JPH0357940A - 気体中のパーティクル・カウンタ - Google Patents
気体中のパーティクル・カウンタInfo
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- JPH0357940A JPH0357940A JP1193748A JP19374889A JPH0357940A JP H0357940 A JPH0357940 A JP H0357940A JP 1193748 A JP1193748 A JP 1193748A JP 19374889 A JP19374889 A JP 19374889A JP H0357940 A JPH0357940 A JP H0357940A
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- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 58
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 18
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims abstract description 11
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 abstract description 21
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 abstract description 5
- 230000010287 polarization Effects 0.000 abstract description 3
- 239000000306 component Substances 0.000 abstract 4
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 abstract 1
- 230000007096 poisonous effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 57
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 12
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000003189 isokinetic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Optical Measuring Cells (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は気体中のパーティクル・カウンタに関し、半専
体製造装置のガス供給系等、特に高い清浄度を要求され
るガス配管系内用のパーティクル・カウンタに属する． 〔従来の技術〕 従来のガス配管系内の気体中のパーティクル・モニタリ
ング法として、第４図に示すような方式が採用されてい
る。すなわち、図に示すように、被測定ガスの流れてい
る配管１３より分岐弁１４を用いて、配管１３の配管材
料と同様の又はそれ以上の高清浄度配管のための特殊洗
浄を珪したサンプリング導管１５にガスを導き、サンプ
リング拡大管１６より放出し、気体中のパーティクル・
カウンタ１７によりパーティクル数をカウントする．こ
のとき用いられるサンプリング拡大管１６の口径は、該
拡大管１６から放出されるガス流速が、気体中のパーテ
ィクル・カウンタ１７の吸引ガス流速と同等になるよう
に、使用ガス量等から算出して決定する等速吸引法が用
いられる． なお、使用される気体中のパーティクル・カウンタ１７
の代表的な光学系構成を第５図に示す．即ち、第４図の
サンプリング系によってサンプリングされたガス２２は
サンプル人口２３がら吸引され、二重管楕造のノズル２
