JPH0359404A - 光ビームの位置測定装置 - Google Patents
光ビームの位置測定装置Info
- Publication number
- JPH0359404A JPH0359404A JP19570989A JP19570989A JPH0359404A JP H0359404 A JPH0359404 A JP H0359404A JP 19570989 A JP19570989 A JP 19570989A JP 19570989 A JP19570989 A JP 19570989A JP H0359404 A JPH0359404 A JP H0359404A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light beam
- base
- sensor
- light source
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Laser Beam Printer (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
この発明は、例えばレーザプリンタ等に使用される光源
から発生さ、れる光ビームの位置をA−1定する先ビー
ムの位置ap1定装置に関する。
から発生さ、れる光ビームの位置をA−1定する先ビー
ムの位置ap1定装置に関する。
(従来の技術〉
例えばレーザプリンタに使用される光源装置は、半導体
レーザおよびコリメータレンズ、プリズム等によって構
成され、半導体レーザから発生されたレーザ光はコリメ
ータレンズ、プリズムを介して外部に出力されるように
なっている。
レーザおよびコリメータレンズ、プリズム等によって構
成され、半導体レーザから発生されたレーザ光はコリメ
ータレンズ、プリズムを介して外部に出力されるように
なっている。
ところで、上記光源装置から出力されるレーザ光は、レ
ーザプリンタに設けられた感光体ドラムの所定位置に照
射される必要がある。
ーザプリンタに設けられた感光体ドラムの所定位置に照
射される必要がある。
しかし、光源装置は例えば振動試験等の環境試験を行っ
た場合、前記プリズムの位置関係等がずれることがあり
、この場合、光源装置から出力されるレーザ光の方向が
ずれ、感光体ドラムにχ1する照11位置が所定位置か
らずれることがある。
た場合、前記プリズムの位置関係等がずれることがあり
、この場合、光源装置から出力されるレーザ光の方向が
ずれ、感光体ドラムにχ1する照11位置が所定位置か
らずれることがある。
従来、光源装置から出力されるレーザ光の感光体ドラム
にχ1する照射位置は、光源装置をレーザプリンタに組
込んだ状態で、ある位置を基準としてスケールにより目
視によって測定していた。このため、測定稍度が低いも
のであった。
にχ1する照射位置は、光源装置をレーザプリンタに組
込んだ状態で、ある位置を基準としてスケールにより目
視によって測定していた。このため、測定稍度が低いも
のであった。
(発明が解決しようとする課題)
この発明は、上記のように、従来は光ビームの照1・1
位置をスケールを使用して目視によりall定していた
ため、a−1定精度が低いという課題を解決するもので
あり、その目的とするところは、光源装置から出力され
る光ビームの位置を高情度に測定することがhI能な光
ビームの位置測定装置を堤供しようとするものである。
位置をスケールを使用して目視によりall定していた
ため、a−1定精度が低いという課題を解決するもので
あり、その目的とするところは、光源装置から出力され
る光ビームの位置を高情度に測定することがhI能な光
ビームの位置測定装置を堤供しようとするものである。
(課題を解決するための手段)
この発明は、上記課題を解決するため、基体と、この基
体に対して移動自在に設けられた移動体と、この移動体
に設けられ光ビームを受光する受光手段と、前記基体と
移動体の相互間に介在され、前記受光手段が光ビームを
受光した状態における基体と移動体の距離を測定するこ
とによって先ビームの照射位置を測定する7111定手
段とを設けている。
体に対して移動自在に設けられた移動体と、この移動体
に設けられ光ビームを受光する受光手段と、前記基体と
移動体の相互間に介在され、前記受光手段が光ビームを
受光した状態における基体と移動体の距離を測定するこ
とによって先ビームの照射位置を測定する7111定手
段とを設けている。
(作 用〉
この発明は、受光手段を有する移動体と基体の相!i出
Iに移動体と基体の距離をdp1定する肺1定手段を介
7Eシ、この測定手段によって、受光手段が光ビームを
受光した状態におけるU体と移動体の位置関係から光ビ
ームの照射位置を測定することにより、光源装置から出
力される先ビームの照91位置を高精度に測定可能とし
ている。
Iに移動体と基体の距離をdp1定する肺1定手段を介
7Eシ、この測定手段によって、受光手段が光ビームを
受光した状態におけるU体と移動体の位置関係から光ビ
ームの照射位置を測定することにより、光源装置から出
