JPH0359892B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0359892B2
JPH0359892B2 JP59039645A JP3964584A JPH0359892B2 JP H0359892 B2 JPH0359892 B2 JP H0359892B2 JP 59039645 A JP59039645 A JP 59039645A JP 3964584 A JP3964584 A JP 3964584A JP H0359892 B2 JPH0359892 B2 JP H0359892B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
methyl
compound
synthesis
ether
solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP59039645A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS60184045A (ja
Inventor
Shuji Senda
Kenji Mori
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to JP59039645A priority Critical patent/JPS60184045A/ja
Publication of JPS60184045A publication Critical patent/JPS60184045A/ja
Publication of JPH0359892B2 publication Critical patent/JPH0359892B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Pyrane Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な光学活性酢酸エステルに関し、
詳しくはCarpenter Bee(Xylocopa hirsutissi−
ma)の性フエロモンを高い光学純度で大量に合
成するための中間体として有用である新規な光学
活性酢酸エステルに関する。
Carpenter Bee(Xylocopa hirsutissima)の性
フエロモンであるcis−2−methyl−5−
hexanolideを合成する方法は既に幾つかが知ら
れている。その一つに、5−シアノペンタン−2
−オールのラセミ体を原料とし、その中間体を高
速液体クロマトグラフイにより光学分割する方法
(W.H.Pirkle et al.,J.Org.Chem.,44,2169
(1979))があるが、大量の合成には適さず、ま
た、光学純度も低い。因に、この方法によつて得
られる上記性フエロモンは、〔α〕23.7 D+64.8゜
(CHCl3)及び〔α〕22.6 D−64.4゜(CHCl3)である。
他の方法として、アセト酢酸エステルを原料とし
て酵母による不斉還元と、中間体であるプロピオ
ンアミドの不斉アルキル化を経る方法(香月ら、
第26回天然有機化合物討論会講演要旨集第453頁
(1983))も知られているが、この方法によれば、
一方の鏡像体を合成することはできても、他方の
鏡像体を合成することができない。更に、得られ
る性フエロモンの光学純度も〔α〕23 D−65.6゜
(CHCl3)であつて、尚、満足できるものではな
い。
本発明者らは、上記性フエロモンの合成におけ
る光学純度及び大量合成に関する上記問題を解決
するために鋭意研究した結果、次の構造を有する
本発明による新規な光学活性酢酸エステルを用い
ることにより、上記問題を一挙に解決して、それ
ぞれ対応するフエロモンの鏡像体を高い光学純度
にて、且つ、大量に合成し得ることを見出して本
発明に至つたものである。
即ち、本発明による新規な光学活性酢酸エステ
ルは、一般式 (但し、1位及び4位のメチル基は(1R,4S)
又は(1S,4R)であり、RはCH2OH又は
COOHを示す。) で表わされることを特徴とする。
従つて、上記本発明による光学活性酢酸エステ
ルは、具体的には、それぞれ次式で表わされる。
酢酸(2S,5R)−6−ヒドロキシ−5−メチル
−2−ヘキシル 酢酸(2R,5S)−6−ヒドロキシ−5−メチル
−2−ヘキシル (2R,5S)−5−アセトキシ−2−メチルヘキ
サン酸 この化合物(3)は上記化合物(1)から導かれる。
(2S,5R)−5−アセトキシ−2−メチルヘキ
サン酸 この化合物(4)は上記化合物(2)から導かれる。
本発明による上記光学活性酢酸エステルはすべ
て、既に文献により知られている化合物より合成
することができる。
即ち、上記化合物(1)は 及び を原料として得ることができ、また、上記化合物
(2)は原料として、 及び を用いることにより合成することができる。
化合物(5)及び(7)は長谷川ら(J.Hasegawaet
al.,J.Ferment.Technol.,59,203(1981))によ
り知られており、また、化合物(6)及び(8)は
Johnstoneら(B.D.Johnstone et al.,Can.J.
