JP2523421B2 - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

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JP2523421B2
JP2523421B2 JP3287006A JP28700691A JP2523421B2 JP 2523421 B2 JP2523421 B2 JP 2523421B2 JP 3287006 A JP3287006 A JP 3287006A JP 28700691 A JP28700691 A JP 28700691A JP 2523421 B2 JP2523421 B2 JP 2523421B2
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recording layer
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recording medium
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、基板上に記録層を有す
る光記録媒体、特にコンパクトディスク対応のライト・
ワンス型の光記録ディスクに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium having a recording layer on a substrate, and more particularly to a write / write device for a compact disc.
The present invention relates to a once type optical recording disc.

【0002】[0002]

【従来の技術】基板上に記録層と反射層とを有する光記
録媒体として、例えば、コンパクトディスク(以下、C
Dと略称する)規格に対応して追記ないし記録を行なう
ことのできる光記録ディスクが提案されている(日経エ
レクトロニクス1989年1月23日号,No.46
5,P107、社団法人近畿化学協会機能性色素部会,
1989年3月3日,大阪科学技術センター、SPIE vol
1078 Optical Data Storage Topical Meeting, 80 1989
等)。
2. Description of the Related Art As an optical recording medium having a recording layer and a reflective layer on a substrate, for example, a compact disc (hereinafter referred to as C
An optical recording disk has been proposed which can be additionally recorded or recorded according to the standard (abbreviated as D) (Nikkei Electronics, January 23, 1989, No. 46).
5, P107, Kinki Chemical Association Functional Dye Subcommittee,
March 3, 1989, Osaka Science and Technology Center, SPIE vol
1078 Optical Data Storage Topical Meeting, 80 1989
etc).

【0003】このものは、透明樹脂基板上に、色素層、
Au反射層および保護膜をこの順に設層して形成され
る。すなわち、反射層を色素層に密着して設けるもので
ある。
This is a transparent resin substrate, a dye layer,
The Au reflective layer and the protective film are formed in this order. That is, the reflective layer is provided in close contact with the dye layer.

【0004】従来は、色素層に記録マークないしピット
を形成するために色素層上に空気層を設けていたが、こ
の提案では、反射層を色素層に密着して設ける密着型で
あるので、CD規格のディスク全厚1.2mmの構成が
可能となっている。
Conventionally, an air layer is provided on the dye layer in order to form recording marks or pits on the dye layer. However, in this proposal, since the reflection layer is provided in close contact with the dye layer, It is possible to configure a CD standard disc having a total thickness of 1.2 mm.

【0005】このような反射層と色素を含有する記録層
とを密着して設ける密着型の媒体の場合には、特に、記
録層の記録光および再生光に対し、60%以上、特にC
D規格では70%以上の反射率をもつ必要がある。この
ため、特開平2−79235号公報等に開示されている
とおり、反射層には、反射率が高く、しかも耐食性が良
いAu薄膜が使用されている。
In the case of a contact type medium in which such a reflective layer and a recording layer containing a dye are provided in close contact with each other, particularly 60% or more, particularly C of the recording light and the reproducing light of the recording layer.
The D standard requires a reflectance of 70% or more. Therefore, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2-79235, an Au thin film having a high reflectance and a high corrosion resistance is used for the reflective layer.

【0006】しかし、Auは、やわらかいため、記録光
を記録層に照射して記録マーク部を形成すると、記録層
の熱膨張によって記録マーク部上のAu薄膜が変形する
ことがある。このため、再生出力波形であるアイパター
ンが乱れたり、ジッターの増加を招いてしまう。
However, since Au is soft, when the recording layer is irradiated with recording light to form the recording mark portion, the Au thin film on the recording mark portion may be deformed due to thermal expansion of the recording layer. Therefore, the eye pattern, which is the reproduced output waveform, is disturbed and jitter is increased.

【0007】また、Auは高価であるため、反射層とし
て、Ag、Cu等の比較的安価な金属薄膜を使用する提
案がされている。例えば、特開平2−79235号、同
2−87341号公報等には、反射層としてAg薄膜や
Cu薄膜等を使用する具体例が記載されている。
Since Au is expensive, it has been proposed to use a relatively inexpensive metal thin film such as Ag or Cu as the reflective layer. For example, Japanese Patent Laid-Open Nos. 2-79235 and 2-87341 disclose specific examples of using a Ag thin film, a Cu thin film, or the like as a reflective layer.

【0008】しかし、Cu薄膜やAg薄膜の場合、成膜
当初は70%程度の反射率が得られるが、耐食性が不十
分である。
However, in the case of a Cu thin film or an Ag thin film, a reflectance of about 70% is obtained at the beginning of film formation, but its corrosion resistance is insufficient.

【0009】一方、Au、AgおよびCu以外の金属薄
膜、例えばAl薄膜では、十分な反射率が得られない。
On the other hand, a metal thin film other than Au, Ag, and Cu, such as an Al thin film, cannot provide sufficient reflectance.

【0010】このため、Au以外の金属薄膜を反射層に
適用した光記録ディスクは、エラーレートが大きく、実
用が困難である。
Therefore, an optical recording disk in which a metal thin film other than Au is applied to the reflective layer has a large error rate and is difficult to put into practical use.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、反射
率が高く、しかも耐食性が良い反射層を有し、アイパタ
ーンの乱れやジッターの増加がなく、しかもエラーレー
トが小さく、良好な記録や再生を行なうことができる光
記録媒体を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to have a reflective layer having a high reflectance and a good corrosion resistance, without disturbing the eye pattern and increasing the jitter, and having a small error rate and good recording. Another object of the present invention is to provide an optical recording medium that can be reproduced.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(6)の本発明により達成される。
The above objects are achieved by the present invention described in (1) to (6) below.

【0013】(1)基板上に記録層を有し、この記録層
上に、Cuと、5at%以上40at%未満のAgとを
含有する合金薄膜の反射層を有することを特徴とする光
記録媒体。
(1) An optical recording comprising a recording layer on a substrate, and a reflective layer of an alloy thin film containing Cu and 5 at% or more and less than 40 at% Ag on the recording layer. Medium.

【0014】(2)前記記録層は色素を含有し、前記記
録層上に密着して前記反射層を積層して構成され、記録
光を前記記録層に照射して記録マーク部を形成し、再生
光により再生を行なう上記(1)に記載の光記録媒体。
(2) The recording layer contains a dye and is formed by laminating the reflective layer in close contact with the recording layer, and recording light is irradiated onto the recording layer to form a recording mark portion. The optical recording medium according to (1) above, which reproduces with reproduction light.

