JPH07260884A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents
Semiconductor integrated circuit deviceInfo
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- JPH07260884A JPH07260884A JP6047479A JP4747994A JPH07260884A JP H07260884 A JPH07260884 A JP H07260884A JP 6047479 A JP6047479 A JP 6047479A JP 4747994 A JP4747994 A JP 4747994A JP H07260884 A JPH07260884 A JP H07260884A
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- test
- circuit
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- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、RAMを構成する多
数のマクロセルとその他の論理回路を1チップに納めた
半導体集積回路装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device in which a large number of macro cells forming a RAM and other logic circuits are contained in one chip.
【0002】近年の半導体集積回路装置は益々高集積化
が進み、1チップに搭載されるRAMマクロの数及び各
RAMマクロの記憶容量も増大している。このような半
導体集積回路装置の各RAMマクロがSRAMで構成さ
れている場合、各記憶セルのデータ保持時間が仕様を満
足するか否かを、あらかじめチップに設けられた試験用
端子を使用して、外部試験装置によりチェックするデー
タ保持試験が、出荷時の動作試験において行われる。1
チップに搭載されるRAMマクロの増大にともなって、
データ保持試験に要する時間が長くなる傾向にあるた
め、データ保持試験に要する時間を短縮することが必要
となっている。In recent years, semiconductor integrated circuit devices have become highly integrated, and the number of RAM macros mounted on one chip and the storage capacity of each RAM macro are also increasing. When each RAM macro of such a semiconductor integrated circuit device is composed of an SRAM, whether or not the data retention time of each memory cell satisfies the specifications is checked by using a test terminal provided on a chip in advance. A data retention test, which is checked by an external test device, is performed in the shipping operation test. 1
With the increase of RAM macros mounted on the chip,
Since the time required for the data retention test tends to be long, it is necessary to shorten the time required for the data retention test.
【0003】[0003]
【従来の技術】多数のRAMマクロを備えた半導体集積
回路装置に搭載された試験回路を図3に従って説明す
る。2. Description of the Related Art A test circuit mounted on a semiconductor integrated circuit device having a large number of RAM macros will be described with reference to FIG.
【0004】外部試験装置から入力される複数ビットの
マクロ選択信号はデコーダ(図示しない)に入力され、
同デコーダから多ビットの選択信号SL0〜SLnが出
力され、例えば第一のRAMマクロ1を選択するため
に、同マクロ選択信号SL0〜SLnの中から4ビット
のマクロ選択信号SL0〜SL3がNAND回路2aに
入力される。A plurality of bits of macro selection signals input from the external test equipment are input to a decoder (not shown),
The decoder outputs multi-bit selection signals SL0 to SLn. For example, in order to select the first RAM macro 1, 4-bit macro selection signals SL0 to SL3 are selected from the macro selection signals SL0 to SLn in the NAND circuit. 2a is input.
【0005】前記NAND回路2aの出力信号はインバ
ータ回路3aを介してNAND回路2bの一方の入力端
子に入力される。前記NAND回路2bの他方の入力端
子には、外部試験装置からテストモード信号TMが入力
される。The output signal of the NAND circuit 2a is input to one input terminal of the NAND circuit 2b via the inverter circuit 3a. A test mode signal TM is input from the external tester to the other input terminal of the NAND circuit 2b.
【0006】前記NAND回路2bの出力信号は、イン
バータ回路3bに入力されるとともに、スイッチ回路S
W1の制御端子T1Lと、スイッチ回路SW2の制御端子
T2Hとに入力される。The output signal of the NAND circuit 2b is input to the inverter circuit 3b and the switch circuit S
It is input to the control terminal T1L of W1 and the control terminal T2H of the switch circuit SW2.
【0007】前記インバータ回路3bの出力信号は、ス
イッチ回路SW1の制御端子T1Hと、スイッチ回路SW
2の制御端子T2Lとに入力される。前記スイッチ回路S
W1は制御端子T1HがHレベル、制御端子T1LがLレベ
ルとなると閉路され、制御端子T1HがLレベル、制御端
子T1LがHレベルとなると開路される。The output signal of the inverter circuit 3b is supplied to the control terminal T1H of the switch circuit SW1 and the switch circuit SW.
2 and the control terminal T2L. The switch circuit S
W1 is closed when the control terminal T1H is at H level and the control terminal T1L is at L level, and is opened when the control terminal T1H is at L level and the control terminal T1L is at H level.
