JPH0354379A

JPH0354379A - 加圧洗浄装置

Info

Publication number: JPH0354379A
Application number: JP2008109A
Authority: JP
Inventors: Clive R Paige; クリーブ・アール・ペイジ
Original assignee: Shop Vac Corp
Current assignee: Shop Vac Corp
Priority date: 1989-01-17
Filing date: 1990-01-17
Publication date: 1991-03-08
Also published as: US5067654A; EP0383029B1; ATE92379T1; AU4797590A; DK0383029T3; EP0383029A2; DE69002473D1; AU627537B2; EP0383029A3; DE69002473T2; US5086975A

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）この発明は、高圧洗浄装置、例えば、１０００ｐＳ１の
ような高圧で液体（水など）をスプレーノズルから噴銅
して洗浄したり、噴霧する加圧洗浄または噴霧装置の改
良に関するものである。

（従来の技術〉この種の加圧洗浄装置は、手持ちのスプレーアッセンブ
リーを有し、ポータブル形式または据置き形式になって
いて、水洗浄を行ないたい場所で、スプレーアッセンブ
リーを操作し、水を加圧噴射する構造になっている。こ
の加圧噴射のためには、装買本体にポンプ機構が設けら
れ、洗浄作業の間、ポンプ機構を作動し、スプレーアッ
センブリーに設けたスイッチまたは引金を動作して、ス
プレーノズルを間放し、水などの液体を加圧噴射するも
のであり、洗浄作業中は、ポンプの動作を継続し、スイ
ッチまたは引金の操作のみで水の噴射を停止したり、開
始したりする機構と、洗浄作業中、水の放出を停止する
ときには、ポンプも停止させる機構のものとがある。

く発明が解決しようとする課題）前記したように、洗浄または噴霧作業の時、ポンプを運
転した状態で、水などの噴射の動作をｆｉｌｌｔ［ｌす
る機構のものにおいては、ポンプ運転のためのモーター
の過熱を防ぐ必要があり、この対策としては、スプレー
アッセンブリーのノズルからの放出を止めたとき、ポン
プ運転により送出される水などを装置本体に内蔵したバ
イパス流路に低圧で循環させ、モーターの過熱を防ぐよ
うになっている。また、放水を停止したとき、ポンプ運
転を止める機構においては、モーターの過熱の問題はな
いが、ポンプモーターは、その運転を停止させたとき、
即座に停止せず、モーター回転が徐々に停止するため、
ポンプの下流にあって放出されずに残望する水などの圧
力は、ポンプで加圧された状態にあるため、次の放水ま
たは噴射の際、ポンプが運転再開する前に、いきなりノ
ズルからババと噴き出し、ノズル周辺を水びたしにして
しまう問題が生ずる。

また、水洗浄を行なう場合、洗浄する水に洗剤その他の
化学品を混入し、洗浄効果をあげるようにする場合があ
るが、このような場合には、適当な混合装置が使用され
る。しかしながら、このような混合装置は、前記のバイ
パス機構とは、別個になっており、洗浄装置の構造が複
雑となり、価格も高くなるという問題点がある。

さらに，噴射する水などの圧力を高めるため、ポンプを
複数基設ける機構も知られているが、水などの噴剣を一
定にし、息をつかずに安定した噴射が継続できるように
、複数基のポンプのバランス、速度、トルク、耐用年数
、バルブ構造、フローレートなどを最適に保つ必要があ
り、さらに、ポンプのピストンが揺動しながらピストン
運動できるようにした機構も知られ、前記のようなポン
プ作動における安定性、均一性、保守機能、シーリング
構造などを最適なものとする点で、種々の難点がある。

（課題を解決するための具体的手段）前記従来の技術における問題点が、この発明の解決課題
であって、この発明は、前記課題を解決する加圧洗浄装
置を提供することにある。

また、この発明の目的は、洗浄装置本体が運転中または
停止中のいずれにおいても、常に適正な圧力を保つこと
ができる加圧洗浄装置を提供することにある。

さらに、この発明は、装置本体にバイパス機構を内蔵さ
せ、洗浄剤などの液体を混入しての噴銅が簡単な機構で
行なえるようにした加圧洗浄装置を提供することにある
。

さらにまた、この発明は、複数基のポンプシリンダを備
え、これらポンプシリンダにＪ）けるシーリング機構が
簡単な構造で、しかもすぐれた水密構造を有する加圧洗
浄装置を提供つることにある。

前記した、この発明の目的ならびに課題解決の手段は、
液体を噴射するスプレーノズル、スプレーノズルへ液体
を供給する導管、液体供給源からポンプシリンダへ液体
を供給する導管を備え、ポンプシリンダにより液体をス
プレーノズルへ圧送する加圧液体噴射による加圧洗浄装
置を基本構成として、前記目的を達成し、課題を解決す
るものである。