【0015】(3)基板側から再生光を照射したとき、
未記録部分の反射率が60%以上であり、記録部分の反
射率が未記録部分の反射率の60%以下であり、記録光
および再生光の波長における前記記録層の消衰係数kが
0.01〜0.25であり、記録光および再生光の波長
における前記記録層の屈折率nが1.8〜4.0であ
り、記録光および再生光の波長が600〜900nmであ
る上記(2)に記載の光記録媒体。
(3) When reproducing light is radiated from the substrate side,
The reflectance of the unrecorded portion is 60% or more, the reflectance of the recorded portion is 60% or less of the reflectance of the unrecorded portion, and the extinction coefficient k of the recording layer at the wavelengths of the recording light and the reproducing light is 0. 0.01 to 0.25, the refractive index n of the recording layer at the wavelengths of the recording light and the reproducing light is 1.8 to 4.0, and the wavelengths of the recording light and the reproducing light are 600 to 900 nm. The optical recording medium according to 2).

【0016】(4)前記記録マーク部の前記基板と前記
記録層の界面部には、記録層材質の分解物を含有し、か
つ基板材質を実質的に含有しない層が存在している上記
(2)または(3)に記載の光記録媒体。
(4) At the interface between the substrate and the recording layer of the recording mark portion, there is a layer containing a decomposition product of the recording layer material and substantially not containing the substrate material. The optical recording medium according to 2) or (3).

【0017】(5)前記記録マーク部には、空隙が形成
されている上記(4)に記載の光記録媒体。
(5) The optical recording medium as described in (4) above, wherein a void is formed in the recording mark portion.

【0018】(6)前記反射層上に保護膜を有し、この
保護膜の25℃における鉛筆硬度がH〜8Hである上記
(2)ないし(5)のいずれかに記載の光記録媒体。
(6) The optical recording medium as described in any of (2) to (5) above, which has a protective film on the reflective layer, and has a pencil hardness of H to 8H at 25 ° C.

【0019】[0019]

【作用】本発明の光記録媒体の反射層に用いる合金薄膜
は、反射率が高く、しかも耐食性が高い。このため、エ
ラーレートが小さく、良好な記録や再生を行なうことが
できる光記録媒体が実現する。
The alloy thin film used for the reflective layer of the optical recording medium of the present invention has a high reflectance and a high corrosion resistance. Therefore, an optical recording medium having a small error rate and capable of excellent recording and reproduction is realized.

【0020】また、基板上に記録層を有し、この記録層
上に密着して反射層を積層した光記録媒体の場合、反射
層が硬いため、記録光を記録層に照射して記録マーク部
を形成しても、記録マーク部上の反射層が変形しない。
このため、アイパターンの乱れやジッターの増加が生じ
ない。
Further, in the case of an optical recording medium having a recording layer on a substrate and a reflective layer laminated on the recording layer in close contact, the recording layer is irradiated with recording light because the reflective layer is hard. Even if the portion is formed, the reflective layer on the recording mark portion is not deformed.
Therefore, the disturbance of the eye pattern and the increase of jitter do not occur.

【0021】なお、特開昭57−186244号公報に
は、基板上に40at%より多量のAgを含むAg−C
u合金薄膜の反射層を有する光学読取情報ディスクが記
載されている。この光学読取情報ディスクは、記録層の
ない再生専用ディスクであるため、反射層について何の
問題も生じない。
[0021] In Japanese Patent Laid-Open No. 186244/1982, Ag-C containing Ag in an amount of more than 40 at% on the substrate.
An optical read information disc having a reflective layer of a u alloy thin film is described. Since this optical read information disc is a read-only disc having no recording layer, no problem occurs in the reflective layer.

【0022】しかし、Ag−Cu合金薄膜の場合、Ag
が40at%以上含まれていると、光記録媒体の反射層
としての十分な硬さが得られない。このため、特に、記
録層上に密着して反射層を積層した光記録媒体の場合、
記録光を照射して記録マーク部を形成すると、記録層の
熱膨張によって記録マーク部上の反射層が変形してしま
うことがある。そして、この結果、アイパターンが乱れ
たり、ジッターの増加を招いてしまう。
However, in the case of Ag-Cu alloy thin film, Ag
Of 40 at% or more, sufficient hardness as a reflection layer of the optical recording medium cannot be obtained. Therefore, particularly in the case of an optical recording medium in which a reflective layer is laminated in close contact with the recording layer,
When the recording mark portion is formed by irradiating the recording light, the reflective layer on the recording mark portion may be deformed due to thermal expansion of the recording layer. As a result, the eye pattern is disturbed and jitter is increased.

【0023】これに対し本発明では、Cu−Ag合金薄
膜のAgの含有量を40at% 未満に規制するため、前記
のとおり十分な硬さを有する反射層とすることができ
る。
On the other hand, in the present invention, the content of Ag in the Cu-Ag alloy thin film is regulated to less than 40 at%, so that the reflection layer having sufficient hardness can be obtained as described above.

【0024】[0024]

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。
Specific Structure The specific structure of the present invention will be described in detail below.

【0025】本発明の光記録媒体は、基板上に記録層を
有し、この記録層上に反射層を有する。この場合、記録
層は、後から情報を記録できるものであれば特に制限は
ないが、ここでは好適例として図1に示される光記録媒
体を例に挙げて説明する。
The optical recording medium of the present invention has a recording layer on the substrate and a reflective layer on the recording layer. In this case, the recording layer is not particularly limited as long as it can record information later, but here, the optical recording medium shown in FIG. 1 will be described as a preferred example.

【0026】この光記録媒体1は、基板2上に、色素を
含有する記録層3を有し、記録層3に密着して、反射層
4、保護膜5を形成した密着型のものである。
This optical recording medium 1 is a contact type in which a recording layer 3 containing a dye is provided on a substrate 2, and a reflective layer 4 and a protective film 5 are formed in close contact with the recording layer 3. .

【0027】基板2は、記録光および再生光(600〜
900nm程度、特に700〜800nm程度の半導体レー
ザー光、特に780nm)に対し、実質的に透明(好まし
くは透過率80%以上)な樹脂あるいはガラスから形成
される。これにより、基板裏面側からの記録および再生
が可能となる。
The substrate 2 includes recording light and reproducing light (600-
It is formed of a resin or glass that is substantially transparent (preferably a transmittance of 80% or more) to a semiconductor laser beam of about 900 nm, particularly 700 to 800 nm, especially 780 nm. This enables recording and reproduction from the back side of the substrate.

【0028】基板2は、通常のサイズのディスク状であ
って、CDとして用いる場合、厚さは1.2mm程度、直
径は80ないし120mm程度とする。
The substrate 2 is in the shape of a disk of a normal size, and when used as a CD, the thickness is about 1.2 mm and the diameter is about 80 to 120 mm.

【0029】この場合、基板材質としては、樹脂を用い
ることが好ましく、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹
脂、アモルファスポリオレフィン、TPX等の各種熱可
塑性樹脂が好適である。
In this case, it is preferable to use resin as the substrate material, and various thermoplastic resins such as polycarbonate resin, acrylic resin, amorphous polyolefin, TPX and the like are preferable.

