JP2834420B2 - Optical information recording medium - Google Patents

Optical information recording medium

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JP2834420B2
JP2834420B2 JP7047753A JP4775395A JP2834420B2 JP 2834420 B2 JP2834420 B2 JP 2834420B2 JP 7047753 A JP7047753 A JP 7047753A JP 4775395 A JP4775395 A JP 4775395A JP 2834420 B2 JP2834420 B2 JP 2834420B2
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information recording
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optical information
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隆 石黒
有明 辛
恵美子 浜田
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、透明な基板上に少なく
とも光吸収層と反射層を有し、基板側から光吸収層に入
射したレーザ光により、光吸収層より基板側にある層に
光吸収層側に突出したピットを形成し、基板側から入射
させた読取り用レーザ光の前記ピットの部分とそれ以外
の部分の反射光の光学的位相差により記録された信号を
読み取る光情報記録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transparent substrate having at least a light-absorbing layer and a reflective layer, and a laser beam incident on the light-absorbing layer from the substrate side. Optical information recording for forming a pit protruding on the light absorbing layer side and reading a signal recorded by an optical phase difference between the pit portion of the reading laser beam incident from the substrate side and reflected light of the other portion. Regarding the medium.

【0002】[0002]

【従来の技術】レーザ光の照射により、データを記録す
ることができる、いわゆる書き込み可能な光情報記録媒
体は、Te、Bi、Mn等の金属層や、シアニン、メロ
シアニン、フタロシアニン等の色素層等からなる記録層
を有し、レーザ光の照射により、前記記録層を変形、昇
華、蒸発或は変性させる等の手段で、透孔状のピットを
形成し、データを記録する。この記録層を有する光情報
記録媒体では、ピットを形成する際の記録層の変形、昇
華、蒸発或は変性等を容易にするため、記録層の背後に
空隙を設けることが一般に行なわれている。具体的には
例えば、空間部を挟んで2枚の基板を積層する、いわゆ
るエアサンドイッチ構造と呼ばれる積層構造がとられ
る。
2. Description of the Related Art A so-called writable optical information recording medium on which data can be recorded by irradiating a laser beam is a metal layer of Te, Bi, Mn, etc., or a dye layer of cyanine, merocyanine, phthalocyanine, etc. The recording layer is formed by forming a through-hole pit and recording data by means such as deformation, sublimation, evaporation or denaturation of the recording layer by laser light irradiation. In an optical information recording medium having this recording layer, a gap is generally provided behind the recording layer to facilitate deformation, sublimation, evaporation or denaturation of the recording layer when forming pits. . Specifically, for example, a laminated structure called an air sandwich structure in which two substrates are laminated with a space portion interposed therebetween is employed.

【0003】このような孔明けピットを形成するタイプ
の光情報記録媒体は、光吸収材料の光を吸収する性質を
利用し、孔明けピット部分とそれ以外の部分とでの光の
透過率の違いにより生じる反射光量の差で再生コントラ
ストをとる。つまり、反射光を読みとるが、基本的には
透過形の光情報記録媒体と変わらず、再生コントラスト
をとるメカニズムが、いわば吸光形ともいうべき光情報
記録媒体である。
[0003] An optical information recording medium of the type in which such perforated pits are formed utilizes the light absorbing property of a light absorbing material, and the light transmittance of the perforated pit portion and other portions is reduced. The reproduction contrast is determined by the difference in the amount of reflected light caused by the difference. In other words, the optical information recording medium which reads reflected light is basically the same as a transmission type optical information recording medium, and the mechanism for obtaining reproduction contrast is an optical information recording medium which can be called an absorption type.

【0004】一方、予めデータが記録され、その後のデ
ータの書き込みや消去ができない、いわゆるROM型光
情報記録媒体が情報処理や音響部門で既に広く実用化さ
れている。この種の光情報記録媒体は、前記のような記
録層を持たず、記録データを再生するためのピットを予
めプレス等の手段でポリカーボネート製の基板の上に形
成し、この上にAu、Ag、Cu、Al等の金属膜から
なる反射層を形成し、さらにこの上を保護層で覆ったも
のである。
[0004] On the other hand, a so-called ROM type optical information recording medium in which data is recorded in advance and subsequent data cannot be written or erased has already been widely put into practical use in the information processing and acoustic departments. This type of optical information recording medium has no recording layer as described above, and pits for reproducing recorded data are previously formed on a polycarbonate substrate by means such as pressing, and Au, Ag is formed thereon. , A reflective layer made of a metal film such as Cu, Al or the like is formed, and the reflective layer is further covered with a protective layer.

【0005】このROM型光情報記録媒体で最も代表的
なものが音響部門や情報処理部門等で広く実用化されて
いるコンパクトディスク、いわゆるCDであり、このC
Dの記録、再生信号の仕様は、いわゆるCDフォーマッ
トとして規格化され、これに準拠する再生装置は、コン
パクトディスクプレーヤ(CDプレーヤ)として極めて
広く普及している。前記光情報記録媒体は、何れのもの
も中心に回転軸にクランプするための孔を有する円板状
形態、すなわち光ディスクの形態をとる。
[0005] The most typical of the ROM type optical information recording medium is a compact disk, so-called CD, which is widely put into practical use in the audio department and the information processing department.
The specification of the recording and reproduction signals of D is standardized as a so-called CD format, and a reproduction apparatus conforming to this is very widely used as a compact disk player (CD player). Each of the optical information recording media takes a disc-like form having a hole at the center for clamping to a rotation axis, that is, an optical disc form.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとしている課題】前記光情報記録媒
体は、やはりCDと同じ再生手段を使用するものである
ため、既に広く普及したCDに準拠することが強く望ま
れる。しかしながら、前記のような孔明けピットを形成
するタイプの光情報記録媒体では、吸収層が除去されな
かった部分、つまりピットでない部分での反射光の強度
は低レベルとなり、吸収層が除去された部分、つまりピ
ット部分での反射光の強度が高レベルとなる。従って、
その反射光を捉えた場合、いわゆる位相形であるCDと
は逆に、一面の吸光層により暗くなった背景の中に、開
孔による明るいピットが存在することになる。このた
め、反射率を高めれば再生コントラストが低くなり、再
生コントラストを高めようとすれば反射率が低くなると
いう結果を招く。それ故、高い反射率が求められるCD
規格のもとで、反射率と変調度の点で共に同規格をクリ
アすることはできなかった。
Since the optical information recording medium also uses the same reproducing means as a CD, it is strongly desired that the medium conforms to a CD which has already been widely used. However, in the optical information recording medium of the type in which the perforated pits are formed as described above, the intensity of the reflected light at the portion where the absorbing layer is not removed, that is, at the portion other than the pit, is low, and the absorbing layer is removed. The intensity of the reflected light at the portion, that is, at the pit portion, becomes a high level. Therefore,
When the reflected light is captured, bright pits due to apertures exist in the background darkened by the light absorbing layer on one side, contrary to the so-called phase type CD. Therefore, if the reflectance is increased, the reproduction contrast is lowered, and if the reproduction contrast is increased, the reflectance is lowered. Therefore, CDs requiring high reflectivity
Under the standard, it was not possible to meet both standards in terms of reflectance and degree of modulation.