この発明においては、スプレーノズルには、液体の噴射
を止め、または、行なう制御手段が設けられ、バイパス
導管がポンプの上流側の液体供給のための導管とポンプ
下流の液体圧送の導管との間に設けられている。そして
、このバイパス導管には、バイパス導管の開閉を行なう
開閉機構が設けられていて、この開閉機構は、バイパス
チャンパと、このバイパスチャンバに内蔵された往復移
動する弁体を主たる要素として備え、この弁体が第１の
位置と第２の位置とを往復し、第１の位置に前記弁体が
あるとき、前記バイパス導管は、閉止され、第２の位置
に前記弁体があるとき、前記バイパス導管は、開放され
て、ポンプ下流にある導管とポンプ上流にある導管とが
、バイパス導管を介して連通ずるようになっている。

前記弁体は、一方の端部が前記バイパスチャンバの上流
の入口側に位置し、他方の端部が前記バイパスチャンバ
の下流側の出口の位置にあって、前記入口側の液体圧力
が前記出口側の液体圧力よりも所定の値だけ高いとき、
前記弁体は、前記第１の位置に位置し、逆の場合、即ち
、前記出口側の液体圧力が前記入口側の液体圧力と等し
いか、または、高いとき、前記弁体は、前記第２の位置
に位置する。

前記弁体には、常時開放されて液体が流れる流路が軸方
向に貫通しており、前記弁体の水平断面形状は、円形、
楕円形、方形、角形のいずれかであり、前記弁体が前記
第１の位置に位置するとき、前記バイパス導管を閉鎖す
る第１のシールと、前記弁体の周側面と前記バイパスチ
ャンバの内壁との間をシールする第２のシールとが前記
弁体に設けてある。

この発明においては、一つの好ましい構造として、バイ
パスチャンパの構造が、その軸線に対し直交する水平方
向断面の内径を三通りにしており、前記チャンバの第１
の領域の内径が最も大きく、第２の領域が中間の内径を
有し、第３の領域が最小の内径を有している。前記のバ
イパス導管は、ｆｆｙ記第３の領域と連通し、前記弁体
は、前記第１の領域から前記第３の領域を経て第２の領
域へとピストン移動し、この弁体の移動によって、前記
バイパス導管と前記第１の領域との連通が前記第３の領
域部分において、開ｒＦ１制御される。前記第２の領域
においては、弁体は、移動自由になっているが、弁体と
前記チャンバとの間隙から液体の漏洩がないようにシー
ルが設けられている。

前記した第２の領域には、添加すべき液状の化学品を前
記バイパスチャンバへ供給する導管が連通し、ポンプに
より圧送される液体に添加混入される。この添加混入の
ために、ペンチュリーチャンネルが前記第２の領域の下
流側に位置し、添加混入する化学品を負圧作用で吸引す
る。

この発明においては、ポンプは、複数基が並設され、ポ
ンプのピストンは、シリンダ内で８勅できる構造になっ
ており、このような構造におけろ水密構造として、ピス
トンの１：！ＪｖＪを許容しながら液体の漏洩を防ぐシ
ール機構が施されている。

（発明の作用》この発明においては、バイパス機構を設けてあるので、
液体の噴射を止めた際、ポンプの運転を停止しなくても
、ポンプから送られる液体は、バイパス機構を通過して
ポンプヘ戻り、ポンプの空運転による過熱を防ぎ、また
、ポンプを停止しても、ポンプにより加圧ざれた液体は
、バイパス機構を介して低圧側へ還流するので、液体を
噴射を再開したとき、加圧された液体が残留してどっと
噴射される現象を防ぎ、安定した噴射、均一な噴射がで
きる作用を有する。

（実施例〉第１図に図示された、この発明に係る加圧洗浄装置１０
は、ガン形式のスプレーへ液体を圧送するポンプモジュ
ール１２とスプレー・ホースアッセンブリ−１８とを備
え、ポンプモジュールとホースアッセンブリーとの間に
は、バイパスと化学洗浄剤の噴射部分とが組合わされた
バイパスシステム１４とホース接続部１６とが介在して
いる。

圧力洗浄装置１０は、手で持てるポータブル構造にまと
めることができ、スプレー・ホースアッセンブリ−１８
は、ホース接続部１６に着脱自由に接続され、圧力洗浄
装置１０を液休噴霧を行な場所へ運び、噴霧操作を行な
うようになっている。

また、この発明の圧力洗浄装ｉ１ｆｌ１０は、固定式で
もよく、その場合には、ポンプモジュール１２、バイパ
スシステム１４、ホース接続部は、ハウジング２２に納
められて、適当な床などに据置かれ、ホース２０を有す
るスプレー・ホースアッセンブリ−１８がホース接続部
１６に接続ざれて使用される。

ポンプモジュール１２は、ハウジング２２に内蔵ざれ、
このハウジング２２には、入口２４が設けられ、この入
口にカップリング２６が螺合されている。カップリング
２６には、洗浄用の液体、例えば、水の供給源２８とホ
ース３１、導管などの適宜の手段を介して接続される。

