JPH0359898A - Random access memory - Google Patents

Random access memory

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JPH0359898A
JPH0359898A JP1194793A JP19479389A JPH0359898A JP H0359898 A JPH0359898 A JP H0359898A JP 1194793 A JP1194793 A JP 1194793A JP 19479389 A JP19479389 A JP 19479389A JP H0359898 A JPH0359898 A JP H0359898A
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JP
Japan
Prior art keywords
random access
access memory
data
memory cells
low level
Prior art date
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Pending
Application number
JP1194793A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshiyuki Kumagai
熊谷 敏幸
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Publication of JPH0359898A publication Critical patent/JPH0359898A/en
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Abstract

PURPOSE:To simplify and rationalize a selection test by simultaneously selecting plural random access memory cells and compulsorily writing write data in a high level or a low level. CONSTITUTION:Address decoders 1-2a to 1-2c and 1-4a to 1-4d which simultaneously select plural random access memory cells 1-12a to 1-12l and a data generation means which compulsorily generates write data in the high level or the low level in spite of data given from the write circuits of the random access memory cells 1-12a to 1-12l are provided. Then, the random access memory cells 1-12a to 1-12l which are respectively adjacent are set in different data holding state. An inter-power leak current can be measured by the number of test patterns with less setting and in short time, and the selection test can be simplified and rationalized.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明はランダム・アクセス・メモリに関し、特にその
半導体集積回路に内蔵するテスト回路に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a random access memory, and more particularly to a test circuit built into a semiconductor integrated circuit thereof.

[従来の技術] 従来、半導体集積回路に内蔵されるランダム・アクセス
・メモリは、一般に第4図に示す回路構成となっていた
。これは、アドレス情報4−1にしたがってアドレス・
デコーダ4−2および4−3が、ランダム・アクセス・
メモリ・セル4−4a〜4−4iのうちのいずれか1つ
を選択して端子4−6.4−7から読み書きする構造で
あった。
[Prior Art] Conventionally, a random access memory built into a semiconductor integrated circuit generally has a circuit configuration shown in FIG. 4. This is the address according to address information 4-1.
Decoders 4-2 and 4-3 perform random access
The structure was such that any one of the memory cells 4-4a to 4-4i was selected and read and written from terminals 4-6 and 4-7.

[発明が解決しようとする課題] 上述した従来のランダム・アクセス・メモリは、アドレ
ス情報4−1に従ってアドレス・デコーダ4−2および
4−3が、ランダム・アクセス・メモリ・セル4−4a
−4−4iのうちのいずれか1つを選択して端子4−6
. 4−7から読み書きする構造である。従って、全て
のランダム・アクセス・メモリ・セルに対し、1(I 
I+および170 +1の値を書き込むには、それぞれ
のメモリ・セルに対しアドレスとデータを発生させ、個
々に書き込みを実施する必要がある。
[Problems to be Solved by the Invention] In the conventional random access memory described above, the address decoders 4-2 and 4-3 select the random access memory cell 4-4a according to the address information 4-1.
- Select any one of 4-4i and connect terminal 4-6
.. It has a structure that reads and writes from 4-7. Therefore, for every random access memory cell, 1(I
Writing the I+ and 170+1 values requires generating addresses and data for each memory cell and performing the writes individually.

これはLSIテスタによる選別テストにおいて、電源間
リーク電流の測定をランダム・アクセス・メモリ・セル
の保持データの違いによる電源間リークの有無というこ
とを考慮して実施する場合、測定の前にランダム・アク
セス・メモリ◆セルに対して相当数のテスト・バタンと
時間を要して保持データを設定しなければならなく、選
別テストの簡素化2合理化が思うようにならないという
欠点があった。
This is because in a selection test using an LSI tester, when measuring leakage current between power supplies, taking into account the presence or absence of leakage between power supplies due to differences in data held in random access memory cells, random access current is Access Memory ◆ It takes a considerable number of tests and time to set the retained data on the cells, and there is a drawback that the selection test cannot be simplified or streamlined as expected.