【0030】なお、必要に応じ、基板2の外表面、内表
面の少なくとも一方と、さらに必要に応じ、内・外周面
に酸素遮断性の被膜を形成してもよい。
If necessary, an oxygen barrier film may be formed on at least one of the outer surface and the inner surface of the substrate 2 and, if necessary, on the inner and outer peripheral surfaces.

【0031】基板2の記録層3形成面には、トラッキン
グ用のグルーブが形成されることが好ましい。
A groove for tracking is preferably formed on the surface of the substrate 2 on which the recording layer 3 is formed.

【0032】グルーブは、スパイラル状の連続型グルー
ブであることが好ましく、深さは250A以上、特に6
00A以上、2200A以下、特に1800A以下、幅
は0.2〜1.1μm、特に0.3〜0.6μm、ラン
ド(隣り合うグルーブ同士の間の部分)幅は0.5〜
1.4μm、特に1.0〜1.3μmであることが好ま
しい。
The groove is preferably a spiral continuous groove having a depth of 250 A or more, especially 6
00A or more and 2200A or less, particularly 1800A or less, a width of 0.2 to 1.1 μm, particularly 0.3 to 0.6 μm, and a land (a portion between adjacent grooves) width of 0.5 to
It is preferably 1.4 μm, and particularly preferably 1.0 to 1.3 μm.

【0033】グルーブをこのような構成とすることによ
り、グルーブ部の反射レベルを下げることなく良好なト
ラッキング信号を得ることができる。なお、グルーブに
は、アドレス信号用の凹凸を設けることもできる。
With such a structure of the groove, a good tracking signal can be obtained without lowering the reflection level of the groove portion. It should be noted that the groove may be provided with unevenness for address signals.

【0034】本発明では、基板がグルーブを有する場
合、記録光はグルーブ内の記録層に照射されるよう構成
されることが好ましい。すなわち、本発明の光記録媒体
は、グルーブ記録の光記録媒体として用いられることが
好ましい。グルーブ記録とすることにより、記録層の有
効厚さを大きくすることができる。
In the present invention, when the substrate has a groove, it is preferable that the recording light is applied to the recording layer in the groove. That is, the optical recording medium of the present invention is preferably used as an optical recording medium for groove recording. By using groove recording, the effective thickness of the recording layer can be increased.

【0035】また、基板2上に図示しない樹脂層を例え
ば2P法により設層して、樹脂層にトラッキング用の溝
やアドレス信号用の凹凸を設けてもよい。
Further, a resin layer (not shown) may be formed on the substrate 2 by, for example, the 2P method, and a groove for tracking or an unevenness for address signal may be provided in the resin layer.

【0036】樹脂層を構成する樹脂材質に特に制限はな
く、いわゆる2P法に用いられる公知の樹脂から適宜に
選択すればよいが、通常、放射線硬化型化合物が用いら
れる。
The resin material forming the resin layer is not particularly limited and may be appropriately selected from known resins used in the so-called 2P method, but a radiation-curable compound is usually used.

【0037】記録層3は、1種あるいは2種以上の色素
を相溶して形成される。
The recording layer 3 is formed by compatibilizing one kind or two or more kinds of dyes.

【0038】この場合、光吸収色素にクエンチャーを混
合してもよく、さらに、色素カチオンとクエンチャーア
ニオンとのイオン結合体を光吸収色素として用いてもよ
い。
In this case, the light absorbing dye may be mixed with a quencher, and an ionic combination of a dye cation and a quencher anion may be used as the light absorbing dye.

【0039】記録層3の記録光および再生光波長におけ
る消衰係数(複素屈折率の虚部)kは、0.01〜0.
25、より好ましくは0.03〜0.25であることが
好ましい。kが前記範囲未満となると記録層の吸収率が
低下し、通常の記録パワーで記録を行なうことが困難で
ある。また、kが0.25をこえると、反射率が60%
を下回ってしまい、CD規格による再生を行なうことが
困難である。この場合、k0.02〜0.10、特に
0.03〜0.05であると、きわめて好ましい結果を
うる。
The extinction coefficient (imaginary part of complex refractive index) k of the recording layer 3 at the wavelengths of the recording light and the reproducing light is 0.01 to 0.
It is preferably 25, more preferably 0.03 to 0.25. When k is less than the above range, the absorptivity of the recording layer is lowered, and it is difficult to perform recording with normal recording power. When k exceeds 0.25, the reflectance is 60%.
, Which makes it difficult to perform reproduction according to the CD standard. In this case, a value of k 0.02 to 0.10, particularly 0.03 to 0.05, gives extremely preferable results.

【0040】また、屈折率(複素屈折率の実部)nは、
1.8〜4.0、より好ましくは、2.2〜3.3であ
ることが好ましい。n<1.8では反射率が低下し、C
D規格による再生が困難となる傾向にある。また、n>
4.0とするためには、原料色素の入手が難しい。
The refractive index (real part of complex refractive index) n is
It is preferably 1.8 to 4.0, more preferably 2.2 to 3.3. When n <1.8, the reflectance decreases and C
Reproduction according to the D standard tends to be difficult. Also, n>
To obtain 4.0, it is difficult to obtain the raw material dye.

【0041】nおよびkの測定に際しては、所定の透明
基板上に記録層を例えば400〜1000A 程度の厚さ
に実際の条件にて設層して、測定サンプルを作製する。
次いで、基板を通しての、あるいは記録層側からの反射
率を測定する。反射率は記録再生光波長を用いて鏡面反
射(5°程度)にて測定する。また、サンプルの透過率
を測定する。これらの測定値から、例えば、共立全書
「光学」石黒浩三P168〜178に準じ、n、kを算
出すればよい。
When measuring n and k, a recording layer is formed on a predetermined transparent substrate to a thickness of about 400 to 1000 A under actual conditions to prepare a measurement sample.
Then, the reflectance through the substrate or from the recording layer side is measured. The reflectance is measured by specular reflection (about 5 °) using the recording / reproducing light wavelength. In addition, the transmittance of the sample is measured. From these measured values, for example, n and k may be calculated according to Kyoritsu Zensho "Optical" Kozo Ishiguro P168-178.

【0042】用いる光吸収性の色素としては、吸収極大
が600〜900nm、好ましくは600〜800nm、よ
り好ましくは650〜750nmであれば、他に特に制限
はないが、シアニン系、フタロシアニン系、ナフタロシ
アニン系、アントラキノン系、アゾ系、トリフェニルメ
タン系、ピリリウムないしチアピリリウム塩系、スクワ
リリウム系、クロコニウム系、金属錯体色素系等の1種
ないし2種以上が好ましい。
The light absorbing dye to be used is not particularly limited as long as it has an absorption maximum of 600 to 900 nm, preferably 600 to 800 nm, and more preferably 650 to 750 nm. One or more of phthalocyanine type, anthraquinone type, azo type, triphenylmethane type, pyrylium or thiapyrylium salt type, squarylium type, croconium type, metal complex dye type and the like are preferable.