液体の供給源２８は、水タンクや水道の水栓などである
。

八口２４は、前記ハウジングに内蔵の導管部３０の上流
に連通し、この導管部３０の下流には、分岐した３本の
導管３８、４０、４２それぞれが接続し、これらの導管
の下流それぞれは、３個のポンプシリンダ３２、３４、
３６に連通し、各ポンプシリンダ３２、３４、３６は、
下流の導管４４、４６、４８を介して共通の導管部５０
と連通している。前記のポンプシリンダ３２、３４、３
６は、図示のように、導管部３０と導管部５０との間に
並列に配置されている。洗浄の液体は、前記３個のすべ
てのポンプシリンダを経て導管部５０へ圧送されるので
、液体の圧送圧力は、極めて高く、最適なバランス、速
度、トルク、耐摩耗性、バルブ構造、フローレート、効
率、切れのない噴霧、均一した噴霧が得られる。

導管部５０へ圧送された液体は、Ｌ字状に曲がった導管
５２を経てバイパスシステム１４の入ロチャンバ５４へ
流入する。

バイパスシステム１４は、ポンプモジュール１２の導管
部５０からの液体をバイパス導管５６へバイパスさせる
機能を有するもので、バイパス導管５６は、低圧側とな
る導管部３０へ接続している。

第２、３図に示すように、バイパスシステム１４は、ブ
ロック状のハウジング５８から構成され、このハウジン
グには、バイパスチャンバ６０が形成されていて、導管
５２から液体が前記バイパスチャンバの上流側チャンバ
５４へ流入し、ついで、ピストン運動する弁体７０に形
成の液体流路６４へ流入し、この流路を経てバイパスシ
ステム１４の下流側の流路６２へ流入し、ここからガウ
形式のスプレーアッセンブリ−１８へ流れ、引金２１（
第１図〉を操作することにより、前記のように圧送され
てきた液体は、ノズル１９から噴射される。

弁体７０は、前記したバイパスチャンバ６０内に設置さ
れて、軸方向にそって往復動する構造になっており、弁
体７０に形成された流路６４には、弁体７０がどのよう
な位置にあっても液体が下流側の流路６２へ流れるよう
になっている。そして、弁体７０は、バイパスチャンバ
６０の上流側のチャンバ５４へ流入した液体がバイパス
導管５６へ流入する動きを制御するもので、第２図の図
示状態の位置に弁体７０が位置するときは、液体は、チ
ャンバ６４からバイパス導管５６へは流れず、第３図図
示のように、前記チャンバ６０の下流側の圧力が上流側
を上回ると、バイパス導管５６への流路が開放され、液
体は、流路６４とバイパス導管５６の両方向へ流れる。

バイパス導管５６への流路が閉止状態である第２図の状
態においては、弁体７０は、下流側の流路６２と接近し
た位置にあって、弁体７０の上流側の外周面に取付けら
れているＯリングなどのリングシール６６がバイパスチ
ャンバ６０の内壁面で、前記バイパス導管５６の口部に
形成したバイパスチャンバ６０の領域７８（この点は、
後記）に当接して、シールし、チャンバ５４と導管５６
との連通を閉止し、第３図図示の状態においては、弁体
７０は、上流側へ移動して、前記リングシール６６が前
記ネック部から離脱し、チャンバ５４と導管５６とが連
通状態となる。

前記のように弁体７０はピストン運動を行なうもので、
弁体７０が内蔵されたバイパスチ↑７ンバ６０は、その
艮手方向に直交する内径において、三通りの内径寸法部
分を有している。即ち、チャンバ６０の第１の領域７２
は、前記上流側のチャンバ５４の内周面部分であって、
最大の内径寸法Ｄ１部分となっており、下流側の流路６
２に連接の第２の領域７４は、前記領ｖｉ７　２の内径
の一回り細い内径寸法Ｄ２部分として構成され、前記領
域７２と領［７４の中間の第３の領域７６は、内径寸法
Ｄ３が最小の寸法部分として構威されている。そして、
バイパス導管く流路）５６は、第３のｌ’ｉｌｆｆｌ７
４を介してバイパスチャンバ６０と連通している。

前記した弁体７０は、第２、３図に示すように、軸方向
と平行な外周面に、弁体と一体の第１と第２の環状の膨
出部７８、８０を有し、第１の膨出部７８は、上流側に
、第２の膨出部８０は、下流側に位置し、第１の膨出部
７８に前記の第１のシール（Ｏリング）６６が配設され
、このシールが前記のように第３の領域７４に当接、離
脱自由になっている。なお、シール６６は、バイパスチ
ャンバ６０の第３の領域７４の内径寸法Ｄ３に一致する
外径寸法を有し、領域７４に密接に嵌合して、前記のよ
うに流路閉止を行なう。また、第２の膨出部８０は、下
流側に位置しており、第２のリングシール８２を右し、
この第２のシールは、前記領域７６の内径寸法Ｄ２に一
致する外径寸法をイｉする。

