JPH0365538B2 - - Google Patents
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 62
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 62
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 49
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 38
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 14
- ILBBNQMSDGAAPF-UHFFFAOYSA-N 1-(6-hydroxy-6-methylcyclohexa-2,4-dien-1-yl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1C=CC=CC1(C)O ILBBNQMSDGAAPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 29
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 18
- -1 azide compounds Chemical class 0.000 description 12
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 12
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 10
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 238000007644 letterpress printing Methods 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 6
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 241000700159 Rattus Species 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000909536 Gobiesocidae Species 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940081735 acetylcellulose Drugs 0.000 description 2
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 2
- RAPZEAPATHNIPO-UHFFFAOYSA-N risperidone Chemical compound FC1=CC=C2C(C3CCN(CC3)CCC=3C(=O)N4CCCCC4=NC=3C)=NOC2=C1 RAPZEAPATHNIPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 2
- KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)oxirane;4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound ClCC1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCYPECIVGRXBMO-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)azobenzene Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 JCYPECIVGRXBMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWTBRYBHCBCJEQ-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-phenyldiazenylnaphthalen-1-yl)diazenyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1N=NC(C1=CC=CC=C11)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 FWTBRYBHCBCJEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 4-diazoniophenolate Chemical compound [O-]C1=CC=C([N+]#N)C=C1 WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLFVRXUOSPRRKQ-VHEBQXMUSA-N CI Pigment Red 3 Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC(C)=CC=C1\N=N\C1=C(O)C=CC2=CC=CC=C12 ZLFVRXUOSPRRKQ-VHEBQXMUSA-N 0.000 description 1
- 229920001634 Copolyester Polymers 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N [(2R,3S,4S,5R,6R)-5-acetyloxy-3,4,6-trihydroxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound CC(=O)OC[C@@H]1[C@H]([C@@H]([C@H]([C@@H](O1)O)OC(=O)C)O)O SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- NHXXLZBKTKNTEF-UHFFFAOYSA-N chembl1997306 Chemical compound CC1=CC=CC(N=NC=2C(=CC(=CC=2)N=NC=2C3=CC=CC=C3C=CC=2O)C)=C1 NHXXLZBKTKNTEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGAZMNJKRQFZKS-UHFFFAOYSA-N chloroethene;ethenyl acetate Chemical compound ClC=C.CC(=O)OC=C HGAZMNJKRQFZKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001851 cinnamic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- 238000010017 direct printing Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002655 kraft paper Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 239000011088 parchment paper Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/50—Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の詳細な説明〕
本発明は、感光性樹脂層の凹凸成型方法に係
り、時に印刷用感光性樹脂凹凸版の改良された製
版方法を提供しようとするものである。[Detailed Description of the Invention] [Detailed Description of the Invention] The present invention relates to a method for forming unevenness on a photosensitive resin layer, and sometimes aims to provide an improved plate-making method for a photosensitive resin uneven printing plate for printing. be.
また、本発明は、上記方法を実施するために使
用する半遮光性材料及び該材料を張り付けた原稿
パターンを提供しようとするものである。 The present invention also provides a semi-light-shielding material used to carry out the above method, and a document pattern pasted with the material.
従来、液状又は半固形状の感光性樹脂を使用
し、それを適当な厚みの層状にし、文字、図形、
模様等種々な図柄を有するフイルムからなる原稿
パターンを介して活性光線を露光せしめ感光性樹
脂を光硬化又は光可溶化せしめて、しかる後不要
部分を除去した凹凸成型物は、ネームプレート、
各種装飾材料、更には、凸版、凹版等の印刷版、
新聞印刷用等の印刷版母型などの用途に広く使用
されている。 Conventionally, liquid or semi-solid photosensitive resin is used and layered to an appropriate thickness to create characters, figures, etc.
The concave-convex molded product is made by exposing the photosensitive resin to photocuring or photosolubilizing it by exposing it to actinic rays through a manuscript pattern made of a film with various designs such as patterns, and then removing unnecessary parts.
Various decorative materials, as well as printing plates such as letterpress and intaglio,
It is widely used for applications such as printing plate matrices for newspaper printing, etc.
以下、感光性樹脂層を用いた凹凸成型方法を感
光性樹脂製凸版の場合を例として従来技術を説明
する。 Hereinafter, a conventional technique of a method for molding concavo-convex molding using a photosensitive resin layer will be explained using a case of a letterpress plate made of a photosensitive resin as an example.
凸版印刷を行うための凸版は、活版印刷、フレ
キソ印刷等の印刷方式で使用される印刷版である
が、印刷方式等に応じ、あるいは原稿パターンに
応じ、所定のレリーフ深度、シヨルダー角度、及
び硬度等を有する原稿パターンに忠実な印刷用凸
版を得ることが必要である。そのために感光性樹
脂を用いて凸版を製版する場合、時に活性光線の
露光に際しては、感光性樹脂の種類、性能等に応
じて、所望の印刷版を得るための標準となるべき
最適露光条件が設定されている場合が一般的であ
る。そしてそれらの最適露光条件とは、原稿パタ
ーンの種類により区別されているもので、例え
ば、レリーフ深度１mmの版で、0.1mmのけい線の
みからなる同一のパターンの凸版製版の場合は、
標準光源で例えば10分間、0.3mmのけい線の場合
は、６分間というように示めされている。従つ
て、同一の巾のけい線のみからなる原稿パターン
を用いた場合は、上記最適露光条件になるよう露
光することによつて所望の精度、レリーフ深度、
シヨルダー角度、硬度等を有する印刷版を得るこ
とが出来るものである。 A letterpress plate for letterpress printing is a printing plate used in printing methods such as letterpress printing and flexo printing, but depending on the printing method etc. or the original pattern, a predetermined relief depth, shoulder angle, and hardness may be applied. It is necessary to obtain a printing relief plate that is faithful to the original pattern, etc. For this reason, when making letterpress plates using a photosensitive resin, sometimes when exposing to actinic rays, the optimum exposure conditions that should be the standard for obtaining the desired printing plate are determined depending on the type and performance of the photosensitive resin. Generally, it is set. These optimal exposure conditions are differentiated depending on the type of original pattern. For example, in the case of a letterpress plate with a relief depth of 1 mm and the same pattern consisting only of 0.1 mm groove lines,
For example, 10 minutes with a standard light source and 6 minutes with a 0.3 mm scale line. Therefore, when using a document pattern consisting only of groove lines of the same width, the desired precision, relief depth, and
It is possible to obtain a printing plate having a good shoulder angle, hardness, etc.