Chem.,57,233(1979))により知られている。
本発明による光学活性酢酸エステル(1)及び(3)の
合成のスキームを以下に示す。
上記スキームの各工程について、以下に詳しく
説明する。
先ず、エステル化合物(5)の水酸基を保護して化
合物(9)を得る。保護基R′は、後に中間体をアセ
チル化したときのアセチル基と区別し得る限りは
特に制限されず、例えば、テトラヒドロピラニル
基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、t−
ブチルジメチルシリル基、ベンジル基等を挙げる
ことができるが、後の反応における安定性、脱着
の容易さ、価格等の点からテトラヒドロピラニル
基が好ましい。
化合物(5)へ上記保護基を導入するには、従来よ
り知られている通常の方法によればよく、例え
ば、テトラヒドロピラニル基を保護基とする場合
は、乾燥テトラヒドロフラン中で化合物(5)に1〜
2倍当量の2,3−ジヒドロピランを触媒量のp
−トルエンスルホン酸の存在下に反応させればよ
い(例えば、T.W.Green,“Protective Groups
in Organic Synthesis”,John Wiley &
Sons,New York(1981))。
次に、保護基にて水酸基を保護したエステル化
合物(9)をリチウムアルミニウムハイドライド、リ
チウムボロハイドライド、ジボラン等の還元剤に
より還元して、アルコール化合物(10)とする。かか
る金属水素化物によるエステルからアルコールへ
の還元は既によく知られており、通常、エーテ
ル、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル等の不活性エーテル系溶剤中で、
通常、0℃乃至溶剤の沸点までの温度範囲で、エ
ステル化合物(9)に対して0.5〜5倍当量の還元剤
を反応させることにより、アルコール化合物(10)が
得られる。反応の容易性からリチウムアルミニウ
ムハイドライドを還元剤として用いることが好ま
しい。
このようにして得られたアルコール化合物(10)を
p−トルエンスルホン酸エステル(11)とする。常法
に従つて、例えば、アルコール化合物(10)をピリジ
ン中で1〜2倍当量の塩化−p−トルエンスルホ
ニルと反応させればよい。
次いで、このp−トルエンスルホン酸エステル
化合物(11)をスルフイド化合物(12)に変換するには、
例えば、ナトリウムチオフエノキシドによること
ができる。ナトリウムチオフエノキシドは、既に
知られているように、チオフエノールのエタノー
ル溶液に0.8〜1.5倍当量の金属ナトリウムを加え
て反応させ、或いはチオフエノールと0.8〜1.5倍
当量の水酸化ナトリウムを水中で混合することに
より得られる。このナトリウムチオフエノキシド
のエタノール溶液中に上記p−トルエンスルホン
酸エステル化合物(11)を滴下し、反応させればスル
フイド化合物(12)を得る。
次に、このスルフイド化合物(12)をスルホン化合
物(13)に酸化する。この酸化はm−クロル過安
息香酸や、ジフエニルジセレンと過酸化水素との
組合せを用いて行なうことができる。好ましい方
法として、例えば、スルフイド化合物(12)を塩化メ
チレン、クロロホルム等の溶剤に溶解し、炭酸水
素ナトリウム等のようなPH緩衝剤を添加し、これ
に2〜4倍当量のm−クロル過安息香酸を加え
て、スルフイド(12)化合物をスルホン化合物(13)
に酸化するのが簡単である。
このようにして得られたスルホン化合物(13)
を次いで前記エポキシド(6)と反応させて、アルコ
ール化合物(14)とする。好ましい方法として、
不活性溶剤、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン
等の飽和炭化水素、エーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチル
エーテル等のエーテル類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、リン酸ヘキサメチル
トリアミド等の溶剤にスルホン化合物(13)を溶
解させ、次いで、−100〜+50℃、好ましくは−80
〜0℃の温度でアルカリ金属アミドやアルキルリ
チウム等のような塩基を1〜1.5倍当量加える。
この後、エポキシド(6)を添加し、数時間撹拌し
て、反応させる。この反応において、反応を促進
するために、エポキシド(6)の添加前にスルホン化
合物(13)に対して1〜2倍当量のリン酸ヘキサ
メチルトリアミドを添加することができる。
次に、上記アルコール化合物(14)を脱硫す
る。この脱硫はナトリウムアマルガムを用いるこ
とにより容易に行なうことができる。即ち、適宜
の溶剤に溶解した化合物(14)の溶液を、これの
2〜50倍当量、好ましくは5〜30倍当量のナトリ
ウムを含むナトリウムアマルガムに滴下し、反応
させる。上記溶剤としては、特に制限されない
が、通常、メタノールやエタノールが好ましく用
いられる。
このようにして得られたアルコール化合物
