JPH0361577A - Method for printing fine pattern - Google Patents

Method for printing fine pattern

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JPH0361577A
JPH0361577A JP1198136A JP19813689A JPH0361577A JP H0361577 A JPH0361577 A JP H0361577A JP 1198136 A JP1198136 A JP 1198136A JP 19813689 A JP19813689 A JP 19813689A JP H0361577 A JPH0361577 A JP H0361577A
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JP
Japan
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fine pattern
support plate
film
plate
smooth
Prior art date
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Pending
Application number
JP1198136A
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Japanese (ja)
Inventor
Shinya Tachibana
立花 伸也
Teiji Sakida
崎田 悌司
Tatsuo Masaki
達夫 正木
Dainosuke Watanabe
渡辺 大之輔
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Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0361577A publication Critical patent/JPH0361577A/en
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Abstract

PURPOSE:To sufficiently smooth a fine pattern by interposing a film material having no affinity to printing ink between the fine pattern and the smooth support surface of a support plate and bringing said pattern and the support plate into pressure contact state and smoothing the fine pattern. CONSTITUTION:In case of application to the color filter of a liquid crystal color display, a fine pattern 4 is printed on a glass substrate 2 in such a state that micro protrusions and recesses are left on the surfaces of the fine lines 4a, 4b, 4c and a support plate 6 having smooth surfaces at the opposite sides is placed on a heating surface plate 5 and a film material 7 composed of a film formed of silicone rubber or silicone resin having extremely low thermal expansion/contraction or a film having a release layer applied to the surface thereof is brought into close contact with the entire surface of the support plate 6. When the surface of the transferred fine pattern is brought into contact with the surface having the release layer applied thereto of the film material 7 along with the glass substrate 2, the glass substrate 2 is heated by the heating action of the heating surface plate 5 to suppress curing of the printing ink of the fine pattern and the micro protrusions and recesses on/in the surface of the detailed pattern are leveled and smoothed. As a result, smoothing treatment can be effectively performed in an extremely smooth manner and the surface of the fine pattern can be sufficiently smoothed.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、精細パターンの印刷方法、特に精密印刷が
要求される液晶カラーデイスプレーのカラーフィルター
などの電気または電子部品における精細パターンの印刷
方法の改良に関するものである。
Detailed Description of the Invention (Industrial Application Field) The present invention relates to a method for printing fine patterns, particularly a method for printing fine patterns on electric or electronic components such as color filters of liquid crystal color displays that require precision printing. This is related to the improvement of

(従来の技術〉 前記したような′V1mパターンの印刷は、極めて高度
の精密性が要求され、液晶カラーデイスプレーのカラー
フィルターに例をとれば、三原色もしくは三原色と黒色
の四色などの色細線の連続パターンを透明な無機ガラス
基板の面に印刷するため、凹版オフセット印刷技法が採
用されている。
(Prior art) Printing of the above-mentioned 'V1m pattern requires an extremely high degree of precision.For example, in the case of a color filter for an LCD color display, fine lines of color such as three primary colors or four colors of three primary colors and black are printed. An intaglio offset printing technique is employed to print a continuous pattern of on the surface of a transparent inorganic glass substrate.