しかしながら、実際の凸版を製版する場合にお
いては、一つの原稿パターン中には、前述したよ
うに、文字、図形、模様等が混在するものであ
り、表現を変えれば、独立した種々のけい線、点
等からなる独立パターン部分、ベタ部分あるい
は、抜きパターン部分等からなるものである。そ
れゆえ、このような場合の原稿パターンを用い
て、各パターンごとにそれぞれ最適露光条件を満
足する形で露光を行うとすると極めて複雑な操作
を必要とするものであつた。一般に、光硬化型感
光性樹脂を用いる場合、露光量が多いほどレリー
フ深度が浅くなり、独立パターンになるほどレリ
ーフ深度が深くなり、一方抜きパターンになるほ
どレリーフ深度が浅くなる傾向がある。一方光可
溶化型感光性樹脂の場合には前記と逆の傾向があ
る。光硬化型感光性樹脂を用いる際には、原稿パ
ターンの露光を行う前に予め裏面からバツク露光
を行い、感光性樹脂層の支持体側の一部を光硬化
させる。このバツク露光により、支持体と感光性
樹脂層との接着性を保ちかつレリーフ深度を調整
することができる。独立パターン部分及び抜きパ
ターン部分が混在する原稿パターンの場合の製版
方法について図面を用い、以下説明する。 However, in the case of actual letterpress printing, one manuscript pattern contains a mixture of characters, figures, patterns, etc., as described above, and to put it another way, various independent ruler lines, It consists of an independent pattern portion consisting of dots, etc., a solid portion, a punched pattern portion, etc. Therefore, if the original patterns in such a case were to be used to expose each pattern in a manner that satisfies the optimum exposure conditions, an extremely complicated operation would be required. Generally, when using a photocurable photosensitive resin, the relief depth tends to become shallower as the exposure amount increases, the relief depth tends to become deeper as the pattern becomes an independent pattern, and the relief depth tends to become shallower as the pattern becomes an open pattern. On the other hand, in the case of photo-solubilizable photosensitive resins, there is a tendency opposite to the above. When using a photocurable photosensitive resin, back exposure is performed from the back side before exposing the document pattern to photocure a portion of the photosensitive resin layer on the support side. This back exposure makes it possible to maintain adhesion between the support and the photosensitive resin layer and to adjust the relief depth. A plate-making method for a document pattern in which an independent pattern portion and a cut-out pattern portion coexist will be described below with reference to the drawings.
第１図及び第２図は、光硬化型感光性樹脂を用
いて凹凸成型した場合の印刷用凸版の断面を示す
図であり、Ａは独立パターン部分３及び抜きパタ
ーン部分４を有する原稿パターンのネガフイルム
を示し、Ｂは感光性樹脂版を示し、１は、凹凸形
成後（未硬化部分を除去したもの）の感光性樹脂
の硬化層を、２は、感光性樹脂の支持体を示す。 FIGS. 1 and 2 are diagrams showing the cross section of a relief plate for printing in the case of concave-convex molding using a photocurable photosensitive resin. 1 indicates a negative film, B indicates a photosensitive resin plate, 1 indicates a cured layer of photosensitive resin after unevenness has been formed (uncured portions have been removed), and 2 indicates a support of photosensitive resin.
ここで、第１図は、原稿パターンの独立パター
ン部分３に最適露光を与えた場合を示すもので、
独立パターン部分３に相当する硬化層３′では、
しつかりとした基部（シヨルダー角度）をもつ凸
部が形成されているが、抜きパターン部分４に相
当する硬化層４′では、所望のレリーフ深度を有
しない浅い凹部が形成されてしまうものである。
なお５はベタ部分を示し、５′と５′はその硬化部
分を示す。このような露光条件で製版を行うと、
印刷時にこの浅い凹部に印刷インキが流れ込み、
目的とする抜きパターン部分４を有する原稿に忠
実な印刷が出きず、いわゆる「つぶれ」という問
題が発生する結果となる。 Here, FIG. 1 shows the case where optimum exposure is given to the independent pattern portion 3 of the original pattern.
In the hardened layer 3' corresponding to the independent pattern portion 3,
Although a convex portion with a firm base (shoulder angle) is formed, in the hardened layer 4' corresponding to the punched pattern portion 4, a shallow concave portion that does not have the desired relief depth is formed. .
Note that 5 indicates a solid portion, and 5' and 5' indicate its hardened portion. When plate making is performed under these exposure conditions,
During printing, printing ink flows into these shallow recesses,
It is not possible to print faithfully to the document having the intended cut-out pattern portion 4, resulting in a problem of so-called "deformation".
一方、第２図は逆に抜きパターン部分４に対し
て最適露光条件を与えた場合を示すもので、抜き
パターン部分４に相当する硬化層４″では、前述
の問題は防止出来るが、独立パターン部分３に相
当する硬化層３″では、凹部の基部が硬化不足と
なり、不要部分の除去段階でやせ細つたり、欠落
したりして、所望の強度、精度を有する印刷用凸
版が得られないという問題があつた。 On the other hand, FIG. 2 shows the case where the optimum exposure conditions are applied to the punched pattern portion 4. In the hardened layer 4'' corresponding to the punched pattern portion 4, the above-mentioned problem can be prevented, but the independent pattern In the hardened layer 3'' corresponding to portion 3, the base of the concave portion is insufficiently hardened and becomes thin or missing during the removal stage of unnecessary portions, making it impossible to obtain a printing relief plate having the desired strength and precision. There was a problem.
それゆえ、種々の独立パターン部分、ベタ部分
及び抜きパターン部分等が混在する原稿パターン
を用いた製版においては、前述の理由から、従
来、まず最初抜きパターン部分のうちでもより微
細なものから、それぞれ最適露光条件で全面露光
し、その後、該微細抜きパターン部分のみを黒化
フイルム、紙等の遮光率100％の遮光材で覆いあ
るいは、遮光液を塗布し、次の原稿パターンに対
応する分だけの追加露光を行い、このような操作
を複数回行つた後、最大の露光量を必要とする微
細独立パターンの最適露光条件になるまで分割追
加露光を行う方法が従来とられていたのである。 Therefore, in plate making using a manuscript pattern that includes a mixture of various independent pattern parts, solid parts, cutout pattern parts, etc., for the reasons mentioned above, conventionally, the finer cutout pattern parts are first processed, and then each The entire surface is exposed under optimal exposure conditions, and then only the fine punched pattern part is covered with a 100% light-shielding material such as a blackened film or paper, or a light-shielding liquid is applied to the area corresponding to the next document pattern. The conventional method has been to carry out additional exposure, perform such operations multiple times, and then perform additional divided exposure until the optimum exposure conditions for the fine independent pattern requiring the maximum exposure amount are reached.
しかしながら、この方法では、最適露光条件が
異なるパターンが混在する分だけ分割露光を複数
回行なわねばならないこと、また、そのたびに遮
光材を貼つたり、はずしたりする手間がかかるこ
と及び、そのたびごとに露光時間を制御しなけれ
ばならないこと等、複雑な原稿パターンの製版に
おいて、作業の繁雑性、作業効率において問題を
存するものであつた。 However, with this method, it is necessary to perform divided exposure multiple times because patterns with different optimal exposure conditions coexist, and it takes time and effort to attach and remove the light shielding material each time. In the plate making of complex original patterns, there are problems in the complexity of the work and the work efficiency, such as the need to control the exposure time for each print.
また同一の原稿パターンから、複数の印刷用凸
版を作成する場合は、そのたびに同じ操作を行な
わねばならず、また一定の品質の印刷用凸版を作
成することも上述作業性からして極めてむずかし
いものであつた。 Furthermore, when creating multiple letterpress printing plates from the same manuscript pattern, the same operation must be performed each time, and it is extremely difficult to create letterpress printing plates of a constant quality due to the workability mentioned above. It was hot.
更に従来の追加露光を行うと、遮光材で覆われ
た部分と追加露光が行われた部分との境界におい
て、露光量の差による境界線が表われ、これが硬
度の差になつて、耐性を劣化させたり、ベタ部に
おいては段差となつて表われ、ベタ部分の平滑性
を損ねる結果となるもので、追加露光における大
きな問題点であつた。 Furthermore, when conventional additional exposure is performed, a boundary line appears due to the difference in exposure amount at the boundary between the area covered with the light shielding material and the area where the additional exposure was performed, and this becomes a difference in hardness, which reduces the resistance. This was a major problem in additional exposure, as it caused deterioration and appeared as a step in the solid area, impairing the smoothness of the solid area.