(15)をアセチル化して、対応するアセチル化物
(16)を得る。このアセチル化反応は、前記した
Greenらの方法によつて容易に行なうことができ
る。即ち、適宜の溶剤、例えば、ピリジンやトリ
エチルアミン、ピリジン/塩化メチレン、ピリジ
ン/クロロホルム等に化合物(15)を溶解し、こ
れに1〜10倍当量のアセチル化剤、例えば、無水
酢酸や塩化アセチルを滴下することにより、アセ
チル化物(16)を得る。尚、この反応において、
N,N′−ジメチルアミノピリジンを共存させる
ことができる。
このアセチル化物(16)より前記の保護基を脱
着することにより、本発明による化合物(1)を得る
ことができる。例えば、脱テトラヒドロピラニル
基の場合について説明すれば、前記Greenらの方
法に従つて、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、シ
クロヘキサン等の炭化水素溶剤、エーテル、ジオ
キサン等のエーテル溶剤、メタノール、エタノー
ル等のアルコール溶剤のような適宜の溶剤の含水
溶剤にアセチル化物(16)を溶解し、酸によつて
保護基としてのテトラヒドロピラニル基を脱着さ
せる。酸としては、特に制限されないが、例え
ば、塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸、酢酸、p−
トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の有機
酸が好適に用いられ、その使用量も特に制限され
ず、触媒量から大過剰量まで適宜に用いられる。
反応温度は、通常、室温から用いる溶剤の沸点以
下の温度である。
更に、上記化合物(1)を常法に従つて酸化するこ
とによつて、本発明の化合物(3)を得ることができ
る。この酸化のための酸化剤としては、重クロム
酸カリウム、Jones試薬、Kiliami試薬、ピリジ
ンジクロメート、過マンガン酸カリウム、酸素等
が適宜に用いられるが、操作上、Jones試薬を用
いるのが好都合である。酸化反応は、通常、アセ
トン、ベンゼン、ヘキサン、トルエン等の適宜の
溶剤、好ましくはアセトン中に化合物(1)を溶解さ
せ、反応温度0〜50℃、好ましくは0℃乃至常温
にてこれに1〜5倍当量のJones試薬を滴下し、
反応させる。
上記した本発明による化合物(1)及び(3)はいずれ
も、常法により容易に分離することができる。例
えば、反応終了後、溶剤を留去若しくは希釈し、
又は反応生成物を抽出し、それぞれ得られた残渣
又は抽出物をクロマトグラフイ、蒸溜等の手段に
て分離、精製するのである。
以上のようにして得られる本発明による光学活
性酢酸エステルは、光学純度が高く、これを次の
反応工程を経ることにより、前記したGarpenter
Beeの性フエロモンの一鏡像体である(2R,5S)
−2−methyl−5−hexanolide(18)に光学純度
高く誘導することができる。即ち、化合物(3)をア
ルコール中で加水分解して(17)とし、これを酸
にて分子内環化させるのである。
明らかに、前記化合物(7)及び(8)を原料として、
上記と同じ反応工程により、本発明による化合物
(2)及び(4)を得ることができる。これを上記と同様
に処理すれば、上記(18)の鏡像体である(2S,
5R)−2−methyl−5−hexanolideを得ること
ができる。
これら本発明による酢酸エステルを原料とすれ
ば、上記性フエロモンへの誘導が容易であるの
で、大量の合成に適するのみならず、得られる性
フエロモンは、前記した従来の方法による場合に
比較して、光学純度及び化学純度が共に著しく高
い。
以下に実施例を挙げて本発明を説明する。
実施例 1 酢酸(2S,5R)−6−ヒドロキシ−5−メチル
−2−ヘキシル(1)の合成 (a) (S)−2−メチル−3−テトラヒドロピラ
ニルオキシプロピオン酸メチル(9)の合成 化合物(5)(98%ee)10g(84.7mmol)を乾燥
させたテトラヒドロフラン200mlに溶解し、これ
に2,3−ジヒドロピラン10g(118.9mmol)及
びp−トルエンスルホン酸100mgを加え、一晩撹
拌した。反応終了後、反応液を氷水中に投じ、エ
ーテル抽出し、このエーテル層を飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液、次いで飽和食塩水で洗滌した
後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。乾燥剤
を濾別した後、溶剤を留去して、(9)の粗生成物
19.0gを得た。
(b) (R)−2−メチル−3−テトラヒドロピラ
ニルオキシプロパノール(10)の合成 リチウムアルミニウムハイドライド3.21g
(84.7mmol)を乾燥エーテル300mlに氷冷下に溶
解し、これに上記粗(9)化合物19gを乾燥エーテル
30mlに溶解した溶液を氷冷下に滴下した。滴下終
了後、室温にて一晩撹拌した。反応終了後、反応
液に水8ml、15%水酸化ナトリウム水溶液8ml及
び水24mlをこの順序で加え、よく撹拌した後に濾