第１のシール６６は、前記のように、第３の領戚７４の
面に俗動自由に嵌合して（第２図）、流路を閉止し、ま
た、第３図に示すように、弁体７０の動きに伴ムつて前
記領域７４から離脱し、流路を開放する。そして、第２
のシール８２は、弁体７０の動きに伴ない、常時、第２
の領域７６の而と潜動自由に当接している。

前記の弁体７０のピストン運動は、長手方向両端面に作
用する圧力の差圧によって行なわれるものであり、弁体
７０の第２のシール８２の外径寸法Ｄ２は、第１のシー
ル６６の外径寸法Ｄ３よりも大であって、Ｄ２　＞Ｄ３
の関係になっている。

したがって、ガンタイプのスプレーアツセンブリ−１８
の引金２１を引くと、バイパスチャンバ６０の下流側の
流路６２の液体圧力は、ポンプ１２の作用による導管部
５０における液体圧力よりも低くなり、このような圧力
の差圧作用によって、弁体７０は、下流側へ引かれ、シ
ール６６が第２図に示すような位圃に位訳して、バイパ
ス導管（流路〉５６への流路を閉止する。したがって、
バイパスチ１ｌンバ６０の上流側のチャンバ５４部分へ
流入した液体（水）は、専ら弁体７０の軸方向にそって
貞通している中央の流路６４のみを通り下流側へ流れる
。この流路６４の最下流位回には、口径が一段と細くな
っている出口６５が形成され、したがって、流路６４を
流下する液体は、出口６５によって、流速が高められて
流路６２ヘと放出される。

前記の引金２１を引かない状態では、下流の流路６２は
、閉止状態におかれるものであるから、このような状態
のときは、弁体７０の両端部に作用づ′る圧力は、平衡
し、弁体７０ｌ．：差圧作用が作用せず、液体は、流れ
ない。しかしながら、前記したように、弁体７０の下流
側の端面８４に近接しているシール８２の外径寸法Ｄ２
は、上流側の端而８６Ｉ．：近接のシール６６の外径寸
法Ｄ３よりも大径になっているので、弁体の上下流側に
スラストのアンバランスが発生し、弁体７０は、上流側
へ押されて、第３図に示すような位置へ移動する。

このようなシール６６、８２の両者の外径寸法の差によ
って発生づるスラストのアンバランスは、下流側の流路
６２が開いていて、最低の流量状態にあるときの差圧に
よるスラストよりも低いものであり、これによって、弁
体７０は、各操作条件下において、適正な位置となるよ
うに動く。

弁体７０の位置が第３図図示の位置にあるとき、第１の
シール６６は、チャンバ６０の内壁から離れていて、液
体は、弁体の上流側からバイパス導管５６へ流れ、ポン
プシリンダ３２、３４、３６へ還流する。

符号７１は、弁体７０の上流端面に形成された複数の突
起を示し、これらの突起は、弁体７０が流路５２を閉塞
しないためのストツバとして作用するもので、前記突起
の間を液体が自由に流れるようになっている。

このように、この発明のバイパスシステム１４は、この
発明の第１の目的を達或するものであり、即ち、導管部
５０から圧送される液体は、前記バイパスシステムにお
ける下流の流路６２の閉止（これは、スプレーアツセン
゜プリーの引金が操作されないとき）によって、換言す
れば、前記流路６２の圧力が流路５２の圧力と平衡か、
または、高いとき、上流側の導管部３０ヘバイパス導管
５６を経て戻される。したがって、例えば、引金２１が
緩められた後（引いた引金を離したとき）、モーターが
ゆっくり停止しても、前記流路６２には、過剰な水圧が
蓄積されず、つぎの操作のとき、引金２１を引いても、
その途端に加圧された液体がやみくもに噴き出ることが
なくなる。

第２、３図に示したバイパスシステムにおいては、弁体
７０の断面形状を限定する必要はない。

バイパスチャンバ６０と弁体７０は、水平断面が円形の
ほか、角形、方形などの他の断面形状でもよいが、バイ
パス導管５６を効率良く閉止するには、弁体７０は、円
形または楕円形の水平断面形状が好ましい。

第４図は、バイパスシステム１４の他の例を示ずちので
あって、液状の化学品｛液体殺虫剤、液体肥料、液体洗
浄剤など｝を噴ｉｔるシステム９０を含むものである。

このような液状の化学品を噴霧するシステムは、前記し
たバイパスチャンバ６０に連通した流路９４、この流路
の上流側にある一方バルプ９２から構成されており、バ
イパスチャンバ６０の下流には、ベンチュリーチャンバ
９６が配設されている。このペンチュリーチャンバ９６
は、第１セクション９８、第２セクション１００１第３
セクション１０２の三つのセクションからなり、第１セ
クション９８は、下流方向へ向かい、すぼまるデルタ状
またはラッパ状になっており、次の第２セクション　１
００は、ストレートな管路（内径は一定）であり、第３
セクション１０２は、大セクションと反ス４に下流方向
へ向かい、径が広がるデルタ状またはラッパ状になって
いる。