本発明者らは、感光性樹脂凸版の製版方法にお
いて説明したように、感光性樹脂層の凹凸成型に
おける従来の前述問題点を解決すべく研究を重ね
た結果、本発明を完成するに至つたものであつ
て、種々のパターンが混在する原稿パターンであ
つても、全面に一定量の露光を行うだけで、原稿
パターンに忠実で、良好な凹凸成型が可能な凹凸
成型方法、その方法の実施のため使用する版遮光
性材料及び該材料を張り付けた原稿パターンを提
供しようとするものである。 As explained in the plate-making method for photosensitive resin letterpress, the present inventors have completed the present invention as a result of repeated research to solve the above-mentioned conventional problems in uneven molding of a photosensitive resin layer. To provide a concavo-convex molding method that is capable of forming good concavities and convexities that are faithful to the original pattern by simply exposing the entire surface to a certain amount of light, even if the original pattern is a mixture of various patterns, and the implementation of that method. The present invention aims to provide a plate light-shielding material used for this purpose and a document pattern pasted with the material.
すなわち本発明は、感光性樹脂層に原稿パター
ンを介して活性光線を露光させて該感光性樹脂層
を光硬化又は光可溶化させ、その後に不要部分を
除去して原稿パターンに応じた凹凸成型を行うに
あたり、原稿パターン全面に一定量の露光によつ
て、原稿パターンのそれぞれのパターンにおいて
シヨルダー角度が60〜80゜の範囲になるよう、原
稿パターンの必要部分にそれぞれのパターンに応
じた遮光率の半遮光性材料を重ね合わせ、しかる
後に原稿パターン全面に一定量の露光を行う感光
性樹脂層の凹凸成型方法を提供するものである。 That is, the present invention exposes the photosensitive resin layer to actinic rays through the original pattern to photocure or photosolubilize the photosensitive resin layer, and then removes unnecessary portions and forms irregularities according to the original pattern. To do this, by exposing the entire surface of the original pattern to a certain amount of light, the necessary parts of the original pattern are exposed to light at a light shielding rate according to each pattern, so that the shoulder angle is in the range of 60 to 80° for each pattern of the original pattern. The present invention provides a method for forming concavo-convex portions of a photosensitive resin layer, in which semi-light-shielding materials are superimposed, and then the entire surface of the original pattern is exposed to a certain amount of light.
また本発明は、感光性樹脂層に原稿パターンを
介して全面に一定量の露光を行うことにより、原
稿パターンのそれぞれのパターンにおいてシヨル
ダー角度が60〜80゜の範囲の凹凸成型が得られる
よう原稿パターンの必要部分に重ね合わせるため
の半遮光性材料として、表面が離型性を有する支
持体上に活性光線の遮光率が５〜99％の範囲の着
色透明皮膜を粘着性接着剤層を介して積層せしめ
た感光性樹脂層の凹凸成形のための半遮光性材料
を提供しようとするものである。 In addition, the present invention exposes the entire surface of the photosensitive resin layer to a certain amount of light through the original pattern, so that uneven molding of the original with a shoulder angle in the range of 60 to 80 degrees can be obtained in each pattern of the original. As a semi-light-shielding material to be superimposed on the required part of the pattern, a colored transparent film with an actinic ray shielding rate of 5 to 99% is applied on a support whose surface has releasable properties through an adhesive layer. It is an object of the present invention to provide a semi-light-shielding material for uneven molding of photosensitive resin layers laminated together.
更に本発明は、感光性樹脂層に原稿パターンを
介して全面に一定量の露光を行うことにより、原
稿パターンのそれぞれのパターンにおいてシヨル
ダー角度が60〜80゜の範囲の凹凸成型が得られる
よう原稿パターンの必要部分に半遮光性材料を張
り付けて成る原稿パターンを提供しようとするも
のである。 Furthermore, the present invention exposes the entire surface of the photosensitive resin layer to a certain amount of light through the original pattern, so that each pattern of the original pattern can have a concavo-convex molding with a shoulder angle in the range of 60 to 80 degrees. The present invention attempts to provide a document pattern in which a semi-light-shielding material is pasted onto necessary portions of the pattern.
シヨルダー角度が80゜より大きい凹凸成型は、
露光量不足の場合に生じ（光硬化型感光性樹脂を
使用する場合で、光可溶化型感光性樹脂の場合は
逆になる。）、凹凸成型の基部が硬化不足となり、
不要部分の除去段階でやせ細つたり、欠落したり
して所望の強度、精度を有する印刷用凸版が得ら
れない。他方、シヨルダー角度が60゜より小さい
凹凸成型は、露光量過多の場合に生じ（光硬化型
感光性樹脂を使用する場合で、光可溶化型感光性
樹脂の場合は逆になる。）、浅いレリーフ深度を有
する凹部が形成され、印刷時にこの浅い凹部に印
刷インキが流れ込み、原稿に忠実な印刷が出き
ず、いわゆる「つぶれ」の問題が発生することに
なる。 Concave and convex molding with a shoulder angle larger than 80°,
This occurs when the amount of exposure is insufficient (when using a photocurable photosensitive resin, the opposite is true when using a photosolubilized photosensitive resin), and the base of the uneven molding is insufficiently cured.
In the step of removing unnecessary parts, the printing plate becomes thin or missing, making it impossible to obtain a letterpress printing plate having the desired strength and precision. On the other hand, uneven molding with a shoulder angle smaller than 60° occurs when there is too much exposure (when using a photocurable photosensitive resin, the opposite is true when using a photosolubilizing photosensitive resin), A recessed portion having a relief depth is formed, and printing ink flows into this shallow recessed portion during printing, making it impossible to print faithfully to the original, resulting in the problem of so-called "squashing."
シヨルダー角度の測定方法は、実際に凹凸形成
（製版）したものを裁断し、該断面を顕微鏡で写
真撮影し、その写真を用いてシヨルダー角度θ
（第１〜３図に示す）を測定することによりなさ
れる。 The method of measuring the shoulder angle is to cut the material that has actually been formed with unevenness (plate making), take a photograph of the cross section with a microscope, and use that photograph to determine the shoulder angle θ.
(shown in Figures 1 to 3).
以下、本発明についてより詳しく説明する。 The present invention will be explained in more detail below.
本発明の凹凸成型方法の実施のために使用する
感光性樹脂としては、活性光線例えば、各種水銀
灯、キセノンランプ等から発せられる紫外線、そ
の他電子線等の照射によつて光硬化又は光可溶化
するものであつて、その具体例としてはジアゾ樹
脂系、アジド系化合物、桂皮酸エステル系、（メ
タ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリルアミ
ド化合物、スチレン化合物等のビニルモノマーあ
るいはそれらの不飽和ポリマーからなる化合物等
を含む系からなるもの、更にはキノンジアジド系
からなるものがあげられる。 The photosensitive resin used for implementing the uneven molding method of the present invention can be photocured or photosolubilized by irradiation with actinic light, for example, ultraviolet rays emitted from various mercury lamps, xenon lamps, etc., or other electron beams. Specific examples include vinyl monomers such as diazo resins, azide compounds, cinnamic acid esters, (meth)acrylic esters, (meth)acrylamide compounds, and styrene compounds, or unsaturated polymers thereof. Examples include those consisting of a system containing a compound, etc., and furthermore, those consisting of a quinonediazide system.