【0008】前記スイッチ回路SW2は制御端子T2Hが
Hレベル、制御端子T2LがLレベルとなると閉路され、
制御端子T2HがLレベル、制御端子T2LがHレベルとな
ると開路される。The switch circuit SW2 is closed when the control terminal T2H becomes H level and the control terminal T2L becomes L level,
When the control terminal T2H becomes L level and the control terminal T2L becomes H level, the circuit is opened.
【0009】前記スイッチ回路SW1の入力端子にはテ
ストデータTDが入力され、出力端子は前記RAMマク
ロ1に接続される。前記スイッチ回路SW2の入力端子
には内部制御回路から通常データNDが入力され、出力
端子は前記RAMマクロ1に接続される。なお、図3に
おいては、テストデータTD及び通常データNDを入力
する信号線を1本ずつ図示したが、テストデータTD及
び通常データNDは、それぞれアドレス信号、入力デー
タ及びクロック信号等から構成されるため、それぞれ複
数本の信号線がそれぞれスイッチ回路を介してRAMマ
クロ1に接続される。そして、このような試験回路が接
続されたRAMマクロが同一チップ上に複数設けられて
いる。The test data TD is input to the input terminal of the switch circuit SW1, and the output terminal is connected to the RAM macro 1. Normal data ND is input from the internal control circuit to the input terminal of the switch circuit SW2, and the output terminal is connected to the RAM macro 1. In FIG. 3, the signal lines for inputting the test data TD and the normal data ND are illustrated one by one, but the test data TD and the normal data ND are respectively composed of an address signal, input data, a clock signal, and the like. Therefore, a plurality of signal lines are connected to the RAM macro 1 via the switch circuits. A plurality of RAM macros to which such a test circuit is connected are provided on the same chip.
【0010】上記のような半導体集積回路装置では、通
常動作時にはテストモード信号TMがLレベルとなる。
すると、NAND回路2bの出力信号はマクロ選択信号
SL0〜SL3に関わらずHレベルとなり、インバータ
回路3bの出力信号はLレベルとなる。In the semiconductor integrated circuit device as described above, the test mode signal TM becomes L level during normal operation.
Then, the output signal of the NAND circuit 2b becomes H level regardless of the macro selection signals SL0 to SL3, and the output signal of the inverter circuit 3b becomes L level.
【0011】すると、スイッチ回路SW1は開路され、
スイッチ回路SW2は閉路される。この結果、RAMマ
クロ1には内部ゲート回路から通常データNDを入力可
能な状態となり、同通常データNDにより書き込み及び
読み出し動作が行われる。Then, the switch circuit SW1 is opened,
The switch circuit SW2 is closed. As a result, the normal data ND can be input to the RAM macro 1 from the internal gate circuit, and the write and read operations are performed by the normal data ND.
【0012】一方、テストモード時にテストモード信号
TMがHレベルとなると、NAND回路2bはインバー
タ回路3aの出力信号を待つ状態となる。この状態で、
マクロ選択信号SL0〜SL3がすべてHレベルとなる
と、NAND回路2aの出力信号はLレベルとなり、イ
ンバータ回路3aの出力信号はHレベルとなる。On the other hand, when the test mode signal TM becomes H level in the test mode, the NAND circuit 2b enters a state of waiting for the output signal of the inverter circuit 3a. In this state,
When all of the macro selection signals SL0 to SL3 become H level, the output signal of the NAND circuit 2a becomes L level and the output signal of the inverter circuit 3a becomes H level.
【0013】すると、NAND回路2bの出力信号はL
レベルとなり、インバータ回路3bの出力信号はHレベ
ルとなる。そして、スイッチ回路SW1は閉路され、ス
イッチ回路SW2は開路される。Then, the output signal of the NAND circuit 2b is L
And the output signal of the inverter circuit 3b becomes H level. Then, the switch circuit SW1 is closed and the switch circuit SW2 is opened.
【0014】この結果、外部試験装置からテストデータ
TDをRAMマクロ1に入力可能な状態となり、そのテ
ストデータTDに基づいてRAMマクロ1の動作試験が
行われる。As a result, the test data TD can be input to the RAM macro 1 from the external test apparatus, and the operation test of the RAM macro 1 is performed based on the test data TD.