１の内管を通じて光散乱室２０に入り、レーザ光１９を
横切ってガス出口２５より吸引放出される． なお、サンプリングガス２２は、二重管！Ｒ遺のノズル
２１の外管よりリング状に放出されるクリーン・エアー
２４によって覆われ、サンプリングガス２２中のパーテ
ィクルが光散乱室２０内に放散することが防止されてい
る．レーザ光１９は光敗乱室２０内でサンプリングガス
２２がレーザ光１９を横切るとき、サンプリングガス２
２中のパーティクルにより散乱され散乱光を発生し、散
乱光検出部２１は該散乱光をサンプリングガス２２中の
パーティクル信号として検出する．また、図中、１８は
レーザ管、２６は非球面レンズ、２８は参照光検出部、
２９は平而鐘である． 〔発明が解決しようとする課題〕 上述した従来の気体中のパーティクル・カウンタは可燃
性ガスや毒性ガスの測定ができず、また、減圧下でガス
を流している配管系での測定ができず、さらには半導体
製造装置等のガス供給系において、稼鋤中の装置のガス
供給系での測定ができないという欠点がある． 本発明の目的は前記課題を解決した気体中のパーティク
ル・カウンタを提供することにある．〔発明の従来技術
に対する相違点〕 上述した従来の気体中のパーティクル・カウンタが大気
開放構造であるのに対し、本発明のパーティクル・カウ
ンタは大気遮断構造の楕成となっており、配管内のガス
の種類（但し腐蝕性は除く）、圧力によらず、装置が稼
働状態においても配管内のパーティクル・モニタリング
ができるという相違点を有する． 〔課題を解決するための手段〕 前記目的を達成するため、本発明に係る気体中のパーテ
ィクル・カウンタは、レーザー発振部，光学レンズ部，
ＩＩ光部，レーザー受光部から構成される気体中のパー
ティクル・カウンタにおいて、パーティクル・カウンタ
本体をガス配管系中に気密に組み込み、該パーティクル
・カウンタ本体の光学系をガス配管系のガス通路を横切
って配設したものである． 〔実施例〕 次に本発明について図面を参照して説明する．（実施例
１） 第１図は本発明の実施例１を示す縦断面図である． 図において、パーティクル・カウンタは４個のリーク・
タイトなガスケヅト（実施例ではガスゲットにメタルＣ
リング３２を用いたＭＣＧタイプを採用しているが、リ
ーク・タイトなものであれば、他のタイプのガスケット
も可）により配管１２に接続されており、ナット３３を
ゆるめることにより、配管１２から分離できる， ３０
はナット３３に設けた１Ｊ一ク・テストボート、３１は
スラスト・ベアングである． パーティクル・カウンタ本体において、レーザ発振部１
はＨｅ−Ｎｅレーザ発振管を用いても良いし、可視光半
導体レーザとコリメータレンズを組み合わせ、細い直線
ビームを出力するユニットを用いてもよい．レーザ発振
部１より出力されたレーザ光は、グラン・フーコーグリ
ズム２によりＳ偏光戒分１１とＰＧＭ光或分１０に分離
され（第２図（ａ） ， （ｂ） ＃照〉、Ｐ偏光成分
１０は発振レーザ出力検出部７によりレーザの発振出力
としてモニタ一され、ＳｔＩ光成分１１はビーム幅拡大
レンズ３ａ、光散乱ブロック４、ビーム幅縮小レンズ３
ｂ，Ｓ漏光成分１１を透過する偏光フィルタ５を経て被
散乱光レーザ出力検出部６によりモニターされる。
体製造装置のガス供給系等、特に高い清浄度を要求され
るガス配管系内用のパーティクル・カウンタに属する． 〔従来の技術〕 従来のガス配管系内の気体中のパーティクル・モニタリ
ング法として、第４図に示すような方式が採用されてい
る。すなわち、図に示すように、被測定ガスの流れてい
る配管１３より分岐弁１４を用いて、配管１３の配管材
料と同様の又はそれ以上の高清浄度配管のための特殊洗
浄を珪したサンプリング導管１５にガスを導き、サンプ
リング拡大管１６より放出し、気体中のパーティクル・
カウンタ１７によりパーティクル数をカウントする．こ
のとき用いられるサンプリング拡大管１６の口径は、該
拡大管１６から放出されるガス流速が、気体中のパーテ
ィクル・カウンタ１７の吸引ガス流速と同等になるよう
に、使用ガス量等から算出して決定する等速吸引法が用