これら感光性樹脂のうちでも、印刷版時に凹版
又は凸版用として用いられるものとしては、ビニ
ルモノマー／飽和ポリマー混合系、不飽和ポリマ
ー単独又はビニルモノマーとの混合層からなるも
のが広く実用化されており、それらは、液状の形
であるいは、半固型状特にシート状で提供されて
いる。液状の場合は、ガラス板等の間に液し込
み、シート（層）状にして用いることが出来る。 Among these photosensitive resins, those consisting of a vinyl monomer/saturated polymer mixture, an unsaturated polymer alone, or a mixed layer with a vinyl monomer have been widely put into practical use as those used for intaglio or letterpress printing plates. They are available in liquid form or in semi-solid form, particularly in sheet form. If it is in liquid form, it can be used in the form of a sheet (layer) by injecting it between glass plates or the like.
光硬化型感光性樹脂を用いて、凹凸成型を行う
場合、原稿パターンのうちでも、独立パターン
で、微細な線又は点になるほどしつかりとした基
部を形成することが必要であり、多くの露光が行
わねばならず、抜きパターンで微細な線又は点を
抜く場合は、より深いレリーフ深度を必要とする
ため比較的少ない露光を行わなければならない。 When performing uneven molding using a photocurable photosensitive resin, it is necessary to form a base that is strong enough to become a fine line or dot in an independent pattern among original patterns, and requires a lot of exposure. If fine lines or dots are to be punched out in the punching pattern, a deeper relief depth is required, so a relatively small amount of exposure must be performed.
従つて、この場合は、抜きパターン部の微細な
抜きが必要な部分ほど、露光率の高い半遮光性材
料を必要とするものである。 Therefore, in this case, a semi-light-shielding material with a higher exposure rate is required for a portion of the punching pattern portion that requires finer punching.
逆に、光可溶化型感光性樹脂を用いた場合は、
光硬化型と全く逆の形の露光を行うこととなる。 On the other hand, when using a photo-solubilized photosensitive resin,
The exposure is completely opposite to that of the photocuring type.
これら感光性樹脂を用いて、凹凸成型を行う場
合、例えば米国のユニロイヤル社製光硬化型フレ
キソ版用感光性樹脂板（Flexlight
）は、支持
体上に積層された半固形シート状で提供され、例
えば、１mmのレリーフ深度を有するフレキソ印刷
用凸版を製版する場合の最適露光条件として、８
〜９ｍｗ／cm2の紫外線量の光量での露光時間とし
て以下のように定められている。 When performing uneven molding using these photosensitive resins, for example, the photosensitive resin plate for photocurable flexographic plates (Flexlight) manufactured by Uniroyal in the United States is provided in the form of a semi-solid sheet laminated on a support. For example, when making a plate for flexographic printing with a relief depth of 1 mm, the optimum exposure conditions are 8.
The exposure time at an amount of ultraviolet light of ~9 mw/cm 2 is determined as follows.
0.1mmの独立パターンのけい線 ……10分間
0.2mmの独立パターンのけい線 …… ９ 〃
0.3mmの独立パターンのけい線 …… ６ 〃
0.4mmの独立パターンのけい線 …… ４ 〃
0.5mm以上のパターン又は抜きパターン
…… ２ 〃
従つて、Flexlight
を用いて、0.1mmと0.5mm以
上の独立パターンのけい線を有する原稿パターン
から凹凸成型を行う場合は、0.5mmの部分に約80
％の遮光率を有する半遮光性材料を重ね合わせ、
10分間の全面一定露光を行なえば、それぞれのパ
ターン部分に、最適露光が行なわれ、所望のレリ
ーフ深度、強度等を存する原稿パターンに忠実な
凸版が形成されるものである。なお、第３図は、
半遮光性材料を使用し、第１及び第２図と同じ原
稿パターンを用いた場合の硬化層を示す拡大断面
図を示すものである。0.1mm independent pattern groove line...10 minutes 0.2mm independent pattern groove line...9 〃0.3mm independent pattern groove line...6 〃0.4mm independent pattern groove line...4 〃0.5mm The above patterns or punched patterns
... 2 Therefore, when using Flexlight to perform uneven molding from a document pattern that has independent patterns of 0.1 mm and 0.5 mm or more, approximately 80
Overlapping semi-shading materials with a shading rate of %,
If constant exposure is carried out over the entire surface for 10 minutes, each pattern portion will be exposed to the optimum light, and a relief plate that is faithful to the original pattern and has the desired relief depth, intensity, etc. will be formed. In addition, Figure 3 shows
2 is an enlarged sectional view showing a cured layer when a semi-light-shielding material is used and the same original pattern as in FIGS. 1 and 2 is used. FIG.
以上のように、使用する感光性樹脂の性状、原
稿パターン中の種々のパターンごとに応じ、最適
露光量が得られるよう所望の遮光率の半遮光性材
料を選択使用し、原稿パターンの必要な部分に重
ね合わせて一定量の全面露光を行うことによつ
て、目的とする凹凸成型が可能である。 As described above, depending on the properties of the photosensitive resin used and the various patterns in the original pattern, a semi-light-shielding material with the desired light-shielding rate is selected and used to obtain the optimum exposure amount, and By overlapping the portions and exposing a certain amount of the entire surface, it is possible to form the desired unevenness.
次いで、本発明に係る方法の実施に使用する半
遮光性材料について説明する。 Next, the semi-light-shielding material used to carry out the method according to the present invention will be explained.
第４Ａ図は、本発明に係る半遮光性材料の拡大
断面図を示すもので、表面に離型性を有する合成
樹脂フイルム、紙等の支持体７上に粘着剤層８を
介して着色透明層６を積層してなるものである。
なお、着色透明層６は、透明フイルム等が均一に
着色されたものであつても良いが、作業性、コス
ト面から、透明フイルム層１０に目的とする半遮
光のための着色剤を塗布した着色剤９を設けたも
のがより効果的である。 FIG. 4A shows an enlarged cross-sectional view of a semi-light-shielding material according to the present invention, in which a colored and transparent material is coated on a support 7 such as a synthetic resin film or paper having a release property on the surface via an adhesive layer 8. It is formed by laminating layers 6.
The colored transparent layer 6 may be a uniformly colored transparent film, but from the viewpoint of workability and cost, the transparent film layer 10 is coated with a coloring agent for the purpose of semi-shading. The one provided with the coloring agent 9 is more effective.
第４Ｂ図及び４Ｃ図は、この場合の具体的構成
を示す拡大断面図で、着色剤層９を表面にして積
層した場合（第４Ｂ図）と、透明フイルム層１０
を表面として積層した場合（第４Ｃ図）とを示す
ものである。 FIGS. 4B and 4C are enlarged cross-sectional views showing the specific structure of this case, in which the colorant layer 9 is laminated on the surface (FIG. 4B), and the case where the transparent film layer 10
FIG. 4C shows a case in which the substrate is laminated with the surface as the surface (FIG. 4C).
透明フイルム層１０はポリエチレンテレフタレ
ート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
エチレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、酢酸セルロースアクリル等の樹
脂を使用したフイルムからなるものであり、必要
に応じガラス、高い透明度の紙も使用できる。 The transparent film layer 10 is made of a film made of resin such as polyethylene terephthalate, polypropylene, polycarbonate, polyethylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, cellulose acetate acrylic, etc., and may also be made of glass or highly transparent paper if necessary. Can be used.