【0015】その動作試験の一つであるデータ保持試験
は、外部試験装置によりRAMマクロ1内の各記憶セル
に書き込み動作を行い、仕様を満足する一定のデータ保
持時間後に各記憶セルからセル情報を読み出して、書き
込みデータと一致するか否かをチェックする。In the data retention test, which is one of the operation tests, a write operation is performed on each memory cell in the RAM macro 1 by an external test device, and cell information is read from each memory cell after a certain data retention time satisfying the specifications. Is read and it is checked whether or not it matches the write data.
【0016】このようなデータ保持試験は、マクロ選択
信号SL0〜SLnに基づいて選択される各RAMマク
ロについて、順次行われる。また、テストモード時にお
いて、マクロ選択信号SL0〜SL3がすべてHレベル
とならず、RAMマクロ1が選択されないときには、N
AND回路2aの出力信号はHレベルとなり、インバー
タ回路3aの出力信号はLレベルとなる。すると、NA
ND回路2bの出力信号はHレベルとなり、インバータ
回路3bの出力信号はLレベルとなる。そして、スイッ
チ回路SW1は開路され、スイッチ回路SW2は閉路さ
れる。この結果、RAMマクロ1は内部制御回路に接続
された状態となる。Such a data holding test is sequentially performed for each RAM macro selected based on the macro selection signals SL0 to SLn. Further, in the test mode, when the macro selection signals SL0 to SL3 are not all at the H level and the RAM macro 1 is not selected, N
The output signal of the AND circuit 2a becomes H level, and the output signal of the inverter circuit 3a becomes L level. Then NA
The output signal of the ND circuit 2b becomes H level, and the output signal of the inverter circuit 3b becomes L level. Then, the switch circuit SW1 is opened and the switch circuit SW2 is closed. As a result, the RAM macro 1 is connected to the internal control circuit.
【0017】[0017]
【発明が解決しようとする課題】上記のような半導体集
積回路装置では、テストモード時に選択されていないR
AMマクロは、スイッチ回路SW2が閉路されることに
より、内部制御回路に接続された状態となる。In the semiconductor integrated circuit device as described above, the R not selected in the test mode is used.
The AM macro is connected to the internal control circuit when the switch circuit SW2 is closed.
【0018】この状態では、内部制御回路から当該RA
Mマクロにクロック信号等が入力されて、当該RAMマ
クロがセル情報のセルフリフレッシュ動作を行っている
可能性がある。In this state, the RA from the internal control circuit
It is possible that a clock signal or the like is input to the M macro and the RAM macro is performing a self-refresh operation of cell information.
【0019】そこで、データ保持試験時には選択された
RAMマクロに所定のデータを書き込んだ後、一定のデ
ータ保持時間を経過させ、その後に読み出し動作を行っ
てセル情報のチェックを行っている。Therefore, in the data holding test, after writing predetermined data to the selected RAM macro, a certain data holding time is allowed to elapse and then a read operation is performed to check the cell information.
【0020】従って、上記動作を各RAMマクロ毎に行
う必要があるため、RAMマクロの数が増大するにつれ
て、試験時間が増大し、試験コストが上昇するという問
題点がある。Therefore, since it is necessary to perform the above operation for each RAM macro, there is a problem that the test time increases and the test cost increases as the number of RAM macros increases.
【0021】また、外部試験装置により試験用の外部端
子から各RAMマクロに同時にアクセスしてデータ保持
試験を行えば、試験時間を短縮することはできるが、R
AMマクロの数が増大するにつれて、試験専用端子の数
が増大するため、通常時に使用するための外部端子数が
減少するという問題点がある。Further, if the external test device simultaneously accesses the respective RAM macros from the external test terminals to perform the data retention test, the test time can be shortened, but R
As the number of AM macros increases, the number of test-dedicated terminals increases, so that there is a problem that the number of external terminals used for normal use decreases.
【0022】この発明の目的は、試験用の外部端子数を
増加させることなく、同一チップに設けられた多数のR
AMマクロの試験時間を短縮し得る半導体集積回路装置
を提供することにある。An object of the present invention is to provide a large number of R's provided on the same chip without increasing the number of external terminals for testing.
It is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit device that can reduce the test time of an AM macro.