いられる． なお、使用される気体中のパーティクル・カウンタ１７
の代表的な光学系構成を第５図に示す．即ち、第４図の
サンプリング系によってサンプリングされたガス２２は
サンプル人口２３がら吸引され、二重管楕造のノズル２
１の内管を通じて光散乱室２０に入り、レーザ光１９を
横切ってガス出口２５より吸引放出される． なお、サンプリングガス２２は、二重管！Ｒ遺のノズル
２１の外管よりリング状に放出されるクリーン・エアー
２４によって覆われ、サンプリングガス２２中のパーテ
ィクルが光散乱室２０内に放散することが防止されてい
る．レーザ光１９は光敗乱室２０内でサンプリングガス
２２がレーザ光１９を横切るとき、サンプリングガス２
２中のパーティクルにより散乱され散乱光を発生し、散
乱光検出部２１は該散乱光をサンプリングガス２２中の
パーティクル信号として検出する．また、図中、１８は
レーザ管、２６は非球面レンズ、２８は参照光検出部、
２９は平而鐘である． 〔発明が解決しようとする課題〕 上述した従来の気体中のパーティクル・カウンタは可燃
性ガスや毒性ガスの測定ができず、また、減圧下でガス
を流している配管系での測定ができず、さらには半導体
製造装置等のガス供給系において、稼鋤中の装置のガス
供給系での測定ができないという欠点がある． 本発明の目的は前記課題を解決した気体中のパーティク
ル・カウンタを提供することにある．〔発明の従来技術
に対する相違点〕 上述した従来の気体中のパーティクル・カウンタが大気
開放構造であるのに対し、本発明のパーティクル・カウ
ンタは大気遮断構造の楕成となっており、配管内のガス
の種類（但し腐蝕性は除く）、圧力によらず、装置が稼
働状態においても配管内のパーティクル・モニタリング
ができるという相違点を有する． 〔課題を解決するための手段〕 前記目的を達成するため、本発明に係る気体中のパーテ
ィクル・カウンタは、レーザー発振部，光学レンズ部，
ＩＩ光部，レーザー受光部から構成される気体中のパー
ティクル・カウンタにおいて、パーティクル・カウンタ
本体をガス配管系中に気密に組み込み、該パーティクル
・カウンタ本体の光学系をガス配管系のガス通路を横切
って配設したものである． 〔実施例〕 次に本発明について図面を参照して説明する．（実施例
１） 第１図は本発明の実施例１を示す縦断面図である． 図において、パーティクル・カウンタは４個のリーク・
タイトなガスケヅト（実施例ではガスゲットにメタルＣ
リング３２を用いたＭＣＧタイプを採用しているが、リ
ーク・タイトなものであれば、他のタイプのガスケット
も可）により配管１２に接続されており、ナット３３を
ゆるめることにより、配管１２から分離できる， ３０
はナット３３に設けた１Ｊ一ク・テストボート、３１は
スラスト・ベアングである． パーティクル・カウンタ本体において、レーザ発振部１
はＨｅ−Ｎｅレーザ発振管を用いても良いし、可視光半
導体レーザとコリメータレンズを組み合わせ、細い直線
ビームを出力するユニットを用いてもよい．レーザ発振
部１より出力されたレーザ光は、グラン・フーコーグリ
ズム２によりＳ偏光戒分１１とＰＧＭ光或分１０に分離
され（第２図（ａ） ， （ｂ） ＃照〉、Ｐ偏光成分
１０は発振レーザ出力検出部７によりレーザの発振出力
としてモニタ一され、ＳｔＩ光成分１１はビーム幅拡大
レンズ３ａ、光散乱ブロック４、ビーム幅縮小レンズ３
ｂ，Ｓ漏光成分１１を透過する偏光フィルタ５を経て被
散乱光レーザ出力検出部６によりモニターされる。
第１図の光学系について、さらに第２図（ａ）、（ｂ）
で説明する． レーザ発振部１から出力されたレーザ光はランダム漏光
レーザ光９となっているが、グラン・フーコープリズム
２を通してＳ偏光成分１１を取り出す．ビーム幅拡大（
又は縮小）レンズ３ａ，３ｂは同一曲率半径の凹面及び
凸面からなるシリンドリカル・レンズで、凹面より平行
な細い直線ビームを入射すると、Ｘ軸方向に拡大した帯
状のビームに、逆に凸面より前述の帯状ビームを入射す
ると、再び細い直線ビームに縮小する．光散乱ブロック
４は入射側．出射側がそれぞれ内部の光敗乱室３７と同