着色剤層９はバインダー用樹脂と染料及び／又
は顔料の混合物からなり、バインダー用樹脂と染
料及び／又は顔料とを適当な溶媒にて溶解又は分
散して透明フイルム上に塗布乾燥して着色剤層を
形成する。 The coloring agent layer 9 is made of a mixture of a binder resin and a dye and/or a pigment, and the binder resin and the dye and/or pigment are dissolved or dispersed in a suitable solvent, coated on a transparent film, and dried to form the colorant. form a layer.
なお、塗布方法としては従来公知の方法で行う
ことが出来る。 Incidentally, the coating method can be performed by a conventionally known method.
バインダー用樹脂としてはポリ酢酸ビニル、ポ
リビニルブチラール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン、ポリフツ化ビニル、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン
共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−（無水マレ
イン酸、アクリロニトリル又はビニルアルコー
ル）三元共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン
−（アクリロニトリル、酢酸ビニル又はメチルメ
タアクリレート）三元共重合体、アクリル酸エス
テル−（メチルメタアクリレート又はスチレン）
共重合体、線状熱可塑性ポリエステル又はコポリ
エステル、例えばポリエチレンフタレート又はポ
リエチレンテレフタレート、イソフタレート、ア
ルコール可溶性ポリアミド、ポリウレタン、アセ
チルセルロース、アセチルブセルロース、ニトロ
セルロース、エチルセルロース、アセチルプロピ
ルセルロースなどの熱可塑性高分子化合物、ある
いはアルキド樹脂、メラミン樹脂、フエノール樹
脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ポリウレタン樹脂
などの熱硬化性分子化合物があり、これらの高分
子化合物は単独でも２種以上を組合せて用いるこ
とができる。 Binder resins include polyvinyl acetate, polyvinyl butyral, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl fluoride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate (anhydrous maleic acid, acrylonitrile or vinyl alcohol) terpolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride-(acrylonitrile, vinyl acetate or methyl methacrylate) terpolymer, acrylic ester-(methyl methacrylate or styrene)
Copolymers, linear thermoplastic polyesters or copolyesters, thermoplastic polymers such as polyethylene phthalate or polyethylene terephthalate, isophthalates, alcohol-soluble polyamides, polyurethanes, acetylcellulose, acetylbutylcellulose, nitrocellulose, ethylcellulose, acetylpropylcellulose There are compounds and thermosetting molecular compounds such as alkyd resins, melamine resins, phenol resins, epoxy resins, urea resins, and polyurethane resins, and these polymer compounds can be used alone or in combination of two or more types.
染料は、本発明の目的である紫外線に対して遮
光性を有するもので、公知の染料を用いることが
できる。例えばC.I.ソルベントイエロー２、C.I.
ソルベントオレンジ５、同40，44、C.I.ソルベン
トレツド25、同83、C.I.ソルベントブラツク６が
ある。 The dye has a light-shielding property against ultraviolet rays, which is the object of the present invention, and any known dye can be used. For example, CI Solvent Yellow 2, CI
There are Solvent Orange 5, 40, 44, CI Solvent Red 25, 83, and CI Solvent Black 6.
又顔料としてはC.I.ピグメントレツド３、C.I.
ピグメントオレンジ16、C.I.ピプメントオレンジ
２、C.I.ピグメントオレンジ13、C.I.ピグメント
イエロー12、C.I.ピグメントイエロー34、C.I.ピ
グメントブラツク６、C.I.ピグメントブラツク７
がある。 Also, as pigments, CI Pigment Red 3, CI
Pigment Orange 16, CI Pigment Orange 2, CI Pigment Orange 13, CI Pigment Yellow 12, CI Pigment Yellow 34, CI Pigment Black 6, CI Pigment Black 7
There is.
これらの染料及び顔料は単独又は２種以上を組
合せても用いることができる。 These dyes and pigments can be used alone or in combination of two or more.
これらの染料及び顔料の、バインダー用樹脂に
対する比率は、重量比で0.005％から200％であ
り、使用する染料あるいは顔料の種類、更に着色
剤層の厚みにより決定される。 The ratio of these dyes and pigments to the binder resin is 0.005% to 200% by weight, and is determined by the type of dye or pigment used and the thickness of the colorant layer.
上記比率が0.005％を下まわると着色剤層の厚
みを極端に厚くしなければならず、また200％を
超えると着色剤層がもろくなり透明支持体フイル
ムへの接着力も悪くなるという弊害を生ずる。 If the above ratio is less than 0.005%, the colorant layer must be extremely thick, and if it exceeds 200%, the colorant layer becomes brittle and its adhesion to the transparent support film becomes poor. .
着色剤層の厚みは0.5μ〜100μ、好ましくは2μ〜
30μである。 The thickness of the colorant layer is 0.5μ to 100μ, preferably 2μ to
It is 30μ.
通常、生産工程での遮光率の徴調整は、染料及
び顔料のバインダー用樹脂に対する比率、着色剤
塗料の固型分濃度、あるいは着色剤層の厚みを変
化させて行なうことができる。 Normally, the light shielding rate can be adjusted in the production process by changing the ratio of dye and pigment to binder resin, the solid concentration of the colorant coating, or the thickness of the colorant layer.
なお、半遮光性材料の遮光率は、原稿パターン
に重ね合せた場合を考慮し、粘着性接着剤層を含
めた形で測定することが望ましく、例えばラツテ
ンフイルター（米コダツク社製）等によつて測定
する。ただ、本発明方法の実施に際しては、それ
ほと精密な遮光率を必要とするものではないた
め、例えば、５〜10％段階ごとの遮光率のものを
用意すれば、目的は達成出来るものである。また
着色剤層は、本発明の対象となる感光性樹脂の露
光において、フイルム露光の場合などと異なり色
感性が特別に影響するものではないため、色相は
限定されるものではなく、白色の場合も含めて任
意の色相のものが使用出来る。なお使用の便をは
かるため、遮光率ごとに色相を変化させることが
より有効である。 Note that it is desirable to measure the light blocking rate of a semi-light-shielding material in a form that includes the adhesive layer, taking into account the case where it is superimposed on the original pattern. Turn and measure. However, when implementing the method of the present invention, it is not necessary to have a very precise shading rate, so if you prepare a shading rate in steps of 5 to 10%, for example, the purpose can be achieved. be. In addition, the color sensitivity of the colorant layer is not particularly affected in the exposure of the photosensitive resin that is the subject of the present invention, unlike in the case of film exposure, so the hue is not limited, and in the case of white You can use any color, including . Note that for ease of use, it is more effective to change the hue for each shading rate.
次に粘着性接着剤層８は一般的に紙、布、ある
いはプラスチツクを支持体とする粘着テープに使
用されるゴム系、アクリル系、ビニル系、シリコ
ン系を用いることができる。 Next, as the adhesive layer 8, rubber-based, acrylic-based, vinyl-based, or silicone-based adhesives, which are generally used for adhesive tapes having paper, cloth, or plastic as a support, can be used.
粘着性接着剤層の厚みは0.5〜50μ、好ましくは
５〜25μの範囲で均一であればよい。 The thickness of the tacky adhesive layer may be uniform within the range of 0.5 to 50μ, preferably 5 to 25μ.