力される先ビームの照91位置を高精度に測定可能とし
ている。
(実施例)
以下、この発明の一実施例について図面を参照して説明
する。
する。
第1図において、光ビームの位置測定装置10は、ベー
ス11に載置され、この位置測定装置10に対向して、
例えばレーザプリンタの光源装置12が設けられている
。この光源装置12は、保持台13を介在してベース1
1に載置されている。
ス11に載置され、この位置測定装置10に対向して、
例えばレーザプリンタの光源装置12が設けられている
。この光源装置12は、保持台13を介在してベース1
1に載置されている。
第2図は、上記光源装置12を示すものである。
この光源装置12は、半導体レーザ21、コリメータレ
ンズ22、プリズム23.24によって構成されており
、前記半導体レーザ21から出力されたレーザ光LBは
、コリメータレンズ22、プリズム23.24を順次2
って光源装置12の外部に出力される。
ンズ22、プリズム23.24によって構成されており
、前記半導体レーザ21から出力されたレーザ光LBは
、コリメータレンズ22、プリズム23.24を順次2
って光源装置12の外部に出力される。
第3図乃至第5図は、上記位置測定装置10を示すもの
である。
である。
この位f11all定装置10において、X方向ステー
ジを構成する第1の基体31には、第1の移動体32が
移動可能に設けられている。この第1の移動体32には
、保持体33が設けられ、この保1j体33にはy方向
テスージを+#或する第2の基体34が設けられている
。この第2の基体34には第2の移動体35が移動可能
に設けられている。
ジを構成する第1の基体31には、第1の移動体32が
移動可能に設けられている。この第1の移動体32には
、保持体33が設けられ、この保1j体33にはy方向
テスージを+#或する第2の基体34が設けられている
。この第2の基体34には第2の移動体35が移動可能
に設けられている。
この第2の移動体35には、基板36が設けられ、この
基板36の中央部には、例えば差動フオトダ・fオード
によって構成された受光素子としての4分割センサ37
が設けられている。
基板36の中央部には、例えば差動フオトダ・fオード
によって構成された受光素子としての4分割センサ37
が設けられている。
この4分割センサ37は、第6図(a)に示すごと<、
例えばレーザ光LBの中心がセンサ37の中央に位置し
、各センサ素子37a〜37dに均等にレーザ光LBが
照射されている場合、電気信号が出力され、同図(b)
に示すごとく、レーザ光LBの中心が4分割センサ37
の中央からずれているは場合、電気信号が出力されない
構成とされている。
例えばレーザ光LBの中心がセンサ37の中央に位置し
、各センサ素子37a〜37dに均等にレーザ光LBが
照射されている場合、電気信号が出力され、同図(b)
に示すごとく、レーザ光LBの中心が4分割センサ37
の中央からずれているは場合、電気信号が出力されない
構成とされている。
一方、第1の移動体32には、第1のマイクロメータヘ
ッド38のシンプル38aが保持体32aによって取着
され、この第1のマイクロメータヘッド38のスピンド
ル38bの先端は、第1の基体31に設けられた保持体
31aの突起31bに当接されている。したがって、第
1のマイクロメータヘッド38のつまみ38cを回転す
ると、スピンドル38bがシンプル38 a 1.:χ
1して出入するため、これに応じて第1の移動体32が
第1の基体31に対して移動される。
ッド38のシンプル38aが保持体32aによって取着
され、この第1のマイクロメータヘッド38のスピンド
ル38bの先端は、第1の基体31に設けられた保持体
31aの突起31bに当接されている。したがって、第
1のマイクロメータヘッド38のつまみ38cを回転す
ると、スピンドル38bがシンプル38 a 1.:χ
1して出入するため、これに応じて第1の移動体32が
第1の基体31に対して移動される。
また、第2の移動体35には、第2のマイクロメータヘ
ッド39のシンプル39aか保持体35aによって取着
され、この第2のマイクロメータヘッド39のスピンド
ル39bの先端は、第2のU体34に設けられた保持体
34aの突起34bに当接されている。したがって、第
2のマイクロメータヘッド39のつまみ39cを回転す
ると、スピンドル39bがシンプル39aに対して出入
するため、これに応じて第2の移動体35が第2の基体
34に対して移動される。
ッド39のシンプル39aか保持体35aによって取着
され、この第2のマイクロメータヘッド39のスピンド
ル39bの先端は、第2のU体34に設けられた保持体
34aの突起34bに当接されている。したがって、第
2のマイクロメータヘッド39のつまみ39cを回転す
ると、スピンドル39bがシンプル39aに対して出入
するため、これに応じて第2の移動体35が第2の基体
34に対して移動される。
上記構成において、位置測定装置10を使用して光源装
置12から出力されるレーザ光の照射位置を測定する動
作について説明する。
置12から出力されるレーザ光の照射位置を測定する動
