JPH0367410A - 荷電ビーム位置検出方法 - Google Patents
荷電ビーム位置検出方法Info
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- JPH0367410A JPH0367410A JP1202609A JP20260989A JPH0367410A JP H0367410 A JPH0367410 A JP H0367410A JP 1202609 A JP1202609 A JP 1202609A JP 20260989 A JP20260989 A JP 20260989A JP H0367410 A JPH0367410 A JP H0367410A
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Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
- Measuring Magnetic Variables (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はビーム電流値が小さい荷電ビームの位置を、ビ
ームを散乱させることなしに高速に測定することを特徴
とする荷電ビーム位置検出方法に関するものである。
ームを散乱させることなしに高速に測定することを特徴
とする荷電ビーム位置検出方法に関するものである。
(従来の技術)
従来、荷電ビームの位置を検出するには、(a)ビーム
の経路に蛍光材料を塗布した板を挿入してその輝点を目
視する。 (blウェハのような荷電ビームの照射対象
が存在するときには、照射対象上に第2図に一例を示す
ようなビーム位置検出用マークlを形威し、このマーク
をビーム2により走査し、その反射荷電粒子の信号強度
の変化により検出する。3はLSIチップを示す、(C
)第3図に一例を示すような一組の電極4a、4bを荷
電ビーム近傍に設置し、荷電粒子による静電誘導により
それぞれに電極に生じる接地間との電位差を測定し、こ
れらの電位差の比から算出する方法が使われている。
の経路に蛍光材料を塗布した板を挿入してその輝点を目
視する。 (blウェハのような荷電ビームの照射対象
が存在するときには、照射対象上に第2図に一例を示す
ようなビーム位置検出用マークlを形威し、このマーク
をビーム2により走査し、その反射荷電粒子の信号強度
の変化により検出する。3はLSIチップを示す、(C
)第3図に一例を示すような一組の電極4a、4bを荷
電ビーム近傍に設置し、荷電粒子による静電誘導により
それぞれに電極に生じる接地間との電位差を測定し、こ
れらの電位差の比から算出する方法が使われている。
(発明が解決しようとする!1ra)
従来の技術(a)では荷電ビームの位置検出中に荷電ビ
ームを散乱させてしまう、また、目視であるのでビーム
の位置を定量的に測定することはできない、イ)の検出
法ではビームが位置検出用マーク上にある場合しか検出
できないので位置検出として不完全である。また、(C
)の検出方法では荷電ビームの電流値が小さいと電極に
生じる電位差が非常に小さくなり、この微小な電位差を
、高速に検出することは熱雑音等の影響により非常に困
難である。また、測定猜度が電極の機械的加工猜度に依
存するのでサブミクロンオーダでのビーム位Xの検出に
は不適当である。
ームを散乱させてしまう、また、目視であるのでビーム
の位置を定量的に測定することはできない、イ)の検出
法ではビームが位置検出用マーク上にある場合しか検出
できないので位置検出として不完全である。また、(C
)の検出方法では荷電ビームの電流値が小さいと電極に
生じる電位差が非常に小さくなり、この微小な電位差を
、高速に検出することは熱雑音等の影響により非常に困
難である。また、測定猜度が電極の機械的加工猜度に依
存するのでサブミクロンオーダでのビーム位Xの検出に
は不適当である。
本発明は、上記の問題を解決するために提案されたもの
で、ビーム電流値が小さい荷電ビームにおいて、ビーム
の位置をビームを散乱させることなしに高速に検出でき
る荷電ビーム位置検出方法を提供することを目的として
いる。
で、ビーム電流値が小さい荷電ビームにおいて、ビーム
の位置をビームを散乱させることなしに高速に検出でき
る荷電ビーム位置検出方法を提供することを目的として