【0043】シアニン色素としては、インドレニン環、
特にベンゾインドレニン環を有するシアニン色素である
ことが好ましい。
Cyanine dyes include indolenine ring,
A cyanine dye having a benzoindolenine ring is particularly preferable.

【0044】記録層3の設層方法には特に制限がなく、
例えば、各種溶媒等を用いて塗布によって設層したり、
蒸着等公知の方法を用いればよい。
The method for forming the recording layer 3 is not particularly limited,
For example, layering by coating using various solvents,
A known method such as vapor deposition may be used.

【0045】記録層3の厚さは、ランド部で500〜2
000A とすることが好ましい。この範囲外では反射率
が低下して、CD規格の再生を行うことが難しくなる。
The thickness of the recording layer 3 is 500 to 2 at the land portion.
It is preferably 000A. Outside this range, the reflectance decreases and it becomes difficult to reproduce the CD standard.

【0046】このような記録層3には、直接密着して反
射層4が設層される。
A reflective layer 4 is provided on the recording layer 3 so as to be in direct contact therewith.

【0047】反射層4は、CuとAgとを含有する合金
薄膜で構成される。前記の合金薄膜を用いることによ
り、高い反射率が得られ、Cu薄膜やAg薄膜に比べ、
膜の耐食性が格段と向上し、しかもAu薄膜に比べ、膜
の硬度が格段と増加する。
The reflective layer 4 is composed of an alloy thin film containing Cu and Ag. By using the above alloy thin film, a high reflectance is obtained, and compared with Cu thin film and Ag thin film,
The corrosion resistance of the film is remarkably improved, and the hardness of the film is remarkably increased as compared with the Au thin film.

【0048】反射層4中のAgの含有量は、40at%
未満とする。40at%以上であると、膜の硬さが不十
分であるため、記録光を記録層3に照射して記録マーク
部6を形成する際、記録層3の熱膨張により、記録マー
ク部6上の反射層4が変形してしまう。このため、アイ
パターンが乱れたり、ジッターが増加する。
The content of Ag in the reflective layer 4 is 40 at%.
Less than When the content is 40 at% or more, the hardness of the film is insufficient. Therefore, when the recording layer 3 is irradiated with recording light to form the recording mark portion 6, thermal expansion of the recording layer 3 causes the recording mark portion 6 to remain on the recording mark portion 6. The reflective layer 4 is deformed. Therefore, the eye pattern is disturbed and the jitter is increased.

【0049】ただし、Agの含有量が少なすぎると、耐
食性が不十分である。例えば、高温・高湿下で長期間保
存あるいは使用すると、膜の反射率が低下し、エラーが
増加する。また、反射層4中のCuが色素を含有する記
録層3中に拡散し易くなり、悪い影響を及ぼす。
However, if the content of Ag is too small, the corrosion resistance is insufficient. For example, when it is stored or used for a long period of time under high temperature and high humidity, the reflectance of the film decreases and the error increases. Further, Cu in the reflective layer 4 easily diffuses into the recording layer 3 containing a dye, which has a bad influence.

【0050】前記の理由から、反射層4中のAgの含有
量の上限は、好ましくは38at% 、より好ましくは36
at% 、特に好ましくは35at% である。
For the above reason, the upper limit of the Ag content in the reflective layer 4 is preferably 38 at%, more preferably 36 at%.
at%, particularly preferably 35 at%.

【0051】また、下限は5at%、より好ましくは6
at%、さらに好ましくは8at%、特に好ましくは1
0at%である。
The lower limit is 5 at%, more preferably 6 at%.
at%, more preferably 8 at%, particularly preferably 1
It is 0 at%.

【0052】反射層4の厚さは500A 以上であること
が好ましく、蒸着、スパッタ等により設層すればよい。
また、厚さの上限に特に制限はないが、コスト、生産作
業時間等を考慮すると、1200A 程度以下であること
が好ましい。
The reflective layer 4 preferably has a thickness of 500 A or more, and may be formed by vapor deposition, sputtering or the like.
Although the upper limit of the thickness is not particularly limited, it is preferably about 1200 A or less in consideration of cost, production work time and the like.

【0053】これにより、反射層4単独での反射率は、
90%以上、媒体の未記録部の基板をとおしての反射率
は、60%以上、特に70%以上がえられる。
Accordingly, the reflectance of the reflective layer 4 alone is
The reflectance of 90% or more, the reflectance of the unrecorded portion of the medium through the substrate is 60% or more, and particularly 70% or more.

【0054】反射層4上には、保護膜5が設層される。A protective film 5 is formed on the reflective layer 4.

【0055】保護膜5は、例えば紫外線硬化樹脂等の各
種樹脂材質から、通常は、0.1〜100μm 程度の厚
さに設層すればよい。保護膜5は、層状であってもシー
ト状であってもよい。
The protective film 5 may be formed of various resin materials such as an ultraviolet curable resin, etc., usually in a thickness of about 0.1 to 100 μm. The protective film 5 may be layered or sheet-shaped.

【0056】保護膜5は、特に放射線硬化型化合物およ
び光重合増感剤を含有する塗膜を放射線硬化したもので
あることが好ましい。そして、保護膜5の硬度が、25
℃における鉛筆硬度(JIS K−5400)で、H〜
8H、特に2H〜7Hであるように構成されることが好
ましい。
The protective film 5 is preferably a radiation-cured coating film containing a radiation-curable compound and a photopolymerization sensitizer. The hardness of the protective film 5 is 25
The pencil hardness (JIS K-5400) at C is from H to
It is preferably configured to be 8H, especially 2H to 7H.

【0057】このように構成することにより、アイパタ
ーンがより一層良好になり、ジッターが格段と減少す
る。また、高温・高湿あるいは温湿度変化条件下の保存
においても、保護膜と反射層との剥離が生じない。より
具体的には、保護膜の硬度がHより軟らかいとアイパタ
ーンが乱れ、ジッターが増大し、8Hより硬くなると塗
膜がもろくなり膜形成能が低下する他、反射層との接着
力が低下する。
With this structure, the eye pattern is further improved and the jitter is remarkably reduced. Further, the protective film and the reflective layer do not peel off even when stored under conditions of high temperature and high humidity or changes in temperature and humidity. More specifically, if the hardness of the protective film is softer than H, the eye pattern will be disturbed and jitter will increase, and if it is harder than 8H, the coating film will become brittle and the film forming ability will decrease, and also the adhesive force with the reflective layer will decrease. To do.

【0058】このような保護膜形成に用いる放射線硬化
型化合物には、オリゴエステルアクリレートが含まれる
ことが好ましい。
The radiation-curable compound used for forming such a protective film preferably contains an oligoester acrylate.