本発明は上記欠点を解決し、選別テストの簡素化2合理
化を実現することができるランダム・アクセス・メモリ
を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a random access memory capable of solving the above-mentioned drawbacks and realizing simplification and rationalization of screening tests.

[発明の従来技術に対する相違点コ 上述した従来のランダム・アクセス・メモリに対し、本
発明は少ないテスト・パタンで短時間の間に隣合うラン
ダム・アクセス・メモリ・セルの保持データが異なった
状態、すなわちいわゆる市松模様とその反転の市松模様
に設定するための手段を有する。
[Differences between the invention and the prior art] Compared to the conventional random access memory described above, the present invention uses a small number of test patterns to change the state in which data held in adjacent random access memory cells differs in a short period of time. That is, it has means for setting a so-called checkerboard pattern and its inverse checkerboard pattern.

[課題を解決するための手段] 本発明のランダム・アクセス・メモリは、同時に複数の
ランダム・アクセス・メモリ・セルを選択するアドレス
・デコーダと、ランダム・アクセス・メモリの書き込み
回路から与えられるデータに関係なく強制的にハイレベ
ルまたはロウレベルの書き込みデータを発生させるデー
タ発生手段を有し、互いに隣合うランダム・アクセス・
メモリ・セルを異なるデータ保持状態に設定することを
特徴とする。
[Means for Solving the Problems] The random access memory of the present invention has an address decoder that simultaneously selects a plurality of random access memory cells, and an address decoder that selects a plurality of random access memory cells at the same time. It has a data generation means that forcibly generates high-level or low-level write data regardless of the random access data that is adjacent to each other.
It is characterized by setting memory cells to different data retention states.

[実施ηリコ 次に、本発明について図面を参照して説明する。[Implemented η Rico Next, the present invention will be explained with reference to the drawings.

第1図は本発明の第1の実施例の回路図であり、ランダ
ム・アクセス・メモリだけの集積回路を想定した例であ
る。尚、この回路図は多数存在するランダム・アクセス
・メモリ・セルの内の横3ビツト縦4ビツトを抽出して
描いたものである。
FIG. 1 is a circuit diagram of a first embodiment of the present invention, and is an example assuming an integrated circuit including only a random access memory. This circuit diagram is drawn by extracting 3 horizontal bits and 4 vertical bits from a large number of random access memory cells.

まず、このランダム・アクセス・メモリを通常に使用す
る場合を説明する。この時は、第5図に示すように、テ
スト信号入力端子!−6,1−7゜1−8はハイレベル
に、同テスト端子1−9.1−10はロウレベルにそれ
ぞれ固定した状態で使用する。この結果、アドレス情報
1−1によってアドレス・デコーダ1−2a〜1−2c
のいずれか1つが、また、同アドレス・デコーダ1−4
a〜1−4dのいずれか1つが選択される。ここで、選
択されるということは、アドレス・デコーダ1−2a 
〜1−2c、  1−4a 〜1−4dの入力端子の全
てがハイレベル入力となって出力がロウレベルになるこ
とをいう。
First, a case in which this random access memory is normally used will be explained. At this time, as shown in Figure 5, the test signal input terminal! -6, 1-7° and 1-8 are fixed at high level, and test terminals 1-9, 1-10 are fixed at low level. As a result, address information 1-1 causes address decoders 1-2a to 1-2c to
Also, any one of the same address decoders 1-4
Any one of a to 1-4d is selected. Here, being selected means that the address decoder 1-2a
This means that all of the input terminals ~1-2c, 1-4a ~1-4d become high level inputs, and the output becomes low level.