【0023】[0023]
【課題を解決するための手段】図1は本発明の原理説明
図である。すなわち、内部制御回路14は複数のRAM
マクロ11に通常データNDを出力して、セル情報の書
き込み動作及び読み出し動作を行う。スイッチ回路15
は外部試験装置16から入力されるテストモード信号T
Mと、前記各RAMマクロ11のいずれか一つを選択す
るマクロ選択信号SLとに基づいて、該RAMマクロ1
1を順次外部試験装置16に接続して各RAMマクロ1
1のデータ保持試験を行う。前記スイッチ回路15は、
前記テストモード信号TMとマクロ選択信号SLとに基
づいて前記RAMマクロ11を選択して当該RAMマク
ロ11に対し前記外部試験装置16によるテストデータ
TDの書き込み動作及び読み出し動作を可能とする。前
記スイッチ回路15は、前記マクロ選択信号SLに基づ
いて選択されないRAMマクロ11と前記内部制御回路
14との接続を遮断し、前記テストモード信号TMが入
力されないときは前記内部制御回路14を前記各RAM
マクロ11に接続する。FIG. 1 is a diagram for explaining the principle of the present invention. That is, the internal control circuit 14 includes a plurality of RAMs.
The normal data ND is output to the macro 11 to perform a cell information write operation and a cell information read operation. Switch circuit 15
Is a test mode signal T input from the external test equipment 16.
RAM macro 1 based on M and a macro selection signal SL for selecting one of the RAM macros 11.
1 is sequentially connected to the external test apparatus 16 and each RAM macro 1
Perform the data retention test of 1. The switch circuit 15 is
The RAM macro 11 is selected based on the test mode signal TM and the macro selection signal SL so that the external test apparatus 16 can write and read the test data TD to and from the RAM macro 11. The switch circuit 15 cuts off the connection between the RAM macro 11 which is not selected based on the macro selection signal SL and the internal control circuit 14, and when the test mode signal TM is not input, the switch circuit 15 causes the internal control circuit 14 to operate. RAM
Connect to macro 11.
【0024】また、図2に示すように前記スイッチ回路
15は、選択されないRAMマクロ11の入力端子を電
源VEEに接続する。Further, as shown in FIG. 2, the switch circuit 15 connects the input terminal of the unselected RAM macro 11 to the power source VEE.
【0025】[0025]
【作用】テストモード時にテストモード信号TMが外部
試験装置16からスイッチ回路15に入力され、同スイ
ッチ回路15にマクロ選択信号SLが入力されると、選
択されたRAMマクロ11に対し外部試験装置16によ
りテストデータTDの書き込み及び読み出し動作が行わ
れる。選択されないRAMマクロ11は、外部試験装置
16及び内部制御回路14との接続が遮断される。スイ
ッチ回路15にテストモード信号TMが入力されないと
きは、各RAMマクロ11は内部制御回路14に接続さ
れる。When the test mode signal TM is input from the external test device 16 to the switch circuit 15 and the macro selection signal SL is input to the switch circuit 15 in the test mode, the external test device 16 is applied to the selected RAM macro 11. Thus, the write and read operations of the test data TD are performed. The non-selected RAM macro 11 is disconnected from the external test apparatus 16 and the internal control circuit 14. When the test mode signal TM is not input to the switch circuit 15, each RAM macro 11 is connected to the internal control circuit 14.
【0026】また、テストモード時に選択されないRA
Mマクロ11の入力端子は電源VEEに接続されて、当該
RAMマクロ11のセル情報のセルフリフレッシュ動作
が停止される。RA not selected in the test mode
The input terminal of the M macro 11 is connected to the power source VEE, and the self refresh operation of the cell information of the RAM macro 11 is stopped.
【0027】[0027]
【実施例】以下、この発明を具体化した半導体集積回路
装置の一実施例を説明する。図2に示すように、外部試
験装置から入力される複数ビットのマクロ選択信号はデ
コーダ(図示しない)に入力され、同デコーダから多ビ
ットの選択信号SL0〜SLnが出力され、例えば第一
のRAMマクロ11を選択するために、同マクロ選択信
号SL0〜SLnの中から4ビットのマクロ選択信号S
L0〜SL3がNAND回路12aに入力される。An embodiment of a semiconductor integrated circuit device embodying the present invention will be described below. As shown in FIG. 2, a multi-bit macro selection signal input from an external test apparatus is input to a decoder (not shown), and multi-bit selection signals SL0 to SLn are output from the decoder, for example, the first RAM. In order to select the macro 11, the 4-bit macro selection signal S is selected from the macro selection signals SL0 to SLn.
L0 to SL3 are input to the NAND circuit 12a.