【0007】他方、既に広く普及したCDは、記録デー
タを再生するためのピットを有するポリカーボネート製
の基板を、プレス等の手段で成形しなければならないた
め、大量出版向きのもので、コスト等の面から少量出版
には不向きである。本発明は、前記従来の問題点を解消
するためなされたもので、データの再生に際し、CD規
格に規定する範囲内のブロックエラーレートの出力信号
が得られ、しかも、プレス等の手段を用いず、簡便な手
段でピットを形成することができ、そのため少量出版に
適した光情報記録媒体を提供することを目的とする。
On the other hand, CDs that have already become widespread have to be formed by pressing a polycarbonate substrate having pits for reproducing recorded data by means such as pressing. It is not suitable for small publications. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems. In reproducing data, an output signal having a block error rate within a range specified by a CD standard can be obtained, and without using means such as a press. It is an object of the present invention to provide an optical information recording medium that can form pits by simple means and is suitable for small-volume publishing.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明による
光情報記録媒体は、透光性を有する基板1上に少なくと
も光吸収層2、反射層3が順次形成された光情報記録媒
体において、前記光吸収層2が色素膜からなり、基板1
吸収層2側へ突出したピット5が形成され、前記光吸
収層2に対して反射層3の背後側に、ピット5が形成さ
れた層より硬度の高い硬質層を有し、前記基板1側から
入射させた読取り用レーザ光の前記ピット5の部分とそ
れ以外の部分の反射光の光学的位相差により記録された
信号を読み取ることを特徴とするものである。
That is, an optical information recording medium according to the present invention is an optical information recording medium in which at least a light absorption layer 2 and a reflection layer 3 are sequentially formed on a light-transmitting substrate 1. The light absorbing layer 2 is made of a dye film, and the substrate 1
The absorbent layer pits 5 that protrudes to the 2 side is formed, behind side of the reflective layer 3 with respect to the light absorbing layer 2 has a high hard layer hardness than the layer in which pits 5 are formed, the substrate 1 A signal recorded is read by an optical phase difference between reflected light of the pit 5 of the reading laser light incident from the side and reflected light of the other portion.

【0009】さらに、前記硬質層のロックウェル硬度
は、ASTMD785においてM75以上であり、その
熱変形温度は、ASTM D648(4.6kg/cm
2 )において80℃以上であることを特徴とする。この
ような硬質層は、反射層3上に紫外線硬化性樹脂のスピ
ンコート膜により形成された保護層4をもって兼ねるこ
とができる。なお、前記のピット5は、通常基板1や光
吸収層2に隣接した変形しやすい層に形成される。
Further, the Rockwell hardness of the hard layer is M75 or more in ASTM D785, and its heat deformation temperature is ASTM D648 (4.6 kg / cm).
In 2), the temperature is 80 ° C. or higher. Such a hard layer can also serve as the protective layer 4 formed on the reflective layer 3 by a spin coat film of an ultraviolet curable resin. The pits 5 are usually formed in a layer which is easily deformed and is adjacent to the substrate 1 and the light absorbing layer 2.

【0010】[0010]

【作用】本発明による光情報記録媒体では、基板1に吸
収層2側へ突出したピット5が形成されているが、この
ようなピット5は、基板1側から光吸収層2にレーザス
ポットを当てることで、色素膜である光吸収層2がこの
レーザ光を吸収し、基板1の表面の変形を引き起こすこ
とで形成される。この場合、光吸収層2に対して反射層
3の背後側に、ピット5が形成された層より硬度の高い
硬質層を有するため、基板1側の変形作用が反射層3側
の層には及ばずに、基板1側にのみ、光吸収層2側に突
出した明瞭なピット5が形成されることになる。
The optical information recording medium according to the present invention, although the pits 5 which projects into the absorptive layer 2 side of the substrate 1 is formed, such pits 5, the laser spot from the substrate 1 side to the light absorbing layer 2 By applying the light, the light absorbing layer 2 as a dye film absorbs the laser light and is formed by causing the surface of the substrate 1 to deform. In this case, since a hard layer having a higher hardness than the layer in which the pits 5 are formed is provided on the back side of the reflection layer 3 with respect to the light absorption layer 2, the deformation effect on the substrate 1 side is reduced in the layer on the reflection layer 3 side. In this case, clear pits 5 protruding toward the light absorbing layer 2 are formed only on the substrate 1 side .

【0011】このようにして形成されたピット5は、基
板1側から入射させた読取り用レーザ光の反射光に光学
的位相差を生じさせる記録用のピットとなり、それは、
成形により形成された一般のCDのプレピットときわめ
て近いものである。そして、反射層3の背後側には変形
が起こりにくく、その変形を原因とする二次的な反射光
が生じないため、再生波形の歪がなく、ブロックエラー
レートを低く抑えることができる。従って、この光情報
記録媒体は市販のCDプレーヤで再生できる。
The pits 5 formed in this manner are recording pits that cause an optical phase difference in the reflected light of the reading laser light incident from the substrate 1 side.
It is very close to the pre-pit of a general CD formed by molding. Since deformation is unlikely to occur behind the reflective layer 3 and secondary reflected light does not occur due to the deformation, there is no distortion in the reproduced waveform, and the block error rate can be kept low. Therefore, this optical information recording medium can be reproduced by a commercially available CD player.

【0012】また、本発明による光情報記録媒体では、
後述するように、記録信号の再生コントラストは、透光
性基板1側から読取り用のレーザ光を照射したとき、ピ
ット5の部分とそれ以外の部分の光学的位相差により生
じる反射光量の差でとられる。このタイプの光情報記録
媒体では、ピット5の部分での反射光の強度が低レベル
となり、それ以外の部分での反射光の強度が高レベルと
なる。このため、反射率を高くする程再生コントラスト
を高くしやすくなり、反射率と変調度の点でCD規格を
同時にクリアしやすくなる。
Also, in the optical information recording medium according to the present invention,
As will be described later, the reproduction contrast of the recording signal is the difference in the amount of reflected light generated by the optical phase difference between the pit 5 and the other portions when the reading laser beam is irradiated from the transparent substrate 1 side. Be taken. In this type of optical information recording medium, the intensity of reflected light at the pit 5 is low, and the intensity of reflected light at other portions is high. Therefore, the higher the reflectance, the easier it is to increase the reproduction contrast, and the easier it is to simultaneously clear the CD standard in terms of the reflectance and the degree of modulation.

【0013】前記ピット5を形成するため、光吸収層2
にレーザスポットを当てたとき、同層に発生するエネル
ギは、熱エネルギを伴う。このため、硬質層6が熱変形
温度の高い層である場合も前記と同様にブロックエラー
レートを低く抑えるのに有効である。本発明者らは、実
験の結果、前記ピット5により、CD規格に準拠した再
生信号を得るためには、硬質層がロックウェル硬度AS
TMD785においてM75以上または、熱変形温度A
STM D648(4.6kg/cm2 )において80
℃以上である必要があることを見出だした。例えば、ポ
リカーボネート基板上に、シアニン色素系の光吸収層
2、Au蒸着膜からなる反射層3及び紫外線硬化性樹脂
のスピンコート膜を紫外線硬化させた硬質層を形成した
光情報記録媒体の場合の硬質層の硬度とブロックエラー
レートとの関係は、具体的には図9のように示される。
In order to form the pits 5, the light absorbing layer 2
When a laser spot is applied to the layer, the energy generated in the same layer accompanies thermal energy. Therefore, even when the hard layer 6 is a layer having a high heat deformation temperature, it is effective to suppress the block error rate to a low level as described above. As a result of the experiment, the present inventors found that the hard layer was formed by the Rockwell hardness AS in order to obtain a reproduced signal conforming to the CD standard using the pits 5.
M75 or more in TMD785 or thermal deformation temperature A
80 in STM D648 (4.6 kg / cm 2 )
It has been found that it is necessary to be higher than or equal to ° C. For example, in the case of an optical information recording medium in which a cyanine dye-based light absorbing layer 2, a reflective layer 3 made of an Au vapor-deposited film, and a hard layer obtained by UV-curing a UV-curable resin spin coat film are formed on a polycarbonate substrate. The relationship between the hardness of the hard layer and the block error rate is specifically shown in FIG.

【0014】さらに、熱変形温度ASTM D648
(4.6kg/cm2 )において80℃以上であると、
耐熱試験を行ったときの記録されたピット5の形状の保
存性が非常に高いことがわかった。図10のグラフは、
前記の光情報記録媒体の場合を例として、その温度70
℃、湿度25%RHの下でのブロックエラーレートの再
生時の経時変化を示したものである。このグラフからわ
かるように、熱変形温度が高ければ高いほどブロックエ
ラーレートの劣化が少ないことがわかる。
Further, heat deformation temperature ASTM D648
(4.6 kg / cm 2 ) at 80 ° C. or higher,
It was found that the preservability of the recorded shape of the pit 5 when the heat resistance test was performed was very high. The graph in FIG.
The temperature of the optical information recording medium is set to 70
This shows a change with time of reproduction of the block error rate at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 25% RH. As can be seen from this graph, the higher the heat deformation temperature, the less the block error rate deteriorates.