いま、テスト信号入力端子]−7,1−8の論理値はハ
イレベルであるから、NANDゲート1−5a〜1−5
dのいずれかがアドレス・デコーダ1−4a〜1−4d
の出力を受けてハイレベルとなる。またインバータ1−
3a〜1−30のいずれかがアドレス・デコーダ1−2
a〜1−2cの出力を受けてハイレベルとなる。またテ
スト信号入力端子1−9.1−10?、iロウレベルで
あるからNチャンネルトランジスタ]−13a〜1−1
3fの全て41非導通状態である。例えば、結果として
NA〜Dゲー)1−5cとインバータ1−3bの出力か
ハイレベルであったとする。すると、Nチャネルトラン
ジスタ1−11a、  1−11bが導通となり、また
ランダム・アクセス・メモリ・セル1−12gの端子2
がハイレベルとなり、第3図に示すようにランダム・ア
クセス・メモリ・セル1−12gの内部回路図のNチャ
ネルトランジスタ3−1.3−2も導通となる。従って
、ランダム・アクセス・メモリ・セル1−12gのみが
選択されたことになり、端子1−14.1−15からデ
ータを取り出す「読み出しj、データを与える「書き込
み」を実施し、ランダム・アクセス・メモリ・セル1−
12gのアクセスを行う。
Now, since the logic values of test signal input terminals ]-7 and 1-8 are high level, NAND gates 1-5a to 1-5
d is address decoder 1-4a to 1-4d
It becomes high level in response to the output. Also, inverter 1-
Any one of 3a to 1-30 is address decoder 1-2
It becomes high level upon receiving the outputs of a to 1-2c. Also test signal input terminal 1-9.1-10? , i is low level, so it is an N-channel transistor]-13a to 1-1
All 41 of 3f are non-conducting. For example, assume that the outputs of the NA to D games 1-5c and the inverter 1-3b are at high level. Then, N-channel transistors 1-11a and 1-11b become conductive, and terminal 2 of random access memory cell 1-12g becomes conductive.
becomes high level, and as shown in FIG. 3, N-channel transistor 3-1.3-2 in the internal circuit diagram of random access memory cell 1-12g also becomes conductive. Therefore, only random access memory cell 1-12g is selected, and "read j" to retrieve data from terminal 1-14.1-15, "write" to give data, and random access・Memory cell 1-
12g access.

次に、選別テスト時のデータ設定を行う場合を説明する
Next, the case of setting data during a screening test will be explained.

今度は、テスト信号入力端子1−6〜1−10に第6図
に示すタイミングで信号を外部より与える。第6図に示
す区間Iおよび区間3は先の通常使用状態である。そし
て区間2がデータ設定行う区間である。まず、区間4て
は端子1−6をロウレベルにすることによって、アドレ
ス・デコーダ1−2.1−4の全出力がハイレベルとな
る。従ってNチャネルトランジスタ1−11a〜1−1
1fの全てが非導通状態となる。区間4の途中で端子1
−9をハイレベルにして、Nチャネルトランジスタ1−
13 a、  1−13 d、  1−13 eを導通
させ、ランダム・アクセス・メモリ・セルの端子1また
は3をロウレベルにする。
This time, signals are externally applied to the test signal input terminals 1-6 to 1-10 at the timing shown in FIG. Sections I and 3 shown in FIG. 6 are the normal use states. Section 2 is the section in which data is set. First, in section 4, all outputs of address decoders 1-2, 1-4 become high level by setting terminals 1-6 to low level. Therefore, N channel transistors 1-11a to 1-1
All of 1f becomes non-conductive. Terminal 1 in the middle of section 4
-9 to high level, N-channel transistor 1-
13a, 1-13d, and 1-13e are made conductive, and the terminal 1 or 3 of the random access memory cell is brought to a low level.

ただし、NANDゲー) 1−5a 〜1−5dの全て
がロウレベル出力の為、書き込みはされない。
However, since all of NAND game) 1-5a to 1-5d are low level outputs, no writing is performed.