この印刷技法は、凹版や平版等の刷版からブランケット
に転移された印刷インキを印刷対象の前記基板に転写し
て、所要の精細パターンを印刷するものであるが、該精
細パターンを構成する細線状の画素は、レッド、ブルー
、グリーンの所ERGB三原色もしくは、これに黒色を
加えた四色からなるため、個々の画素部分の転写状態に
バラツキがあり、そのため、画素同士の膜厚が不揃いと
なり、精細パターンの表面が平滑さを欠く状態となって
印刷される。このような精細パターンの表面に微細な凹
凸が存在していると、液晶駆動電極を実装したカラーデ
イスプレィの場合、前記精細パターンの表面に装着され
る電極と駆動電極間の対向間隔の苅向寸法に異同が生じ
、液晶駆動作用に支障を生じるおそれがあり、特に、S
TN液晶においては、このような液晶駆動作用の不確実
性は、致命的欠陥となる。そこで、従来から、前記のよ
うなカラーフィルターの精細パターンの表面(液晶の電
極実装面)を平滑にするために、該表面の微細な凹凸面
を研磨手段または圧延ロール手段により研磨または圧延
し、平滑化を求める手段が採用され、例えば、特開昭6
2−280804号公開公報に開示されているようなフ
ィルムを前記基板の精細パターン面に密着し、これを圧
延ロールにより押圧して前記精細パターンの表面を平滑
化する技術が提案されている。
This printing technique prints a required fine pattern by transferring printing ink transferred from a printing plate such as an intaglio plate or a planographic plate to a blanket onto the substrate to be printed, but the fine lines that make up the fine pattern are Since the pixels in the shape of the image consist of the three primary colors of red, blue, and green (ERGB) or four colors including black, there are variations in the transfer state of individual pixel parts, and as a result, the film thickness of each pixel is uneven. , the fine pattern is printed with a surface that lacks smoothness. If the surface of such a fine pattern has minute irregularities, in the case of a color display mounted with a liquid crystal drive electrode, the width of the opposing distance between the electrode attached to the surface of the fine pattern and the drive electrode may change. Differences in dimensions may occur, which may impede the liquid crystal driving function.
In the TN liquid crystal, such uncertainty in the liquid crystal driving operation becomes a fatal flaw. Therefore, conventionally, in order to smooth the surface of the fine pattern of the color filter (electrode mounting surface of the liquid crystal), the finely uneven surface of the surface is polished or rolled using a polishing means or a rolling roll means. A method of obtaining smoothing was adopted, for example, in JP-A No. 6
A technique has been proposed, as disclosed in Japanese Publication No. 2-280804, in which a film is brought into close contact with the surface of the fine pattern of the substrate, and the film is pressed with a rolling roll to smooth the surface of the fine pattern.

(発明が解決しようとする課題) 前記のように、カラーフィルターの精細パターンの表面
(液晶の電極実装面)を平滑にするための研磨手段また
は圧延ロール手段を採用すると、前者の手段においては
、研磨すべき面全面を均等に研磨することが実際の作業
において至難であり、また、研磨屑の残留によるカラー
フィルターの性能劣化の問題点があり、圧延ロール手段
によるときは、印刷インキが未硬化の状態で実施しない
と充分な効果が得られないが、前記の公開公報に開示の
技術は、単にフィルムを介しての精細パターンの圧延ロ
ールIt)けという手段であって、精細パターンを構成
する印刷インキが硬化した後では、目的とする平滑化が
回外になるという問題点があり、満足できる解決策とな
っていない、。
(Problems to be Solved by the Invention) As described above, when a polishing means or a rolling roll means is employed to smooth the surface of the fine pattern of the color filter (electrode mounting surface of the liquid crystal), in the former means, In actual practice, it is extremely difficult to uniformly polish the entire surface to be polished, and there is also the problem that the performance of the color filter deteriorates due to residual polishing debris. However, the technique disclosed in the above-mentioned publication is simply a means of rolling a fine pattern through a film to form a fine pattern. After the printing ink has hardened, the desired smoothing becomes supinated, which is not a satisfactory solution.

そこで、この発明は、カラーフィルターの精細パターン
、その他精細パターンを要求される精密印刷において、
精細パターンの表面(例えば、カラーフィルターにおけ
る液晶の電極実装面〉を平滑にづるための実用的で、極
めて満足できる結果が1qられる平滑化手段を提供する
ことを課題とするものであり、次項以下において、課題
解決手段ならびに具体的な好適実施例を詳細に説明する
Therefore, this invention is suitable for precision printing that requires fine patterns for color filters and other fine patterns.
The object of the present invention is to provide a smoothing means that is practical and can produce extremely satisfactory results for smoothing the surface of a fine pattern (for example, the electrode mounting surface of a liquid crystal in a color filter). In this section, the means for solving the problem and specific preferred embodiments will be explained in detail.