ここで粘着性接着剤層を設けた理由は、原稿パ
ターンの種類に応じ、予め所定の半遮光性材料を
原稿パターンとなるフイルム上に粘着しておくこ
とが作業上有効であるため設けたものであり、特
に同一原稿パターンで複数の凹凸成型を行う場合
などに効果的である。 The reason for providing the adhesive layer here is that it is effective for work to adhere a predetermined semi-light-shielding material on the film that will become the original pattern in advance, depending on the type of original pattern. This is particularly effective when performing a plurality of concavo-convex moldings on the same document pattern.
次に離型用支持体７は片面または両面を離型用
シリコン等を処理したクラフト紙、ブラシン紙、
パーチメント紙などの紙、ポリエステル、ポリプ
ロピレンなどのフイルムを用いることができる。 Next, the release support 7 is made of kraft paper, brushed paper, etc. treated with release silicone on one or both sides.
Paper such as parchment paper, or film such as polyester or polypropylene can be used.
以下、製造例及び実施例を用い本発明をより詳
細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be explained in more detail using production examples and examples.
製造例 １
アイゼンスピロンイエロー3RH（保土谷化学
工業株式会社） 1.0重量部
フエノキシ樹脂PKHH（UCC社製） 99.0 〃
メチルエチルケトン 250.0 〃
上記組成物を均一に溶解し、厚さ25μのポリエ
チレンテレフタレートフイルムの片面に、＃20の
ワイヤーバーを用いて塗布後、100℃３分乾燥し
て着色剤層膜厚8μの着色透明フイルムを得た。Production example 1 Eisenspiron Yellow 3RH (Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 1.0 parts by weight Phenoxy resin PKHH (manufactured by UCC) 99.0 〃 Methyl ethyl ketone 250.0 〃 The above composition was uniformly dissolved and one side of a 25μ thick polyethylene terephthalate film was prepared. After coating using a #20 wire bar, the film was dried at 100° C. for 3 minutes to obtain a colored transparent film with a colorant layer thickness of 8 μm.
次に着色剤層と反対の面に下記組成物をワイヤ
ーバー＃30を用いて塗布乾燥し、厚さ10μの粘着
性接着剤層を設け、
ニツセツPC−501アクリル系粘着剤（日本カ
ーバイド工業(株)製） 50重量部
酢酸エチル 20 〃
38μのポリエチレンテレフタレートフイルムを
粘着性接着剤層を介してラミネートして、半遮光
性材料（No.１）を得た。 Next, the following composition was applied and dried using a wire bar #30 on the side opposite to the colorant layer, and a 10μ thick adhesive layer was formed. Co., Ltd.) 50 parts by weight Ethyl acetate 20 A 38 μm polyethylene terephthalate film was laminated with an adhesive layer interposed therebetween to obtain a semi-light-shielding material (No. 1).
このフイルムのラツテンナンバー１８Ａフイル
ターによる紫外線透過率はＤ＝0.31で約50％であ
つた。 The ultraviolet transmittance of this film using a Ratten Number 18A filter was approximately 50% at D=0.31.
製造例 ２
アイゼン スピロン オレンジ3R 4.5重量部
バイロン200（東洋紡績(株)社製） 95.5 〃
メチルエチルケトン 250.0 〃
上記組成物を均一に溶解し、厚さ25μのポリエ
チレンテレフタレートフイルムの片面に＃20のワ
イヤーバーを用いて塗布後、100℃３分間乾燥し
て着色剤層の膜厚8μの着色透明フイルムを得た。Production example 2 Crampons Spiron Orange 3R 4.5 parts by weight Byron 200 (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) 95.5 〃 Methyl ethyl ketone 250.0 〃 The above composition was uniformly dissolved and a #20 wire bar was placed on one side of a 25μ thick polyethylene terephthalate film. After coating, the film was dried at 100° C. for 3 minutes to obtain a colored transparent film with a colorant layer thickness of 8 μm.
次に製造例１と同様に粘着性接着剤層を介して
ラミネートして、半遮光性材料（No.２）を得た。 Next, the material was laminated with a tacky adhesive layer in the same manner as in Production Example 1 to obtain a semi-light-shielding material (No. 2).
このフイルムのラツテンナンバー１８Ａフイル
ターによる紫外線透過率はＤ＝0.70で約20％で、
80％紫外線遮光率の半遮光性材料（No.２）であつ
た。 The ultraviolet transmittance of this film using a Ratten Number 18A filter is approximately 20% at D = 0.70.
It was a semi-light-shielding material (No. 2) with an 80% UV-shielding rate.
製造例 ３
アイゼン スピロン オレンジ3R 1.34重量部
バイロン200（東洋紡績(株)社製）93.66 〃
メチルエチルケトン 250.0 〃
上記組成物を均一に溶解し、厚さ25μのポリエ
チレンテレフタレートフイルムの片面に＃20のワ
イヤーバーを用いて塗布後、100℃３分間乾燥し
て着色剤層の膜厚8μの着色透明フイルムを得た。Production example 3 Crampons Spiron Orange 3R 1.34 parts by weight Byron 200 (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) 93.66 〃 Methyl ethyl ketone 250.0 〃 The above composition was uniformly dissolved, and a #20 wire bar was placed on one side of a 25μ thick polyethylene terephthalate film. After coating, the film was dried at 100° C. for 3 minutes to obtain a colored transparent film with a colorant layer thickness of 8 μm.
次に製造例１と同様に粘着性接着剤層を介して
ラミネートして、半遮光性材料（No.３）を得た。 Next, the material was laminated with a tacky adhesive layer in the same manner as in Production Example 1 to obtain a semi-light-shielding material (No. 3).
このフイルムのラツテンナンバー１８Ａフイル
ターによる紫外線透過率はＤ＝0.17で約67％で、
33％紫外線遮光率の半遮光性材料であつた。 The ultraviolet transmittance of this film using a Ratten Number 18A filter is approximately 67% at D=0.17.
It was a semi-light-shielding material with a UV-shielding rate of 33%.
実施例 １
（フレキソ印刷用凸版の製版）
感光性樹脂として、光硬化型感光性フレキソ樹
脂板、Flex−light、Ｋブレート（米、ユニロイ
ヤル製）を用い、下記Ａ〜Ｃのパターンが混在す
る原稿パターンからなるネガフイルムについてフ
レキソ印刷用凸版を製版した。Example 1 (Plate making for letterpress plates for flexographic printing) A photocurable photosensitive flexographic resin plate, Flex-light, K plate (manufactured by Uniroyal, USA) was used as the photosensitive resin, and the following patterns A to C were mixed. A relief plate for flexographic printing was made from a negative film consisting of a manuscript pattern.
