JPH035220B2 - - Google Patents

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JPH035220B2
JPH035220B2 JP60504423A JP50442385A JPH035220B2 JP H035220 B2 JPH035220 B2 JP H035220B2 JP 60504423 A JP60504423 A JP 60504423A JP 50442385 A JP50442385 A JP 50442385A JP H035220 B2 JPH035220 B2 JP H035220B2
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JP
Japan
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gas
mixing chamber
fuel gas
explosion
cylinder
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Application number
JP60504423A
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English (en)
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JPS63500290A (ja
Inventor
Arekusei Anatorieuitsuchi Goncharofu
Yurii Purokofuieuitsuchi Fuedoko
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NAUCHINO ISUSUREDO INST TECH AFUTOMOBIRINU PUROMU
Original Assignee
NAUCHINO ISUSUREDO INST TECH AFUTOMOBIRINU PUROMU
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Filing date
Publication date
Application filed by NAUCHINO ISUSUREDO INST TECH AFUTOMOBIRINU PUROMU filed Critical NAUCHINO ISUSUREDO INST TECH AFUTOMOBIRINU PUROMU
Publication of JPS63500290A publication Critical patent/JPS63500290A/ja
Publication of JPH035220B2 publication Critical patent/JPH035220B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B7/00Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
    • B05B7/0006Spraying by means of explosions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/12Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
    • C23C4/126Detonation spraying

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Organic Chemistry (AREA)
  • Nozzles (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