じ曲率半径の凸型シリンドリカル・レンズを外部に接合
した複合レンズとなっている．今、パーティクル・フリ
ーのガスを光敗乱室３７に導入した場合は、グラン・フ
ーコープリズム２より出たｓｌ光成分１１はビーム幅拡
大レンズ３ａにより帯状−ビームとなり、光散乱ブロッ
ク４に入射して若ｆ帯の幅が縮小したビームで光散乱室
３７内を通過し、光散乱ブロック４、ビーム幅縮小レン
ズ３ｂにより、再び細い直線ビームとなって偏光フィル
タ５を通過する．次に、光散乱室３７内にパーティクル
を含んだガスを導入した場合、光散乱室３１内でレーザ
光はガス中パーティクル８により散乱されランダム個光
レーザ光９を部分的に生じる．即ち、被散乱レーザ出力
検出部６には、散乱されなかったＳ儲光成分とランダム
漏光レーザ光９の中の前方散乱成分中のＳ漏光成分しか
到達せず、被散乱レーザ光出力９ａは、パルス的な出力
低下を生じ、これがパーティクル信号となる（第２図（
Ｃ））， 以上の光学系は、Ｓ偏光戒分１１とＰ偏光成分１０を入
れ換えて用いてもよい．即ち、一例として、グラン・フ
ーコープリズム２に代えてグラン・トムソンプリズムを
用いてＰ（Ｉ光成分１０をサンプル光として取り出し、
Ｓ偏光戒分を透過する偏光フィルタ５を９０度回転して
、Ｐａ光成分を透過するようにしてもよい．又、漏光フ
ィルタに代えて漏光プリズムを用いてもよい． 以上光学系の説明を行なってきたが、測定するガスの屈
折率が大気又は窒素の場合に極端に異なる場合は、光散
乱ブロック４を外側に接合している凸側シリンドリカル
・レンズの曲率半径が該ガスの屈折率を考慮したものに
交換すれば良い．ガスの屑光及び光散乱ブロック４の汚
損時の光散乱ブロック４の交換は、４ケ所のナット３３
をゆるめることで簡単に行なえる． なお、光散乱室３７内の帯状のビーム帯Ｗは使用される
配管１３の内径φ、最小検出粒径Ｑ、ガス中のパーティ
クル密度ρ、ガス流量Ｆ等に応じて適当に選択して、ビ
ーム幅拡大（又は縮小）レンズ３ａ，３ｂの曲率半径を
変更するのが望ましい．具体例として以下の条件を考え
る． φ＝ １／４ ［ｉｎｃｈｌ ＝６．３５［ＩｕＩｌ
，拡大前のレーザ・ビーム径．Ｔ＝３［μｌ］粒径０
，２［μｍ］以上のρ ＝１００ ［ ケ／ｔｔ” ］ ＊ １ ［ ケ／
２８０ｃｃ ］Ｆ ＝ １０００ ［ｃｃ／ｓｉｎ
］このとき、配管１３の断而積Ｓ＝（φ／２》２πを横
切る単位時間当りのパーティクルｆｉＰ＝Ｆ／ρキ３．
５ ［２／ｗｉｎ ］。
で説明する． レーザ発振部１から出力されたレーザ光はランダム漏光
レーザ光９となっているが、グラン・フーコープリズム
２を通してＳ偏光成分１１を取り出す．ビーム幅拡大（
又は縮小）レンズ３ａ，３ｂは同一曲率半径の凹面及び
凸面からなるシリンドリカル・レンズで、凹面より平行
な細い直線ビームを入射すると、Ｘ軸方向に拡大した帯
状のビームに、逆に凸面より前述の帯状ビームを入射す
ると、再び細い直線ビームに縮小する．光散乱ブロック
４は入射側．出射側がそれぞれ内部の光敗乱室３７と同
じ曲率半径の凸型シリンドリカル・レンズを外部に接合
した複合レンズとなっている．今、パーティクル・フリ
ーのガスを光敗乱室３７に導入した場合は、グラン・フ
ーコープリズム２より出たｓｌ光成分１１はビーム幅拡
大レンズ３ａにより帯状−ビームとなり、光散乱ブロッ
ク４に入射して若ｆ帯の幅が縮小したビームで光散乱室
３７内を通過し、光散乱ブロック４、ビーム幅縮小レン
ズ３ｂにより、再び細い直線ビームとなって偏光フィル
タ５を通過する．次に、光散乱室３７内にパーティクル
を含んだガスを導入した場合、光散乱室３１内でレーザ
光はガス中パーティクル８により散乱されランダム個光
レーザ光９を部分的に生じる．即ち、被散乱レーザ出力
検出部６には、散乱されなかったＳ儲光成分とランダム
漏光レーザ光９の中の前方散乱成分中のＳ漏光成分しか
到達せず、被散乱レーザ光出力９ａは、パルス的な出力
低下を生じ、これがパーティクル信号となる（第２図（
Ｃ））， 以上の光学系は、Ｓ偏光戒分１１とＰ偏光成分１０を入
れ換えて用いてもよい．即ち、一例として、グラン・フ