過し、得られた濾液を無水硫酸ナトリウム上で乾
燥した。濾過し、溶剤を留去した後、減圧下に蒸
溜し、化合物(10)13.8gを得た(沸点96〜99℃/4
mmHg)。収率は(5)より93.8%。
(c) p−トルエンスルホン酸(S)−2−メチル
−3−テトラヒドロピラニルオキシプロピル(11)
の合成 上記(10)化合物10g(57.4mmol)をピリジン100
mlに溶解させた溶液に、氷冷下、塩化p−トルエ
ンスルホニル17.4g(86.2mmol)を加え、3℃
にて2日間撹拌した。この後、反応液を氷水中に
投じ、エーテル抽出し、エーテル層を氷冷した
1N塩酸水溶液、飽和硫酸銅水溶液、水、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水にてこの
順序で洗滌した後、無水硫酸マグネシウム上で乾
燥した。濾過後、溶剤を留去し、粗(11)を19.5g得
た。
(d) (S)−2−メチル−3−フエニルチオ−1
−テトラヒドロピラニルオキシプロパン(12)の合
成 チオフエノール8.22g(74.6mmol)をエタノ
ール100mlに溶解し、これに金属ナトリウム2.06
g(89.5mg原子)を加えた。ナトリウムがすべて
溶解した後、粗(11)19.5gのエタノール溶液を加
え、2.5時間還流した後、室温で一晩撹拌した。
反応液を2N水酸化ナトリウム水溶液に投じ、エ
ーテル抽出し、このエーテル層を飽和食塩水で洗
滌した後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。
濾過後、溶剤を留去し、粗(12)15.5g得た。
(e) (S)−2−メチル−3−フエニルスルホニ
ル−1−テトラヒドロピラニルオキシプロパン
(13)の合成 粗(12)15.5g(57.4mmol)、塩化メチレン200ml
及び炭酸水素ナトリウム13.3g(158mmol)を混
合し、これにm−クロル過安息香酸31.0g
(143.5mmol)を塩化メチレン300mlに溶解した溶
液を−25〜−15℃で滴下した。滴下終了後、反応
液を室温まで昇温し、一晩撹拌した。反応液を飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗
滌した後、無水炭酸カリウム上で乾燥した。濾過
後、溶剤を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフイ(ヘキサン/エーテル)にて精製し、(14)
15.7gを得た。収率は(10)より91.8%。
(f) (2S,5S)−5−メチル−4−フエニルスル
ホニル−6−テトラヒドロピラニルオキシ−2
ヘキサノール(14)の合成 (13)10g(33.5mmol)を乾燥テトラヒドロ
フラン100mlに溶解し、アルゴン下、−77〜−70℃
の温度にてn−ブチルリチウムヘキサン溶液
(1.54N)24ml(36.9mmol)を滴下した。−78℃
にて25分間撹拌し、次いで、リン酸ヘキサメチル
トリアミド7ml(40.2mmol)及びエポキシド(7)
(〔α〕20.5 D−13.8゜(ニート))2.33g(40.2mmol

を乾燥テトラヒドロフラン20mlに溶解した溶液を
−78〜−70℃で滴下し、滴下終了後、−78℃で4
時間撹拌した後、ゆつくりと室温まで昇温し、更
に、一晩撹拌した。
反応液を氷冷した飽和食塩水中に投じ、エーテ
ル抽出し、エーテル層を飽和塩化アンモニウム水
溶液及び飽和食塩水で洗滌した後、無水硫酸マグ
ネシウム上で乾燥した。濾過後、溶剤を留去し、
残渣をシリカゲルクロマトグラフイ(ヘキサン/
エーテル)により精製し、(14)10.9g得た。収
率91.3%。
(g) (2S,5R)−5−メチル−6−テトラヒドロ
ピラニルオキシ−2ヘキサノール(15)の合成 6%ナトリウムアマルガム215g(Naとして
561mg原子)に(14)10g(28.1mmol)のエタノ
ール溶液250mlを滴下し、一晩撹拌した。溶液部
分を分離し、溶剤を留去し、エーテルを添加した
後、飽和塩化アンモニウム水溶液及び飽和食塩水
でこの順序でよく洗滌し、次いで、無水硫酸マグ
ネシウム上で乾燥した。濾過後、溶剤を留去し、
残渣をシリカゲルクロマトグラフイ(ヘキサン/
エーテル)により精製し、(15)を6.03g得た。
収率99.4%。
(h) 酢酸(2S,5R)−5−メチル−6−テトラヒ
ドロピラニルオキシ−2ヘキシル(16)の合成 (15)6.03g(28.5mmol)を乾燥塩化メチレ
ン400ml及びピリジン13.5mlからなる混合溶剤に
溶解し、これに無水酢酸12ml及びN,N′−ジメ
チルアミノピリジン600mgを加えた。これを室温
にて一晩撹拌した後、水中に投じ、エーテル抽出
した。エーテル層を飽和硫酸銅水溶液、水、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水にてこ
の順序で洗滌した後、無水硫酸マグネシウム上で
乾燥した。濾過し、濾液から溶剤を留去し、残渣
についてシリカゲルクロマトグラフイ(ヘキサ