【0028】前記NAND回路12aの出力信号は、N
AND回路12bの一方の入力端子に入力され、インバ
ータ回路13aを介してNAND回路12cの一方の入
力端子に入力される。The output signal of the NAND circuit 12a is N
It is input to one input terminal of the AND circuit 12b and is input to one input terminal of the NAND circuit 12c via the inverter circuit 13a.
【0029】前記NAND回路12b,12cの他方の
入力端子には、外部試験装置からテストモード信号TM
が入力される。前記NAND回路12bの出力信号は、
インバータ回路13bに入力されるとともに、スイッチ
回路SW11の制御端子T11L に入力される。前記イン
バータ回路13bの出力信号は、前記スイッチ回路SW
11の制御端子T11H に入力される。A test mode signal TM from an external tester is applied to the other input terminals of the NAND circuits 12b and 12c.
Is entered. The output signal of the NAND circuit 12b is
It is input to the inverter circuit 13b and also to the control terminal T11L of the switch circuit SW11. The output signal of the inverter circuit 13b is the switch circuit SW.
11 is input to the control terminal T11H.
【0030】前記NAND回路12cの出力信号は、イ
ンバータ回路13cに入力されるとともに、スイッチ回
路SW12の制御端子T12L に入力される。前記インバ
ータ回路13cの出力信号は、スイッチ回路SW12の
制御端子T12H に入力される。The output signal of the NAND circuit 12c is input to the inverter circuit 13c and the control terminal T12L of the switch circuit SW12. The output signal of the inverter circuit 13c is input to the control terminal T12H of the switch circuit SW12.
【0031】前記テストモード信号TMは、スイッチ回
路SW13の制御端子T13L に入力されるとともに、イ
ンバータ回路13dに入力される。前記インバータ回路
13dの出力信号は、前記スイッチ回路SW13の制御
端子T13H に入力される。The test mode signal TM is input to the control terminal T13L of the switch circuit SW13 and the inverter circuit 13d. The output signal of the inverter circuit 13d is input to the control terminal T13H of the switch circuit SW13.
【0032】前記スイッチ回路SW11は制御端子T11
H がHレベル、制御端子T11L がLレベルとなると閉路
され、制御端子T11H がLレベル、制御端子T11L がH
レベルとなると開路される。The switch circuit SW11 has a control terminal T11.
When H becomes H level and control terminal T11L becomes L level, it is closed, control terminal T11H becomes L level and control terminal T11L becomes H level.
When it reaches the level, it is opened.
【0033】前記スイッチ回路SW12は制御端子T12
H がHレベル、制御端子T12L がLレベルとなると閉路
され、制御端子T12H がLレベル、制御端子T12L がH
レベルとなると開路される。The switch circuit SW12 has a control terminal T12.
When H becomes H level and control terminal T12L becomes L level, it is closed, control terminal T12H becomes L level, and control terminal T12L becomes H level.
When it reaches the level, it is opened.
【0034】前記スイッチ回路SW13は制御端子T13
H がHレベル、制御端子T13L がLレベルとなると閉路
され、制御端子T13H がLレベル、制御端子T13L がH
レベルとなると開路される。The switch circuit SW13 has a control terminal T13.
When H becomes H level and control terminal T13L becomes L level, it is closed, control terminal T13H becomes L level and control terminal T13L becomes H level.
When it reaches the level, it is opened.
【0035】前記スイッチ回路SW11の入力端子には
電源VEEが入力され、出力端子は前記RAMマクロ11
に接続される。前記スイッチ回路SW12の入力端子に
はテストデータTDが入力され、出力端子は前記RAM
マクロ11に接続される。The power supply VEE is input to the input terminal of the switch circuit SW11, and the output terminal is the RAM macro 11
Connected to. The test data TD is input to the input terminal of the switch circuit SW12, and the output terminal is the RAM.
It is connected to the macro 11.