(課題を解決する手段) この弁明の課題解決手段は、特許請求の範囲第1項にお
いて記載のとおり、基板に対し所要の精細パターンをオ
フセラ1へ方式により印−1すする印刷方法に43いて
、版胴に取付けたブランケットから転写された精細パタ
ーンを有する基板と、平滑な支持面を有する支持プレー
トとを、転写された精細パターンと前記支持面とが対面
するように位圃させ、前記支持プレートを加熱定盤によ
り支持すると共に前記精細パターンと前記支持プレート
の前記平滑な支持面との間に、印刷インキにヌlし親和
性の無い膜状体を介在させて、所要の圧力をもって前記
基板と支持プレートとを圧接し、前記精細パターンの表
面の平滑化を行なうことを特徴とするものである。
(Means for Solving the Problem) The means for solving the problem of this defense, as described in claim 1, is based on a printing method in which a required fine pattern is printed on a substrate by a method 43 to an off-seller 1. , a substrate having a fine pattern transferred from a blanket attached to a plate cylinder and a support plate having a smooth support surface are positioned so that the fine pattern transferred and the support surface face each other, The plate is supported by a heating surface plate, and a film-like material that is wet and has no affinity for printing ink is interposed between the fine pattern and the smooth support surface of the support plate, and the plate is heated with a required pressure. This method is characterized in that the surface of the fine pattern is smoothed by pressing the substrate and the support plate.

(発明の作用) この発明によれば、基板に転写された精細パターンを押
圧する支持プレートが加熱定盤により支持され、この加
熱定盤による加熱によって前記支持プレートを介して前
記基板も加熱され、精細パターンを構成する印刷インキ
の硬化の進行を抑止し、印刷インキは、未硬化の状態を
維持したまま前記膜状体により圧延され、該精細パター
ンの表面が平滑化される。
(Operation of the Invention) According to the present invention, a support plate that presses a fine pattern transferred to a substrate is supported by a heating surface plate, and the substrate is also heated via the support plate by the heating by this heating surface plate, The progress of curing of the printing ink constituting the fine pattern is suppressed, the printing ink is rolled by the film-like body while maintaining an uncured state, and the surface of the fine pattern is smoothed.

(実施例) 添附図面に示された、この発明の実施例は、この発明を
液晶カラーデイスプレィのカラーフィルターに実施した
例であるが、この発明は、カラーフィルターのみに限定
されるものではなく、精密印刷による精細パターンの印
刷に広く適用されるものであることを付言する。
(Embodiment) The embodiment of the present invention shown in the attached drawings is an example in which the present invention is applied to a color filter for a liquid crystal color display, but the present invention is not limited to only color filters. It should be added that this method is widely applicable to printing fine patterns by precision printing.

図示の実施例において、第1図に示すように、カラーフ
ィルター1は、無機ガラス基板2と、透光性にすぐれた
バックプレート3とを備え、無機ガラス基板2は、透光
性にすぐれた平滑面を有するもので、一方の平滑面に精
細パターン4が施される。このガラス基板は、その−面
に施された精細パターンを内面として、透明駆動電極(
図示せず)を実装した前記バックプレートと対向し、両
者の間に液晶が封止され、前記基板の精細パターン2の
表面に透明電極が実装されて、カラーデイスプレィがア
ッセンブリーされるものであるが、この点については、
当業者の熟知するところであり、かつ、この発明の要旨
に直接関係がないので、詳細な説明は、省略する。
In the illustrated embodiment, as shown in FIG. 1, a color filter 1 includes an inorganic glass substrate 2 and a back plate 3 with excellent light transmission. It has a smooth surface, and a fine pattern 4 is applied to one smooth surface. This glass substrate has a transparent drive electrode (
(not shown), a liquid crystal is sealed between the two, transparent electrodes are mounted on the surface of the fine pattern 2 of the substrate, and a color display is assembled. However, regarding this point,
Since this is well known to those skilled in the art and is not directly related to the gist of the present invention, detailed explanation will be omitted.

前記ガラス基板2への精細パターン4の形成は、凹版オ
フセット印刷手段により行なわれるものであって、透光
性の無機ガラス基板の被印刷面を平滑に処理し、この被
印刷面に凹版オフセット印刷1A置のブランケットから
所要のパターンの精細パターンが転写印刷される。得ら
れた精細パターン4は、RG8三原色もしくは黒色が加
えられた囲包それぞれの色の細線〈線の幅ならびに間隔
寸法約100μm内外〉を多数本連続してなる細線スト
ライプ模様のカラーフィールターパターンからなるもの
で、この転写は、精細パターンを写真製版手段により製
版したオフセット刷版からブランケットに転移された顔
料を含む印刷インキが該ブランケットを介して転写、印
刷されるもので、この転写印刷技術は、当業者に熟知さ
れているから、詳細な説明は、省略する。
The formation of the fine pattern 4 on the glass substrate 2 is performed by an intaglio offset printing means, in which the printing surface of the translucent inorganic glass substrate is smoothed, and the printing surface is subjected to intaglio offset printing. A fine pattern of a desired pattern is transferred and printed from a blanket of 1A. The obtained fine pattern 4 is a color filter pattern with a thin line stripe pattern consisting of a large number of consecutive thin lines (line width and interval dimensions of about 100 μm) of each surrounding color with the addition of the three RG8 primary colors or black. In this transfer, printing ink containing pigments is transferred from an offset printing plate made with a fine pattern by photolithography to a blanket, and is then transferred and printed through the blanket.This transfer printing technology is , are well known to those skilled in the art, so a detailed explanation will be omitted.