ン/エーテル)により精製し、(16)6.71gを得
た。収率92.6%。
(i) 酢酸(2S,5R)−6−ヒドロキシ−5−メチ
ル−2−ヘキシル(1)の合成 (16)5.4g(21.2mmol)をメタノール400ml
に溶解し、p−トルエンスルホン酸200mgを加え、
室温にて一晩撹拌した。溶剤を留去し、これにエ
ーテルを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及
び飽和食塩水にてこの順序で洗滌した後、無水硫
酸マグネシウム上で乾燥した。濾過後、濾液から
溶剤を留去し、残渣についてシリカゲルクロマト
グラフイ(ヘキサン/エーテル)により精製し、
減圧下に蒸溜して、本発明による(1)を3.32g得
た。(沸点77℃/0.25mmHg)。収率90%。
赤外線吸収スペクトル及び核磁気共鳴スペクト
ルをそれぞれ第1図及び第2図に示す。
元素分析 C9H18O3 C H 計算値 62.04 10.41 実験値 61.86 10.35 旋光度 〔α〕19 D+10.3゜(c=1.032,CHCl3) 屈折率 n19 D1.4348 赤外線吸収スペクトル(フイルム、cm-1) 3440(s),2950(s),2880(s),1738(s),
1450(s),1370(s),1240(s),1120(s)
1020(s),982(s),955(s),905(m),840
(m),820(m),755(m) 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3,ppm) 0.90(3H,d,J=6Hz,CH3),1.22(3H,
d,J=6Hz,CH3),1.30−1.90(5H,m,
CH2H2CH),2.03(3H,s,CH3CO),2.39
(1H,s,OH),3.43(2H,d,J=5Hz,
CH2OH),4.60−5.20(1H,m,COOCH) 実施例 2 (2R,5S)−5−アセトキシ−2−メチルヘキ
サン酸(3)の合成 (1)1.50g(8.61mmol)をアセトン75mlに溶解
し、氷冷下にJones試薬(8N)5mlを滴下し、氷
冷下に1.5時間、次いで室温にて1時間撹拌した。
次に、2−プロパノール5mlを加えた後、溶剤を
留去し、水を加え、クロロホルム/テトラヒドロ
フラン(9:1)混合溶剤により抽出した。有機
層を飽和食塩水で洗滌した後、無水硫酸マグネシ
ウム上で乾燥し、濾過後、溶剤を留去して、粗(3)
1.62gを得た。収率100%。
この一部をプレパラテイブTLCにより精製し
た。赤外線吸収スペクトル及び核磁気共鳴スペク
トルをそれぞれ第3図及び第4図に示す。
元素分析 C9H16O4 C H 計算値 57.43 8.57 実験値 57.30 8.60 旋光度 〔α〕20.5 D−9.6゜(c=1.045,CHCl3) 屈折率 n20.5 D1.4325 赤外線吸収スペクトル(フイルム、cm-1) 3200(m),2890(m),2940(m),1738(s),
1705(s),1460(m),1373(s),1240(s),
1130(m),1025(m),950(m),750(m) 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3、ppm) 1.21(3H,d,J=7Hz,CH3C−COO),1.23
(3H,d,J=6Hz,COO−C−CH3),1.30
−2.80(5H,m,CH2CH2CH−COO),2.03
(3H,s,CH3COO),4.55−5.20(1H,m,
COOCH),10.98(1H,s,COOH) 実施例 3 酢酸(2R,5S)−6−ヒドロキシ−5−メチル
−2−ヘキシル(2)の合成 (a) (R)−2−メチル−3−テトラヒドロピラ
ニルオキシプロピオン酸メチルの合成 化合物(7)(97%ee)10g、2,3−ジヒドロピ
ラン10g(118.9mmol)及びp−トルエンスルホ
ン酸10mgを用いた以外は、前記実施例1の(a)と全
く同様にして、目的物17.2gを得た。
(b) (S)−2−メチル−3−テトラヒドロピラ
ニルオキシプロパノールの合成 リチウムアルミニウムハイドライド4.82gを乾
燥エーテル400mlに氷冷下に溶解し、これに上で
得た(R)−2−メチル−3−テトラヒドロピラ
ニルオキシプロピオン酸メチル15gを乾燥エーテ
ル30mlに溶解した溶液を氷冷下に滴下した。滴下
終了後、前記実施例1の(b)と同様に処理して、目
的物12.8gを得た。収率は90.4%。
(c) p−トルエンスルホン酸(R)−2−メチル
−3−テトラヒドロピラニルオキシプロピルの
合成 上で得た(S)−2−メチル−3−テトラヒド
ロピラニルオキシプロパノール2.6g(15mmol)
をピリジン30mlに溶解させた溶液に、氷冷下、塩
化p−トルエンスルホニル4gを加え、以下、前
記実施例1の(c)と全く同様に処理して、目的物
5.0gを得た。
(d) (R)−2−メチル−3−フエニルチオ−1
−テトラヒドロピラニルオキシプロパンの合成 チオフエノール2.16gをエタノール25mlに溶解