請求の範囲 1 筒体1と、この筒体1に連結された粉体計量
器2と、安全チユーブ4を介して前記筒体1に連
通するガス混合室3と、このガス混合室3に連通
する噴射室8と、この噴射室8に連通する燃料ガ
ス管路11と、噴射装置9を介してガス混合室3
に連通するガス状酸化剤の供給用の管路10と、
ガス混合室3内の逆火を防止するための装置と、
制御装置7と、この制御装置7に接続され点火爆
発させるための装置とを備えた爆発憤霧装置にお
いて、前記逆火を防止するための装置は密閉容器
12で構成され、この容器12は前記噴射室8に
連通する前記燃料ガス管路11の接続部近傍に連
結されていることを特徴とする爆発憤霧装置。
2 前記密閉容器12は加圧された不活性ガスで
満たされ、前記制御装置7に電気的に接続された
弁装置13を介して前記燃料ガス管路11に連通
されていることを特徴とする請求の範囲第1項記
載の爆発憤霧装置。
発明の技術分野 本発明は一般に塗装技術に係り、特に爆発憤霧
による塗装技術に提供される爆発憤霧装置に関す
る。
発明の背景技術 粉体混合物を爆発させるための筒体と、この筒
体に連結された粉体計量器と、ガス状要素を混合
し、この混合要素を筒体へ供給するための噴射型
の混合器を含むガス供給系統とを備えた粉体燃料
の爆発憤霧装置は知られている(例えば、ソ連邦
発明者証第508994号、国際分類B25B7/04、「発
見、発明、工業意匠および商標」公報No.23、
1985)。
この装置においては、ガス状要素は適宜に混合
されるが、ガス混合領域での加熱が逆火(混合噴
射領域における永続燃焼)を引き起こす。逆火は
装置の周期的な操作を妨げることになり、ガスが
激しく燃焼している間のガス混合の失敗を引き起
こすことになる。
一方、筒体と、この筒体に連結された粉体計量
器と、安全チユーブの手段により前記筒体に連通
する混合室と、この混合室に連通する噴射室と、
この噴射室に連通する燃料ガス管路と、前記混合
室に設けられ逆火を防止するための装置と、制御
装置と、この制御装置に接続された爆発点火装置
とを備えた塗装用の爆発憤霧装置は知られてい
る。
前記混合室内に設けられた逆火防止装置は、弁
を備えた調節装置で形成され、この調節装置は弁
によりガス燃料(アセチレン)の管路を閉塞する
よう作動し、その間に同時に不活性ガス(例えば
窒素)を供給する予備的な管路を開放し、初期爆
発に先立つて混合室およびチユーブを閉塞する。
不活性ガス(neutral gas)による追出しの開
始および終了を初期爆発と一致させることは理屈
に適つており、これを達成するためには複雑な装
置の使用が要求される。他の不利なことは、過度
の不活性ガスが後半に混合室、安全チユーブ、そ
して火花が発せられる以前に爆発が開始する場所
(点火プラグが配置された場所)に満たされ、爆
発を妨げることになる。反対に、不活性ガスは混
合室からガス状爆発混合物を完全に排出させ、安
全チユーブ内に一塊を供給しなければならない。
周期的に動作する要素(弁)を備えることは摩耗
作用を受け易い部材を作り、そこでの各爆発周期
の間における不活性ガスの使用量は過度の消費を
伴う。
発明の開示 本発明は、ガスが混合される領域において逆火
を防止することができ、また大量の不活性ガスが
燃焼を妨げることのない、かつ簡単な構造から成
る逆火防止装置を備えた爆発憤霧装置を提供する
ことを目的とする。
この目的は、筒体と、筒体に連結された粉体計
量器と、安全チユーブを介して前記筒体に連結さ
れた混合室と、この混合室に連通する噴射室と、
この噴射室に連通する燃料ガス管路と、噴射装置
を介して混合室に連通するガス状酸化剤の供給用
の管路と、混合室内の逆火を防止するための装置
と、制御装置と、この制御装置に接続され点火爆
発させるための装置とを備え、前記逆火を防止す
るための装置は密閉容器で構成され、この容器は
前記噴射室に連通する前記燃料ガス管路の接続部
近傍に連結されていることを特徴とする爆発憤霧
装置により達成される。
好ましくは、密閉容器は加圧された不活性ガス
で満たされ、制御装置に電気的に接続された弁装
置を介して燃料ガス管路に連結される。
本発明による爆発憤霧装置は構造が簡単で、信
頼性が高く、ガスが混合される領域での逆火を防
止する機能を備える。燃料ガス管路に連結される
密閉容器を備えた装置の変形例では不活性ガスを
不要にすることも可能であるが、加圧された不活
性ガスで満たされた密閉容器を備えた装置の変形
例においては、不活性ガスの消費は混合室の容積
に限定される。
【図面の簡単な説明】
本発明の特定の種々変形例を添附図面を参照し
て説明する。
第1図は本発明による爆発憤霧装置の断面図、
第2図は不活性ガスで満たされた密閉容器を有す
る爆発憤霧装置の長手方向の断面図である。
発明を実施するための最良の形態 第1図に示される爆発憤霧装置は、水冷筒(図
示せず)を備えた筒体1を有し、この筒体1には
粉体計量器2が連結されている。筒体1の一端に
はガス混合室3が安全チユーブ4を介して連結さ
れ、この安全チユーブ4の一端には点火プラグ6
を有する初期点火用の装置5が連結されている。
この装置5は制御装置7に電気的に接続されてい
る。ガス混合室3の他端には噴射室8が形成さ
れ、この噴射室8は噴射装置9に設置されてい
る。噴射装置9内にはガス状酸化剤用の管路10
が連通され、噴射室8には燃料ガス管路11が連
通されている。さらに爆裂憤霧装置はガス混合室
3内での逆火を防止するための装置を有し、この
装置は密閉容器12で構成され、この容器12は
噴射室8に連通する燃料ガス管路11の近傍に連
結されている。
第2図は爆発憤霧装置の選択される実施例を示
し、これは第1図に示したものから区別され、、
容器12は弁装置13を介して燃料ガス管路11
に連結され、この弁装置13は制御装置7に電気
的に接続されている。ここで、容器12内には不
活性ガス(例えば、窒素)が貯留され、このガス
圧力は燃料ガス管路11内の圧力よりも実質的に
高に圧力になつている。
第1図に示す爆発憤霧装置は以下のように操作
される。
管路10を介して供給される酸化剤(一般的な
酸素または空気と酸素の混合気)は、噴射装置9
からガス混合室3内へ導入される。
ここで、圧力降下または真空状態が生じ、燃料
ガス管路11から燃料(例えば、炭化水素
CnHm)が吸出される。また密閉容器12内に貯
留されたガス圧力は大気圧以下の圧力である。こ