かなりの流速でバイパスシステム１４を流れる液体は、
ペンチュリーチＶンバ９６の第１セクション９８へジェ
ット流の状態で流入して、負圧となり、これによって、
液状の化学品噴霧システム９０の一方バルブ９２が開い
て、液状の化学品が流路９６から第１セクション９８へ
流入する。

コンベンショナルな化学品噴霧システムにおいて（ま、
化学品噴霧システムがポンプの下流側に設けられており
、ポンプによる液体圧力とベンチュリー下流の液体導管
の断面径が最大の部分における圧力との差が、最低の流
速となるように大きくされている。このため、ポンプか
ら送り出される噴流は、比較的細くされる。しかしなが
ら、このような作用は、化学品噴流を行なわない場合、
即ち、加圧噴射のとき、噴射力が低下するという欠点が
ある。これは、化学品噴射噴流に対する圧力差の損失に
よる。このような損失は、圧力が増加するにつれ、顕著
となり、フローレートが低下する。

しかしながら、この発明においては、化学品噴射システ
ムとバイパスシステムとが組合わされているので、化学
品噴羽噴流によって、弁体の作用の圧力差が大きくなり
、バイパス損失が減少される。これによって、２基の噴
銅装置を設ける必要がなく、さらに、関連するシール機
構も必要がなくなる。

この発明の弁体７０は、過圧防止機構としてもｉ能する
もので、ガンタイプのスプレーアツしンブリー１８のノ
ズル１９が部分的に閉止される場合に前記のような機能
を果たす。この発明の弁体は、前記ノズルが意図的に、
または、偶然に閉止されるか、または、ポンプが停止し
た後のような場合すべてを含み、どのような場合でも、
ポンプ１２の下流の導管部５０に加圧が発生しないよう
になっており、これは、重東な安全機能として注目すべ
きである。

第２図から第４図において、この発明のバイパス機構と
化学品噴田機構の一例を図示したが、第１図に示寸よう
に、この発明の一実施例においては、ポンプのハウジン
グ２２は、ネック部１１０を有し、このネック部の内部
チャンバ１１２にバイパスシステム１４（特に弁体７０
）とホース接続カップリング（後記）とが内蔵されてい
る。ネック部１１０は、第１のボア１１４と第２のボア
１１６とを有し、これらのボアは、図示のように内径を
異にし、第２のボアの内径の方が大ぎくなっていて、第
２のボアには、開口１１８が設けられている。この間口
　１１８の外側面には、ネジ満１２０が設けられている
。

弁体７０をネック部１１０の内部チャンバ１１２にＨ？
Ｊするには、開口　１１８から弁体７０を沖入し、弁体
の上流側の端部がバイパスチャンバ６０の上流側のチャ
ンバ５４の部分に達するように奥深く挿入する。弁体挿
入後、ホース接続カップリング１４０を開口　１１８か
ら内部ヂャンバ　１１２へ挿Ｍ１る前記カップリング１
４０の先端部には、ベンチュリー管１４２が設けてあり
、このベンチュリー管１４２は、前記第１のボア１１４
の！５！！深くまで挿入、装着され、先に挿入されてい
る弁体７０の下流側の端部と対而する。符号１４４は、
ベンチュリー管１４２の先端に設けられたＯリングシー
ルを示す。前記カップリング１４０の本体１４Ｇは、前
記第２のボア１１６にぴったり嵌合し、Ｏリングシール
１５０が両省の間を水密状態にパッキンづる。

ベンチュリー管１４２に第４図のペンチュリーチャンバ
９６｛流銘｝が形或されている。

カップリング１４０の本体１６０に形成されたフランジ
は、ネック部１１０の外端端部に係合し、７ランジ１６
２付フェノレーノレ１６０がカップリング１４０に被着
され、ネジ満１２０に螺合されて、前記ノＪツブリング
１４０は、ネック部１１０に連結され、カップリング１
４０のホース接続部がネック部１１０から突出し、ホー
ス２０がこれに接続される。

前記したネック部１１０には、第１図図示のように、側
面に一方弁９２を内蔵するヂャンバ１２４を有するハウ
ジング１２２が一体または一体的に形成されており、こ
のハウジング１２２には、液状の化学品を供給源から供
給するための接続導管１２６が連結している。この接続
導管１２６は、ハウジング１２２のチャンバ１２４に着
座する本体１２８を有し、この本体は、Ｏリングシール
１３０により、水密状に着座する。ハウジング１２２の
チャンバ１２４と前記ネック部１１０とは、流路１３２
により連通し、チャンバ１２４に供給された化学品（液
状）は、この流路１３２を経てネック部１１０の第１の
ボア１１４へ流入する。

前記した流路１３２は、弁体７０とベンチュリー管１１
４との境界部分に位硝づるもので、したがって、流路１
３２がそのような位藁にあるように、ベンチュリー管１
１４の仲人位置が調節される。また、弁体７０は、ネッ
ク部１１０の第１のボア１１４に形成ざれているバイパ
スチャンバ６０内で自由にピストン運動できるように実
装されている。