前記した手段でramパターンが印刷されたガラス基板
1は、第2A図に示すように、精細パターン4を構成す
る細線4a、4b、4Cの表面に微細な凹凸を残して印
刷されるものであり、したがって、前記印刷工程に連続
して前記精細パターンの平滑化処理が行なわれる。この
平滑化処理工程は、約60〜70℃の温度で加熱されて
いる加熱定盤5に両面を完全に平滑に研磨した研磨ガラ
ス板のような耐熱性で、良導熱性をもち、両面が平滑性
を有する支持プレート6を置き、さらに、熱伸縮性が極
めて小さなシリコンゴム、シリコンポリマー、ポリテト
ラフルオロエチレン、ポリエチレンテレフタレートのフ
ィルムまたは表面にシリコンゴム、シリコンポリマー、
ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンテレフタレ
ート層から選択された剥離層が施されているフィルム(
厚さ寸法的150μm)からなる膜状体7を前記支持プ
レートの全面に密着させる。この膜状体7は、それ自体
剥離性を右するか、または、剥離層が形成されており、
転写された精細パターンの面を前記剥11i11 ff
l 7Jt J71!された表面に接面して前記ガラス
基板2を密接する。この密接の操作は、転写された精細
パターンの印刷インキが未硬化の状態で行なわれるもの
であるが、前記加熱定盤の加熱作用により支持プレーh
 6と膜状体7を介してガラス基板2が加熱され、密接
時における精細パターンの印刷インキの硬化進行を抑止
し、精細パターン4を構成する各細線部分の印刷インキ
は、前記膜状体による押圧力で圧潰する程度に流動的で
あって、これによって精細パターンの表面の微細な凹凸
は、均され、平滑なものとされ、第2B図に示すように
、各m線4a、4b、4cの表面は、−様ニ平滑な面と
なる。
As shown in FIG. 2A, the glass substrate 1 on which the RAM pattern is printed by the above-described method is printed with fine irregularities left on the surface of the fine lines 4a, 4b, and 4C that constitute the fine pattern 4. Therefore, subsequent to the printing process, the fine pattern is smoothed. This smoothing treatment process is performed on a heated surface plate 5 heated at a temperature of about 60 to 70°C, so that both sides of the plate are polished to a completely smooth finish. A support plate 6 having smoothness is placed, and a film of silicone rubber, silicone polymer, polytetrafluoroethylene, polyethylene terephthalate having extremely low thermal elasticity or a film of silicone rubber, silicone polymer, or polyethylene terephthalate is placed on the surface.
A film with a release layer selected from polytetrafluoroethylene and polyethylene terephthalate layers (
A film-like body 7 having a thickness of 150 μm is brought into close contact with the entire surface of the support plate. This film-like body 7 has peelability itself or has a peeling layer formed thereon.
Peel off the surface of the transferred fine pattern 11i11ff
l 7Jt J71! The glass substrate 2 is brought into close contact with the exposed surface. This close contact operation is carried out while the transferred fine pattern printing ink is uncured, but the heating action of the heating surface plate causes the support plate h to
6 and the film-like body 7, the printing ink of the fine pattern is prevented from curing when they are in close contact with each other, and the printing ink of each thin line portion constituting the fine pattern 4 is heated by the film-like body. It is fluid to the extent that it can be crushed by the pressing force, and thereby the minute irregularities on the surface of the fine pattern are leveled and smoothed, and as shown in FIG. 2B, each m-line 4a, 4b, 4c The surface of is a -like smooth surface.