ーコープリズム２に代えてグラン・トムソンプリズムを
用いてＰ（Ｉ光成分１０をサンプル光として取り出し、
Ｓ偏光戒分を透過する偏光フィルタ５を９０度回転して
、Ｐａ光成分を透過するようにしてもよい．又、漏光フ
ィルタに代えて漏光プリズムを用いてもよい． 以上光学系の説明を行なってきたが、測定するガスの屈
折率が大気又は窒素の場合に極端に異なる場合は、光散
乱ブロック４を外側に接合している凸側シリンドリカル
・レンズの曲率半径が該ガスの屈折率を考慮したものに
交換すれば良い．ガスの屑光及び光散乱ブロック４の汚
損時の光散乱ブロック４の交換は、４ケ所のナット３３
をゆるめることで簡単に行なえる． なお、光散乱室３７内の帯状のビーム帯Ｗは使用される
配管１３の内径φ、最小検出粒径Ｑ、ガス中のパーティ
クル密度ρ、ガス流量Ｆ等に応じて適当に選択して、ビ
ーム幅拡大（又は縮小）レンズ３ａ，３ｂの曲率半径を
変更するのが望ましい．具体例として以下の条件を考え
る． φ＝ １／４ ［ｉｎｃｈｌ ＝６．３５［ＩｕＩｌ
，拡大前のレーザ・ビーム径．Ｔ＝３［μｌ］粒径０
，２［μｍ］以上のρ ＝１００ ［ ケ／ｔｔ” ］ ＊ １ ［ ケ／
２８０ｃｃ ］Ｆ ＝ １０００ ［ｃｃ／ｓｉｎ
］このとき、配管１３の断而積Ｓ＝（φ／２》２πを横
切る単位時間当りのパーティクルｆｉＰ＝Ｆ／ρキ３．
５ ［２／ｗｉｎ ］。
今、検出頻度γ１＝１［ケ／ｉｉｎｌを得るのに必要な
ビーム幅Ｗ ＋ ＝ Ｓ・γ，／（Ｐ・φ）：Ｌ４［ｍ
］となる．しかし、このときＱ＝０．２［μｍ］を得る
ためには、Ｓ／Ｎ比＊ １ｏ−Ｑ ｏｇ（Ｗ． −
Ｔ／ Ｑ ’ ） ＝１０Ｑｏａ （１０５０００）
：５０ ［ｄＢ］以上の感度が光学系に要求される．一
方、Ｓ／Ｎ比＝３０［ｄＢ］ ＝１０Ｑｏｇ（１０００
）程度の感度でＱ＝０．２ ［μｍ〕を得るのに必要
なビーム幅Ｗ２＝１０’ ・Ｑ２／Ｔ：１３［μｍｌと
なり、検出頻度γ ２ ＝Ｗ２ − Ｐ −
φ／ Ｓ 中（１．０１ ［ ｒ ／ ｍｉｎ
コ ＝ １［ ケ／ １００ｎｉｎ］と＠端に低下
する．即ち、パーティクル密度が低い場合は、光学系の
Ｓ／Ｎ比の許す範囲でビーム幅Ｗを拡大するのが望まし
く、パーティクル密度が高い場合は、最小検出粒径Ｑを
下げるためにビーム幅Ｗは縮小するのが望ましい．（実
施例２） 第３図（ａ） ， （ｂ）は本発明の実施例２を示す横
成図である．第１図で説明した本発明のパーティクル・
カウンタ３４はマスフロー・メータ３５とベアで配管１
３に組み込まれ、各々からの出力信号である単位時間当
りのパーティクル数αと、ガス流量βはカリキュレータ
３６に送られる，カリキュレータ３６は上記信号と、光
散乱室３７内の断面積Ｓと光散乱室３７内のレーザ光路
３８の占有面積Ｓの比ａ＝ｓ／Ｓを用いて、パーティク
ル密度ρ＝α／（ａ×β）を出力する．即ち、この実施
例によれば、実施例１では相対的パーティクル密度しか
もたらされないものを、マスフロー・メータ３５と組み
合わせることで、パーティクル密度の絶対値を出力する
という利点がある． 〔発明の効果〕 以上説明したように本発明は、気体中のパーティクル・
カウンタをガス配管系の梢戒要素の一つとして該配管系
に組み込まれる横造とすることにより、配管内を流れる
可燃性ガスや毒性ガス中のパーティクル・レベルのモニ
ターを可能とし、又滅圧及び加圧下での配管中のパーテ
ィクル・レベルを測定できる効果がある．また、パーテ
ィクル・カウンタを一横成要素とするガス配管系からガ
ス供給を受けている装置を稼［有］状態のままで、該ガ
ス配管系内のパーティクル・レベルのインライン・モニ
タリングが可能となり、該パーティクル・カウンタ上流
部のエアー・オペレートバルブ、ガスフィルター等の劣
化によるパーティクル発生傾向についてもモニターでき
る効果がある．
ビーム幅Ｗ ＋ ＝ Ｓ・γ，／（Ｐ・φ）：Ｌ４［ｍ
］となる．しかし、このときＱ＝０．２［μｍ］を得る
ためには、Ｓ／Ｎ比＊ １ｏ−Ｑ ｏｇ（Ｗ． −
Ｔ／ Ｑ ’ ） ＝１０Ｑｏａ （１０５０００）
：５０ ［ｄＢ］以上の感度が光学系に要求される．一