第7図にはランダム・アクセス・メモリ・セルの端子1
側の保持データをマツプにしたものを示してあり、Aの
マツプにおいて書き込みが行われていない状態を保持デ
ータを不定とし“′X”と記しである。区間5では端子
1−7をロウレベルにして、NANDゲート1−5bと
1−5dをハイレベル出力とする。この結果、第3図に
示すNチャネルトランジスタ3−1.3−2が導通とな
るのて、ランダム・アクセス・メモリ・セル1−12d
、1−12f、1−12j、1−12込の端子1側と1
−12e、1−12にの端子3側がロウレベルの保持状
態となり、データ保持状態は第7図に示すBの状態とな
る。区間6ては端子1−9をロウレベル、1−10をハ
イレベルとして、Nチャネルトランジスタ1−13 b
、  1−13 c。
Figure 7 shows terminal 1 of a random access memory cell.
A map of the retained data on the A side is shown, and the state in which no writing is performed in the map of A is defined as the retained data and is marked as "'X". In section 5, the terminals 1-7 are set to low level, and the NAND gates 1-5b and 1-5d are set to high level output. As a result, the N-channel transistors 3-1 and 3-2 shown in FIG. 3 become conductive, so that the random access memory cell 1-12d
, 1-12f, 1-12j, 1-12 included terminal 1 side and 1
-12e and 1-12 on the terminal 3 side are held at a low level, and the data holding state becomes state B shown in FIG. In section 6, terminals 1-9 are set to low level, terminals 1-10 are set to high level, and N-channel transistor 1-13 b
, 1-13 c.

1−13fを導通させる。この結果、ランダム・アクセ
ス・メモリ・セルの端子1または3が先と反対の組合せ
でロウレベルになるが、端子l−7゜1−8が共にハイ
レベルの為、NANDゲート1−5a〜1−5dの全て
がロウレベル出力となり、この段階では書き込みはされ
ない。区間7では端子1−8をロウレベルとし、NAN
Dゲート1−5a、1−5cをハイレベル出力とする。
1-13f are made conductive. As a result, terminals 1 or 3 of the random access memory cell become low level in the opposite combination to the previous one, but since terminals 1-7 and 1-8 are both high level, NAND gates 1-5a to 1- 5d all become low level outputs, and no writing is performed at this stage. In section 7, terminals 1-8 are set to low level, and NAN
The D gates 1-5a and 1-5c are set to high level output.

この結果、ランダム・アクセス・メモリ◆セル1−12
a、!−12c、1−12g、1−12iの端子3側と
1−12b、l−12hの端子1側の保持状態がロウレ
ベルとなり、データ保持状態は第7図に示すCの状態と
なる。すなわち、市松模様を描いたデータ保持状態とな
る。その後、区間8て書き込み禁止状態とし、この状態
で一同目の電源間リーク電流の測定をする。
As a result, random access memory ◆Cells 1-12
a,! -12c, 1-12g, 1-12i on the terminal 3 side and 1-12b, l-12h on the terminal 1 side become low level, and the data holding state becomes state C shown in FIG. In other words, the data is held in a checkered pattern. Thereafter, section 8 is set to a write-inhibited state, and the leakage current between the power supplies is measured in this state.

次に、上記において説明したのと同様の手順でテスト信
号入力端子1−6〜1−10に第8図に示すタイミング
で信号を与えると、第8図の区間5て第9図に示すBの
データ保持状態、区間7て同図Cに示すデータ保持状態
になり、第6図に示したタイミングで設定を行ったのと
逆の市松模様を描いたデータ保持状態となる。
Next, when a signal is applied to the test signal input terminals 1-6 to 1-10 at the timing shown in FIG. 8 using the same procedure as explained above, the interval 5 in FIG. In section 7, the data holding state becomes the data holding state shown in FIG. 6C, and at the timing shown in FIG.

尚、この市松模様へのデータ設定は先の設定と順番を逆
にしても支障はないので、第9図中にデータ設定がされ
ていないランダム・アクセス・メモリ・セルは“X”で
記しである。そして、この状態で二回目の電源間リーク
電流の測定をする。
Note that there is no problem in setting data to this checkered pattern even if the order of the previous settings is reversed, so random access memory cells to which data are not set are marked with an "X" in Figure 9. be. Then, in this state, the leakage current between the power supplies is measured for the second time.

第2図は本発明の第2の実施例の回路図であり、シング
ルチップ・マイクロ・コンピュータに内蔵されたランダ
ム・アクセス・メモリを想定した例である。尚、この回
路図は多数存在するランダム・アクセス・メモリ・セル
の内の横3ビツト縦3ビツトを抽出して描いたものであ
る。
FIG. 2 is a circuit diagram of a second embodiment of the present invention, and is an example assuming a random access memory built into a single-chip microcomputer. This circuit diagram is drawn by extracting 3 horizontal bits and 3 vertical bits from a large number of random access memory cells.