ガンタイプのスプレーアッセンブリ−１８は、液体噴Ｃ
｝！装置であって、ガン構造の手持ら式の噴銅器からな
り、引金２１付のハンドル（把手）２３を有し、引金２
１を引けば、先端のノズル１つから液体（水その他の液
体）が噴射し、水洗浄、水散布、殺虫剤噴霧、肥料散布
などが行なえるようになっている。ノズルの構造を種々
のものにすることによって、噴霧、散布のパターンを種
々変えることができる。

第１図に示されているポンプシリンダ３２、３４、３６
は、すべて同一規格、同一構造のものである。その一例
を第５図に示す。第５図に示すように、シリンダ３　２
　１．！、流路３８を介して流路３０と連通し、シリン
ダ３２への液体の流れは、一方弁１７０を介し（行なわ
れ、シリンダ３２の圧力は、負圧になっている。シリン
ダ３２の圧力が負圧であると、導管３０の圧力で弁体１
７２がスプリング１７６に抗して上昇し、弁座１７４が
間いて導管３０と流路３８とが連通ずる。

シリンダ３２の下流の導管４４は、下流の導管５０に接
続するが、導管４４は、一方弁１７８により閉塞されて
おり、シリンダ３２の１王力が？：ｋまると、スプリン
グ１８４に付勢されている弁体１８０を押し、弁座１８
２が間いて導管４４と導管５０とが連通ずる。

シリンダ３２への液体の吸引、排出は、ピストンユニッ
ト　１９０で行なわれる。ピストンユニット　１９０は
、ピストン　１９２とピストンヘッド　１９４とからな
り、ピストンヘッド１９４がシリンダ３２内をピストン
運動する。ピストンヘッド１９４の周側面には、平滑性
ど耐摩耗性を付与するために、セラミックスからなる筒
体１９６が取付けてある。この筒体の外側面とシリンダ
３２の内側而との間には、クリアランススペース１９８
が介在し、このスペースの介在によって、ビス１−ンヘ
ノド　１９４は、シリンダ３２の内壁に接触することな
く、横方向へ揺れ動くようになっている。

シリンダ３２の内壁とピストンヘッドの筒休１９６との
間をシールするために、シリンダ３２の内壁にシール２
００が設けられている。このシールは、弾性素材からな
るＵ状のストリップからなり、このシールの一方の側壁
部分がピストンヘッドの筒体１９６に弾性接触し、他方
の側壁部分がシリンダブロックに形成された凹部２０２
に納められている。そして、シール２００は、凹部２０
２に設けてある支持体２０４で支持されていて、前記の
ようにシー士ル２００の一方の側壁部分がピストンヘッ
ドの筒体１９６に弾性接触する。

ピストンヘッドの筒体１９６は、ピストンヘッドに１ｆ
７１自由に嵌められていて、ピストン１９０がピストン
運動すると、シール２００に当接した状態で残り、ピス
トンのビボット運動の支点として作用し、これによって
ピストン１９０は、揺れ動きながらピストン運動する。

ピストンユニット　１９０は、シリンダ３２の下方でピ
ストンロツド２１０と連結し、このピストンロツドをハ
ウジング２１２が囲む。ピストンユニット１９０は、ピ
ストンロツド２１０と一体であり、ピストンロツド２１
０の下端には、リング２１４、ボールベアリング２１６
が設けてあり、このボールベアリングには、偏心プッシ
ュ２１８が回転自由に嵌めこまれていて、このプッシュ
の中心に回転するクランクビン２２０が取付けてある。

クランクビン２２０が回転すると、前記偏心プッシュ２
１８も回転し、このプッシュの偏心によって、リングが
揺動し、したがって、ピストン１９０は、シリンダ３２
内を上下動しながら左右に揺初する。そして、前記シー
ル２００と前記筒体１９もとの弾性接触により、クリア
ランススペース１９８は、気密、水密に保たれる。

第６図は、前記ピストンのシール機構の他の例を示すも
のであって、筒体２２０がピストン２２４のピストンヘ
ッド２２２を囲み、この筒体とピストンヘッド２２４と
は、シール２２６，　２２８によって水密にシールされ
ている。

また、筒体２２０とシリンダ３２の内壁との間のシール
は、シールリング２３０によって行なわれ、このリング
は、シリンダブロック２３４の凹部２３２に者座してい
る。

シールリング２３０は、ポリエチレンテレフタレート（
商標テフロン）を素材とするもので、甫記リングの角部
は、面取りされて凹部に納めやすくなっている。前記素
材のポリエチレンテレフタレートは、ガラスｍ維に含浸
された複合素材として形或され、自己潤滑性のもので、
滑性を有している。前記リング２３０は、ニトリルＯリ
ング２３６でたが状に締付けられ、リング２３０と筒体
２２０との密着度合を高めるようになっている。