【0059】オリゴエステルアクリレートは、アクリレ
ート基またはメタクリレート基を複数有するオリゴエス
テル化合物である。そして好ましいオリゴエステルアク
リレートとしては、分子量1000〜10000、好ま
しくは2000〜7000であって、重合度2〜10、
好ましくは、3〜5のものが挙げられる。また、これら
のうちアクリレート基またはメタクリレート基を2〜6
個、好ましくは3〜6個有する多官能オリゴエステルア
クリレートが好ましい。
The oligoester acrylate is an oligoester compound having a plurality of acrylate groups or methacrylate groups. And preferable oligoester acrylate has a molecular weight of 1,000 to 10,000, preferably 2,000 to 7,000 and a polymerization degree of 2 to 10,
Preferably, 3-5 are mentioned. Further, among these, 2 to 6 acrylate groups or methacrylate groups are used.
Polyfunctional oligoester acrylates having one, preferably 3 to 6, are preferred.

【0060】また、上記の化合物に加えて、あるいはこ
れにかえて熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによ
って得られる放射線硬化型化合物を用いてもよい。
In addition to the above compounds, or in place of this, a radiation curable compound obtained by subjecting a thermoplastic resin to radiation-sensitive modification may be used.

【0061】このような放射線硬化型化合物の保護膜の
膜厚は0.1〜30μm 、より好ましくは1〜10μm
である。
The thickness of the protective film of such a radiation-curable compound is 0.1 to 30 μm, more preferably 1 to 10 μm.
Is.

【0062】この膜厚が0.1μm 未満になると、一様
な膜を形成しにくく、湿度が高い雰囲気中での防湿効果
が十分でなく、記録層の耐久性が下がる。しかも、ジッ
ター防止効果が低下する。また、30μm をこえると、
樹脂膜の硬化の際に伴う収縮により記録媒体の反りや保
護膜中のクラックが生じやすい。
When the film thickness is less than 0.1 μm, it is difficult to form a uniform film, the moisture-proof effect in an atmosphere with high humidity is not sufficient, and the durability of the recording layer is lowered. Moreover, the effect of preventing jitter is reduced. If it exceeds 30 μm,
Due to the shrinkage that accompanies the curing of the resin film, the warp of the recording medium and the cracks in the protective film are likely to occur.

【0063】このような塗膜は、通常、スピンナーコー
ト、グラビア塗布、スプレーコート、ディッピング等、
種々の公知の方法を組み合わせて設層すればよい。この
時の塗膜の設層条件は、塗膜組成の混合物の粘度、目的
とする塗膜厚さ等を考慮して適宜決定すればよい。
Such a coating film is usually formed by spinner coating, gravure coating, spray coating, dipping, etc.
Layers may be formed by combining various known methods. The layer forming conditions of the coating film at this time may be appropriately determined in consideration of the viscosity of the mixture of the coating film composition, the target coating film thickness, and the like.

【0064】本発明において塗膜に照射する放射線とし
ては、紫外線、電子線等が挙げられるが、紫外線が好ま
しい。
The radiation for irradiating the coating film in the present invention includes ultraviolet rays and electron beams, but ultraviolet rays are preferable.

【0065】紫外線を用いる場合には、前述したような
放射線硬化型化合物の中には、通常、光重合増感剤が加
えられる。
When ultraviolet rays are used, a photopolymerization sensitizer is usually added to the above radiation-curable compounds.

【0066】光重合増感剤としては、例えば、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、α−メ
チルベンゾイン、α−クロルデオキシベンゾイン等のベ
ンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェノン、モルホ
リノジメチルメチル−4−メチルチオフェニルケトン、
ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン類、ア
セトラキノン、フェナントラキノン等のキノン類、ベン
ジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフィ
ド等のスルフィド類等を挙げることができる。
Examples of the photopolymerization sensitizer include benzoin compounds such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, α-methylbenzoin, α-chlordeoxybenzoin, benzophenone, acetophenone, morpholinodimethylmethyl-4-methylthiophenyl ketone,
Examples thereof include ketones such as bisdialkylaminobenzophenone, quinones such as acetoraquinone and phenanthraquinone, and sulfides such as benzyl disulfide and tetramethylthiuram monosulfide.

【0067】そして、このような光重合増感剤と放射線
硬化型化合物を含有する塗膜を紫外線によって硬化させ
るには、公知の種々の方法に従えばよい。たとえば、キ
セノン放電管、水銀放電管などの紫外線電球等を用いれ
ばよい。また、場合によっては電子線を用いることもで
きる。
To cure a coating film containing such a photopolymerization sensitizer and a radiation-curable compound by ultraviolet rays, various known methods may be used. For example, a UV bulb such as a xenon discharge tube or a mercury discharge tube may be used. An electron beam can also be used depending on the case.

【0068】このような構成の光記録媒体1に記録ない
し追記を行なうには、例えば780nmの記録光を、基板
2をとおしてパルス状に照射する。
In order to perform recording or additional recording on the optical recording medium 1 having such a structure, for example, recording light having a wavelength of 780 nm is irradiated through the substrate 2 in a pulsed manner.

【0069】これにより、記録層3が光を吸収して発熱
し、同時に基板2も加熱される。この結果、基板2と記
録層3との界面近傍において、色素等の記録層材質の融
解や分解が生じ、記録層3と基板2との界面に圧力が加
わり、グルーブの底壁や側壁を変形させることがある。
As a result, the recording layer 3 absorbs light to generate heat, and the substrate 2 is also heated at the same time. As a result, in the vicinity of the interface between the substrate 2 and the recording layer 3, the recording layer material such as a dye is melted or decomposed, pressure is applied to the interface between the recording layer 3 and the substrate 2, and the bottom wall or side wall of the groove is deformed. There is something to do.

【0070】この場合記録層3の融解物や分解物を含有
する分解物層61が、通常グルーブ23の底部および境
界を覆うような形状に残存する。分解物層61の材質
は、実質的に基板材質を含まない材質であり、記録層材
質の分解物あるいは記録層材質の分解物と、記録層材質
との混合物によって構成される。分解物層61は、記録
層3の厚さの通常30〜95%程度の厚さである。
In this case, the decomposed product layer 61 containing the melted product or the decomposed product of the recording layer 3 usually remains in a shape that covers the bottom and the boundary of the groove 23. The material of the decomposed material layer 61 is a material that does not substantially include the substrate material, and is composed of a decomposed material of the recording layer material or a mixture of the decomposed material of the recording layer material and the recording layer material. The decomposed material layer 61 is usually about 30 to 95% of the thickness of the recording layer 3.

【0071】そして、通常、分解物層61上には、反射
層との界面に空隙63が形成され、分解物層61と、空
隙63とが記録マーク部6に形成される。空隙63は、
記録層3の厚さの通常5〜70%程度の厚さである。
In general, a void 63 is formed on the decomposed material layer 61 at the interface with the reflective layer, and the decomposed material layer 61 and the void 63 are formed in the recording mark portion 6. The void 63 is
It is usually about 5 to 70% of the thickness of the recording layer 3.