【0015】反射層3の背後に設けた硬質層は、前記の
ような紫外線硬化性樹脂のスピンコート膜が用えるの
で、光吸収層2や反射層3を外力や酸化等の化学的変化
から保護するため、反射層3の上に形成される保護層4
を硬質層とすることもできる。すなわち、本発明のよう
に、反射層3の上に前記の条件を満足する紫外線硬化性
樹脂のスピンコート膜からなる保護層4を形成すれば、
それを硬質層とすることができる。これにより、形態上
も一般のCDと同様の光情報記録媒体が得られることに
なる。
As the hard layer provided behind the reflective layer 3, the above-mentioned spin-cured film of an ultraviolet curable resin can be used, so that the light absorbing layer 2 and the reflective layer 3 are not subjected to chemical changes such as external force and oxidation. Protective layer 4 formed on reflective layer 3 for protection
May be a hard layer. That is, as in the present invention, if the protective layer 4 made of a spin-coated film of an ultraviolet curable resin satisfying the above conditions is formed on the reflective layer 3,
It can be a hard layer. As a result, an optical information recording medium similar in form to a general CD can be obtained.

【0016】[0016]

【0017】[0017]

【実施例】次に、図面を参照しながら、本発明の実施例
について具体的且つ詳細に説明する。本発明による光情
報記録媒体の模式的な構造の例を、図1〜図3及び図4
〜図6に示す。同図において、1は、透光性を有する基
板、2は、その上に形成された光吸収層である。また3
は、その上に形成された反射層、4は、その外側に設け
られた保護層を示す。さらに、5は、前記基板1側から
照射されたレーザ光を前記光吸収層2が吸収して発熱
し、溶融、蒸発、昇華、変形または変性することで、基
板1から光吸収層2側に突出するよう形成されたピット
である。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention; Examples of the schematic structure of the optical information recording medium according to the present invention are shown in FIGS.
6 to FIG. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a light-transmitting substrate, and reference numeral 2 denotes a light-absorbing layer formed thereon. 3
Denotes a reflective layer formed thereon, and 4 denotes a protective layer provided outside thereof. Further, 5 is that the laser beam emitted from the substrate 1 side is absorbed by the light absorption layer 2 to generate heat, and is melted, evaporated, sublimated, deformed or denatured, so that the laser light is emitted from the substrate 1 to the light absorption layer 2 side. These are pits formed to protrude.

【0018】図1〜図3で示した実施例は、保護層4が
硬質層を兼ねている場合である。これに対し、図4〜図
6で示した実施例は、反射層3の背後に硬質層6を配置
してある場合である。また、図1〜図3で示した実施例
では、光吸収層2が基板1のほぼ全面に形成されている
が、図4〜図6で示した実施例では、透光性基板1の外
周寄りの一部にのみ光吸収層2が形成され、ここが後記
録領域11となっており、それより内周側の部分に予記
録領域10が形成されている。後者のように、透光性基
板1上の一部の領域に前記光吸収層2が形成され、同光
吸収層2の無い領域に予め信号再生用のピットが形成さ
れた予記録領域を有する光情報記録媒体では、予記録領
域に予めプレス等でデータを記録しておくことができる
が、ここには光吸収層2が無いため、誤消去や別なデー
タの誤記録のおそれが無い。また、光吸収層2を有する
領域では、使用者独自のデータを任意に記録することが
できる。そして、この記録されたデータがCD規格に準
じた信号をもって再生できるため、前記予記録領域の情
報と同様に、全記録内容が市販のCDプレーヤで再生す
ることができる。
The embodiment shown in FIGS. 1 to 3 is a case where the protective layer 4 also serves as a hard layer. On the other hand, the embodiment shown in FIGS. 4 to 6 is a case where the hard layer 6 is arranged behind the reflective layer 3. Also, in the embodiment shown in FIGS. 1 to 3, the light absorbing layer 2 is formed on almost the entire surface of the substrate 1, but in the embodiment shown in FIGS. The light absorbing layer 2 is formed only on a part of the side, which is a post-recording area 11, and a pre-recording area 10 is formed on an inner peripheral side of the light absorbing layer 2. As in the latter, the translucent group
The light absorbing layer 2 is formed in a partial area on the plate 1,
A pit for signal reproduction is previously formed in an area where the absorption layer 2 is not provided.
In an optical information recording medium having a prerecorded area,
Data can be recorded in advance in the area by pressing etc.
However, since there is no light absorption layer 2 here, erroneous erasure or other data
There is no risk of incorrect recording of data. It also has a light absorbing layer 2
In the area, user-specific data can be arbitrarily recorded.
it can. Then, the recorded data conforms to the CD standard.
Since the signal can be reproduced with the same signal,
Information, all recorded content is played back on a commercially available CD player.
Can be

【0019】図2は、ピット5を形成する前の状態を、
図3と図6は、ピット5を形成した後の状態、すなわ
ち、光ピックアップ8からの記録用のレーザ光を照射す
ることで、その照射部分が凸状に変形され、ピット5が
形成された状態を模式的に示す。図7は、透光性基板1
の表面に形成されたトラッキング表示手段であるところ
のプリグルーブ12に沿ってピット5を形成するため、
前記プリグルーブ12に沿って光吸収層2にEFM信号
に変調されたレーザスポットを照射した後、保護層4と
反射層3を透光性基板1から剥離し、さらに同基板1の
表面から光吸収層2を除去した状態を模式的に示してい
る。
FIG. 2 shows a state before the pit 5 is formed.
FIGS. 3 and 6 show the state after the pit 5 is formed, that is, by irradiating a recording laser beam from the optical pickup 8, the irradiated portion is deformed into a convex shape, and the pit 5 is formed. The state is schematically shown. FIG. 7 shows the light-transmitting substrate 1
In order to form the pit 5 along the pre-groove 12 which is the tracking display means formed on the surface of
After irradiating the light absorbing layer 2 with a laser spot modulated into an EFM signal along the pre-groove 12, the protective layer 4 and the reflective layer 3 are peeled off from the light transmitting substrate 1, and further, light is emitted from the surface of the substrate 1. The state where the absorption layer 2 is removed is schematically shown.

【0020】さらに、ピット5を形成した後、STM
(Scanning Tunneling Micro
scope)を用い、前記プリグルーブ12に沿って透
光性基板1の表面の状態を観察した例を、図8に示す。
同図では、チップ(探針)aのプリグルーブ12に沿う
方向、つまりトラッキング方向の移動距離を横軸にと
り、透光性基板1の表面の高度を縦軸にとって示してあ
る。同図(a)は、ピットの長さが10000オングス
トロームと比較的短い場合であり、ここでは高さ約20
0オングストロームの凸状の明瞭な変形が形成されてい
ることが理解できる。また、同図(b)は、ピットの長
さが40000オングストロームと比較的長い場合であ
り、ここでは高さ約200オングストロームの凸状の変
形が認められるが、この変形の中間部がやや低くなって
おり、変形の峰が2つに分かれていることが分かる。
Further, after forming the pit 5, the STM
(Scanning Tunneling Micro
FIG. 8 shows an example of observing the state of the surface of the light-transmitting substrate 1 along the pre-groove 12 using Scope).
In the figure, the direction along the pregroove 12 of the tip (probe) a, that is, the moving distance in the tracking direction is shown on the horizontal axis, and the altitude of the surface of the translucent substrate 1 is shown on the vertical axis. FIG. 9A shows a case where the length of the pit is relatively short (10000 Å).
It can be seen that a 0 angstrom convex clear deformation is formed. FIG. 3B shows a case where the pit length is relatively long, that is, 40000 angstroms. In this case, a convex deformation having a height of about 200 angstroms is recognized, but the intermediate portion of this deformation is slightly lower. It can be seen that the peak of deformation is divided into two.