【0036】前記スイッチ回路SW13の入力端子には
内部制御回路から通常データNDが入力され、出力端子
は前記RAMマクロ11に接続される。なお、図2にお
いては、テストデータTD及び通常データNDを入力す
る信号線を1本ずつ図示したが、テストデータTD及び
通常データNDは、それぞれアドレス信号、入力データ
及びクロック信号等から構成されるため、それぞれ複数
本の信号線がスイッチ回路を介してRAMマクロ11に
接続される。そして、このような試験回路が接続された
RAMマクロが同一チップ上に複数設けられている。Normal data ND is input from the internal control circuit to the input terminal of the switch circuit SW13, and the output terminal is connected to the RAM macro 11. In FIG. 2, the signal lines for inputting the test data TD and the normal data ND are shown one by one, but the test data TD and the normal data ND are respectively composed of an address signal, input data, a clock signal and the like. Therefore, each of the plurality of signal lines is connected to the RAM macro 11 via the switch circuit. A plurality of RAM macros to which such a test circuit is connected are provided on the same chip.
【0037】上記のような半導体集積回路装置では、通
常動作時にはテストモード信号TMがLレベルとなる。
すると、NAND回路12b,12cの出力信号はマク
ロ選択信号SL0〜SL3に関わらずHレベルとなり、
インバータ回路13b,13cの出力信号はLレベルと
なる。また、インバータ回路13dの出力信号はHレベ
ルとなる。In the semiconductor integrated circuit device as described above, the test mode signal TM becomes L level during normal operation.
Then, the output signals of the NAND circuits 12b and 12c become the H level regardless of the macro selection signals SL0 to SL3,
The output signals of the inverter circuits 13b and 13c become L level. Further, the output signal of the inverter circuit 13d becomes H level.
【0038】すると、スイッチ回路SW11は開路さ
れ、スイッチ回路SW12は開路され、スイッチ回路1
3は閉路される。この結果、RAMマクロ11には内部
制御回路から通常データNDを入力可能な状態となり、
同通常データNDにより書き込み及び読み出し動作が行
われる。Then, the switch circuit SW11 is opened, the switch circuit SW12 is opened, and the switch circuit 1 is opened.
3 is closed. As a result, the normal data ND can be input to the RAM macro 11 from the internal control circuit,
Write and read operations are performed using the normal data ND.
【0039】一方、テストモード時にテストモード信号
TMがHレベルとなると、インバータ回路13dの出力
信号はLレベルとなる。すると、スイッチ回路SW13
は開路される。On the other hand, when the test mode signal TM becomes H level in the test mode, the output signal of the inverter circuit 13d becomes L level. Then, the switch circuit SW13
Is opened.
【0040】また、NAND回路12b,12cはイン
バータ回路13aの出力信号を待つ状態となる。この状
態で、マクロ選択信号SL0〜SL3がすべてHレベル
となると、NAND回路12aの出力信号はLレベルと
なり、インバータ回路13aの出力信号はHレベルとな
る。The NAND circuits 12b and 12c are in a state of waiting for the output signal of the inverter circuit 13a. In this state, when the macro selection signals SL0 to SL3 all become H level, the output signal of the NAND circuit 12a becomes L level and the output signal of the inverter circuit 13a becomes H level.
【0041】すると、NAND回路12cの出力信号は
Lレベルとなり、インバータ回路13cの出力信号はH
レベルとなる。そして、スイッチ回路SW12は閉路さ
れる。Then, the output signal of the NAND circuit 12c becomes L level, and the output signal of the inverter circuit 13c becomes H level.
It becomes a level. Then, the switch circuit SW12 is closed.
【0042】また、NAND回路12bの出力信号はH
レベルとなり、インバータ回路13bの出力信号はLレ
ベルとなる。すると、スイッチ回路SW11は開路され
る。従って、この状態ではRAMマクロ11が選択され
て、外部試験装置からスイッチ回路SW12を介してテ
ストデータTDの書き込み動作あるいは読み出し動作が
可能となる。The output signal of the NAND circuit 12b is H level.
And the output signal of the inverter circuit 13b becomes L level. Then, the switch circuit SW11 is opened. Therefore, in this state, the RAM macro 11 is selected, and the write operation or the read operation of the test data TD can be performed from the external test apparatus via the switch circuit SW12.
【0043】また、テストモード時にテストモード信号
TMがHレベルとなった状態で、マクロ選択信号SL0
〜SL3がすべてHレベルとならず、他のRAMマクロ
が選択された状態では、NAND回路12aの出力信号
はHレベルとなり、インバータ回路13aの出力信号は
Lレベルとなる。Further, in the test mode, with the test mode signal TM at the H level, the macro selection signal SL0
In a state in which all of SL3 are not at the H level and another RAM macro is selected, the output signal of the NAND circuit 12a becomes the H level and the output signal of the inverter circuit 13a becomes the L level.
