.2m/sec、記録パワー
6.0mWで照射し、EFM信号を記録した。そして、
この光デイスクを、上記実施例1で用いたのと同
じCDプレーヤで再生したところ、反射率は僅か
10%であり、再生することができなかつた。この
ように、ρが0.05以上0.6以下の範囲内であつた
としても、kabsが0.3よりも大きい場合、反射率
が非常に低くなつてしまい、CD規格を満足する
ことができないことがわかる。 A semiconductor laser with a wavelength of 780 nm was applied to the optical disk obtained in this way at a linear velocity of 1.2 m/sec and a recording power.
It was irradiated with 6.0 mW and the EFM signal was recorded. and,
When this optical disc was played on the same CD player used in Example 1 above, the reflectance was very small.
10% and could not be played. As described above, even if ρ is within the range of 0.05 to 0.6, if kabs is larger than 0.3, the reflectance becomes extremely low and the CD standard cannot be satisfied.
以上説明した通り、本発明による光情報記録媒
体によれば、CD規格に準拠した、反射率が70%
以上、かつ、変調度として示される。I11/Itop
が0.6以上、I3/Itopが0.3〜0.7という出力信号を
得ることができる。
As explained above, according to the optical information recording medium according to the present invention, the reflectance is 70% in accordance with the CD standard.
The above is also expressed as the modulation degree. I11/Itop
It is possible to obtain an output signal with I3/Itop of 0.6 or more and I3/Itop of 0.3 to 0.7.
第1図は、光情報記録媒体の構造の一例を示す
模式半断面斜視図、第2図は、同光情報記録媒体
の要部断面図、第3図は、同光情報記録媒体の記
録後の要部断面図、第4図は、光情報記録媒体の
構造の他の例を示す模式半断面斜視図、第5図
は、同光情報記録媒体のA部断面図、第6図は、
同光情報記録媒体の記録後のB部断面図、第7図
は、光情報記録媒体の光吸収層におけるρ=
nabs・dabs/λと反射率との関係の例を示すグ
ラフ、第8図は、上記複素屈折率の虚部kabsと
反射率との関係を示すグラフ、第9図は、ρ=
nabs・dabs/λとkabsにおいてCD規格を満たす
領域を示すグラフである。
1……基板、2……光吸収層、3……反射層、
4……保護層、10……ROM領域、11……記
録可能領域。
FIG. 1 is a schematic half-sectional perspective view showing an example of the structure of an optical information recording medium, FIG. 2 is a sectional view of a main part of the optical information recording medium, and FIG. 3 is a diagram showing the optical information recording medium after recording. 4 is a schematic half-section perspective view showing another example of the structure of the optical information recording medium, FIG. 5 is a sectional view of section A of the same optical information recording medium, and FIG.
FIG. 7, a cross-sectional view of part B after recording of the optical information recording medium, shows that ρ=
A graph showing an example of the relationship between nabs・dabs/λ and reflectance, FIG. 8 is a graph showing the relationship between the imaginary part kabs of the complex refractive index and reflectance, and FIG. 9 is a graph showing an example of the relationship between ρ=
It is a graph showing the area that satisfies the CD standard in nabs/dabs/λ and kabs. 1...Substrate, 2...Light absorption layer, 3...Reflection layer,
4...protective layer, 10...ROM area, 11...recordable area.
Claims (1)
層、反射層が順次形成された光情報記録媒体にお
いて、光吸収層の複素屈折率の実数部nabsと膜
厚dabsと再生光の波長λとで与えられるρ=
nabs・dabs/λが、0.05≦ρ≦0.6であり、かつ
光吸収層の複素屈折率の虚部kabsが0.3以下であ
ることを特徴とする光情報記録媒体。 2 上記特許請求の範囲第1項において、上記光
吸収層が透光性基板上の一部の領域に形成され、
同光吸収層の無い領域に予め信号再生用のピツト
が形成されたROM領域を有する光情報記録媒
体。 3 透光性を有する基板上に少なくとも光吸収
層、反射層が順次形成された光情報記録媒体に情
報を記録する方法において、光吸収層の複素屈折
率の実数部nabsと膜厚dabsと再生光の波長λと
で与えられるρ=nabs・dabs/λが、0.05≦ρ≦
0.6であり、かつ光吸収層の複素屈折率の虚部
kabsが0.3以下である光情報記録媒体を用い、該
透光性基板側からレーザ光をレーザ吸収層に照射
し、ピツトを形成することを特徴とする光情報記
録方法。[Claims] 1. In an optical information recording medium in which at least a light absorption layer and a reflection layer are sequentially formed on a light-transmitting substrate, the real part nabs of the complex refractive index of the light absorption layer, the film thickness dabs, and reproduction ρ= given by wavelength λ of light
An optical information recording medium characterized in that nabs·dabs/λ satisfies 0.05≦ρ≦0.6, and the imaginary part kabs of the complex refractive index of the light absorption layer is 0.3 or less. 2. In claim 1, the light-absorbing layer is formed in a part of the transparent substrate,
An optical information recording medium having a ROM area in which pits for signal reproduction are formed in advance in an area without a light absorption layer. 3. In a method for recording information on an optical information recording medium in which at least a light absorption layer and a reflection layer are sequentially formed on a light-transmitting substrate, the real part nabs of the complex refractive index of the light absorption layer, the film thickness dabs, and the reproduction ρ=nabs・dabs/λ given by the wavelength λ of light is 0.05≦ρ≦
0.6, and the imaginary part of the complex refractive index of the light absorption layer
1. An optical information recording method using an optical information recording medium having a kabs of 0.3 or less, which comprises irradiating a laser absorption layer with laser light from the transparent substrate side to form pits.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19171488 | 1988-07-30 | ||
JP63-191714 | 1988-07-30 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7047756A Division JP2866022B2 (en) | 1995-02-13 | 1995-02-13 | Optical information recording medium and reproducing method thereof |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02132656A JPH02132656A (en) | 1990-05-22 |
JPH0375942B2 true JPH0375942B2 (en) | 1991-12-03 |
Family
ID=16279256
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1196318A Granted JPH02132656A (en) | 1988-07-30 | 1989-07-28 | Optical information recording medium and optical information recording method using it |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02132656A (en) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2858013B2 (en) * | 1989-08-03 | 1999-02-17 | ティーディーケイ株式会社 | Optical recording method |
US5204852A (en) * | 1990-02-17 | 1993-04-20 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Optical disc-like recoding medium and manufacturing method thereof |
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