パターンＡ…150線／インチ、３％の網点の独
立パターン
〃 Ｂ…ベタ部分の独立パターン
〃 Ｃ…0.1mmのけい線の抜きパターン
パターンＡ、Ｂ、Ｃそれぞれについて、個別に
最適露光条件を測定したところ、８〜９ｍｗ／cm3
のUV露光量で、Ａパターンは10分、Ｂパターン
は５分、Ｃパターンは２分の露光で所定の凹凸形
成が可能であることがわかつた。製造例で得た半
遮光性材料No.１及びNo.２を使用し、Ｃパターンに
相当するネガフイルムの部分には、No.２を、Ｂパ
ターンに相当する部分には、No.１を、必要な大き
さになるよう支持体から剥離し、ネガフイルムの
ポリエスタ−フイルム側に粘着した。 Pattern A...Independent pattern of 150 lines/inch, 3% halftone dots〃 B...Independent pattern of solid area〃C...Pattern of cutout line of 0.1mm Optimum exposure conditions are determined individually for patterns A, B, and C. When measured, it was 8-9mw/cm 3
It was found that the desired unevenness can be formed with a UV exposure amount of 10 minutes for pattern A, 5 minutes for pattern B, and 2 minutes for pattern C. Using the semi-light-shielding materials No. 1 and No. 2 obtained in the production example, apply No. 2 to the part of the negative film corresponding to the C pattern, and No. 1 to the part corresponding to the B pattern. The film was peeled off from the support to the required size and adhered to the polyester film side of the negative film.
以上のような形で、加工したネガフイルムを
Flex−light板の上に密着し、全面に10分間の露
光を行つた。未露光部を洗浄除去し、フレキソ版
用凸版を形成したところ、それぞれのパターンに
適切なシヨルダー角度（70〜75°）、強度を有する
原稿パターンに忠実な凹凸形成が行なわれ、実際
の印刷に供したところ、きれいな印刷物を得るこ
とが出来た。 Processed negative film in the above manner.
It was placed in close contact with the Flex-light board and the entire surface was exposed to light for 10 minutes. After cleaning and removing the unexposed areas and forming a letterpress plate for flexo printing, unevenness was formed that was faithful to the original pattern, with shoulder angles (70 to 75°) and strength appropriate for each pattern, making it suitable for actual printing. When I used it, I was able to obtain beautiful printed matter.
一方、半遮光性材料を使用せず、従来の方法に
より行つた場合は、最初２分間の露光を行つた
後、Ｃパターン部分に遮光紙を張り、ついで３分
間の追加露光を行い、またＢ部分に遮光紙を追加
して張り、更に５分間の際追加露光を行なわねば
ならず、作業性特に遮光紙の張り合せ作業、露光
時間の管理等、極めてはん雑であつた。又追加露
光によつて得た印刷版を用いて実際の印刷に供し
た所、パターンＣの近傍の遮光紙を張り付けた境
界線の部分において微細な段差による「すじ」が
発生し、印刷品質を劣下させるものであつた。 On the other hand, when performing the conventional method without using a semi-light-shielding material, after the initial exposure for 2 minutes, a light-shielding paper is placed over the pattern C area, then an additional exposure for 3 minutes is carried out, and then It was necessary to add a piece of light-shielding paper to the area and perform additional exposure for 5 minutes, making the work extremely complicated, especially the work of pasting the light-shielding paper and managing the exposure time. In addition, when the printing plate obtained by additional exposure was used for actual printing, "streaks" due to fine steps occurred at the boundary line where the light-shielding paper was pasted near pattern C, which affected the printing quality. It was degrading.
実施例 ２
フオーム印刷用感光性樹脂版の製版
感光性樹脂版として、Torelief WF95B（富士
写真フイルム製）を用いて、下記のＡ及びＢのパ
ターンが混在するネガフイルムを製版した。Example 2 Plate making of photosensitive resin plate for form printing A negative film having the following patterns A and B mixed was plate made using Torelief WF95B (manufactured by Fuji Photo Film) as a photosensitive resin plate.
パターンＡ 150線／インチ ５％網点
パターンＢ 0.1mmのけい線の抜き
パターンＡ、Ｂについて個別に最適露光条件を
測定したところ
パターンＡ ６分
パターンＢ ３分
（露光桟−ケミカルランプ：東芝FL20BL
光源距離 ：45mm）
の露光で所定の凹凸形成が可能であることがわか
つた。そのため、製造例で得た半遮光性材料No.−
１を使用し、パターンＢに相当する部分に必要な
サイズにカツトした後支持体から剥離し、ネガフ
イルムのベース側に粘着した。 Pattern A: 150 lines/inch, 5% halftone dots Pattern B: Cutting out 0.1 mm crease lines Optimum exposure conditions were measured individually for patterns A and B. Pattern A: 6 minutes Pattern B: 3 minutes (Exposure frame - chemical lamp: Toshiba FL20BL) It was found that it was possible to form the desired unevenness with exposure at a light source distance of 45 mm. Therefore, semi-light-shielding material No.− obtained in the production example
1 was used to cut the portion corresponding to pattern B into the required size, peeled off from the support, and adhered to the base side of a negative film.
以上のような形で加工したネガフイルムを
Torelief WF95B板の上に密着し全面に６分の露
光を行つた。未露光部を洗浄除去し、樹脂凸版を
形成したところ、それぞれのパターンに適切なシ
ヨルダー角度（70〜75°）を有するネガフイルム
に忠実な凹凸成形が行なわれ、実際の印刷を行つ
たところきれいな印刷物を得ることが出来た。 Negative film processed in the above manner
It was placed in close contact with a Torelief WF95B board and exposed for 6 minutes over the entire surface. When we washed and removed the unexposed areas and formed a resin letterpress, we found that each pattern had an appropriate shoulder angle (70 to 75°) and was formed with concave and convex patterns that were faithful to the negative film. I was able to obtain a printed copy.
実施例 ３
直刷り用水溶性感光性樹脂版の製版
感光性樹脂版として、Rigilon−Pop−58（東京
応化工業株製）を用いて、下記のＡ及びＢのパタ
ーンが混在するネガフイルムを製版した。Example 3 Plate making of water-soluble photosensitive resin plate for direct printing Using Rigilon-Pop-58 (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) as a photosensitive resin plate, a negative film having the following patterns A and B mixed was plate-made. .
パターンＡ 65線／インチ ３％
パターンＢ 0.1mmのけい線の抜き
パターンＡ、Ｂについて個別に最適露光条件を
測定したところ、
パターンＡ ３分
パターンＢ ２分
（露光桟−ケミカルランプ：東芝FL20BL
光源距離 ：45mm）
の露光で所定の凹凸形成が可能であることがわか
つた。そのため光遮光性材料の33％紫外線カツト
を使用し、パターンＢに相当する部分に必要なサ
イズにカツトした後、支持体から剥離し、ネガフ
イルムのベース側に粘着した。 Pattern A: 65 lines/inch 3% Pattern B: Cutting out 0.1 mm grooved lines When we measured the optimal exposure conditions for patterns A and B individually, we found that pattern A: 3 minutes Pattern B: 2 minutes (Exposure crosspiece - chemical lamp: Toshiba FL20BL light source) It was found that it was possible to form the desired unevenness with exposure at a distance of 45 mm. For this purpose, a light-shielding material with 33% ultraviolet cut was used, and the portion corresponding to pattern B was cut to the required size, peeled off from the support, and adhered to the base side of the negative film.
以上のような形で加工したネガフイルムを、
Rigilon−Pop−58に密着し、全面に３分の露光
を行つた。未露光部を洗浄除去し、樹脂凸版を形
成したところ、それぞれのパターンに適切なシヨ
ルダー角度（70〜75°）を有するネガフイルムに
忠実な凹凸成形が行なわれ、実際印刷を行つたと
ころ、きれいな印刷物を得ることが出来た。 Negative film processed in the above manner,
I attached it to Rigilon-Pop-58 and exposed the entire surface for 3 minutes. When we washed and removed the unexposed areas and formed a resin letterpress, we found that each pattern had an appropriate shoulder angle (70 to 75°) and was formed with concavo-convex patterns that were faithful to the negative film. I was able to obtain a printed copy.