のようにして作られた混合気は、ガス混合室3か
ら安全チユーブ4へ送られ、さらに初期点火のた
めの装置5を介して筒体1へ送られる。筒体1が
ガス混合気で満たされたのち、点火プラグ6によ
り爆発が開始される。これは制御装置7から発せ
られる電気パルスの作用で開始される。点火の時
点から2つの爆発波が伝播され、即ち、一方の爆
発波は筒体1に沿つて筒体1の開口端に向かい、
他方の爆発波は安全チユーブ4に沿つてガス混合
室3に向かう。爆発波の後に作られる爆発生成物
は初めにガス混合室3内に入り、さらに貫通して
噴射室8、燃料ガス管路11および容器12内に
入る。
爆発生成物の流れに先立つて衝撃波による流れ
が作り出され、衝撃波は小容量vの混合されてい
ない酸化剤および燃料を容器12内および燃料ガ
ス管路11内に押し込む。この小容量vの一部分
は結局燃料ガス管路11内で燃料ガスと混合さ
れ、燃料との豊富な混合気を作り出す。この混合
気は、燃料ガス管路11内において緩慢な進度
(爆発と比較して)で燃焼するため熱い爆発生成
物との接触から燃焼し易くなる。容器12内に入
る小容量vの一部分は、そこで爆発周期の以前か
ら存在している冷たい爆発生成物と混合され、燃
焼するための可能性を失う。爆発生成物は一塊の
燃料ガスを燃料ガス管路11に沿つて押し出すた
めに移動を続け、これらが冷却され、膨脹したと
きには容器12を塞ぐ。筒体1内の圧力が降下す
るときには、しだいに圧力緩和の工程が燃料ガス
管路11および容器12内に起こる。一塊の燃料
ガスはそこから燃料ガス管路11に沿つて移動
し、噴射室8内に入り、そこにはガスを希薄にす
るため冷たい爆発生成物が容器12から排出さ
れ、その範囲で燃料は停止する。
容器12の容積と容器12を燃料ガス管路11
に連結する孔の直径との割合いは、容器12内の
圧力緩和の時間が燃料ガス管路11内の圧力緩和
の時間より少なくされないようにし、しかし、爆
発の間に要する時間より多くならないように適宜
に選択される。
第1図に示す爆発憤霧装置の実施例は弁装置を
備えておらず、この爆発憤霧装置では遅延動作の
傾向は10〜15cps程度の上限範囲を有する。
容器12内の圧力緩和は提供された装置のう
ち、ガス以外のいずれの部分の動作とも関連付け
ることはできない。圧力緩和の時間は広い範囲内
で変化するからである。
第2図に示す装置は実質的には第1図に示す装
置と同様の方法で操作される。但しこの装置で
は、筒体1内の圧力降下の前に、燃料ガス管路1
1に沿つて噴射室8へ移送される一塊の燃料ガス
が、冷たい爆発生成物によるよりも容器12内の
中性ガスにより強力に希薄され冷却される。装置
のために供給される不活性ガスの大部分は弁装置
13の作動時間により制御される。このように供
給された大量の不活性ガスは燃料ガスの排出用と
して、また冷却用として、さらには爆発物の減感
用として作用する。
提供された装置の利点は従来の装置に比べて、
点火プラグ6の爆発点火パルスのタイミングと、
弁装置13の開動作とを正確に一致させる必要が
ないことである。また他の利点は不活性ガスの節
約が可能なことである。不活性ガスの圧力は0.5
〜0.8Kg/cm2の範囲に分布する。
このように要求される小容量の不活性ガスは燃
料混合を薄め、その結果、本発明における爆発憤
霧装置の効率を改善させる。
弁装置13と関連される密閉容器12は、アセ
チレンと酸素との等モル濃度の混合物のような低
い爆発力を呈するものの混合を操作するとき使用
される。
産業上の利用可能性 提供される爆発憤霧装置は、機械工業およびエ
ネルギー工業、自動車製造業、計器製造業その他
に利用される。
JP60504423A 1985-07-22 1985-07-22 爆発噴霧装置 Granted JPS63500290A (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/SU1985/000059 WO1987000452A1 (en) 1985-07-22 1985-07-22 Detonation coating device

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Publication Number Publication Date
JPS63500290A JPS63500290A (ja) 1988-02-04
JPH035220B2 true JPH035220B2 (ja) 1991-01-25

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ID=21616926

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60504423A Granted JPS63500290A (ja) 1985-07-22 1985-07-22 爆発噴霧装置

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JP (1) JPS63500290A (ja)
DE (1) DE3590824T1 (ja)
FR (1) FR2586207B1 (ja)
GB (1) GB2187400B (ja)
HU (1) HU196562B (ja)
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WO (1) WO1987000452A1 (ja)

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SE8701166D0 (sv) 1987-03-20
HUT43275A (en) 1987-10-28
FR2586207B1 (fr) 1987-12-18
DE3590824T1 (ja) 1987-07-16
SE8701166L (sv) 1987-03-20
HU196562B (en) 1988-12-28
SE454993B (sv) 1988-06-13
WO1987000452A1 (en) 1987-01-29
FR2586207A1 (fr) 1987-02-20
JPS63500290A (ja) 1988-02-04
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