いる。
(課題を解決するための手段)
上記の目的を達成するため、本発明は荷電ビームにより
生しる磁界を、2ケ所以上において磁束量子干渉計(S
QUID磁束計)を用いることにより、ビームの位置を
検出することを特徴とする荷電ビーム位置検出方法を発
明の要旨とするものである。
生しる磁界を、2ケ所以上において磁束量子干渉計(S
QUID磁束計)を用いることにより、ビームの位置を
検出することを特徴とする荷電ビーム位置検出方法を発
明の要旨とするものである。
(作用)
荷電ビームの電流がr (A)の時、ビームからの距離
r (m)とビームによって生じる磁界の磁束密度B
(T)の関係は次式のようになる。
r (m)とビームによって生じる磁界の磁束密度B
(T)の関係は次式のようになる。
したがって荷電ビーム電流■が既知のとき、磁界の磁束
密度Bを高感度な磁束計によって検出すれば、ビームか
らの距離「を算出することが可能である。ビームによっ
て生じる磁界を測定することは非接触であるので、ビー
ムを散乱することはない、また、ジョセフソン接合を利
用している5QUID[束計を用いれば、検出感度が非
常に高く、かつ応答特性が良く磁界を測定できる。さら
に、磁界の測定を複数の点において行えば、演算により
上式中の変数Iを消去できるので荷電ビーム電流値の影
響を受けずにビーム位置を検出することが可能である。
密度Bを高感度な磁束計によって検出すれば、ビームか
らの距離「を算出することが可能である。ビームによっ
て生じる磁界を測定することは非接触であるので、ビー
ムを散乱することはない、また、ジョセフソン接合を利
用している5QUID[束計を用いれば、検出感度が非
常に高く、かつ応答特性が良く磁界を測定できる。さら
に、磁界の測定を複数の点において行えば、演算により
上式中の変数Iを消去できるので荷電ビーム電流値の影
響を受けずにビーム位置を検出することが可能である。
(実施例)
次に本発明の実施例について説明する。なお実施例は一
つの例示であって、本発明の精神を逸脱しない範囲で、
種々の変更があるいは改良を行いうることは言うまでも
ない。
つの例示であって、本発明の精神を逸脱しない範囲で、
種々の変更があるいは改良を行いうることは言うまでも
ない。
第1図は5QUID磁束計を用いた1次元のビーム位置
測定における本発明の実施例の構成国である0図におい
て、5a、5bは5QLIIDI束計エレクトロニクス
、6a、6bはジョセフソン接合等が収納されている5
QUI Dプローブであり、このエレクトロニクスとプ
ローブの2つで5QUID磁束計が構成される。7a、
7bは超伝導線でつくられているピックアップコイルで
あり、この2個のピックアップコイル7a、7bと荷電
ビーム2は一直線上に位置する。このとき2つのピック
アップコイル7a、7bの間隔は2r(m)である、8
は演算回路であり、2個の5QUID磁束計の出力から
荷電ビーム位置を算出する。9はピックアップコイル7
a、7bとS、QUID1束計プローブ6a、6bを超
伝導現象が起きる極低温に保つためのデユワ−であり、
デユワ−内部には液体ヘリウム10が満たされている。
測定における本発明の実施例の構成国である0図におい
て、5a、5bは5QLIIDI束計エレクトロニクス
、6a、6bはジョセフソン接合等が収納されている5
QUI Dプローブであり、このエレクトロニクスとプ
ローブの2つで5QUID磁束計が構成される。7a、
7bは超伝導線でつくられているピックアップコイルで
あり、この2個のピックアップコイル7a、7bと荷電
ビーム2は一直線上に位置する。このとき2つのピック
アップコイル7a、7bの間隔は2r(m)である、8
は演算回路であり、2個の5QUID磁束計の出力から
荷電ビーム位置を算出する。9はピックアップコイル7
a、7bとS、QUID1束計プローブ6a、6bを超
伝導現象が起きる極低温に保つためのデユワ−であり、
デユワ−内部には液体ヘリウム10が満たされている。
このデユワ−9は磁界に対してトランスペアレントであ
るように非磁性体材料で製作されている。11は金属箔
製の輻射熱シールドであり、回りからの輻射熱によりデ
ユワ−9の温度が上がるのを防ぐ、 12はμメタル製
の電磁シールドであり、ピックアップコイル7a、フb
が荷電ビーム以外から発生した磁界(地磁気、電灯線か