作について説明する。
先ず、光源装置12を保持台13に裁置し、この光源装
置12と位置測定装置10の位置関係を、例えばレーザ
プリンタ内部における光源装置12と感光体ドラムの位
置関係に対応させる。
置12と位置測定装置10の位置関係を、例えばレーザ
プリンタ内部における光源装置12と感光体ドラムの位
置関係に対応させる。
この状態において、第1のマイクロメータヘッド38の
つまみ38c1および第2のマイクロメータヘッド39
のつまみ39cを操作して第1、第2の移動体32.3
5を第1、第2の基体31.34に対して移動し、4分
割センサ37の中央をレーザ光LBの中心位置に移動す
る。すなわち、4分割センサ37から電気信号が出力さ
れる位置に、第1、第2の移動体32.35を移動する
。
つまみ38c1および第2のマイクロメータヘッド39
のつまみ39cを操作して第1、第2の移動体32.3
5を第1、第2の基体31.34に対して移動し、4分
割センサ37の中央をレーザ光LBの中心位置に移動す
る。すなわち、4分割センサ37から電気信号が出力さ
れる位置に、第1、第2の移動体32.35を移動する
。
そして、4分割センサ37から電気信号が出力された状
態において、その位置における第1のマイクロメータヘ
ッド38、および第2のマイクロメータヘッド39の目
盛りを読取ることにより、レーザ光の照射位置を7ip
1定することができる。
態において、その位置における第1のマイクロメータヘ
ッド38、および第2のマイクロメータヘッド39の目
盛りを読取ることにより、レーザ光の照射位置を7ip
1定することができる。
上記実施例によれば、x、yステージを構成する第1、
第2の移動体32.35を第1のマイクロメータヘッド
38、および第2のマイクロメータヘッド39によって
移動し、4分割センサ37から電気信号が出力された状
態において、その位置における第1のマイクロメータヘ
ッド38、および第2のマイクロメータヘッド39の目
盛りを読取ることにより、レーザ光の照射位置を測定し
ている。したがって、従来のようなスケールを使用した
目視による8−1定に比べて、レーザ光の照射位置を高
精度に測定することができるものである。
第2の移動体32.35を第1のマイクロメータヘッド
38、および第2のマイクロメータヘッド39によって
移動し、4分割センサ37から電気信号が出力された状
態において、その位置における第1のマイクロメータヘ
ッド38、および第2のマイクロメータヘッド39の目
盛りを読取ることにより、レーザ光の照射位置を測定し
ている。したがって、従来のようなスケールを使用した
目視による8−1定に比べて、レーザ光の照射位置を高
精度に測定することができるものである。
また、4分割センサ37の出力信号を使用してレーザ光
の位置を測定しているため、レーザ光の中央の位置を測
定することができる。したがって、測定精度が高いもの
である。
の位置を測定しているため、レーザ光の中央の位置を測
定することができる。したがって、測定精度が高いもの
である。
さらに、上記位置AH定装置10を使用することにより
、光源装置!12から出力されるレーザ光の照射位置を
レーザプリンタとは別に、光源装置1211を独で帥1
定することができるものである。
、光源装置!12から出力されるレーザ光の照射位置を
レーザプリンタとは別に、光源装置1211を独で帥1
定することができるものである。
なお、上記実施例では、Xs ’/ステージを使用する
とともに、4分割センサを使用したが、これに駆足され
るものではなく、xあるいはyステージの一方のみを使
用し、4分割センサに代えて2分割センサを使用するこ
とも可能である。
とともに、4分割センサを使用したが、これに駆足され
るものではなく、xあるいはyステージの一方のみを使
用し、4分割センサに代えて2分割センサを使用するこ
とも可能である。
その他、この発明の要旨を変えない範囲において、種々
変形実施可能なことは勿論である。
変形実施可能なことは勿論である。
以上、詳述したようにこの発明によれば、受光手段を有
する移動体と基体の相互間に71−1定手段を介在し、
この1llj定手段によって、受光手段が光ビームを受
光した状態における基体と移動体の位置関係から光ビー
ムの位置を測定することにより、光源装置から出力され
る先ビームの照射位置を高精度に測定することが可能な
光ビームの位置測定装置を促供できる。
する移動体と基体の相互間に71−1定手段を介在し、
この1llj定手段によって、受光手段が光ビームを受
光した状態における基体と移動体の位置関係から光ビー
ムの位置を測定することにより、光源装置から出力され
る先ビームの照射位置を高精度に測定することが可能な
光ビームの位置測定装置を促供できる。
m1図はこの発明の一実施例を示す斜示図、第2図は第
1図の光源装置を示す側断面図、第3図乃至第5図はそ
れぞれ第1図の位置測定装置を承すものであり、第3図
は正面図、第4図は側向図、第5図は上面図、第6図は
4分割センサの動作を説明するために示す図である。 10・・・位置測定装置、12・・・光源装置、31.