【0072】また、このような記録過程において、基板
2は変形しない場合もあるが、通常、基板2の記録マー
ク部6は、加熱時の圧力によってグルーブのエッジがだ
れることになる。
Although the substrate 2 may not be deformed in such a recording process, the recording mark portion 6 of the substrate 2 usually has the groove edge blunted by the pressure during heating.

【0073】また、空隙63上には、反射層4に密着し
て微小膜厚にて記録層3ないしその分解物等が残存する
こともある。
In addition, the recording layer 3 or a decomposed product of the recording layer 3 or the like may remain on the void 63 with a small film thickness in close contact with the reflective layer 4.

【0074】このように、記録マーク部6の基板2と記
録層3との界面部には、実質的に基板材質を含有しない
層が形成される。
As described above, a layer containing substantially no substrate material is formed at the interface between the substrate 2 and the recording layer 3 of the recording mark portion 6.

【0075】なお、記録光のパワーは、通常、5〜9mW
程度、基板回転線速度は1.2〜1.4m/s 程度とすれ
ばよい。
The recording light power is usually 5 to 9 mW.
The substrate rotation linear velocity may be about 1.2 to 1.4 m / s.

【0076】このようにして記録マーク部6を形成した
のち、例えば780nmの再生光を、基板2をとおして
照射すると、記録マーク部6により光の位相差を生じ、
反射率が未記録部分の60%以下、特に50%以下、さ
らには40%以下に低下する。一方、未記録部では、6
0%以上、特に70%以上の高反射率を示しているの
で、CD規格による再生が可能となる。
After the recording mark portion 6 is formed in this way, when the reproducing light of, for example, 780 nm is irradiated through the substrate 2, the recording mark portion 6 causes a phase difference of light,
The reflectance is reduced to 60% or less, particularly 50% or less, and further 40% or less of the unrecorded portion. On the other hand, in the unrecorded area, 6
Since it has a high reflectance of 0% or more, particularly 70% or more, reproduction according to the CD standard is possible.

【0077】再生光のパワーは、0.1〜10mW程度と
する。
The power of the reproducing light is about 0.1-10 mW.

【0078】なお、前記の光記録媒体は、本発明の光記
録媒体の1例であり、このほか、変調された熱ビームあ
るいは変調された磁界により、情報が磁気的に記録さ
れ、記録情報は磁気−光変換して再生される、いわゆる
光磁気記録媒体であってもよい。この場合、記録層は、
光磁気記録が行なえるものであればその材質に特に制限
はないが、希土類金属元素を含有する合金、特に希土類
金属と遷移金属との合金を、スパッタ、蒸着法、イオン
プレーティング法等により、非晶質膜として形成したも
のであることが好ましい。
The above-mentioned optical recording medium is an example of the optical recording medium of the present invention. In addition to this, the information is magnetically recorded by the modulated heat beam or the modulated magnetic field, and the recorded information is It may be a so-called magneto-optical recording medium that is magnetic-optically converted and reproduced. In this case, the recording layer is
The material is not particularly limited as long as magneto-optical recording can be performed, but an alloy containing a rare earth metal element, particularly an alloy of a rare earth metal and a transition metal, by sputtering, vapor deposition method, ion plating method, etc. It is preferably formed as an amorphous film.

【0079】また、本発明に用いる反射層は、光学式ビ
デオディスク、コンパクトディスク等の情報を予め担持
している再生専用の光再生媒体に適用することも可能で
ある。
The reflective layer used in the present invention can also be applied to a read-only optical reproducing medium such as an optical video disc or a compact disc which carries information in advance.

【0080】ただ、好ましくは、前述したように色素を
含有する記録層上に密着して反射層を積層して構成した
光記録媒体である。
However, the optical recording medium is preferably formed by laminating the reflective layer in close contact with the recording layer containing the dye as described above.

【0081】[0081]

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below by showing specific examples of the present invention.

【0082】実施例1 連続グルーブを有する120mmφ、厚さ1.2mmのポリ
オレフィン樹脂基板上に色素を含有する記録層を設層し
た。この記録層上に、スパッタリングによりCu−Ag
合金薄膜を1000A 厚に設層して反射層とし、さら
に、オリゴエステルアクリレートを含有する紫外線硬化
型樹脂を塗布した後紫外線硬化して5μm厚の保護膜と
し、光記録ディスクサンプルNo. 1を得た。
Example 1 A recording layer containing a dye was formed on a 120 mmφ, 1.2 mm thick polyolefin resin substrate having continuous grooves. Cu-Ag is sputtered on this recording layer.
An optical recording disk sample No. 1 was obtained by forming an alloy thin film with a thickness of 1000 A to form a reflection layer, and further applying an ultraviolet curing resin containing an oligoester acrylate and then ultraviolet curing to form a protective film with a thickness of 5 μm. It was

【0083】サンプルNo. 1の記録層に含有される色素
を下記化1に示す。
The dye contained in the recording layer of Sample No. 1 is shown in Chemical Formula 1 below.

【0084】[0084]

【化1】 Embedded image

【0085】記録層の設層は、基板を500〜3000
rpm で回転させながらスピンコート塗布により行なっ
た。塗布溶液としては、5.0wt% シクロヘキサノン溶
液を用いた。記録層の厚さはグルーブ部で2800A 、
ランド部で1800A であった。また、記録層の屈折率
(n)は2.3、消衰係数(k)は、0.03であっ
た。
The recording layer is formed on the substrate by 500 to 3000.
Spin coating was performed while rotating at rpm. As a coating solution, a 5.0 wt% cyclohexanone solution was used. The thickness of the recording layer is 2800A at the groove,
The land area was 1800A. The recording layer had a refractive index (n) of 2.3 and an extinction coefficient (k) of 0.03.

【0086】nおよびkは、上記色素を含有する溶液を
測定用基板上に乾燥膜厚1000Aに成膜して被検記録
層とし、この被検記録層のnおよびkを測定することに
より求めた。なお、この測定は、「光学」(石黒浩三
著、共立全書)第168〜178ページの記載に準じて
行なった。また、上記化1に示される色素を含有する記
録層の測定に際しては、溶媒にシクロヘキサノン、測定
用基板にポリオレフィン基板を用いた。
The values n and k are obtained by forming a solution containing the above dye on a measurement substrate to form a dry film thickness of 1000 A as a test recording layer, and measuring n and k of the test recording layer. It was In addition, this measurement was performed according to the description of "Optics" (Kozo Ishiguro, Kyoritsu Zensho), pages 168-178. In the measurement of the recording layer containing the dye represented by the above chemical formula 1, cyclohexanone was used as the solvent and a polyolefin substrate was used as the measurement substrate.

【0087】反射層のCu−Ag合金薄膜の組成は、C
65Ag35(at% )であり、成膜条件は、下記のとおり
であった。
The composition of the Cu-Ag alloy thin film of the reflective layer is C
u 65 Ag 35 (at%), and the film forming conditions were as follows.