らの磁気雑音等)を検出することを防止する。
るように非磁性体材料で製作されている。11は金属箔
製の輻射熱シールドであり、回りからの輻射熱によりデ
ユワ−9の温度が上がるのを防ぐ、 12はμメタル製
の電磁シールドであり、ピックアップコイル7a、フb
が荷電ビーム以外から発生した磁界(地磁気、電灯線か
らの磁気雑音等)を検出することを防止する。
以上のように構成された実施例についてその動作を説明
する。
する。
荷電ビーム2により生じる磁界13はビームを中心に同
心円状であり、この磁界はピックアップコイル7a、7
bと鎖交する。ピックアップコイル7a、7bには、そ
れぞれ鎖交した磁界を打ち消す方向に電流が流れる。こ
の電流は5QUIDプローブ6a、6bの中で電圧に変
換され、5QUID磁束計エレクトロニクス5a、5b
でm界の磁束密度に換算される0本実施例のようにピッ
クアップコイル7a、フbと荷電ビーム2が一直線上に
位置し、2個のピックアップコイル7a、7bの間隔が
2r(m)のとき、ピックアップコイル7a、7bと鎖
交する磁界の磁束密度をそれぞれB、、B! (T)
とすると、図中のX=Oの点からのビーム位置の変位量
Δx (m)は、Bl+Bl となる、このようにして荷電ビームにより生じる磁界を
5QtJIDI711束計により測定すれば荷電ビーム
電流値の変化を受けずにビーム位置を検出することがで
きる。
心円状であり、この磁界はピックアップコイル7a、7
bと鎖交する。ピックアップコイル7a、7bには、そ
れぞれ鎖交した磁界を打ち消す方向に電流が流れる。こ
の電流は5QUIDプローブ6a、6bの中で電圧に変
換され、5QUID磁束計エレクトロニクス5a、5b
でm界の磁束密度に換算される0本実施例のようにピッ
クアップコイル7a、フbと荷電ビーム2が一直線上に
位置し、2個のピックアップコイル7a、7bの間隔が
2r(m)のとき、ピックアップコイル7a、7bと鎖
交する磁界の磁束密度をそれぞれB、、B! (T)
とすると、図中のX=Oの点からのビーム位置の変位量
Δx (m)は、Bl+Bl となる、このようにして荷電ビームにより生じる磁界を
5QtJIDI711束計により測定すれば荷電ビーム
電流値の変化を受けずにビーム位置を検出することがで
きる。
(発明の効果)
本発明によれば、荷電ビームにより生しる磁界を、2ケ
所以上において磁束量子干渉計(SQLIID磁束計)
を用いることにより、ビームの位置を検出することで、
他の非接触計測法では検出が困難な微小電流値の荷電ビ
ームにおいてもビームの位置を高速に検出でき、しかも
ビームに対する影響はほとんど無い、また、荷電ビーム
電流値の影響を受けずに荷電ビーム位置を検出すること
ができる。したがって、本発明は電子ビーム描画装置に
適用することが可能で、その場合ビーム位置を実時間で
計測できるのでショット位置の監視に用いることができ
、これは電子ビーム描画装置の信頼性を向上させる。
所以上において磁束量子干渉計(SQLIID磁束計)
を用いることにより、ビームの位置を検出することで、
他の非接触計測法では検出が困難な微小電流値の荷電ビ
ームにおいてもビームの位置を高速に検出でき、しかも
ビームに対する影響はほとんど無い、また、荷電ビーム
電流値の影響を受けずに荷電ビーム位置を検出すること
ができる。したがって、本発明は電子ビーム描画装置に
適用することが可能で、その場合ビーム位置を実時間で
計測できるのでショット位置の監視に用いることができ
、これは電子ビーム描画装置の信頼性を向上させる。
本実施例では1次元のビーム位置検出について述べたが
、本装置2組を直交させれば2次元のビーム位置検出が
可能である。また、本実施例ではピックアップコイルと
してO次微分型を用いたが、1次以上の高次微分型を用
いても同様な効果を得ることができる。さらに、荷電ビ
ームが比較的高い周波数のパルス列状の場合は、ピック
アンプコイルに超伝導線を使用しなくても同様な効果を
得ることができる。
、本装置2組を直交させれば2次元のビーム位置検出が
可能である。また、本実施例ではピックアップコイルと
してO次微分型を用いたが、1次以上の高次微分型を用
いても同様な効果を得ることができる。さらに、荷電ビ
ームが比較的高い周波数のパルス列状の場合は、ピック
アンプコイルに超伝導線を使用しなくても同様な効果を
得ることができる。