【0021】前記光情報記録媒体の具体例について、以
下に説明する。透光性基板1の材料は、レーザ光に対す
る屈折率が1.4〜1.6の範囲の透明度の高い材料
で、耐衝撃性に優れた樹脂が望ましい。具体的には、ポ
リカーボネート、アクリル等が例示できるが、これらに
限られるわけではない。このような材料を用いて、基板
は例えば射出成形等の手段により成形される。
A specific example of the optical information recording medium will be described below. The material of the translucent substrate 1 is a material having a high transparency with a refractive index to laser light in a range of 1.4 to 1.6, and is preferably a resin having excellent impact resistance. Specifically, polycarbonate, acrylic and the like can be exemplified, but not limited to these. Using such a material, the substrate is formed by means such as injection molding.

【0022】透光性基板1には、スパイラル状にプリグ
ルーブ12が形成されていてもよい。プリグルーブは、
通常考えられる条件のものであればどのような条件のも
のでもよいが、50〜250nmの深さが好適である。
プリグルーブ12は、基板の射出成形時のスタンパを押
し当てることにより形成されるのが通常であるが、レー
ザによってカッティングすることや2P法によって作ら
れるものでもよい。透光性基板1と光吸収層2との間
に、SiO2 等の耐溶剤層やエンハンス層をコーティン
グしておいてもよい。
The pre-groove 12 may be formed in the light transmitting substrate 1 in a spiral shape. Pregroove is
Any condition may be used as long as it is normally considered, but a depth of 50 to 250 nm is preferable.
The pregroove 12 is usually formed by pressing a stamper at the time of injection molding of a substrate, but may be formed by cutting with a laser or by a 2P method. A solvent-resistant layer such as SiO 2 or an enhancement layer may be coated between the light-transmitting substrate 1 and the light absorbing layer 2.

【0023】光吸収層2の材料は、光吸収性の有機色素
が望ましく、シアニン色素、ポリメチン色素、トリアリ
ールメタン色素、ピリリウム色素、フェナンスレン色
素、テトラデヒドロコリン色素、トリアリールアミン色
素、スクアリリウム色素、クロコニックメチン色素、フ
タロシアニン色素、アズレニウム色素等が例示できる
が、これらに限定されるものではなく、低融点金属等、
公知の記録層材料を用いても本発明の効果を得ることが
可能である。なお、光吸収層2には、他の色素、樹脂
(例えばニトロセルロース等の熱可塑性樹脂、熱可塑性
エラストマー)、液ゴム等を含んでいても良い。
The material of the light absorbing layer 2 is preferably a light absorbing organic dye, such as cyanine dye, polymethine dye, triarylmethane dye, pyrylium dye, phenanthrene dye, tetradehydrocholine dye, triarylamine dye, squarylium dye, Croconic methine dyes, phthalocyanine dyes, azurenium dyes and the like can be exemplified, but are not limited thereto, such as low melting point metals,
Even if a known recording layer material is used, the effects of the present invention can be obtained. The light absorbing layer 2 may contain other pigments, resins (for example, thermoplastic resins such as nitrocellulose, thermoplastic elastomers), liquid rubber, and the like.

【0024】光吸収層2は、前記の色素および任意の添
加剤を公知の有機溶媒(たとえばアルコール、アセチル
アセトン、メチルセロソルブ、トルエン等)で溶解した
ものをプリグルーブが形成された透光性基板、またはさ
らに基板上に他の層をコーティングした基板の表面に形
成される。この場合の形成手段としては、蒸着法、LB
法、スピンコート法等が挙げられるが、光吸収層の濃
度、粘度、溶剤の乾燥速度を調節することにより層厚を
制御できるために、スピンコート法が望ましい。なお、
図4〜図6のような予記録領域10を有する光情報記録
媒体は、透光性基板1の表面の予記録領域10となる部
分に信号再生用のプレピット9(図5参照)をスタンパ
等で予め形成しておき、その外側の後記録領域11にの
み前記材料をコーティングして光吸収層2を形成するこ
とにより得られる。
The light-absorbing layer 2 is a light-transmitting substrate on which a pre-groove is formed by dissolving the above-mentioned dye and optional additives in a known organic solvent (for example, alcohol, acetylacetone, methyl cellosolve, toluene, etc.). Alternatively, it is formed on the surface of a substrate in which another layer is coated on the substrate. In this case, as a forming means, a vapor deposition method, LB
A spin coating method is preferred because the layer thickness can be controlled by adjusting the concentration, viscosity and drying speed of the solvent of the light absorbing layer. In addition,
An optical information recording medium having a pre-recording area 10 as shown in FIGS. 4 to 6 has a pre-pit 9 for signal reproduction (see FIG. 5) in a portion to be the pre-recording area 10 on the surface of the translucent substrate 1 such as a stamper. The light absorbing layer 2 is formed by coating the above-mentioned material only on the rear recording area 11 outside thereof.

【0025】反射層3は、金属膜が望ましく、例えば、
金、銀、アルミニウムあるいはこれらを含む合金を、蒸
着法、スパッタ法等の手段により形成される。反射率が
70%以上を有することが必要であるため、金または金
を含む合金を主体とする金属で形成することが望まし
い。さらに、反射層の酸化を防止するための耐酸化層等
の他の層を介在させてもよい。
The reflection layer 3 is desirably a metal film.
Gold, silver, aluminum or an alloy containing these is formed by means such as a vapor deposition method and a sputtering method. Since it is necessary for the reflectance to have 70% or more, it is desirable to form the metal mainly composed of gold or an alloy containing gold. Further, another layer such as an oxidation-resistant layer for preventing the reflection layer from being oxidized may be interposed.

【0026】保護層4は耐衝撃性の優れた樹脂によって
形成されることが望ましい。たとえば紫外線硬化性樹脂
をスピンコート法により塗布し、紫外線を照射して硬化
させることにより形成する。また、ウレタン等の弾性材
で形成してもよく、以下に述べる硬質層の機能を有する
ものでもよい。硬質層6は、メチルエチルケトン、アル
コール等の溶剤に溶けてスピンコート法により塗布する
ことができ、物理的変化(熱、光等)によって硬化する
ものが製造上望ましい。硬質層3の透光性は記録、再生
時のレーザ光の透過に影響を与えないため、その透光性
は問わない。
The protective layer 4 is desirably formed of a resin having excellent impact resistance. For example, it is formed by applying an ultraviolet curable resin by a spin coating method and irradiating ultraviolet rays to cure the resin. Further, it may be formed of an elastic material such as urethane, or may have a function of a hard layer described below. The hard layer 6 can be dissolved in a solvent such as methyl ethyl ketone or alcohol and applied by a spin coating method, and a material that is cured by a physical change (heat, light, or the like) is preferable in manufacturing. The light transmission of the hard layer 3 does not matter, since it does not affect the transmission of laser light during recording and reproduction.

【0027】硬質層6の硬度は、ASTMD785にお
いて75以上が望ましく、M110〜200がいっそう
望ましい。また、硬質層の熱変形温度は、80℃以上が
望ましく、100℃以上がいっそう望しく、特に110
℃以上が最良である。この硬質層6の厚みは、任意に設
定できるが、5μm〜10μmの範囲が望ましい。さら
に、前記透孔性基板1側から前記光吸収層2に記録用の
レーザ光のスポットを当て、透光性基板1側の層に光吸
収層2側に突出したピット5を形成する。ここで、光吸
収層を基準として反射層側の層を基板1側の層に比べて
熱変形し難い層で形成しているため、本発明による光情
報記録媒体では、光吸収層2にレーザ光を照射すること
により、レーザ光により引き起こされた光吸収層2のエ
ネルギは透光性基板1側の層に主として与えられ、その
結果、透光性基板1側の層に明瞭なピット5が形成され
る。
The hardness of the hard layer 6 is preferably 75 or more in ASTM D785, and more preferably M110 to 200. The heat deformation temperature of the hard layer is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher,
C or higher is best. The thickness of the hard layer 6 can be set arbitrarily, but is preferably in the range of 5 μm to 10 μm. Further, a spot of a recording laser beam is applied to the light absorbing layer 2 from the porous substrate 1 side, and pits 5 protruding toward the light absorbing layer 2 are formed in the layer on the light transmitting substrate 1 side. Here, since the layer on the reflection layer side is formed of a layer that is less likely to be thermally deformed than the layer on the substrate 1 side with respect to the light absorption layer, the laser on the light absorption layer 2 By irradiating the light, the energy of the light absorbing layer 2 caused by the laser beam is mainly given to the layer on the light transmitting substrate 1 side. As a result, clear pits 5 are formed on the layer on the light transmitting substrate 1 side. It is formed.