このように、精細パターン4を挟んでのガラス基板2と
支持プレート6との密接により、精細パターン4は、支
持プレートの平滑面により圧接されて、その表面が圧延
状態となり、平滑化されるが、前記圧接操作は、前記サ
ンドイッチ状態のガラス基板2と支持プレート6を圧延
ロール8と加熱定盤5からなる圧延手段を介して行なわ
れるもので、圧延ロール8と加熱窓5185との間の挿
通間隙にツブ)に前記サンドイッチ状態のものを強制的
に通過させて圧接する手段が採用できる。
In this way, due to the close contact between the glass substrate 2 and the support plate 6 with the fine pattern 4 in between, the fine pattern 4 is pressed against the smooth surface of the support plate, and the surface is rolled and smoothed. , the pressure welding operation is performed on the glass substrate 2 and the support plate 6 in the sandwich state through a rolling means consisting of a rolling roll 8 and a heating surface plate 5, and the pressing operation is performed by passing the glass substrate 2 and the supporting plate 6 in a sandwich state through a rolling means consisting of a rolling roll 8 and a heating surface plate 5. It is possible to adopt a method of forcibly passing the sandwiched material through the gap and pressing it into contact with the material.

なお、前記挿通間隙は、圧接に要する圧力が作用する間
隙寸法を前記サンドインチ構造の厚みに合わせて設定す
ればよく、また、圧延手段としては、ハイドロリック加
熱手段により、前記サンドインチ構造のものを全面むら
なく均等に加圧するn構でもよい。
The insertion gap may be set according to the thickness of the sandwich-inch structure, and the pressure required for pressure welding may be applied depending on the thickness of the sandwich-inch structure. It is also possible to apply pressure evenly and evenly over the entire surface.

精細パターン4の表面が平滑化された後は、ガラス基板
2と支持プレート6とを分離する。この分離操作工程に
おいては、膜状体7をガラス基板2の精細パターン4か
ら剥離するが、精細パターン4に当接している膜状体7
は、それ自体剥離性を有するか、または、剥離層を有し
ているので、精細パターン4から容易に剥離することが
できる。
After the surface of the fine pattern 4 is smoothed, the glass substrate 2 and the support plate 6 are separated. In this separation operation step, the film-like body 7 is peeled off from the fine pattern 4 of the glass substrate 2, but the film-like body 7 in contact with the fine pattern 4
Since it has peelability itself or has a peeling layer, it can be easily peeled off from the fine pattern 4.

このようにして表面に精細パターン4が転写されたガラ
ス基板2は、精細パターン40表面が平滑化されており
、表面平滑な精細パターンを有するカラーフィルターが
得られる。アッセンブリーされたカラーデイスプレィに
おいては、前記平滑化されたカラーフィルターの精細パ
ターン表面に液晶の透明対向電極が施されるもので、対
面するバックプレートの駆動電極との対向間隔寸法が一
定した構造となり、安定した動作の液晶カラーデイスプ
レィとなる。
The glass substrate 2 on which the fine pattern 4 has been transferred in this manner has a smoothed surface of the fine pattern 40, and a color filter having a fine pattern with a smooth surface can be obtained. In the assembled color display, a transparent counter electrode of liquid crystal is applied to the fine pattern surface of the smoothed color filter, and a structure in which the distance between the counter electrodes and the drive electrodes of the facing back plate is constant is formed. , a liquid crystal color display with stable operation.