し、これに金属ナトリウム0.63gを加えた。ナト
リウムがすべて溶解した後、上で得たp−トルエ
ンスルホン酸(R)−2−メチル−3−テトラヒ
ドロピラニルオキシプロピル5.0g(15mmol)の
エタノール溶液を加え、2.5時間還流した後、室
温で一晩撹拌した。以下、前記実施例1の(d)と全
く同様に処理して、目的物4.3gを得た。
(e) (R)−2−メチル−3−フエニルスルホニ
ル−1−テトラヒドロピラニルオキシプロパン
の合成 上で得た(R)−2−メチル−3−フエニルチ
オ−1−テトラヒドロピラニルオキシプロパン
4.25g(15mmol)、塩化メチレン150ml及び炭酸
水素ナトリウム2gを混合し、これにm−クロル
過安息香酸7.80gを塩化メチレンに溶解した溶液
を−25〜−15℃で滴下した。滴下終了後、反応液
を室温まで昇温し、一晩撹拌した。以下、前記実
施例1の(e)と全く同様に処理して、目的物4.1g
を得た。収率90.4%。
(f) (2R,5R)−5−メチル−4−フエニルス
ルホニル−6−テトラヒドロピラニルオキシ−
2ヘキサノールの合成 (R)−2−メチル−3−フエニルスルホニル
−1−テトラヒドロピラニルオキシプロパン2g
を乾燥テトラヒドロフラン20mlに溶解し、アルゴ
ン下、−77〜−70℃の温度にてn−ブチルリチウ
ムヘキサン溶液(1.36N)5.5ml(7.48mmol)を
滴下した。これを−78℃にて25分間撹拌し、次い
で、リン酸ヘキサメチルトリアミド1.3ml及び前
記エポキシド(8)(〔α〕21.5 D+14.2゜(ニート))35
4
mg(6.09mmol)を乾燥テトラヒドロフラン20ml
に溶解した溶液を−78〜−70℃で滴下し、滴下終
了後、−78℃で4時間撹拌した後、ゆつくりと室
温まで昇温し、更に、一晩撹拌した。以下、前記
実施例1の(f)と全く同様に処理して、目的物1.9
gを得た。収率89.2%。
(g) (2R,5S)−5−メチル−6−テトラヒドロ
ピラニルオキシ−2ヘキサノールの合成 6%ナトリウムアマルガム38.3gに上で得た
(2R,5R)−5−メチル−4−フエニルスルホニ
ル−6−テトラヒドロピラニルオキシ−2ヘキサ
ノール1.6g(4.49mmol)のエタノール溶液40ml
を滴下し、一晩撹拌した。以下、前記実施例1の
(g)と全く同様に処理して、目的物0.88gを得た。
収率90.6%。
(h) 酢酸(2R,5S)−5−メチル−6−テトラヒ
ドロピラニルオキシ−2ヘキシルの合成 上で得た(2R,5S)−5−メチル−6−テトラ
ヒドロピラニルオキシ−2ヘキサノール800mg
(3.70mmol)を乾燥塩化メチレン40ml及びピリジ
ン0.6mlに溶解し、無水酢酸0.53ml及びN,N′−
ジメチルアミノピリジン触媒量を加えた。これを
室温にて一晩撹拌下後、水中に投じ、エーテル抽
出した。以下、前記(h)と全く同様に処理して、目
的物693mgを得た。収率78.6%。
(i) 酢酸(2R,5S)−6−ヒドロキシ−5−メチ
ル−2−ヘキシル(2)の合成 上で得た酢酸(2R,5S)−5−メチル−6−テ
トラヒドロピラニルオキシ−2ヘキシル650mg
(2.73mmol)をメタノール50mlに溶解し、p−ト
ルエンスルホン酸10mgを加え、室温にて一晩撹拌
した。以下、前記実施例1の(h)と全く同様に処理
して、目的物380mgを得た。収率80%。
赤外線吸収スペクトル及び核磁気共鳴スペクト
ルをそれぞれ第5図及び第6図に示す。
元素分析 C9H18O3 C H 計算値 62.04 10.41 実験値 61.79 10.30 旋光度 〔α〕20 D−9.90゜(c=1.055,CHCl3) 屈折率 n20 D1.4350 赤外線吸収スペクトル(フイルム、cm-1) 3440(s),2950(s),2880(s),1738(s),
1450(s),1370(s),1240(s),1120(s),
1020(s),982(s),955(s),905(m),840
(m),820(m),755(m) 核磁気共鳴スペクトル(CDCl、ppm) 0.90(3H,d,J=6Hz,CH3),1.22(3H,
d,J=6Hz,CH3),1.30−1.90(5H,m,
CH2CH2CH),2.03(3H,s,CH3CO),2.24
(1H,s,OH),3.45(2H,d,J=5Hz,
CH2OH),4.60−5.20(1H,m,COOCH) 実施例 4 (2S,5R)−5−アセトキシ−2−メチルヘキ
サン酸(4)の合成 上で得た(2)380mg(2.18mmol)をアセトン25ml
に溶解し、氷冷下にJones試薬(8N)1.5mlを滴
下し、以下、前記実施例2と全く同様に処理し
て、目的物410mgを得た。収率100%。その一部を
TLCにより精製した。
赤外線吸収スペクトル及び核磁気共鳴スペクト
ルをそれぞれ第7図及び第8図に示す。
元素分析 C9H16O4 C H 計算値 57.43 8.57 実験値 57.28 8.63 旋光度 〔α〕20 D+10.0゜(c=0.998,CHCl3) 屈折率 n20 D1.4333 赤外線吸収スペクトル(フイルム、cm-1) 3200(m),2980(m),2940(m),1738(s),