第1の実施例と違う点は、ランダム・アクセス・メモリ
・セルへのデータ設定を行う命令を新設する事である。
The difference from the first embodiment is that a new instruction for setting data to random access memory cells is provided.

すなわち、加算、減算、転送等の命令に加えるのである
That is, it is added to instructions such as addition, subtraction, and transfer.

まず、このランダム・アクセス・メモリを通常に使用す
る場合を説明する。この時は、命令デコーダ2−1へは
新設した命令は入力されず、信号発生器2−2から出力
される信号2−3〜2−7は、第10図中の左端に示す
他の命令区間の論理値、すなわち信号2−3〜2−7は
ハイレベルになったままとなる。この結果、アドレス情
報2−8によって、アドレス・デコーダ2−9a〜2−
9cのいずれか1つが、また、同アドレス・デコーダ2
−10a〜2−10cのいずれか1つが選択される。ま
たNチャネルトランジスタ2−15a〜2−15fは非
導通となる。従って、ランダム・アクセス中メモリ・セ
ル2−14a〜2−141のいずれかが選択され、端子
2−16.2−17からデータを取り出す「読み出し」
、データを与える「書き込み」を実施する。
First, a case in which this random access memory is normally used will be explained. At this time, the newly installed instruction is not input to the instruction decoder 2-1, and the signals 2-3 to 2-7 output from the signal generator 2-2 are used for other instructions shown at the left end in FIG. The logical values of the section, that is, the signals 2-3 to 2-7 remain at high level. As a result, address information 2-8 causes address decoders 2-9a to 2-
9c is also the same address decoder 2.
-10a to 2-10c is selected. Further, N-channel transistors 2-15a to 2-15f become non-conductive. Therefore, during random access, any one of the memory cells 2-14a to 2-141 is selected and data is retrieved from the terminal 2-16.2-17 (reading).
, performs a "write" that provides data.

次に、選別テスト時のデータ設定を行う場合を説明する
Next, the case of setting data during a screening test will be explained.

今度は新設したデータ設定命令を実行する。命令はデー
タを市松模様と、その逆の市松模様に設定する2種類で
ある。そしてこれは、選別テスト時になんらかの方法で
実行できる仕組みとしであることが前提である。命令デ
コーダ2−1が2種類あるデータ設定命令の一方をデコ
ードすると、信号発生2−2は第10図に示すタイミン
グで信号2−3〜2−7を発生させる。まず、区間1で
は信号2−3をロウレベルにすることによって、アドレ
ス・デコーダ2−9a〜2−9c、  2−10a〜2
−10cの全出力がハイレベルとなる。
This time, execute the newly created data setting command. There are two types of instructions: one for setting data in a checkerboard pattern, and the other for setting data in a checkerboard pattern. The premise is that this is a mechanism that can be executed in some way during the selection test. When the instruction decoder 2-1 decodes one of the two types of data setting instructions, the signal generator 2-2 generates signals 2-3 to 2-7 at the timing shown in FIG. First, in section 1, by setting the signal 2-3 to low level, the address decoders 2-9a to 2-9c and 2-10a to 2
All outputs of -10c become high level.