【0088】スパッタ圧力:1.0Pa 投入パワー:11.0W/cm2 Sputtering pressure: 1.0 Pa Input power: 11.0 W / cm 2

【0089】なお、Cu−Ag合金薄膜の組成は、誘導
結合高周波プラズマ分光分析にて求めた。
The composition of the Cu-Ag alloy thin film was determined by inductively coupled high frequency plasma spectroscopy.

【0090】また、保護膜は、下記の放射線硬化型化合
物および光重合増感剤を含む塗布組成物をスピンナーコ
ートで設層した。
As the protective film, a coating composition containing the following radiation-curable compound and photopolymerization sensitizer was applied by spinner coating.

【0091】(塗布組成物) 多官能オリゴエステルアクリレート[オリゴエステルアクリレート(3官能以 上)30重量%、トリメチルプロパンアクリレート70重量%、商品名アロニッ クスM−8030;東亜合成社製] 100重量部 光重合増感剤(商品名:IRGACURE907;日本チバガイギー社製) 5重量部(Coating composition) Polyfunctional oligoester acrylate [30% by weight of oligoester acrylate (trifunctional or higher), 70% by weight of trimethylpropane acrylate, trade name Aronix M-8030; manufactured by Toagosei Co., Ltd.] 100 parts by weight Photopolymerization sensitizer (trade name: IRGACURE907; manufactured by Nippon Ciba Geigy) 5 parts by weight

【0092】このような塗布組成物を設層後、120W/
cmの紫外線を15sec 照射し架橋硬化させ、硬化膜とし
た。この膜の鉛筆硬度は2Hであった。
After applying such a coating composition, 120 W /
An ultraviolet ray of cm was irradiated for 15 seconds to crosslink and cure to obtain a cured film. The pencil hardness of this film was 2H.

【0093】また、反射層のみを下記表1に示される薄
膜にかえたほかはサンプルNo.1と同様として、サン
プルNo.2〜No.7を製造した。
Sample No. 3 was replaced with the thin film shown in Table 1 below only the reflective layer. Sample No. 2 to No. 7 was produced.

【0094】得られたサンプルNo. 1およびNo. 2に対
し、波長780nm、7mWのレーザーにてEFM信号の記
録を行ない、次いで市販のコンパクトディスクプレーヤ
で再生を行なった。
EFM signals were recorded on the obtained samples No. 1 and No. 2 with a laser having a wavelength of 780 nm and 7 mW, and then reproduced on a commercially available compact disc player.

【0095】この結果、S/N比が高く、良好な再生を
行なうことができた。なお、未記録部で70%以上の反
射率が得られ、記録部の反射率は未記録部の反射率の4
0%以下であった。
As a result, the S / N ratio was high, and good reproduction could be performed. A reflectance of 70% or more was obtained in the unrecorded area, and the reflectance of the recorded area was 4 times that of the unrecorded area.
It was 0% or less.

【0096】次に、各サンプルに対し、下記の評価を行
なった。
Next, the following evaluation was performed on each sample.

【0097】1)反射率 サンプルに対し、波長780nm、7mWのレーザーにてE
FM信号の記録を行なった後、市販のコンパクトディス
クプレーヤで再生を行なって記録部のItop レベルの反
射率を測定した。
1) Reflectance E with a laser of wavelength 780 nm, 7 mW for the sample
After recording the FM signal, reproduction was performed with a commercially available compact disc player to measure the reflectance at the Itop level of the recording portion.

【0098】次いで、サンプルを温度80℃、湿度80
%RHの環境中に200時間放置した後、同様に記録部
のItop レベルの反射率を測定した。
Then, the sample was placed at a temperature of 80 ° C. and a humidity of 80.
After being left in an environment of% RH for 200 hours, the reflectance at the Itop level of the recording portion was similarly measured.

【0099】そして、各サンプルの初期の反射率を基準
(1.00)とし、サンプルNo. 1〜No. 6それぞれに
ついて規格化された反射率を算出した。
Then, using the initial reflectance of each sample as a reference (1.00), the normalized reflectance of each of Samples No. 1 to No. 6 was calculated.

【0100】評価基準 ○…規格化した反射率が0.93超 ×…規格化した反射率が0.93未満Evaluation Criteria O: Standardized reflectance is over 0.93 X: Normalized reflectance is less than 0.93

【0101】2)C1エラー 市販のコンパクトディスクプレーヤで再生を行なって、
初期および200時間(80℃、80%RH)後のC1
エラーを測定した。
2) C1 error Playback with a commercially available compact disc player
C1 initially and after 200 hours (80 ° C, 80% RH)
The error was measured.

【0102】この場合、C1エラーのCD規格は、22
0(カウント/秒)以内である。
In this case, the C1 error CD standard is 22.
It is within 0 (count / second).

【0103】評価基準 ○…C1エラー220(カウント/秒)以内 ×…C1エラー220(カウント/秒)超Evaluation Criteria ○ ... Within C1 error 220 (counts / second) × ... Over C1 error 220 (counts / second)

【0104】3)アイパターンの乱れ 初期のアイパターンをオシロスコープを用いて観察し、
その乱れ具合を○、△、×の3段階で評価した。
3) Disturbance of eye pattern Observing the initial eye pattern using an oscilloscope,
The degree of disorder was evaluated on a three-point scale of ○, Δ, and ×.

【0105】評価基準 ○…アイパターンの乱れなし △…アイパターンの立ち上がり部分が少し乱れる ×…アイパターンの立ち上がり部分が乱れるEvaluation Criteria ◯: Eye pattern is not disturbed △: Eye pattern rising portion is slightly disturbed × ... Eye pattern rising portion is disturbed

【0106】なお、サンプルNo. 1の初期のアイパター
ンのオシロ波形の写真を図2、No.4の初期のアイパタ
ーンのオシロ波形の写真を図3に示す。
A photograph of the oscilloscope waveform of the initial eye pattern of sample No. 1 is shown in FIG. 2, and a photograph of the oscilloscope waveform of the initial eye pattern of sample No. 4 is shown in FIG.

【0107】4)ジッター 市販のコンパクトディスクプレーヤで再生を行なって、
初期および200時間(80℃、80%RH)後のジッ
ターを測定した。評価装置は、MEGURO社製CDジ
ッターメーターMJM−631を使用した。
4) Jitter Playback with a commercially available compact disc player,
Jitter was measured at the initial stage and after 200 hours (80 ° C., 80% RH). As the evaluation device, a CD jitter meter MJM-631 manufactured by MEGURO was used.

【0108】評価基準 ○…30ns未満 ×…30ns以上Evaluation Criteria ○: Less than 30 ns ×: 30 ns or more

【0109】結果は表1に示されるとおりである。The results are shown in Table 1.

