JPH0352553B2 - - Google Patents
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- JPH0352553B2 JPH0352553B2 JP5106783A JP5106783A JPH0352553B2 JP H0352553 B2 JPH0352553 B2 JP H0352553B2 JP 5106783 A JP5106783 A JP 5106783A JP 5106783 A JP5106783 A JP 5106783A JP H0352553 B2 JPH0352553 B2 JP H0352553B2
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- palladium
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(a) 発明の技術分野
本発明は電極体に係り、特に被メツキ体に連続
的にパラジウム（Pd）メツキを施す際の、陰極
取り出し電極体に関するものである。
的にパラジウム（Pd）メツキを施す際の、陰極
取り出し電極体に関するものである。
(b) 従来技術と問題点
従来被メツキ体が巻装されたリール（Reel）
から巻き取りリール（Reel）へ、前記被メツキ
体をメツキ浴中を移動させながら連続してパラジ
ウムメツキを行なう場合に、前記被メツキ体への
電気的接続に用いられる電極体は、一般に導電性
の点で優れている銅、又は銅合金よりなる電極体
が用いられている。
から巻き取りリール（Reel）へ、前記被メツキ
体をメツキ浴中を移動させながら連続してパラジ
ウムメツキを行なう場合に、前記被メツキ体への
電気的接続に用いられる電極体は、一般に導電性
の点で優れている銅、又は銅合金よりなる電極体
が用いられている。
第１図に前記電極体が用いられている連続メツ
キ装置の概略構成図を示す。同図において１は被
メツキ体を巻装したリール、２は被メツキ体、３
は銅又は銅合金よりなる電極体、４はメツキ浴、
５はパラジウムメツキ液、６は陽極、７はメツキ
電源、８は巻取りリールである。
キ装置の概略構成図を示す。同図において１は被
メツキ体を巻装したリール、２は被メツキ体、３
は銅又は銅合金よりなる電極体、４はメツキ浴、
５はパラジウムメツキ液、６は陽極、７はメツキ
電源、８は巻取りリールである。
しかしながら図から明らかなように被メツキ体
２が電極体３に対して摺動接触することにより電
極体３自身の摩耗が生じ、該電極体３を構成する
金属体の摩耗粉が、前記被メツキ体に付着し、メ
ツキ浴４中に混入することがあつた。パラジウム
メツキにおいては特にメツキの効率化、光沢その
他のメツキの均一性のため前記摩耗粉即ち銅不純
物の混入を極力避ける必要があり、従来のような
電気的接続方法における陰極取り出し用電極体の
改善が望まれていた。
２が電極体３に対して摺動接触することにより電
極体３自身の摩耗が生じ、該電極体３を構成する
金属体の摩耗粉が、前記被メツキ体に付着し、メ
ツキ浴４中に混入することがあつた。パラジウム
メツキにおいては特にメツキの効率化、光沢その
他のメツキの均一性のため前記摩耗粉即ち銅不純
物の混入を極力避ける必要があり、従来のような
電気的接続方法における陰極取り出し用電極体の
改善が望まれていた。
(c) 発明の目的
本発明の目的はかかる問題点に鑑みなされたも
ので、パラジウムメツキ浴への有害な不純物の混
入を防止し、安定してパラジウムメツキを行なう
ことが可能な陰極取り出し電極体の提供にある。
ので、パラジウムメツキ浴への有害な不純物の混
入を防止し、安定してパラジウムメツキを行なう
ことが可能な陰極取り出し電極体の提供にある。
(d) 発明の構成
その目的を達成するため、本発明は被メツキ体
をメツキ浴中を移動させながらパラジウムメツキ
を行なう連続パラジウムメツキ方法において、前
記被メツキ体と摺動して接触する電極体が、パラ
ジウム金属体、又はパラジウムで被覆された金属
体であることを特徴とする。
をメツキ浴中を移動させながらパラジウムメツキ
を行なう連続パラジウムメツキ方法において、前
記被メツキ体と摺動して接触する電極体が、パラ
ジウム金属体、又はパラジウムで被覆された金属
体であることを特徴とする。
(e) 発明の実施例
以下本発明の実施例について図面を参照して説
明する。
明する。
第２図は本発明の一実施例を説明するための主
要部概略構成図である。同図において１１は電極
体、１２は被メツキ体、１３は補助押え治具を示
す。
要部概略構成図である。同図において１１は電極
体、１２は被メツキ体、１３は補助押え治具を示
す。
本発明の一実施例の電極体１１が従来と異なる
点はたとえば銅、又は銅合金の導電性のよい良好
な性質を生かし、かつその表面をパラジウム金属
膜で被覆して被メツキ体１２と電極体１１との摺
動接触の際に、下地の銅、又は銅合金の摩耗が実
質的に生じないようにし、その結果摩耗による銅
又は銅合金の不純物のパラジウムメツキ浴中への
混入を防止可能な構造の電極体とした点にある。
勿論前記電極体をパラジウム金属単位を用いても
よい。
点はたとえば銅、又は銅合金の導電性のよい良好
な性質を生かし、かつその表面をパラジウム金属
膜で被覆して被メツキ体１２と電極体１１との摺
動接触の際に、下地の銅、又は銅合金の摩耗が実
質的に生じないようにし、その結果摩耗による銅
又は銅合金の不純物のパラジウムメツキ浴中への
混入を防止可能な構造の電極体とした点にある。
勿論前記電極体をパラジウム金属単位を用いても
よい。
第２図について更に具体的に説明すると、陰極
取り出し用電極体１１としてたとえばバネ用リン
青銅の平板にニツケル（Ni）層を約2μｍの厚さ
にメツキし、さらに該ニツケルメツキ層上にパラ
ジウム層を約10μｍ程度メツキ被覆したリン青銅
板をバネ圧を印加して被メツキ体１２に接続する