従って、Nチャネルトランジスタ2−13a〜2−13
fの全てが非導通状態となる。区間1の途中で信号2−
6をロウレベルにして、Pチャネルトランジスタ2−1
5a、  2−15d、  2−15eが導通し、ラン
ダム・アクセス・メモリ・セルの端子1または3をハイ
レベルにする。但し、NANDゲート2−11 a 〜
2−11 cの全てがロウレベル出力のため、書き込み
はされない。第12図はランダム・アクセス・メモリ・
セルの端子1側の保持データをマツプにしたものである
。第10図に示す区間2ては信号2−4をロウレベルに
して、NANDゲート2−11 a、  2−11 c
の出力をハイレベルとする。この結果、ランダム・アク
セス・メモリ・セル2−14a、  2−14c、2−
14g、2−14iの端子1側と2−14b、2−14
hの端子3側の保持状態がハイレベルとなり、データ保
持状態は第12図に示すBの状態となる。区間3ては信
号2−6をハイレベル、信号2−7をロウレベルとして
、Pチャネルトランジスタ2−15b、  2−15c
、  2−15fを導通させる。この結果、ランダム・
アクセス・メモリ・セルの端子1または3が先と反対の
組合せでハイレベルになるが、信号2−4. 2−5は
共にハイレベルのため、NANDゲート2−11a〜2
−11cの全てがロウレベル出力となり、この段階では
書き込みはされない。区間4ては信号2−5をロウレベ
ルとする。この結果、ランダム・アクセス・メモリ・セ
ル2−14d、2−14fの端子3側と2−14eの端
子1側の保持状態がハイレベルとなり、データ保持状態
は第12図に示すCの状態となる。これて市松模様を描
いたデータ保持状態となる。区間5ては書き込み禁止状
態となり、この状態で一回目の電源間リーク電流の測定
をする。
Therefore, N channel transistors 2-13a to 2-13
All of f become non-conductive. Signal 2- in the middle of section 1
6 to low level, P channel transistor 2-1
5a, 2-15d, 2-15e conduct, causing terminal 1 or 3 of the random access memory cell to go high. However, NAND gate 2-11 a ~
Since all of 2-11c are low level outputs, no writing is performed. Figure 12 shows random access memory.
This is a map of the data held on the terminal 1 side of the cell. In section 2 shown in FIG. 10, the signal 2-4 is set to low level, and the NAND gates 2-11a, 2-11c
The output of is set to high level. As a result, random access memory cells 2-14a, 2-14c, 2-
Terminal 1 side of 14g, 2-14i and 2-14b, 2-14
The holding state on the terminal 3 side of h becomes high level, and the data holding state becomes state B shown in FIG. In section 3, the signal 2-6 is set to high level, the signal 2-7 is set to low level, and P channel transistors 2-15b, 2-15c are activated.
, 2-15f is made conductive. As a result, random
Terminals 1 or 3 of the access memory cells go high in the opposite combination, but signals 2-4 . Since both 2-5 are at high level, NAND gates 2-11a to 2
-11c are all output at low level, and no writing is performed at this stage. In section 4, signals 2-5 are set to low level. As a result, the retention states of the terminal 3 side of random access memory cells 2-14d and 2-14f and the terminal 1 side of 2-14e become high level, and the data retention state becomes state C shown in FIG. Become. This results in a data retention state with a checkered pattern. In section 5, the writing is prohibited, and in this state, the leakage current between the power supplies is measured for the first time.

次に、もう一方のデータ設定命令を実行する。Next, execute the other data setting instruction.

上記に説明したのと同様の手順で信号発生器2−2が第
11図に示すタイミングで信号2−3〜2−7を出力す
ると、第11図に示す区間2でデータ保持状態は第13
図に示すBの状態、区間4でデータ保持状態は第13図
に示すCの状態になり、先の命令で設定したものと逆の
市松模様を描いたデータ保持状態となる。この命令の実
行は先の命令実行と順番を逆にしても支障はないので、
第13図中にこの命令の実行で設定がされていないラン
ダム・アクセス・メモリ・セルは“′X″で記しである
。そして、この状態で二回目の電源間り−ク電流の測定
をする。
When the signal generator 2-2 outputs the signals 2-3 to 2-7 at the timing shown in FIG. 11 using the same procedure as explained above, the data retention state is in the 13th state in section 2 shown in FIG.
In state B shown in the figure, in interval 4, the data holding state becomes state C shown in FIG. 13, which is a data holding state with a checkered pattern opposite to that set by the previous command. There is no problem in executing this instruction even if the order of executing the previous instruction is reversed.
In FIG. 13, random access memory cells that have not been set by the execution of this instruction are marked with "'X". Then, in this state, the leakage current between the power supplies is measured for the second time.