(発明の効果) この発明によれば、基板に対し所要の精細パターンを凹
版オフセット方式により印刷する印刷方法において、版
胴から転写された精細パターンを有する基板と、平滑な
支持面を有する支持プレートとを、転写された精細パタ
ーンと前記支持面とが対面するように位置させ、前記支
持プレートを加熱定盤により支持すると共に前記精細パ
ターンと前記支持プレートの前記平滑な支持面との間に
、印刷インキに対し親和性の無い膜状体を介在させて、
所要の圧力をもって前記基板と支持プレートとを圧接し
、前記精細パターンの表面の平滑化を行なうものである
から、前記精細パターンの各細線の印刷インキが未硬化
のまま平滑化が行なわれ、平滑化処理が極めて円滑に効
果的に処理でき、精細パターンの表面の平滑化が極めて
重要な精密印刷物、特に、液晶カラーデイスプレィのカ
ラーフィルターのような精密な印刷が要求される印刷手
段として、実用的な効果を奏するものである。
(Effects of the Invention) According to the present invention, in a printing method in which a required fine pattern is printed on a substrate by an intaglio offset method, a substrate having a fine pattern transferred from a plate cylinder and a support plate having a smooth support surface are provided. are positioned so that the transferred fine pattern and the support surface face each other, the support plate is supported by a heating surface plate, and between the fine pattern and the smooth support surface of the support plate, By interposing a film-like material that has no affinity for printing ink,
Since the substrate and the support plate are brought into contact with the required pressure to smooth the surface of the fine pattern, the printing ink of each fine line of the fine pattern is smoothed without being cured, and the surface is smoothed. This process is extremely smooth and effective, and is useful for precision printed matter where smoothing the surface of fine patterns is extremely important, especially as a printing method that requires precision printing such as color filters for liquid crystal color displays. It has a certain effect.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図面は、この発明を液晶カラーデイスプレィのカラーフ
ィルターの精細パターン印刷に適用した例を示すもので
、第1図は、液晶カラーデイスプレィのカラフィルタ−
の分解斜視図、第2A図と第2B図は、それぞれガラス
基板における精細パターンの各細線の表面状態を示す拡
大断面図、第3図は、ガラス基板と支持プレートとの圧
接操作を示す説明図である。 1・・・・・・カラーフィルター 2・・・・・・無機万ラス基板 3・・・・・・バックプレート 4・・・・・・精細パターン 5・・・・・・加熱定盤 6・・・・・・支持プレート 7・・・・・・膜状体 8・・・・・・圧延ロール
The drawings show an example in which the present invention is applied to fine pattern printing of a color filter of a liquid crystal color display.
FIG. 2A and FIG. 2B are enlarged cross-sectional views showing the surface condition of each thin line of the fine pattern on the glass substrate, respectively, and FIG. 3 is an explanatory diagram showing the pressure contact operation between the glass substrate and the support plate. It is. 1... Color filter 2... Inorganic glass substrate 3... Back plate 4... Fine pattern 5... Heating surface plate 6. ... Support plate 7 ... Membrane body 8 ... Rolling roll

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)基板に対し所要の精細パターンをオフセット方式
により印刷する印刷方法において、版胴に取付けたブラ
ンケットから転写された精細パターンを有する基板と、
平滑な支持面を有する支持プレートとを、転写された精
細パターンと前記支持面とが対面するように位置させ、
前記支持プレートを加熱定盤により支持すると共に前記
精細パターンと前記支持プレートの前記平滑な支持面と
の間に、印刷インキに対し親和性の無い膜状体を介在さ
せて、所要の圧力をもつて前記基板と支持プレートとを
圧接し、前記精細パターンの表面の平滑化を行なうこと
を特徴とする精細パターンの印刷方法。
(1) In a printing method in which a required fine pattern is printed on a substrate by an offset method, a substrate having a fine pattern transferred from a blanket attached to a plate cylinder;
A support plate having a smooth support surface is positioned so that the transferred fine pattern and the support surface face each other,
The support plate is supported by a heating surface plate, and a film-like body having no affinity for printing ink is interposed between the fine pattern and the smooth support surface of the support plate to maintain a required pressure. 1. A method for printing a fine pattern, characterized in that the surface of the fine pattern is smoothed by pressing the substrate and a support plate together.
(2)前記膜状体がシリコンゴム、シリコンポリマー、
ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンテレフタレ
ートのフィルムまたは表面にシリコンゴム、シリコンポ
リマー、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンテ
レフタレート層から選択された剥離層が施されているフ
ィルムからなり、熱収縮率の低い特性を有していること
を特徴とする特許請求の範囲第1項の精細パターンの印
刷方法。
(2) The film-like body is silicone rubber, silicone polymer,
It consists of a film of polytetrafluoroethylene, polyethylene terephthalate, or a film whose surface is coated with a release layer selected from silicone rubber, silicone polymer, polytetrafluoroethylene, and polyethylene terephthalate layer, and has the property of having a low heat shrinkage rate. A method for printing a fine pattern according to claim 1, characterized in that:
JP1198136A 1989-07-31 1989-07-31 Method for printing fine pattern Pending JPH0361577A (en)

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