【0028】後述するように、このようなピット5は、
一般のCDにおいて成形により形成されるプレピットと
きわめて似ている。例えば、図3及び図6に模式的に示
すように、記録後の光ディスクの前記基板1の光吸収層
2と接する表面部分に、吸収層側に突出したピット5が
確認でき、このようにして形成されたピット5の再生波
形もまた、一般のCDの再生波形と同様のものである。
記録信号の再生は、透光性基板1側から読取り用のレー
ザ光を照射することにより、ピット部分の反射光とピッ
ト以外の部分の反射光の光学的位相差を読み取ることに
より行われる。
As will be described later, such a pit 5
It is very similar to pre-pits formed by molding in a general CD. For example, as schematically shown in FIG. 3 and FIG. 6, pits 5 protruding toward the absorption layer can be confirmed on the surface of the optical disk after recording in contact with the light absorption layer 2 of the substrate 1. The reproduced waveform of the formed pits 5 is also similar to that of a general CD.
Reproduction of a recording signal is performed by irradiating a laser beam for reading from the transparent substrate 1 side to read an optical phase difference between reflected light in a pit portion and reflected light in a portion other than the pit.

【0029】本発明のさらに具体的な実施例について、
以下に説明する。 (実施例1)直径46〜117mmφの範囲に、幅0.
8μm、深さ0.08μm、ピッチ1.6μmのスパイ
ラル状のプリグルーブが形成された厚さ1.2mm、外
径120mmφ、内径15mmφのポリカーボネート基
板1を射出成形法により成形した。このポリカーボネー
ト基板1と同じ材料を用いて成形したテストピースのロ
ックウェル硬度ASTMD785は、M75であり、熱
変形温度ASTMD648は、132℃であった。
For more specific examples of the present invention,
This will be described below. (Example 1) In the range of 46 to 117 mm in diameter, the width of 0.
A polycarbonate substrate 1 having a thickness of 1.2 mm, an outer diameter of 120 mmφ, and an inner diameter of 15 mmφ, on which a spiral pregroove having a thickness of 8 μm, a depth of 0.08 μm, and a pitch of 1.6 μm was formed, was formed by an injection molding method. The Rockwell hardness ASTM D785 of the test piece molded using the same material as the polycarbonate substrate 1 was M75, and the heat deformation temperature ASTMD648 was 132 ° C.

【0030】光吸収層を形成するための有機色素とし
て、0.65gの1,1’ジブチル3,3,3’,3’
テトラメチル4,5,4’,5’ジベンゾインドジカー
ボシアニンパークロレート(日本感光色素研究所株式会
社製、品番NK3219)を、ジアセトンアルコール溶
剤10ccに溶解し、これを前記の基板1の表面に、ス
ピンコート法により塗布し、膜厚130nmの光吸収層
2を形成した。
As an organic dye for forming a light absorbing layer, 0.65 g of 1,1 ′ dibutyl 3,3,3 ′, 3 ′ was used.
Tetramethyl 4,5,4 ', 5' dibenzoindodicarbocyanine perchlorate (manufactured by Japan Photographic Dye Laboratories Co., Ltd., product number NK3219) is dissolved in 10 cc of diacetone alcohol solvent, and this is dissolved on the surface of the substrate 1. Was applied by spin coating to form a light absorbing layer 2 having a thickness of 130 nm.

【0031】次に、このディスクの直径45〜118m
mφの領域の全面にスパッタリング法により、膜厚50
nmのAu膜を成膜し、反射層3を形成した。さらに、
この反射層3の上に紫外線硬化性樹脂をスピンコート
し、これに紫外線を照射して硬化させ、膜厚10μmの
保護層4を形成した。この保護層4と同じ材料を用いて
成形したテストピースのロックウェル硬度ASTMD7
85はM90であり、熱変形温度ASTMD648は、
150℃であった。
Next, the diameter of this disk is 45 to 118 m.
A film thickness of 50 m
An Au film having a thickness of 3 nm was formed, and the reflective layer 3 was formed. further,
An ultraviolet curable resin was spin-coated on the reflective layer 3 and irradiated with ultraviolet light to be cured, thereby forming a protective layer 4 having a thickness of 10 μm. Rockwell hardness ASTM D7 of a test piece molded using the same material as the protective layer 4
85 is M90, and the heat deformation temperature ASTM D648 is
150 ° C.

【0032】こうして得られた光ディスクの前記後記録
領域11に、波長780nmの半導体レーザを線速1.
2m/sec、記録パワー6.0mWで照射し、EFM
信号を記録した。そして、この光ディスクを、市販のC
Dプレーヤ(Aurex XR−V73、再生光の波長
λ=780nm)で再生したところ、半導体レーザの反
射率が72%、I11/Itop が0.65、I3 /Itop
が0.35、ブロックエラーレートBLERが3.4×
10-3であった。
A semiconductor laser having a wavelength of 780 nm was applied to the post-recording area 11 of the optical disk thus obtained at a linear velocity of 1.
Irradiation at 2 m / sec, recording power 6.0 mW, EFM
The signal was recorded. Then, this optical disk is stored in a commercially available C
When reproduction was performed with a D player (Aurex XR-V73, reproduction light wavelength λ = 780 nm), the reflectivity of the semiconductor laser was 72%, I11 / Itop was 0.65, and I3 / Itop.
Is 0.35 and the block error rate BLER is 3.4 ×
It was 10 -3 .

【0033】CD規格では、反射率が70%以上、I11
/Itop が0.6以上、I3 /Itop が0.3〜0.
7、ブロックエラーレートBLERが3×10-2以下と
定められており、この実施例による光ディスクは、この
規格を満足している。さらに、前記記録後の光ディスク
の保護層4と反射層4を剥離し、光吸収層2を溶剤で洗
浄し、透光性基板1の剥離面をSTM(Scannin
g Tunneling Microscope)で観
察したところ、ピットの部分に凸状の変形が見られた。
なお、この実施例は、保護層4を硬質層として利用した
場合の実施例である。
According to the CD standard, the reflectance is 70% or more, and I11
/ Itop is 0.6 or more, and I3 / Itop is 0.3-0.
7. The block error rate BLER is determined to be 3 × 10 −2 or less, and the optical disk according to this embodiment satisfies this standard. Further, the protective layer 4 and the reflective layer 4 of the optical disk after recording are peeled off, the light absorbing layer 2 is washed with a solvent, and the peeled surface of the light transmitting substrate 1 is STM (Scannin).
g Tunneling Microscope), a convex deformation was observed at the pit portion.
This embodiment is an embodiment in which the protective layer 4 is used as a hard layer.