34・・・TSl、第2の基体、32.35・・・第1
、第2の移動体、37・・・4分割センサ、38.39
・・・第1、第2のマイクロメータヘッド。
1図の光源装置を示す側断面図、第3図乃至第5図はそ
れぞれ第1図の位置測定装置を承すものであり、第3図
は正面図、第4図は側向図、第5図は上面図、第6図は
4分割センサの動作を説明するために示す図である。 10・・・位置測定装置、12・・・光源装置、31.
34・・・TSl、第2の基体、32.35・・・第1
、第2の移動体、37・・・4分割センサ、38.39
・・・第1、第2のマイクロメータヘッド。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 基体と、 この基体に対して移動自在に設けられた移動体と、 この移動体に設けられ光ビームを受光する受光手段と、 前記基体と移動体の相互間に介在され、前記受光手段が
光ビームを受光した状態における基体と移動体の距離を
測定することによって光ビームの照射位置を測定する測
定手段と、 を具備したことを特徴とする光ビームの位置測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19570989A JPH0359404A (ja) | 1989-07-28 | 1989-07-28 | 光ビームの位置測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19570989A JPH0359404A (ja) | 1989-07-28 | 1989-07-28 | 光ビームの位置測定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0359404A true JPH0359404A (ja) | 1991-03-14 |
Family
ID=16345671
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19570989A Pending JPH0359404A (ja) | 1989-07-28 | 1989-07-28 | 光ビームの位置測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0359404A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08240409A (ja) * | 1995-03-02 | 1996-09-17 | Shinyou:Kk | 光電式変位検出装置 |
JP2020153745A (ja) * | 2019-03-19 | 2020-09-24 | Ntn株式会社 | 異常検出装置 |
-
1989
- 1989-07-28 JP JP19570989A patent/JPH0359404A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08240409A (ja) * | 1995-03-02 | 1996-09-17 | Shinyou:Kk | 光電式変位検出装置 |
JP2020153745A (ja) * | 2019-03-19 | 2020-09-24 | Ntn株式会社 | 異常検出装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3679307A (en) | Non-contacting optical probe | |
JP2005164615A (ja) | 光学検査の処理方法及び処理装置 | |
JPH0652171B2 (ja) | 光学式非接触位置測定装置 | |
JP2002213914A (ja) | 共焦点原理の単位変位センサを用いた超精密変位測定器及び多様な変位測定方法 | |
JPH0652170B2 (ja) | 光結像式非接触位置測定装置 | |
UST102104I4 (en) | Scanning optical system adapted for linewidth measurement in semiconductor devices | |
JPH0359404A (ja) | 光ビームの位置測定装置 | |
JPH11344305A (ja) | 位置検出装置 | |
EP0019941B1 (en) | Reduction projection aligner system | |
KR0163274B1 (ko) | 이물평가장치 | |
Li et al. | Laser scanning system testing—Errors and improvements | |
US4685804A (en) | Method and apparatus for the measurement of the location or movement of a body | |
JP4128262B2 (ja) | 試料ステージ及びそれを用いた粒径計測装置 | |
JPH0933237A (ja) | 測定プローブ | |
JPS61223604A (ja) | ギヤツプ測定装置 | |
JPH074914A (ja) | 光学式微小変位、粗さ計 | |
US5497228A (en) | Laser bevel meter | |
JPH08304049A (ja) | レーザ表面計測装置 | |
JPS61280042A (ja) | デイスク偏芯量測定装置 | |
JPS63222207A (ja) | 凹部深さ・膜厚測定装置 | |
JPS6316232A (ja) | レ−ザビ−ム径の測定方法 | |
JPS6199806A (ja) | 溝の深さ測定装置 | |
CN117367273A (zh) | 一种光斑位置定位方法、装置及晶圆磁光检测装置 | |
JPS61240103A (ja) | 光学式微小変位計 | |
JPH03252513A (ja) | パラボラアンテナ面形状測定装置 |