1705(s),1460(m),1373(s),1240(s),
1130(m),1025(m),950(m),750(m) 核磁気共鳴スペクトル(CDCl、ppm) 1.21(3H,d,J=7Hz,CH3C−COO),1.23
(3H,d,J=6Hz,COO−C−CH3),1.30
−2.80(5H,m,CH2CH2CH−COO),2.03
(3H,s,CH3COO),4.55−5.20(1H,m,
COOCH),10.48(1H,s,COOH) 参考例 1 (2R,5S)−2−methyl−5−hexanolide
(18)の合成 化合物(3)1.62g(8.61mmol)をメタノール60
mlに溶解し、炭酸カリウム1.43g(10.3mmol)
を加え、室温にて1日撹拌した。この後、溶剤を
除き、水50mlを加え、水層をエーテルで洗滌し
た。水層を1N塩酸水溶液によりPH2とし、クロ
ロホルムを加え、一晩撹拌した。反応液に食塩を
飽和溶解させ、クロロホルムを分離し、水層を更
にクロロホルム/テトラヒドロフラン(9:1)
混合溶剤により抽出した。有機層を合わせ、無水
硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過後、溶剤を留
去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフイ(ヘキ
サン/エーテル)により精製し、(18)0.92gを
得た。融点49℃。収率83.4%。
元素分析 C7H12O2 C H 計算値 65.59 9.44 実験値 65.40 9.21 旋光度 〔α〕20 D−91.0゜(c=0.73,CHCl3) 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール、cm-1) 1745(s),1320(w),1295(w),1260(m),
1220(m),1195(m),1130(s),1090(s),
1070(s),1030(m),1010(m),965(m),900
(w),830(w),745(w),690(w) 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3、ppm) 1.21(3H,d,J=7Hz,CH3C−COO),1.36
(3H,d,J=6Hz,CH3C−OCO),1.45−
3.00(5H,m,CH2CH2CH−COO),4.15−
4.70(1H,m,CH−OCO) 参考例 2 (2S,5R)−2−methyl−5−hexanolideの
合成 化合物(4)410mg(2.18mmol)をメタノール20ml
に溶解し、炭酸カリウム550mg(3.98mmol)を加
え、室温にて1日撹拌した。以下、参考例1と同
様に処理して目的物120mgを得た。収率39.4%。
融点49℃。
元素分析 C7H12O2 C H 計算値 65.59 9.44 実験値 65.71 9.28 旋光度 〔α〕20 D+92.4゜(c=0.785,CHCl3
【図面の簡単な説明】
第1図は酢酸(2S,5R)−6−ヒドロキシ−5
−メチル−2−ヘキシル(1)の赤外線吸収スペクト
ル、第2図はその核磁気共鳴スペクトル、第3図
は(2R,5S)−5−アセトキシ−2−メチルヘキ
サン酸の赤外線吸収スペクトル、第4図はその核
磁気共鳴スペクトルである。第5図は酢酸(2R,
5S)−6−ヒドロキシ−5−メチル−2−ヘキシ
ル(2)の赤外線吸収スペクトル、第6図はその核磁
気共鳴スペクトル、第7図は(2S,5R)−5−ア
セトキシ−2−メチルヘキサン酸(4)の赤外線吸収
スペクトル、第8図はその核磁気共鳴スペクトル
である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 (但し、1位及び4位のメチル基は(1R,4S)
    又は(1S,4R)であり、RはCH2OH又は
    COOHを示す。) で表わされる新規な光学活性酢酸エステル。
JP59039645A 1984-02-29 1984-02-29 新規な光学活性酢酸エステル Granted JPS60184045A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59039645A JPS60184045A (ja) 1984-02-29 1984-02-29 新規な光学活性酢酸エステル

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59039645A JPS60184045A (ja) 1984-02-29 1984-02-29 新規な光学活性酢酸エステル

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60184045A JPS60184045A (ja) 1985-09-19
JPH0359892B2 true JPH0359892B2 (ja) 1991-09-12