[発明の効果コ 以上説明したように本発明は、同時に複数のランダム・
アクセス・メモリ・セルを選択するアドレス・デコーダ
と、ランダム・アクセス・メモリの書き込み回路から与
えられるデータに関係なく強制的にハイレベルまたはロ
ウレベルの書き込みデータを発生させるデータ発生手段
を有し、短時間に互いに隣合うランダム・アクセス・メ
モリ・セルを異なるデータ保持状態に設定することがで
きる。このため、LSIテスタによる選別テストにおい
て、電源間リーク電流の測定をランダム・アクセス・メ
モリ・セルの保持データの違いによる電源間リークの有
無ということを考慮して実施する場合、測定の前にラン
ダム・アクセス・メモリ・セルに対する保持データの設
定が少ないテスト・バタン数と短い時間で可能となり、
選別テストの簡素化2合理化ができる。しかも、ランダ
ム・アクセス・メモリ・セルは互いに隣合ったものの保
持データか反転の関係に設定できるため、LSIの製造
上の不具合で隣合ったセルが短絡していた場合の不良検
出率も向上し、その効果は大きい。
[Effects of the Invention] As explained above, the present invention has the advantage that multiple random
It has an address decoder that selects an access memory cell, and a data generation means that forcibly generates high-level or low-level write data regardless of the data given from the write circuit of the random access memory. Random access memory cells adjacent to each other can be set to different data retention states. For this reason, when measuring leakage current between power supplies in a screening test using an LSI tester, taking into account the presence or absence of leakage between power supplies due to differences in the data held in random access memory cells, it is necessary to・It is possible to set retained data for access memory cells with fewer test clicks and in a shorter time.
Simplification 2 of screening tests can be streamlined. Moreover, because random access memory cells can be set to have the data held in adjacent cells reversed, the failure detection rate is improved in the event that adjacent cells are short-circuited due to a manufacturing defect in the LSI. , the effect is great.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の第1の実施例の回路図、第2図は本発
明の第2の実施例の回路図、第3図はランダム・アクセ
ス・メモリ・セルの内部回路図、第4図は従来のランダ
ム・アクセス・メモリの回路図、第5図は第1の実施例
を通常にランダム・アクセス・メモリとして使用する場
合の端子への印加信号のタイミング図、第6図は第1の
実施例でデータの保持状態を市松模様に設定するための
タイミング図、第7図は第6図のタイミング図に従って
データ設定が行われて行く過程を示したランダム・アク
セス・メモリ・セルのデータ・マツプ、第8図は第1の
実施例でデータの保持状態を第6図のタイミングで設定
した場合の逆の市松模様に設定する為にタイミング図、
第9図は第8図のタイミング図に従ってデータ設定が行
われて行く過程を示したランダム・アクセス・メモリ・
セルのデータ・マツプ、第10図は第2の実施例でデー
タの保持状態を市松模様に設定するための命令を実行し
た場合に発生する信号のタイミング図、第11図は第2
の実施例でデータの保持状態を第10図のタイミングで
設定した場合の逆の市松模様に設定する為の命令を実行
した場合に発生する信号のタイミング図、第12図は第
10図のタイミング図に従ってデータ設定が行われて行
く過程を示したランダム・アクセス・メモリ・セルのデ
ータ・マツプ、第13図は第11図のタイミング図に従
ってデータ設定が行われて行く過程を示したランダム・
アクセス・メモリ・セルのデータ・マツプである。 1−1.2−8.4−1・・・・・アドレス情報、1−
2 a 〜c、  1−4 a〜d。 2−9a 〜c、  2−10a−c。 4−2.4−3・・・・・・アドレス・デコーダ、1−
3a−c、  2−12a〜C2 3−3,3−4・・・・・・・・・インバータ、1−5
a−d。 2−11 a−C・ ・ ・ ◆ ・ ・ ・ ・ N
ANDゲート、1−6. 1−7. 1−8゜ 1−9.1−10・・・・・テスト信号入力端子、1−
11a〜f。 1−13a〜f。 2−13a〜f。 3−1. 3−2゜ 4−5a〜f ◆ ・ ・Nチャネルトランジスタ、 1−12a〜込、2−14a〜i。 4−4a〜1・・◆・・・ランダム・アクセス◆メモリ
・セル、 1−14. 1−15. 2−16. 2−17゜4−
6.4−7・・・・・・データ人出力端子、2−1・・
・・・・・・・・命令デコーダ、2−2・・・・・・・
・・・信号発生器、2−3. 2−4. 2−5゜ 2−6.2−7・・・・・・・・・制御信号。 2−15a−f  ・ ・Pチャネルトランジスタ。