【0044】すると、NAND回路12bの出力信号は
Lレベルとなり、インバータ回路13bの出力信号はH
レベルとなる。この結果、スイッチ回路SW11は閉路
される。Then, the output signal of the NAND circuit 12b becomes L level and the output signal of the inverter circuit 13b becomes H level.
It becomes a level. As a result, the switch circuit SW11 is closed.
【0045】また、NAND回路12cの出力信号はH
レベルとなり、インバータ回路13cの出力信号はLレ
ベルとなる。すると、スイッチ回路SW12は開路され
る。この状態ではRAMマクロ11の入力信号線は電源
VEEレベルにクランプされる。The output signal of the NAND circuit 12c is H.
And the output signal of the inverter circuit 13c becomes L level. Then, the switch circuit SW12 is opened. In this state, the input signal line of the RAM macro 11 is clamped to the power source VEE level.
【0046】従って、この半導体集積回路装置では、テ
ストモード時に非選択状態となるRAMマクロの入力信
号線は、電源VEEにクランプされるため、RAMマクロ
内で各記憶セルに対するセルフリフレッシュ動作等のア
クセスは停止される。Therefore, in this semiconductor integrated circuit device, the input signal line of the RAM macro, which is in the non-selected state in the test mode, is clamped to the power supply VEE, so that access to each memory cell such as self-refresh operation is performed in the RAM macro. Is stopped.
【0047】このような半導体集積回路装置において、
RAMマクロのデータ保持試験を行う場合には、テスト
モード信号TMをHレベルとした状態で、マクロ選択信
号SL0〜SLnに基づいて各RAMマクロを順次選択
し、各RAMマクロ内の記憶セルにテストデータを書き
込む。In such a semiconductor integrated circuit device,
When the data retention test of the RAM macro is performed, each RAM macro is sequentially selected based on the macro selection signals SL0 to SLn while the test mode signal TM is at the H level, and the memory cells in each RAM macro are tested. Write the data.
【0048】テストデータの書き込み動作が終了したの
ち、一定のデータ保持時間後に、各RAMマクロを順次
選択し、各RAMマクロ内の記憶セルからセル情報を順
次読みだしてデータ保持時間のチェックを行う。After the write operation of the test data is completed, each RAM macro is sequentially selected after a certain data holding time, cell information is sequentially read from the memory cells in each RAM macro, and the data holding time is checked. .
【0049】このようなデータ保持試験では、RAMマ
クロを順次選択してテストデータTDの書き込み動作及
び読み出し動作を行うことは前記従来例と同様である
が、各RAMマクロに同時にデータ保持動作を行わせる
ことができる。In such a data holding test, the RAM macros are sequentially selected to perform the write operation and the read operation of the test data TD, which is the same as in the conventional example, but the data holding operation is simultaneously performed to each RAM macro. Can be made.
【0050】従って、RAMマクロの数をNとすれば、
データ保持時間を前記従来例の1/Nとすることができ
る。このデータ保持時間はテストデータの書き込み動作
及び読み出し動作に要する時間に比して、例えば10〜
20倍程度の時間を要するので、試験時間を大幅に短縮
することができる。Therefore, if the number of RAM macros is N,
The data retention time can be set to 1 / N of the conventional example. This data retention time is, for example, 10 to 10 times as long as the time required to write and read the test data.
Since the time required is about 20 times, the test time can be significantly shortened.
【0051】また、データ保持試験に要する外部端子数
を増加させることもない。上記実施例から把握できる請
求項以外の技術思想について、以下にその効果とともに
記載する。Further, the number of external terminals required for the data retention test is not increased. The technical ideas other than the claims that can be understood from the above embodiments will be described below along with their effects.
【0052】(1)請求項1において、前記スイッチ回
路はテストモード信号が入力された状態で、選択されな
いRAMマクロの入力端子を一定電位にクランプする。
選択されないRAMマクロのセルフリフレッシュ動作が
停止される。(1) In claim 1, the switch circuit clamps the input terminal of the unselected RAM macro to a constant potential in the state where the test mode signal is input.
The self-refresh operation of the RAM macro not selected is stopped.
【0053】[0053]
【発明の効果】以上詳述したように、この発明は試験用
の外部端子数を増加させることなく、同一チップに設け
られた多数のRAMマクロの動作試験を行うために要す
る試験時間を短縮し得る半導体集積回路装置を提供する
ことができる。As described above in detail, the present invention shortens the test time required to perform the operation test of a large number of RAM macros provided on the same chip without increasing the number of external test terminals. A semiconductor integrated circuit device to be obtained can be provided.