第1図は5QUID磁束計を用いた本発明の荷電ビーム
位置検出方法の実施例の構成図、第2図は従来の荷電ビ
ーム位置計測に用いられている位置検出マークの一例、
第3図は従来の荷電ビーム位置計測に用いられている静
電誘導用電極の一例を示す。 l・・・・・位置検出マーク 2・・・・・荷電ビーム 3・・・・・LSIチップ 4a、4b−電極 5a、5b−3QUIDiff束計エレクトロニクス6
a、6b−3QUIDift束計プローブ?a、7b・
ピックアップコイ、ル ・演算回路 ・デユワ− ・液体ヘリウム ・輻射熱シールド ・を磁シールド ・磁界 第1図
位置検出方法の実施例の構成図、第2図は従来の荷電ビ
ーム位置計測に用いられている位置検出マークの一例、
第3図は従来の荷電ビーム位置計測に用いられている静
電誘導用電極の一例を示す。 l・・・・・位置検出マーク 2・・・・・荷電ビーム 3・・・・・LSIチップ 4a、4b−電極 5a、5b−3QUIDiff束計エレクトロニクス6
a、6b−3QUIDift束計プローブ?a、7b・
ピックアップコイ、ル ・演算回路 ・デユワ− ・液体ヘリウム ・輻射熱シールド ・を磁シールド ・磁界 第1図
Claims (1)
- 荷電ビームにより生じる磁界を、2ケ所以上において磁
束量子干渉計(SQUID磁束計)を用いることにより
、ビームの位置を検出することを特徴とする荷電ビーム
位置検出方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1202609A JPH0367410A (ja) | 1989-08-04 | 1989-08-04 | 荷電ビーム位置検出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1202609A JPH0367410A (ja) | 1989-08-04 | 1989-08-04 | 荷電ビーム位置検出方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0367410A true JPH0367410A (ja) | 1991-03-22 |
Family
ID=16460249
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1202609A Withdrawn JPH0367410A (ja) | 1989-08-04 | 1989-08-04 | 荷電ビーム位置検出方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0367410A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005076039A1 (ja) * | 2004-02-10 | 2005-08-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | ビーム測定装置およびこれを用いたビーム測定方法 |
-
1989
- 1989-08-04 JP JP1202609A patent/JPH0367410A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005076039A1 (ja) * | 2004-02-10 | 2005-08-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | ビーム測定装置およびこれを用いたビーム測定方法 |
US7535220B2 (en) | 2004-02-10 | 2009-05-19 | Panasonic Corporation | Beam measuring equipment and beam measuring method using the same |
TWI395250B (zh) * | 2004-02-10 | 2013-05-01 | Panasonic Corp | Beam measuring device, beam measuring method, beam control method and beam irradiation method |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19961114 |