【0034】(実施例2)前記実施例1と同様の形状及
びプリグルーブを有するポリカーボネート(帝人化学
製、パンライト)基板の上に、前記と同様にして光吸収
層2を形成した後、この上に反射層3として、真空蒸着
法により膜厚50nmのAg膜を形成し、この上に硬質
層6として、膜厚50nmのシリコンアクリル層を形成
し、さらにこの上に前記実施例1と同様の保護層4を形
成した。なお、前記基板と同じ材料を用いて成形したテ
ストピースのロックウェル硬度ASTMD785はM7
5であり、熱変形温度ASTMD648は、135℃で
あった。これに対し、前記硬質層6と同じ材料を用いて
成形したテストピースのロックウェル硬度ASTMD7
85はM100であり、熱変形温度ASTMD648
は、200℃であった。この光ディスクについて、前記
実施例1と同様にしてデータを記録し、これを再生した
ところ、半導体レーザの反射率が71%、I11/Itop
が0.64、I3 /Itop が0.34、ブロックエラー
レートBLERが3.7×10-3であった。
Example 2 A light absorbing layer 2 was formed on a polycarbonate (Panlite, Teijin Chemicals) substrate having the same shape and pregroove as in Example 1 in the same manner as described above. An Ag film having a thickness of 50 nm is formed thereon as a reflective layer 3 by a vacuum evaporation method, and a silicon acrylic layer having a thickness of 50 nm is formed thereon as a hard layer 6. Was formed. The Rockwell hardness ASTM D785 of the test piece molded using the same material as the substrate is M7.
5, and the heat distortion temperature ASTM D648 was 135 ° C. On the other hand, a Rockwell hardness ASTM D7 of a test piece molded using the same material as the hard layer 6 was used.
85 is M100, heat deformation temperature ASTM D648
Was 200 ° C. Data was recorded on this optical disc in the same manner as in the first embodiment, and the data was reproduced. As a result, the reflectance of the semiconductor laser was 71%, and I11 / Itop
Was 0.64, I3 / Itop was 0.34, and the block error rate BLER was 3.7.times.10.sup.- 3 .

【0035】(実施例3)前記実施例1と同様の形状及
びプリグルーブを有するポリカーボネート(三菱ガス化
学製、ユーピロン)基板の上に、前記と同様にして光吸
収層2を形成した後、その上に反射層3として、真空蒸
着法により膜厚50nmのAu膜を形成し、さらにこの
上に保護層を兼ねる硬質層6として、膜厚7μmのエポ
キシ樹脂層を形成した。なお、前記基板と同じ材料を用
いて成形したテストピースのロックウェル硬度ASTM
D785はM75であり、熱変形温度ASTMD648
は、135℃であった。これに対し、前記硬質層6と同
じ材料を用いて成形したテストピースのロックウェル硬
度ASTMD785はM90であり、熱変形温度AST
MDD648は、140℃であった。この光ディスクに
ついて、前記実施例1と同様にしてデータを記録し、こ
れを再生したところ、半導体レーザの反射率が72%、
I11/Itop が0.63、I3 /Itop が0.33、ブ
ロックエラーレートBLERが2.7×10-3であっ
た。
(Example 3) A light-absorbing layer 2 was formed on a polycarbonate (Mitsubishi Gas Chemical, Iupilon) substrate having the same shape and pregroove as in Example 1 above, and then formed. An Au film having a thickness of 50 nm was formed thereon as a reflective layer 3 by a vacuum evaporation method, and an epoxy resin layer having a thickness of 7 μm was formed thereon as a hard layer 6 also serving as a protective layer. The Rockwell hardness ASTM of a test piece molded using the same material as the substrate was used.
D785 is M75, heat distortion temperature ASTM D648
Was 135 ° C. On the other hand, the test piece molded from the same material as the hard layer 6 has a Rockwell hardness ASTM D785 of M90 and a heat distortion temperature AST of ASTMD785.
MDD648 was 140 ° C. With respect to this optical disk, data was recorded and reproduced in the same manner as in the first embodiment, and the reflectance of the semiconductor laser was 72%.
I11 / Itop was 0.63, I3 / Itop was 0.33, and the block error rate BLER was 2.7.times.10.sup.- 3 .

【0036】(実施例4)前記実施例1と同様の形状及
びプリグルーブを有するポリスチレン基板の上に、前記
と同様にして光吸収層2を形成した後、この上に反射層
3として、真空蒸着法により膜厚50nmのAu膜を形
成し、この上に保護層を兼ねる硬質層6として、膜厚1
0μmのアクリル樹脂層を形成した。なお、前記基板と
同じ材料を用いて成形したテストピースのロックウェル
硬度ASTMD785はM80であり、熱変形温度AS
TMD648は、89℃であった。これに対し、前記硬
質層6と同じ材料を用いて成形したテストピースのロッ
クウェル硬度ASTMD785はM100であり、熱変
形温度ASTMD648は、100℃であった。この光
ディスクについて、前記実施例1と同様にしてデータを
記録し、これを再生したところ、半導体レーザの反射率
が72%、I11/Itop が0.63、I3 /Itop が
0.32、ブロックエラーレートBLERが7.1×1
-3であった。
(Example 4) A light absorbing layer 2 is formed on a polystyrene substrate having the same shape and pregroove as in Example 1 in the same manner as described above, and a reflective layer 3 is formed thereon as a vacuum. An Au film having a thickness of 50 nm is formed by an evaporation method, and a hard layer 6 serving as a protective layer is formed on the Au film to a thickness of 1 nm.
An acrylic resin layer of 0 μm was formed. The test piece molded from the same material as the substrate has a Rockwell hardness ASTM D785 of M80 and a heat deformation temperature AS
TMD648 was 89 ° C. On the other hand, the test piece molded using the same material as the hard layer 6 had a Rockwell hardness ASTM D785 of M100 and a heat deformation temperature ASTM D648 of 100 ° C. When data was recorded on this optical disk in the same manner as in the first embodiment, and the data was reproduced, the reflectance of the semiconductor laser was 72%, I11 / Itop was 0.63, I3 / Itop was 0.32, and the block error was 0.3%. Rate BLER is 7.1 × 1
It was 0 -3 .

【0037】(実施例5)前記実施例1と同様の形状及
びプリグルーブを有するポリメチルメタクリレート基板
の上に、前記と同様にして光吸収層2を形成した後、そ
の上に反射層3として、真空蒸着法により膜厚50nm
のAu膜を形成し、さらにこの上に、結着性を高めるた
めエポキシ樹脂をスピンコートしてから、保護層を兼ね
る硬質層6として、膜厚10μmのポリエステル樹脂層
を形成した。なお、前記基板と同じ材料を用いて成形し
たテストピースのロックウェル硬度ASTMD785は
M100であり、熱変形温度ASTMD648は、11
0℃であった。これに対し、前記硬質層6と同じ材料を
用いて成形したテストピースと同じ材料を用いて成形し
たテストピースのロックウェル硬度ASTMD785は
M110であり、熱変形温度ASTMD648は、11
5℃であった。この光ディスクについて、前記実施例1
と同様にしてデータを記録し、これを再生したところ、
半導体レーザの反射率が72%、I11/Itop が0.6
5、I3 /Itop が0.34、ブロックエラーレートB
LERが8.3×10-3であった。
Example 5 A light absorbing layer 2 was formed on a polymethyl methacrylate substrate having the same shape and pregroove as in Example 1 in the same manner as described above, and a reflective layer 3 was formed thereon. Film thickness of 50 nm by vacuum evaporation
An Au film was formed thereon, and an epoxy resin was spin-coated thereon to enhance the binding property, and then a 10 μm-thick polyester resin layer was formed as the hard layer 6 also serving as a protective layer. The test piece molded using the same material as the substrate has a Rockwell hardness ASTM D785 of M100 and a heat deformation temperature ASTM D648 of 11.
It was 0 ° C. On the other hand, a test piece molded using the same material as the test material molded using the same material as the hard layer 6 has a Rockwell hardness ASTM D785 of M110 and a heat deformation temperature ASTM D648 of 11%.
5 ° C. This optical disc is described in the first embodiment.
When data was recorded and played back in the same way as
Semiconductor laser reflectance 72%, I11 / Itop 0.6
5, I3 / Itop is 0.34, block error rate B
LER was 8.3 × 10 −3 .

【0038】(実施例6)直径46〜100mmφの範
囲(予記録領域10)に、幅0.6μm、深さ0.10
μm、ピッチ1.6μmのスパイラル状のCDフォーマ
ット信号が再生できるプレピット8が形成され、その外
側の直径100〜117mmφの範囲(後記録領域1
1)に、幅0.7μm、深さ0.07μm、ピッチ1.
6μmのスパイラル状のプリグループが形成された厚さ
1.2mm、外径120mmφ、内径15mmφのポリ
オレフィン基板1を射出成形法により成形した。
(Embodiment 6) In a range of 46 to 100 mm in diameter (pre-recording area 10), a width of 0.6 μm and a depth of 0.10.
A pre-pit 8 capable of reproducing a spiral CD format signal having a pitch of 1.6 μm and a pitch of 1.6 μm is formed.
In 1), a width of 0.7 μm, a depth of 0.07 μm, and a pitch of 1.
A polyolefin substrate 1 having a thickness of 1.2 mm, an outer diameter of 120 mmφ, and an inner diameter of 15 mmφ, on which a 6 μm spiral pre-group was formed, was formed by injection molding.