【0110】[0110]

【表1】 [Table 1]

【0111】表1に示される結果から本発明の効果が明
らかである。
From the results shown in Table 1, the effect of the present invention is clear.

【0112】なお、各サンプルの保護膜の鉛筆硬度を下
げたところ、アイパターンが少し乱れ、ジッターの増加
がみられた。
When the pencil hardness of the protective film of each sample was lowered, the eye pattern was slightly disturbed and the jitter was increased.

【0113】また、反射層中のAgの含有量をかえた各
種サンプルを作製し、前記と同様の評価を行なったとこ
ろ、同等の結果が得られた。
Further, various samples having different Ag contents in the reflective layer were prepared and evaluated in the same manner as the above, and the same result was obtained.

【0114】実施例2 実施例1において、ポリオレフィン樹脂基板のかわり
に、ポリカーボネート樹脂基板を用い、記録層の設層の
際塗布溶液の溶媒にシクロヘキサノンのかわりにジアセ
トンアルコールを用いるほかは同様にしてサンプルを作
製した。サンプルNo.1〜No.6に対応させてサン
プルNo.21〜No.26とする。サンプルNo.2
1〜No.26について実施例1と同様の操作を行ない
同様の評価を行なったところ、サンプルNo.1〜N
o.6と対応して同等の結果が得られた。
Example 2 In the same manner as in Example 1, except that a polycarbonate resin substrate was used instead of the polyolefin resin substrate, and diacetone alcohol was used instead of cyclohexanone as the solvent of the coating solution when forming the recording layer. A sample was prepared. Sample No. 1 to No. Sample No. 6 corresponding to No. 6 21-No. 26. Sample No. Two
1 to No. The same operation as in Example 1 was performed on Sample No. 26, and the same evaluation was performed. 1 to N
o. Equivalent results were obtained corresponding to 6.

【0115】[0115]

【発明の効果】本発明の光記録媒体では、反射層の、耐
食性、耐湿性が良いため、高温、高湿下での使用や長期
保存を行なっても高反射率が維持される。このため、エ
ラーレートが小さく、良好な記録や再生を行なうことが
できる光記録媒体が実現する。
In the optical recording medium of the present invention, since the reflective layer has good corrosion resistance and moisture resistance, the high reflectance can be maintained even when it is used under high temperature and high humidity or is stored for a long time. Therefore, an optical recording medium having a small error rate and capable of excellent recording and reproduction is realized.

【0116】また、本発明の密着型の光記録媒体によれ
ば、高反射率で、しかも記録マーク部での大きな反射率
低下を示すので、CD規格による再生を行なうことので
きる良好な光記録が可能となる。
Further, according to the close contact type optical recording medium of the present invention, since the reflectance is high and the reflectance is greatly reduced at the recording mark portion, good optical recording capable of reproducing according to the CD standard is performed. Is possible.

【0117】しかも、従来のAu薄膜の反射層を形成し
た光記録媒体とは異なり、良好なアイパターンが得ら
れ、ジッターも少なく、さらに、コスト的に有利であ
る。
Moreover, unlike the conventional optical recording medium in which the reflective layer of the Au thin film is formed, a good eye pattern can be obtained, the jitter is small, and the cost is advantageous.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の光記録媒体を示す部分断面図である。FIG. 1 is a partial cross-sectional view showing an optical recording medium of the present invention.

【図2】オシロ波形を示す図面代用写真であって、本発
明の光記録媒体のアイパターンが示される写真である。
FIG. 2 is a drawing-substitute photograph showing an oscilloscope waveform, showing an eye pattern of the optical recording medium of the present invention.

【図3】オシロ波形を示す図面代用写真であって、従来
の光記録媒体のアイパターンが示される写真である。
FIG. 3 is a drawing-substitute photograph showing an oscilloscope waveform, showing an eye pattern of a conventional optical recording medium.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…光記録媒体 2…基板 21…ランド部 23…グループ 3…記録層 4…反射層 5…保護膜 6…記録マーク部 61…分解物層 63…空隙 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Optical recording medium 2 ... Substrate 21 ... Land part 23 ... Group 3 ... Recording layer 4 ... Reflective layer 5 ... Protective film 6 ... Recording mark part 61 ... Decomposition layer 63 ... Void

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 基板上に記録層を有し、この記録層上
に、Cuと、5at%以上40at%未満のAgとを含
有する合金薄膜の反射層を有することを特徴とする光記
録媒体。
1. An optical recording medium having a recording layer on a substrate, and having a reflective layer of an alloy thin film containing Cu and 5 at% or more and less than 40 at% Ag on the recording layer. .
【請求項2】 前記記録層は色素を含有し、前記記録層
上に密着して前記反射層を積層して構成され、 記録光を前記記録層に照射して記録マーク部を形成し、
再生光により再生を行なう請求項1に記載の光記録媒
体。
2. The recording layer contains a dye and is constituted by laminating the reflective layer in close contact with the recording layer, and irradiating the recording layer with recording light to form a recording mark portion,
The optical recording medium according to claim 1, wherein reproduction is performed with reproduction light.
【請求項3】 基板側から再生光を照射したとき、未記
録部分の反射率が60%以上であり、記録部分の反射率
が未記録部分の反射率の60%以下であり、記録光およ
び再生光の波長における前記記録層の消衰係数kが0.
01〜0.25であり、記録光および再生光の波長にお
ける前記記録層の屈折率nが1.8〜4.0であり、記
録光および再生光の波長が600〜900nmである請求
項2に記載の光記録媒体。
3. When the reproducing light is irradiated from the substrate side, the reflectance of the unrecorded portion is 60% or more, and the reflectance of the recorded portion is 60% or less of the reflectance of the unrecorded portion. The extinction coefficient k of the recording layer at the wavelength of the reproducing light is 0.
The refractive index n of the recording layer at the wavelengths of the recording light and the reproducing light is 1.8 to 4.0, and the wavelengths of the recording light and the reproducing light are 600 to 900 nm. The optical recording medium according to 1.
【請求項4】 前記記録マーク部の前記基板と前記記録
層の界面部には、記録層材質の分解物を含有し、かつ基
板材質を実質的に含有しない層が存在している請求項2
または3に記載の光記録媒体。
4. A layer containing a decomposition product of a recording layer material and substantially not containing a substrate material is present at an interface portion between the substrate and the recording layer of the recording mark portion.
Or the optical recording medium according to item 3.
【請求項5】 前記記録マーク部には、空隙が形成され
ている請求項4に記載の光記録媒体。
5. The optical recording medium according to claim 4, wherein a void is formed in the recording mark portion.
【請求項6】 前記反射層上に保護膜を有し、この保護
膜の25℃における鉛筆硬度がH〜8Hである請求項2
ないし5のいずれかに記載の光記録媒体。
6. A protective film is provided on the reflective layer, and the pencil hardness of the protective film at 25 ° C. is H to 8H.
6. The optical recording medium according to any one of 1 to 5.
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