ように構成されている。補助押え治具１３は電極
体１１と同様にパラジウムメツキで被覆された金
属体、或はパラジウム溶解材であつて、電極体１
１と同時にメツキ電源１４の陰極を接続してもよ
く或は絶縁体たとえば塩化ビニールのごときもの
であつてもよい。又逆に陰極接続は前記補助押え
治具１３がパラジウム被覆を有する金属体、或は
パラジウム溶解材で構成されている場合は該治具
を陰極取り出し用電極体としてもよく、その場合
電極体１１は接触のためのバネとして作用させる
ために、バネ性を発揮させる絶縁体であつてもよ
い。
取り出し用電極体１１としてたとえばバネ用リン
青銅の平板にニツケル（Ni）層を約2μｍの厚さ
にメツキし、さらに該ニツケルメツキ層上にパラ
ジウム層を約10μｍ程度メツキ被覆したリン青銅
板をバネ圧を印加して被メツキ体１２に接続する
ように構成されている。補助押え治具１３は電極
体１１と同様にパラジウムメツキで被覆された金
属体、或はパラジウム溶解材であつて、電極体１
１と同時にメツキ電源１４の陰極を接続してもよ
く或は絶縁体たとえば塩化ビニールのごときもの
であつてもよい。又逆に陰極接続は前記補助押え
治具１３がパラジウム被覆を有する金属体、或は
パラジウム溶解材で構成されている場合は該治具
を陰極取り出し用電極体としてもよく、その場合
電極体１１は接触のためのバネとして作用させる
ために、バネ性を発揮させる絶縁体であつてもよ
い。
さらに上述した電極体１１は必ずしもメツキに
よるパラジウム被覆された銅電極体のみならず、
該電極体をクラツドにより作成された電極体であ
つてもよい。
よるパラジウム被覆された銅電極体のみならず、
該電極体をクラツドにより作成された電極体であ
つてもよい。
(f) 発明の効果
以上説明したごとく本発明の一実施例における
電極体においては、パラジウム金属体、又はパラ
ジウムで被覆された金属体であるため、パラジウ
ムメツキ浴への有害な不純物の混入が防止でき、
安定してパラジウムメツキを行なうことが可能と
なり、製品の品質向上に効果がある。
電極体においては、パラジウム金属体、又はパラ
ジウムで被覆された金属体であるため、パラジウ
ムメツキ浴への有害な不純物の混入が防止でき、
安定してパラジウムメツキを行なうことが可能と
なり、製品の品質向上に効果がある。
第１図は従来電極体が用いられている連続メツ
キ装置の概略構成図、第２図は本発明の一実施例
を説明するための主要部概略構成図である。 図において１は被メツキ体を巻装したリール、
２，１２は被メツキ体、４はメツキ浴、５はパラ
ジウムメツキ液、６は陽極、７，１４はメツキ電
源、８は巻取りリール、１１は電極体、１３は補
助押え治具を示す。
キ装置の概略構成図、第２図は本発明の一実施例
を説明するための主要部概略構成図である。 図において１は被メツキ体を巻装したリール、
２，１２は被メツキ体、４はメツキ浴、５はパラ
ジウムメツキ液、６は陽極、７，１４はメツキ電
源、８は巻取りリール、１１は電極体、１３は補
助押え治具を示す。
Claims (1)
- １ 被メツキ体をメツキ浴中を移動させながらパ
ラジウムメツキを行なう連続パラジウムメツキ方
法において、前記被メツキ体と摺動して接触する
電極体が、パラジウム金属体、又はパラジウムで
被覆された金属体であることを特徴とする電極
体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5106783A JPS59177394A (ja) | 1983-03-26 | 1983-03-26 | 電極体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5106783A JPS59177394A (ja) | 1983-03-26 | 1983-03-26 | 電極体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59177394A JPS59177394A (ja) | 1984-10-08 |
| JPH0352553B2 true JPH0352553B2 (ja) | 1991-08-12 |
Family
ID=12876452
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5106783A Granted JPS59177394A (ja) | 1983-03-26 | 1983-03-26 | 電極体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59177394A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101632892B1 (ko) * | 2015-04-09 | 2016-06-23 | 주식회사 포스코 | 습식 공정용 냉각 탱크의 토출 배관 막힘 방지 장치 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02232400A (ja) * | 1989-03-07 | 1990-09-14 | Fujitsu Ltd | 電解処理装置 |
-
1983
- 1983-03-26 JP JP5106783A patent/JPS59177394A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101632892B1 (ko) * | 2015-04-09 | 2016-06-23 | 주식회사 포스코 | 습식 공정용 냉각 탱크의 토출 배관 막힘 방지 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59177394A (ja) | 1984-10-08 |
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