【0039】前記基板の直径100mmφより外周側の
部分、つまり後記録領域11の上にのみ、1、1’ジブ
チル3、3、3’、3’テトラメチル5、5’ジエトキ
シインドジカーボシアニンパークロレートをスピンコー
ト法により塗布し、光吸収層2を形成した後、基板1の
全面にわたり反射層3として、真空蒸着法により膜厚5
0nmのAu膜を形成し、さらにこの上に、結着性を高
めるためエポキシ樹脂をスピンコートしてから、保護層
を兼ねる硬質層6として、膜厚7μmのシリコンアクリ
ル樹脂層を形成した。なお、前記基板と同じ材料を用い
て成形したテストピースのロックウェル硬度ASTMD
785はM75であり、熱変形温度ASTMD648
は、140℃であった。これに対し、前記硬質層6と同
じ材料を用いて成形したテストピースのロックウェル硬
度ASTMD785はM100であり、熱変形温度AS
TMD648は、200℃であった。
Only on the portion on the outer peripheral side of the diameter of the substrate of 100 mmφ, that is, on the post-recording area 11, 1,1 ′ dibutyl 3, 3, 3 ′, 3 ′ tetramethyl 5, 5 ′ diethoxyindodicarbocyanine. After applying perchlorate by a spin coating method to form a light absorbing layer 2, a reflective layer 3 is formed over the entire surface of the substrate 1 to a film thickness of 5 by a vacuum evaporation method.
An Au film having a thickness of 0 nm was formed, and an epoxy resin was further spin-coated on the Au film to enhance the binding property, and then a 7 μm-thick silicon acrylic resin layer was formed as a hard layer 6 also serving as a protective layer. The Rockwell hardness ASTM D of the test piece molded using the same material as the substrate
785 is M75, heat deformation temperature ASTM D648
Was 140 ° C. On the other hand, the test piece molded using the same material as the hard layer 6 has a Rockwell hardness ASTM D785 of M100 and a heat deformation temperature AS.
TMD648 was 200 ° C.

【0040】この光ディスクについて、前記実施例1と
同様にして前記後記録領域11にデータを記録し、予記
録領域及び後記録領域について再生したところ、後記録
領域での半導体レーザの反射率が71%、I11/Itop
が0.62、I3 /Itop が0.34、ブロックエラー
レートBLERが2.4×10-3であり、予記録領域で
の半導体レーザの反射率が90%、I11/Itop が0.
80、I3 /Itop が0.50、ブロックエラーレート
BLERが1.0×10-3であった。
With respect to this optical disk, data was recorded in the post-recording area 11 in the same manner as in the first embodiment, and the pre-recording area and the post-recording area were reproduced. %, I11 / Itop
Is 0.62, I3 / Itop is 0.34, the block error rate BLER is 2.4.times.10.sup.- 3 , the reflectivity of the semiconductor laser in the prerecorded area is 90%, and I11 / Itop is 0.1.
80, I3 / Itop was 0.50, and block error rate BLER was 1.0.times.10.sup.- 3 .

【0041】(実施例7)直径46〜100mmφの範
囲(予記録領域10)に、幅0.6μm、深さ0.10
μm、ピッチ1.6μmのスパイラル状のCDフォーマ
ット信号が再生できるプレピット8が形成され、その外
側の直径100〜117mmφの範囲(後記録領域1
1)に、幅0.7μm、深さ0.07μm、ピッチ1.
6μmのスパイラル状のプリグループが形成された厚さ
1.2mm、外径120mmφ、内径15mmφのエポ
キシ樹脂基板1を射出成形法により成形した。
(Embodiment 7) In the range of 46 to 100 mm in diameter (pre-recording area 10), the width is 0.6 μm and the depth is 0.10.
A pre-pit 8 capable of reproducing a spiral CD format signal having a pitch of 1.6 μm and a pitch of 1.6 μm is formed.
In 1), a width of 0.7 μm, a depth of 0.07 μm, and a pitch of 1.
An epoxy resin substrate 1 having a thickness of 1.2 mm, an outer diameter of 120 mmφ, and an inner diameter of 15 mmφ on which a 6 μm spiral pre-group was formed was formed by injection molding.

【0042】前記基板の直径100mmφより外周側の
部分、つまり後記録領域11の上にのみ、1、1’ジブ
チル3、3、3’、3’テトラメチル5、5’ジエトキ
シインドジカーボシアニンパークロレートをスピンコー
ト法により塗布し、光吸収層2を形成した後、基板1の
全面にわたり反射層3として、真空蒸着法により膜厚5
0nmのAl膜を形成し、この上に保護層を兼ねる硬質
層6として、膜厚7μmのシリコン樹脂層を形成した。
なお、前記透光性基板1と同じ材料を用いて成形したテ
ストピースのロックウェル硬度ASTMD785はM9
0であり、熱変形温度ASTMD648は、135℃で
あった。これに対し、前記硬質層6と同じ材料を用いて
成形したテストピースのロックウェル硬度ASTMD7
85はM100であり、熱変形温度ASTMD648
は、180℃であった。
Only on the portion on the outer peripheral side of the substrate with a diameter of 100 mmφ, that is, on the post-recording area 11, 1,1 ′ dibutyl 3, 3, 3 ′, 3 ′ tetramethyl 5, 5 ′ diethoxyindodicarbocyanine. After applying perchlorate by a spin coating method to form a light absorbing layer 2, a reflective layer 3 is formed over the entire surface of the substrate 1 to a film thickness of 5 by a vacuum evaporation method.
An Al film having a thickness of 0 nm was formed, and a silicon resin layer having a thickness of 7 μm was formed thereon as a hard layer 6 also serving as a protective layer.
The Rockwell hardness ASTM D785 of the test piece molded using the same material as the translucent substrate 1 is M9.
0, and the heat distortion temperature ASTM D648 was 135 ° C. On the other hand, a Rockwell hardness ASTM D7 of a test piece molded using the same material as the hard layer 6 was used.
85 is M100, heat deformation temperature ASTM D648
Was 180 ° C.

【0043】この光ディスクについて、前記実施例1と
同様にして前記後記録領域11にデータを記録し、予記
録領域及び後記録領域について再生したところ、後記録
領域での半導体レーザの反射率が72%、I11/Itop
が0.62、I3 /Itop が0.32、ブロックエラー
レートBLERが2.1×10-3であり、予記録領域で
の半導体レーザの反射率、I11/Itop、I3 /Itop 、
ブロックエラーレートは前記実施例12と同様であっ
た。
With this optical disc, data was recorded in the post-recording area 11 in the same manner as in the first embodiment, and the pre-recording area and the post-recording area were reproduced. %, I11 / Itop
Is 0.62, I3 / Itop is 0.32, the block error rate BLER is 2.1.times.10.sup.- 3 , and the reflectance of the semiconductor laser in the prerecorded area is I11 / Itop, I3 / Itop,
The block error rate was the same as in the twelfth embodiment.