Family

ID=12558816

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59039645A Granted JPS60184045A (ja) 1984-02-29 1984-02-29 新規な光学活性酢酸エステル

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60184045A (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4990331A (en) * 1987-12-01 1991-02-05 Slessor Keith N Novel pheromone composition for use in controlling honey bee colonies

Also Published As

Publication number Publication date
JPS60184045A (ja) 1985-09-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0530285B1 (fr) Procede de preparation enantioselective de derives de la phenylisoserine
EP1840125B1 (fr) Intermédiaires pour la production de dioxane-2-alkylcarbamates
CA2023645C (fr) Procede pour la preparation enantioselective de derives de la phenylisoserine
JP3233403B2 (ja) 光学活性な中間体および該製造法
JPH08509730A (ja) 抗カビ剤合成用中間体の製造方法
EP0057491B1 (fr) Nouveaux dérivés halogénés du 5-hydroxy tétrahydrofuran 2-one
JPH0359892B2 (ja)
JPS6135982B2 (ja)
EP0585104B1 (en) A method of preparing a saturated monocyclic hydrocarbon compound and an intermediate therefor
FR2601008A1 (fr) Procede de synthese stereospecifique de derives de l'indole
EP0409712A1 (fr) Procédé de préparation d'un diastéréoisomère d'esters glycidiques, composés intermédiaires et procédé de préparation de dérivés de benzothiazépine-one
US5310956A (en) Optically active epoxides and a process for the production thereof
JP4493856B2 (ja) プロスタグランジンプレカーサーの調製のための方法
JPH0149712B2 (ja)
EP0320402B1 (fr) Procédé énantiosélectif pour préparer des dérivés de l'aldéhyde hémicaronique de structure trans ou cis et nouveaux produits intermédiaires obtenus
EP0915867B1 (fr) Derives du thienylcyclohexane pour la synthese de thienylcyclohexyles
FR2546889A1 (fr) Procede de preparation d'un acide aminolactonecarboxylique
JP3918956B2 (ja) 1−アジドインダン−2−オールの製造方法
JP2750874B2 (ja) (−)−3−(p−トリル)グリシドール
CA1154451A (fr) Derives cyclopropaniques substitues
JPH0764836B2 (ja) 新規光学活性アルコ−ル
CA1327593C (fr) Procede enantioselectif pour preparer des derives de l'aldehyde hemicaronique de structure trans ou cis et intermediaires obtenus
JPS6348269B2 (ja)
JP2893473B2 (ja) (+)―エキレニンの製造法および中間体
JPH04316538A (ja) 光学活性3,5−アンチ−ジヒドロキシカルボン酸エステル誘導体の製造法