【図1】本発明の原理説明図である。FIG. 1 is a diagram illustrating the principle of the present invention.
【図2】一実施例を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing an example.
【図3】従来例を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a conventional example.
11 RAMマクロ 14 内部制御回路 15 スイッチ回路 16 外部試験装置 ND 通常データ TM テストモード信号 SL マクロ選択信号 TD テストデータ 11 RAM macro 14 Internal control circuit 15 Switch circuit 16 External test device ND normal data TM Test mode signal SL macro selection signal TD test data
Claims (2)
力して、セル情報の書き込み動作及び読み出し動作を行
う内部制御回路(14)と、 外部試験装置(16)から入力されるテストモード信号
(TM)と、前記各RAMマクロ(11)のいずれか一
つを選択するマクロ選択信号(SL)とに基づいて、該
RAMマクロ(11)を順次外部試験装置(16)に接
続して各RAMマクロ(11)のデータ保持試験を行う
スイッチ回路(15)とを備えた半導体集積回路装置で
あって、 前記スイッチ回路(15)は、前記テストモード信号
(TM)とマクロ選択信号(SL)とに基づいて前記R
AMマクロ(11)を選択して当該RAMマクロ(1
1)に対し前記外部試験装置(16)によるテストデー
タ(TD)の書き込み動作及び読み出し動作を可能と
し、前記マクロ選択信号(SL)に基づいて選択されな
いRAMマクロ(11)と内部制御回路(14)との接
続を遮断し、前記テストモード信号(TM)が入力され
ないときは、前記内部制御回路(14)を前記各RAM
マクロ(11)に接続することを特徴とする半導体集積
回路装置。1. A plurality of RAM macros (11), an internal control circuit (14) for outputting normal data (ND) to each of the RAM macros (11) to perform a write operation and a read operation of cell information, Based on the test mode signal (TM) input from the external tester (16) and the macro selection signal (SL) for selecting one of the RAM macros (11), the RAM macro (11) And a switch circuit (15) for sequentially performing a data retention test on each RAM macro (11) by sequentially connecting the external test device (16) to the external test device (16), wherein the switch circuit (15) comprises: The R based on the test mode signal (TM) and the macro selection signal (SL)
Select the AM macro (11) and select the RAM macro (1
1), the test data (TD) write and read operations by the external tester (16) are enabled, and the RAM macro (11) and the internal control circuit (14) which are not selected based on the macro selection signal (SL). When the test mode signal (TM) is not input, the internal control circuit (14) is connected to each RAM.
A semiconductor integrated circuit device characterized by being connected to a macro (11).
ないRAMマクロ(11)の入力端子を電源(VEE)に
接続することを特徴とする請求項1記載の半導体集積回
路装置。2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the switch circuit (15) connects an input terminal of the unselected RAM macro (11) to a power supply (VEE).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6047479A JPH07260884A (en) | 1994-03-17 | 1994-03-17 | Semiconductor integrated circuit device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6047479A JPH07260884A (en) | 1994-03-17 | 1994-03-17 | Semiconductor integrated circuit device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07260884A true JPH07260884A (en) | 1995-10-13 |
Family
ID=12776280
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6047479A Withdrawn JPH07260884A (en) | 1994-03-17 | 1994-03-17 | Semiconductor integrated circuit device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07260884A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000149599A (en) * | 1998-11-11 | 2000-05-30 | Hyundai Electronics Ind Co Ltd | Memory test circuit |
KR100313202B1 (en) * | 1997-10-01 | 2001-12-12 | 가네꼬 히사시 | Test circuit for macro |
US6405335B1 (en) * | 1998-02-25 | 2002-06-11 | Texas Instruments Incorporated | Position independent testing of circuits |
US6928594B2 (en) | 2000-03-28 | 2005-08-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor integrated circuit |
-
1994
- 1994-03-17 JP JP6047479A patent/JPH07260884A/en not_active Withdrawn
Cited By (5)
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JP4632468B2 (en) * | 1998-11-11 | 2011-02-16 | 株式会社ハイニックスセミコンダクター | Memory test circuit |
US6928594B2 (en) | 2000-03-28 | 2005-08-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor integrated circuit |
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