方、Ｓ／Ｎ比＝３０［ｄＢ］ ＝１０Ｑｏｇ（１０００
）程度の感度でＱ＝０．２ ［μｍ〕を得るのに必要
なビーム幅Ｗ２＝１０’ ・Ｑ２／Ｔ：１３［μｍｌと
なり、検出頻度γ ２ ＝Ｗ２ − Ｐ −
φ／ Ｓ 中（１．０１ ［ ｒ ／ ｍｉｎ
コ ＝ １［ ケ／ １００ｎｉｎ］と＠端に低下
する．即ち、パーティクル密度が低い場合は、光学系の
Ｓ／Ｎ比の許す範囲でビーム幅Ｗを拡大するのが望まし
く、パーティクル密度が高い場合は、最小検出粒径Ｑを
下げるためにビーム幅Ｗは縮小するのが望ましい．（実
施例２） 第３図（ａ） ， （ｂ）は本発明の実施例２を示す横
成図である．第１図で説明した本発明のパーティクル・
カウンタ３４はマスフロー・メータ３５とベアで配管１
３に組み込まれ、各々からの出力信号である単位時間当
りのパーティクル数αと、ガス流量βはカリキュレータ
３６に送られる，カリキュレータ３６は上記信号と、光
散乱室３７内の断面積Ｓと光散乱室３７内のレーザ光路
３８の占有面積Ｓの比ａ＝ｓ／Ｓを用いて、パーティク
ル密度ρ＝α／（ａ×β）を出力する．即ち、この実施
例によれば、実施例１では相対的パーティクル密度しか
もたらされないものを、マスフロー・メータ３５と組み
合わせることで、パーティクル密度の絶対値を出力する
という利点がある． 〔発明の効果〕 以上説明したように本発明は、気体中のパーティクル・
カウンタをガス配管系の梢戒要素の一つとして該配管系
に組み込まれる横造とすることにより、配管内を流れる
可燃性ガスや毒性ガス中のパーティクル・レベルのモニ
ターを可能とし、又滅圧及び加圧下での配管中のパーテ
ィクル・レベルを測定できる効果がある．また、パーテ
ィクル・カウンタを一横成要素とするガス配管系からガ
ス供給を受けている装置を稼［有］状態のままで、該ガ
ス配管系内のパーティクル・レベルのインライン・モニ
タリングが可能となり、該パーティクル・カウンタ上流
部のエアー・オペレートバルブ、ガスフィルター等の劣
化によるパーティクル発生傾向についてもモニターでき
る効果がある．
第１図は本発明の実施例１を示す断面図、第２図（ａ）
は第１図の光学系のＡ−Ａ′線断面図、（ｂ）は同開面
図、（Ｃ）は出力波形図、第３図（ａ），（ｂ）は本発
明の実施例２を示す構成図、第４図は従来例を示す構成
図、第５図は従来の気体中のパーティクル・カウンタの
代表的な光学系構戒図である． １・・・レーザ発振部 ２・・・グラン・フーコープリズム ３ａ・・・ぐーム幅拡大レンズ ３ｂ・・・ビーム幅縮小レンズ ４・・・光散乱ブロック ５・・・而光フィルタ６・
・・被散乱レーザ出力検出部 ７・・・発振レーザ出力検出部 ８・・・ガス中パーティクル ９・・・ランダム漏光レーザ光 １０・・・Ｐ靖光成分 １１・・・Ｓ＠光成分１
２・・・配管 １３・・・配管１４・・・
分岐弁 １５・・・サンプリング導管１６・
・・サンプング拡大管 １７・・・気体中のパーティクル・カウンタ１８・・・
レーザ管 １９・・・レーザ光２０・・・光散
乱室 ２１・・・二重管楕遣のノズル ２２・・・サンプリング・ガス ２３・・・サンプル人口 ２４・・・クリーン・エ
アー２５・・・ガス出口 ２６・・・非球面レ
ンズ２７・・・散乱光検出部 ２８・・・参照光検
出部２９・・・平面鏡 ３０・・・リーク・テストボート ３１・・・スラスト・ベアリング ３２・・・ガスケット（メタルＣリング）３３・・・ナ
ット ３４・・・本発明のパーティクル・カウンタ３５・・・
マスフロー・メータ ３６・・・カリキュレータ ３７・・・本発明のパーティクル・カウンタ３４の光散
乱室 ３８・・・光散乱室内のレーザ光路
は第１図の光学系のＡ−Ａ′線断面図、（ｂ）は同開面
図、（Ｃ）は出力波形図、第３図（ａ），（ｂ）は本発
明の実施例２を示す構成図、第４図は従来例を示す構成
図、第５図は従来の気体中のパーティクル・カウンタの
代表的な光学系構戒図である． １・・・レーザ発振部 ２・・・グラン・フーコープリズム ３ａ・・・ぐーム幅拡大レンズ ３ｂ・・・ビーム幅縮小レンズ ４・・・光散乱ブロック ５・・・而光フィルタ６・