第１図と第２図は、光硬化型感光性樹脂を用
い、独立パターン及び抜きパターンを有する原稿
パターンの露光により凹凸成型した場合の印刷用
凸版の拡大断面を示すもので、第１図は独立パタ
ーン部分３に最適露光量を与えた場合を示し、第
２図は抜きパターン部分４に最適露光量を与えた
場合を示す。第３図は、本発明の成型方法に従つ
て、抜きパターン部分４に応じた遮光率の半遮光
性材料を重ね合わせてシヨルダー角度を調整する
原理を示す拡大断面図である。第４Ａ図は、着色
透明皮膜、粘着性接着剤層及び支持体よりなる、
本発明の半遮光性材料を示す。第４Ｂ図及び第４
Ｃ図は、それぞれ着色剤層を透明フイルム層の上
面（外表面）及び下面（透明フイルム層と粘着性
接着剤層との間）に設けた、本発明の変形半遮光
性材料を示す。
Ａ……原稿パターン（ネガフイルム）、Ｂ……
感光性樹脂版、Ｃ……半遮光性材料、１……感光
性樹脂硬化層、２……感光性樹脂の支持体、３…
…独立パターン部分、４……抜きパターン部分、
５……ベタ部分、６……着色透明層、７……半遮
光性材料の支持体、８……粘着性接着剤層、９…
…着色剤層、１０……透明フイルム層。
Figures 1 and 2 show enlarged cross-sections of a relief plate for printing when a photocurable photosensitive resin is used to form concavities and convexities by exposing original patterns having independent patterns and punched patterns. A case is shown in which the optimum exposure amount is given to the independent pattern portion 3, and FIG. 2 shows a case in which the optimum exposure amount is given to the punched pattern portion 4. FIG. 3 is an enlarged sectional view showing the principle of adjusting the shoulder angle by overlapping semi-light-shielding materials having a light-shielding rate corresponding to the punched pattern portion 4 according to the molding method of the present invention. FIG. 4A shows a colored transparent film, a tacky adhesive layer, and a support.
1 shows a semi-light-shielding material of the present invention. Figures 4B and 4
Figure C shows a modified semi-light-shielding material of the present invention in which a coloring agent layer is provided on the upper surface (outer surface) and lower surface (between the transparent film layer and the adhesive adhesive layer) of the transparent film layer, respectively. A... Original pattern (negative film), B...
Photosensitive resin plate, C... semi-light-shielding material, 1... photosensitive resin cured layer, 2... photosensitive resin support, 3...
...Independent pattern part, 4...Blank pattern part,
5... Solid portion, 6... Colored transparent layer, 7... Support of semi-light-shielding material, 8... Adhesive adhesive layer, 9...
... Colorant layer, 10 ... Transparent film layer.
Claims (1)
線を露光させて該感光性樹脂層を光硬化又は光可
溶化させ、その後に不要部分を除去して原稿パタ
ーンに応じた凹凸成型を行うにあたり、原稿パタ
ーン全面に一定量の露光によつて原稿パターンの
それぞれのパターンにおいてシヨルダー角度が60
〜80゜の範囲になるよう、原稿パターンの必要部
分にそれぞれのパターンに応じた遮光率の半遮光
性材料を重ね合わせ、しかる後に原稿パターン全
面に一定量の露光を行うことを特徴とする感光性
樹脂の凹凸成型方法。 ２ 感光性樹脂層に原稿パターンを介して全面に
一定量の露光を行うことにより、原稿パターンの
それぞれのパターンにおいてシヨルダー角度が60
〜80゜の範囲の凹凸成型が得られるよう原稿パタ
ーンの必要部分に重ね合わせるための半遮光性材
料であり、表面が離型性を有する支持体上に活性
光線の遮光率が５〜99％の範囲の着色透明皮膜を
粘着性接着剤層を介して積層せしめたことを特徴
とする感光性樹脂層の凹凸成型のための半遮光性
材料。 ３ 感光性樹脂層に原稿パターンを介して全面に
一定量の露光を行うことにより、原稿パターンの
それぞれのパターンにおいてシヨルダー角度が60
〜80゜の範囲の凹凸成型が得られるよう原稿パタ
ーンの必要部分に半遮光性材料を張り付けて成る
原稿パターン。[Scope of Claims] 1. The photosensitive resin layer is exposed to actinic rays through the original pattern to photocure or photosolubilize the photosensitive resin layer, and then unnecessary portions are removed to conform to the original pattern. When performing uneven molding, the shoulder angle of each pattern of the original pattern is set to 60 degrees by exposing the entire surface of the original pattern to a certain amount of light.
A photosensitive method characterized by overlapping a semi-light-shielding material with a light-shielding rate corresponding to each pattern on the necessary parts of the original pattern so that the original pattern is in the range of ~80°, and then exposing the entire original pattern to a certain amount of light. A method for molding uneven resin. 2 By exposing the entire surface of the photosensitive resin layer to a certain amount of light through the original pattern, the shoulder angle of each pattern of the original pattern is set to 60°.
It is a semi-light-shielding material to be overlaid on the required part of the original pattern to obtain uneven molding in the range of ~80°, and the active light shielding rate is 5-99% on the support whose surface has mold releasability. 1. A semi-light-shielding material for uneven molding of a photosensitive resin layer, characterized in that a colored transparent film in the range of 1 to 100 mL is laminated via a tacky adhesive layer. 3 By exposing the entire surface of the photosensitive resin layer to a certain amount of light through the original pattern, the shoulder angle of each pattern of the original pattern is set to 60°.
A manuscript pattern made by pasting a semi-light-shielding material on the necessary parts of the manuscript pattern to obtain unevenness in the range of ~80°.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59124735A JPS614063A (en) | 1984-06-18 | 1984-06-18 | Formation of projection and recess of photosensitive resin layer and light semishielding material and original with stuck material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59124735A JPS614063A (en) | 1984-06-18 | 1984-06-18 | Formation of projection and recess of photosensitive resin layer and light semishielding material and original with stuck material |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS614063A JPS614063A (en) | 1986-01-09 |
| JPH0365538B2 true JPH0365538B2 (en) | 1991-10-14 |
Family
ID=14892812
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59124735A Granted JPS614063A (en) | 1984-06-18 | 1984-06-18 | Formation of projection and recess of photosensitive resin layer and light semishielding material and original with stuck material |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS614063A (en) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001188354A (en) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Asahi Kasei Corp | Method for manufacturing photosensitive resin letterpress and apparatus for manufacturing the same |
| JP4698044B2 (en) * | 2001-03-09 | 2011-06-08 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | Manufacturing method and apparatus for photosensitive resin relief printing plate |
| JP4080839B2 (en) * | 2002-10-21 | 2008-04-23 | シャープ株式会社 | Method for producing flexographic printing plate and method for producing printed matter |
| JP2006167937A (en) * | 2004-12-13 | 2006-06-29 | Toppan Printing Co Ltd | Intaglio printing plate for machine plate with plate depth different from one another in every pattern |
| US9720326B2 (en) * | 2009-10-01 | 2017-08-01 | David A. Recchia | Method of improving print performance in flexographic printing plates |
-
1984
- 1984-06-18 JP JP59124735A patent/JPS614063A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS614063A (en) | 1986-01-09 |
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