【0044】(比較例)前記実施例1において、紫外線
硬化性樹脂により形成された保護層4と同じ材料を用い
て成形したテストピースのロックウェル硬度ASTMD
785を、M60、熱変形温度ASTMD648(4.
6kg/cm2 )を75℃としたこと以外は、同実施例
1と同様にして、光ディスクを製作した。この光ディス
クに、前記実施例1と同様にして波長780nmの半導
体レーザを線速1.2m/secで照射し、EFM信号
を記録したところ、基板1の板面側には、十分明瞭なピ
ットが確認できなかった。そして、この光ディスクを、
前記実施例1で用いたのと同じCDプレーヤで再生した
ところ、光ディスクの反射率が71%、I11/Itop が
0.7、I3 /Itop が0.37であったが、ブロック
エラーレートBLERが1.5×10-1あり、上述した
CD規格を満足することができなかった。
(Comparative Example) A Rockwell hardness ASTM D of a test piece molded using the same material as the protective layer 4 formed of an ultraviolet curable resin in Example 1 described above.
785, M60, heat distortion temperature ASTM D648 (4.
An optical disc was manufactured in the same manner as in Example 1 except that 6 kg / cm 2 ) was set to 75 ° C. The optical disk was irradiated with a semiconductor laser having a wavelength of 780 nm at a linear velocity of 1.2 m / sec in the same manner as in the first embodiment, and an EFM signal was recorded. I could not confirm. And this optical disk
When the data was reproduced with the same CD player used in the first embodiment, the reflectance of the optical disk was 71%, I11 / Itop was 0.7, and I3 / Itop was 0.37, but the block error rate BLER was higher. 1.5 × 10 −1, and could not satisfy the above-mentioned CD standard.

【0045】[0045]

【発明の効果】以上説明した通り、本発明の光情報記録
媒体では、光吸収層2に対して反射層3の背後側に硬度
の高い硬質層を設け、色素膜からなる光吸収層2に記録
用レーザ光のスポットを当て、この光吸収層2より基板
1側の層に光吸収層2側へ突出したピット5を形成した
ので、成形という手段で形成される一般のCDのプレピ
ットにきわめて近似した明瞭なピット5を形成できる。
そして、基板1側から入射させた読取り用レーザ光の前
記ピット5の部分とそれ以外の部分の反射光の光学的位
相差により記録された信号を読み取ることにより、高い
反射率が得られると共に、一般のCDと同様の再生信号
が得られ、且つその再生信号のブロックエラーレートを
CD規格に規定された範囲に収めることができる。従っ
て、記録用レーザ光の照射という簡便な手段でピットを
形成することができ、そのためコスト上少量出版に適
し、しかも一般のCDプレーヤで再生できる光情報記録
媒体が得られる。
As described above, in the optical information recording medium of the present invention, a hard layer having a high hardness is provided behind the light absorbing layer 2 behind the reflective layer 3, and the light absorbing layer 2 made of a dye film is provided. A pit 5 projecting toward the light absorbing layer 2 was formed on the layer closer to the substrate 1 than the light absorbing layer 2 by applying a spot of a recording laser beam. Approximate and clear pits 5 can be formed.
Then, by reading a signal recorded by the optical phase difference between the reflected light of the pit 5 part and the other part of the pit 5 of the reading laser light made incident from the substrate 1 side, a high reflectance is obtained, A reproduction signal similar to that of a general CD can be obtained, and the block error rate of the reproduction signal can be kept within a range specified by the CD standard. Therefore, pits can be formed by simple means of irradiating a recording laser beam, so that an optical information recording medium suitable for small-volume publishing due to cost and reproducible by a general CD player can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例による光情報記録媒体を示す模
式半断面斜視図である。
FIG. 1 is a schematic half sectional perspective view showing an optical information recording medium according to an embodiment of the present invention.

【図2】ピットを形成する前の同光情報記録媒体をトラ
ッキング方向に断面した拡大断面図である。
FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of the optical information recording medium before forming pits, in a tracking direction.

【図3】ピットを形成した後の同光情報記録媒体をトラ
ッキング方向に断面した拡大断面図である。
FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of the optical information recording medium after forming pits, in a tracking direction.

【図4】本発明の他の実施例による光情報記録媒体を示
す模式半断面斜視図である。
FIG. 4 is a schematic half sectional perspective view showing an optical information recording medium according to another embodiment of the present invention.

【図5】図4のA部拡大断面図である。FIG. 5 is an enlarged sectional view of a portion A in FIG. 4;

【図6】図4のB部拡大断面図である。FIG. 6 is an enlarged sectional view of a portion B in FIG. 4;

【図7】本発明の実施例による光情報記録媒体の透光性
基板の表面を示す要部拡大斜視図である。
FIG. 7 is an enlarged perspective view of a main part showing a surface of a light transmitting substrate of the optical information recording medium according to the embodiment of the present invention.

【図8】前記透光性基板の表面をSTM(Scanni
g Tunneling Microscope)で観
察したときのチップのトラッキング方向に沿う移動距離
と高度の関係を示すグラフの例である。
FIG. 8 shows the surface of the translucent substrate as STM (Scanni).
9 is an example of a graph showing a relationship between a moving distance of a chip along a tracking direction and an altitude when observed by g Tunneling Microscope.

【図9】硬質層の硬度とブロックエラーレートとの関係
の例を示すグラフである。
FIG. 9 is a graph showing an example of the relationship between the hardness of the hard layer and the block error rate.

【図10】再生時のブロックエラーレートの経時変化を
示したグラフである。
FIG. 10 is a graph showing a temporal change of a block error rate during reproduction.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 光吸収層 3 反射層 4 保護層 5 ピット 6 硬質層 10 予記録領域 11 後記録領域 12 プリグルーブ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Light absorption layer 3 Reflection layer 4 Protective layer 5 Pit 6 Hard layer 10 Prerecorded area 11 Postrecorded area 12 Pregroove

フロントページの続き (72)発明者 新井 雄治 東京都台東区上野6丁目16番20号 太陽 誘電株式会社内 (56)参考文献 特開 平1−125741(JP,A) 特開 平2−244433(JP,A) 特開 平2−306430(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11B 7/24 522 G11B 7/24 535Continuation of the front page (72) Inventor Yuji Arai 6-16-20 Ueno, Taito-ku, Tokyo Taiyo Yuden Co., Ltd. (56) References JP-A 1-125741 (JP, A) JP-A 2-244433 ( JP, A) JP-A-2-306430 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) G11B 7/24 522 G11B 7/24 535

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 透光性を有する基板(1)上に少なくと
も光吸収層(2)、反射層(3)が順次形成された光情
報記録媒体において、前記光吸収層(2)が色素膜から
なり、基板(1)に吸収層(2)側へ突出したピット
(5)が形成され、前記光吸収層(2)に対して反射層
(3)の背後側に、ピット(5)が形成された層より硬
度の高い硬質層を有し、前記基板(1)側から入射させ
た読取り用レーザ光の前記ピット(5)の部分とそれ以
外の部分の反射光の光学的位相差により記録された信号
を読み取ることを特徴とする光情報記録媒体。
1. An optical information recording medium in which at least a light absorbing layer (2) and a reflecting layer (3) are sequentially formed on a light transmitting substrate (1), the light absorbing layer (2) is a dye film. And a pit (5) protruding toward the absorption layer (2) is formed on the substrate (1), and the pit (5) is provided behind the light absorption layer (2) behind the reflection layer (3). It has a hard layer higher in hardness than the formed layer, and is formed by the optical phase difference between the reflected light of the pit (5) portion of the reading laser beam incident from the substrate (1) side and the other portion. An optical information recording medium for reading recorded signals.
【請求項2】 硬質層がロックウェル硬度ASTMD
785においてM75以上であることを特徴とする請求
項1に記載の光情報記録媒体。
2. The hard layer has a Rockwell hardness of ASTM D
The optical information recording medium according to claim 1, wherein the optical information recording medium has an M75 or more at 785.
【請求項3】 硬質層が熱変形温度ASTM D64
8(4.6kg/cm2 )において80℃以上であるこ
とを特徴とする請求項1または2に記載の光情報記録媒
体。
3. The method according to claim 1, wherein the hard layer has a heat distortion temperature of ASTM D64.
3. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the temperature is 80 ° C. or higher at 8 (4.6 kg / cm 2).
【請求項4】 反射層の上に紫外線硬化性樹脂のスピン
コート膜により形成された保護層(4)が硬質層を兼ね
ていることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の
光情報記録媒体。
4. The method according to claim 1, wherein the protective layer (4) formed by spin-coating a UV-curable resin on the reflective layer also serves as a hard layer. Optical information recording medium.
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