・・被散乱レーザ出力検出部 ７・・・発振レーザ出力検出部 ８・・・ガス中パーティクル ９・・・ランダム漏光レーザ光 １０・・・Ｐ靖光成分 １１・・・Ｓ＠光成分１
２・・・配管 １３・・・配管１４・・・
分岐弁 １５・・・サンプリング導管１６・
・・サンプング拡大管 １７・・・気体中のパーティクル・カウンタ１８・・・
レーザ管 １９・・・レーザ光２０・・・光散
乱室 ２１・・・二重管楕遣のノズル ２２・・・サンプリング・ガス ２３・・・サンプル人口 ２４・・・クリーン・エ
アー２５・・・ガス出口 ２６・・・非球面レ
ンズ２７・・・散乱光検出部 ２８・・・参照光検
出部２９・・・平面鏡 ３０・・・リーク・テストボート ３１・・・スラスト・ベアリング ３２・・・ガスケット（メタルＣリング）３３・・・ナ
ット ３４・・・本発明のパーティクル・カウンタ３５・・・
マスフロー・メータ ３６・・・カリキュレータ ３７・・・本発明のパーティクル・カウンタ３４の光散
乱室 ３８・・・光散乱室内のレーザ光路
Claims (1)
- （１）レーザー発振部、光学レンズ部、偏光部、レーザ
ー受光部から構成される気体中のパーティクル・カウン
タにおいて、パーティクル・カウンタ本体をガス配管系
中に気密に組み込み、該パーティクル・カウンタ本体の
光学系をガス配管系のガス通路を横切って配設したこと
を特徴とする気体中のパーティクル・カウンタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1193748A JP2943163B2 (ja) | 1989-07-26 | 1989-07-26 | 気体中のパーティクル・カウンタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1193748A JP2943163B2 (ja) | 1989-07-26 | 1989-07-26 | 気体中のパーティクル・カウンタ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0357940A true JPH0357940A (ja) | 1991-03-13 |
| JP2943163B2 JP2943163B2 (ja) | 1999-08-30 |
Family
ID=16313157
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1193748A Expired - Fee Related JP2943163B2 (ja) | 1989-07-26 | 1989-07-26 | 気体中のパーティクル・カウンタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2943163B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8704543B2 (en) | 2008-07-14 | 2014-04-22 | Advantest Corporation | Test head moving apparatus and electronic component testing apparatus |
-
1989
- 1989-07-26 JP JP1193748A patent/JP2943163B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8704543B2 (en) | 2008-07-14 | 2014-04-22 | Advantest Corporation | Test head moving apparatus and electronic component testing apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2943163B2 (ja) | 1999-08-30 |
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