FIG. 1 is a circuit diagram of a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram of a second embodiment of the present invention, FIG. 3 is an internal circuit diagram of a random access memory cell, and FIG. The figure shows a circuit diagram of a conventional random access memory, FIG. 5 shows a timing diagram of signals applied to the terminals when the first embodiment is normally used as a random access memory, and FIG. FIG. 7 is a timing diagram for setting the data retention state in a checkered pattern in the embodiment shown in FIG.・Map, Figure 8 is a timing diagram to set the data retention state in the reverse checkered pattern when the data retention state is set at the timing shown in Figure 6 in the first embodiment.
Figure 9 shows the random access memory process in which data settings are performed according to the timing diagram in Figure 8.
10 is a cell data map, and FIG. 10 is a timing chart of signals generated when an instruction to set the data retention state to a checkerboard pattern is executed in the second embodiment.
In this example, when the data retention state is set at the timing shown in Fig. 10, a timing chart of signals generated when an instruction is executed to set the data retention state to a checkered pattern, which is the opposite of that shown in Fig. 10, is shown. Fig. 12 shows the timing diagram of Fig. 10. 13 is a data map of a random access memory cell showing the process of data setting according to the diagram; FIG. 13 is a random access memory cell data map showing the process of data setting according to the timing diagram of FIG.
3 is a data map of access memory cells. 1-1.2-8.4-1...Address information, 1-
2 a-c, 1-4 a-d. 2-9a-c, 2-10a-c. 4-2.4-3...Address decoder, 1-
3a-c, 2-12a to C2 3-3, 3-4...Inverter, 1-5
a-d. 2-11 a-C・ ・ ・ ◆ ・ ・ ・ ・ N
AND gate, 1-6. 1-7. 1-8゜1-9.1-10...Test signal input terminal, 1-
11a-f. 1-13a-f. 2-13a-f. 3-1. 3-2゜4-5a~f ◆ ・ ・N channel transistor, 1-12a~ included, 2-14a~i. 4-4a~1...◆...Random access◆Memory cell, 1-14. 1-15. 2-16. 2-17°4-
6.4-7... Data output terminal, 2-1...
......Instruction decoder, 2-2...
...signal generator, 2-3. 2-4. 2-5°2-6.2-7... Control signal. 2-15a-f ・・P channel transistor.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  同時に複数のランダム・アクセス・メモリ・セルを選
択するアドレス・デコーダと、ランダム・アクセス・メ
モリの書き込み回路から与えられるデータに関係なく強
制的にハイレベルまたはロウレベルの書き込みデータを
発生させるデータ発生手段を有し、互いに隣合うランダ
ム・アクセス・メモリ・セルを異なるデータ保持状態に
設定することを特徴とするランダム・アクセス・メモリ
An address decoder that simultaneously selects multiple random access memory cells, and a data generation means that forcibly generates high-level or low-level write data regardless of the data given from the write circuit of the random access memory. What is claimed is: 1. A random access memory comprising: setting adjacent random access memory cells to different data retention states.
JP1194793A 1989-07-27 1989-07-27 Random access memory Pending JPH0359898A (en)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH097399A (en) * 1995-06-15 1997-01-10 Nec Corp Semiconductor memory circuit device
US6576505B2 (en) 1999-11-25 2003-06-10 Imec, Vzw Method for transferring and stacking of semiconductor devices
JP2009041639A (en) * 2007-08-08 2009-02-26 Marui Sangyo Co Ltd Construction support fitting

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