凹部２３２に着座しているシールリング２３０と、凹部
２３２の上壁との間には、約０，１ｍ一の間隙２３８が
介在し、これによって、ピストン２２４のピストン運動
の際、ピストンヘッド２２２は、左右に揺動するように
なっている。符号２４０は、前記Ｏリング２３６を保持
する凹部を示す。シールリング２３０とＯリング２３６
は、凹部２３２に設けられた支持休２４２で支持されて
いる。Ｏリング２３Ｇは、シリンダ内壁とシールリング
２３０との間を水密にシールする。

菊記した実施例は、この発明を説明するためのもので、
この発明を限定するものではなく、種々の改変形も、こ
の発明に包含されるものである。

（発明の効果）この発明においては、バイパス機構を設けてあるので、
液体の噴射を止めた際、ポンプの運転を停止しなくても
、ポンプから送られる液体は、バイパス機構を通過して
ポンプヘ戻り、ポンプの空運転による過熱を防ぎ、また
、ポンプを停止しても、ポンプにより加圧された液体は
、バイパス機構を介して低圧側へ還流するので、液体を
噴射を再開したとき、加圧された液体が残留してどっと
噴射される現象を防ぎ、安定した噴射、均一な噴射がで
きる効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

図面は、この発明の実施例を示寸ものであって、第１図は、この発明による加圧洗ｆｔＩ装置の一例を示
す概略説明図である。第２図は、バイパス機構の概略を示す垂直断面図で、弁
体が第１の位直にある状態を示したものである。第３図は、バイパス機構の概略を示す垂直断面図で、弁
体が第２の位置にある状態を示したものである。第４図は、添加混合される液体の供給機構が付設されて
いるバイパス機構の他の例を示す垂直断面図である。第５図は、ポンプ手段の一例を示す断面図である。第６図は、ポンプ手段の他の一例におけるピストンヘッ
ドを中心とした要部の概略説明図である。１０・・・・・・加圧洗浄８ｉ置１２・・・・・・液体を圧送するポンプモジュール１４
・・・・・・バイパスシステム１６・・・・・・ホース接続部１８・・・・・・スプレー・ホースアッセンブリ−２０
・・・・・・ホース２２・・・・・・ハウジング３０・・・・・・導管部３２、３４、３６・・・・・・ポンプシリンダ５０・・
・・・・導管部５２・・・・・・導管５６・・・・・・バイパス導管５８・・・・・・ハウジング６０・・・・・・バイパスチャンバ７０・・・・・・弁体．ｌ−・〒７）ほか１名一二夏ｒｃｚ旦２３４一二７テ＝Ｌ五２．発明の名称加圧洗浄装置３．補正をする者事件との関係

Claims

【特許請求の範囲】

（１）下記の構成からなる加圧された液体を噴射する加
圧洗浄装置；（ａ）液体を噴射するスプレーノズル；（ｂ）前記スプレーノズルへ加圧された液体を供給する
下流側の導管と、液体供給源からの液体を導入する上流
側の導管；（ｃ）液体供給源から供給、導入された液体を加圧し、
前記スプレーノズルへ、前記下流側の導管を介して圧送
するポンプ手段；（ｄ）前記下流側の導管と前記上流側の導管との間に、
かつ、ポンプ手段に、それぞれ接続されているバイパス
導管；（ｅ）前記バイパス導管と関連し、このバイパス導管の
開閉を制御する弁体を備えた液体バイパス機構であつて
、前記弁体がピストン運動するバイパスチャンバを有し
、このバイパスチャンバは、前記バイパス導管、前記上
下流側の前記両導管それぞれと連通し、前記弁体は、前
記バイパス導管と前記バイパスチャンバとの連通を開放
する位置と閉止する位置の両位置へそれぞれ移動する液
体バイパス機構；（ｆ）前記上流側の導管と、前記下流側の導管にそれぞ
れ対面する端部を有し、上流側の液体圧力が下流側の導
管の液体圧力より高い場合には、前記バイパス導管と前
記バイパスチャンバとの連通を閉止する位置へ移動し、
上流側の液体圧力が下流側の導管の液体圧力と等しいか
、低い場合には、前記バイパス導管と前記バイパスチャ
ンバとの連通を開放する位置へ移動する前記弁体。
（２）前記弁体には、該弁体の動きに関係なく、常時液
体が上流から下流または逆に流れる流路が形成されてい
る請求項第１項の加圧洗浄装置。
（３）前記弁体は、軸方向と直交する水平断面が円形で
あり、液体が常時流れる流路が前記弁体の軸線にそって
形成されている請求項第２項の加圧洗浄装置。
（４）前記弁体の外周側面に、第１と第２のシールが位
置し、第１のシールは、前記バイパス導管と前記バイパ
スチャンバとの連通を閉止するシールであり、第２のシ
ールは、前記弁体と前記バイパスチャンバの内壁との間
の漏洩を防ぐシールである請求項第２項の加圧洗浄装置
。
（５）前記バイパスチャンバは、チャンバの内壁の内径
を三通りに異にしている第１、第２、第３の領域を有し
、前記第１の領域の内径が最も大きく、前記第２の領域
の内径が中間で、前記第３の領域の内径が最も小さい関
係になっていて、前記第３の領域が前記第１と第２の領
域の間に位置している請求項第２項の加圧洗浄装置。
（６）前記バイパス導管は、前記第３の領域に連通して
いる請求項第５項の加圧洗浄装置。
（７）前記第１のシールは、前記第１の領域に隣接の第
３の領域の内壁に摺動自由に当接し、前記第２のシール
は、前記弁体の移動に伴ない前記第２の領域内の内壁に
当接しながら摺動自由に移動するもので、これらのシー
ルは、前記弁体の側面に取付けられている請求項第６項
の加圧洗浄装置。
（８）前記弁体の前記第１位置が、前記第１のシールを
前記バイパス導管との連通を絶つ封水位置におき、前記
弁体の第２の位置が、前記第１のシールを前記バイパス
導管との連通を開く位置におく構成からなる請求項第７
項の加圧浄水装置。
（９）前記弁体の水平方向断面形状が円形である請求項
第２項の加圧洗浄装置。
（１０）前記弁体の水平方向断面形状が非円形である請
求項第２項の加圧洗浄装置。
（１１）前記バイパスチャンバの前記第３の領域に、別
個の導管が連通し、この導管を介して添加混合される液
体が流入する構成である請求項第４項の加圧洗浄装置。
（１２）前記バイパスチャンバの前記第３の領域に連通
されている前記別個の導管は、前記第２のシールの下流
側に連通している請求項第１１項の加圧洗浄装置。
（１３）前記別個の導管には、添加混合する液体を一方
方向のみに流す一方弁が付設されている請求項第１２項
の加圧洗浄装置。
（１４）前記バイパスチャンバは、前記ポンプ手段が内
蔵されているハウジングの一部に設けられているネック
部に形成されている請求項第２項の加圧洗浄装置。
（１５）前記ネック部は、スプレーノズルへ至るホース
接続部として機能する請求項第１４項の加圧洗浄装置。
（１６）下記の構成を有するポンプ手段を備えた請求項
第２項の加圧洗浄装置；（ａ）シリンダと、このシリンダ内をピストン運動する
ピストンであつて、このピストンは、前記シリンダ内を
ピストン運動しながら左右に揺動できるように、その外
径寸法が前記シリンダの内径寸法よりも小さき寸法に構
成されているシリンダとピストン；（ｂ）前記シリンダに形成された凹部；（ｃ）前記凹部に配設され、前記ピストンの周側面に弾
接して、前記ピストンのピストン運動と揺動運動を許容
しながら前記ピストンの周側面を水密状にシールするシ
ーリング作用を有するシール手段。
（１７）前記ピストンには、筒体が摺動自由に嵌合して
いる請求項第１６項の加圧洗浄装置。
（１８）前記筒体と前記ピストンとの間をシールするシ
ール部材を有している請求項第１７項の加圧洗浄装置。
（１９）前記シールは、支持部材により前記凹部に支持
されている請求項第１７項の加圧洗浄装置。
（２０）前記ポンプ手段は、複数のシリンダと、各シリ
ンダに内蔵されたピストンとからなる請求項第１６項の
加圧洗浄装置。
（２１）下記の構成からなる加圧された液体を噴射する
加圧洗浄装置；（ａ）液体を噴射するスプレーノズル；（ｂ）前記スプレーノズルへ加圧された液体を供給する
下流側の導管と、液体供給源からの液体を導入する上流
側の導管；（ｃ）液体供給源から供給、導入された液体を加圧し、
前記スプレーノズルへ、前記下流側の導管を介して圧送
するポンプ手段；（ｄ）前記スプレーノズルからの加圧された液体の放出
を選択的に制御する作動手段；（ｅ）前記下流側の導管と前記上流側の導管との間に、
かつ、ポンプ手段に、それぞれ接続されているバイパス
導管；（ｆ）前記ポンプ手段を構成するシリンダとピストンで
あつて、このピストンは、前記シリンダ内をピストン運
動しながら左右に揺動する構成のシリンダとピストン；（ｇ）前記シリンダ内に形成された凹部；（ｈ）前記バイパス導管と関連し、このバイパス導管の
開閉を制御する弁体を備えた液体バイパス機構であって
、前記弁体がピストン運動するバイパスチャンバを有し
、このバイパスチャンバは、前記バイパス導管、前記上
下流側の前記両導管それぞれと連通し、前記弁体は、前
記バイパス導管と前記バイパスチャンバとの連通を開放
する位置と閉止する位置の両位置へそれぞれ移動する液
体バイパス機構；（ｆ）前記凹部に配設され、前記ピストンの周側面に弾
接して、前記ピストンのピストン運動と揺動運動を許容
しながら前記ピストンの周側面を水密状にシールするシ
ーリング作用を有するシール手段。