JPH0351832U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案一実施例の要部ブロツク構成図
、第２図ａ乃至第２図ｇはそれぞれ第１図に示し
た実施例により得られる光集積回路パターンの一
例を示す。 １……制御部、２……記憶回路、５……制御回
路、１０……ステツピングモータ、１１……ステ
ージ、１２……フオトレジスト、１３……基板、
１５……位置センサ、１６……カウンタ・比較回
路、２０……Ｈｅ−Ｃｄレーザ、２３……光変調
器、２６……対物レンズ、３０，３１……レジス
タ。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 １ フオトレジストを表面に塗布した基板と、前
   記基板を所望位置に移動する基板位置決め装置と
   、 照射光の発光源と、 前記発光源からの照射光を光学的に前記基板上
   に集光する光学系装置と、 を備えた光集積回路用レーザービーム直接描画装
   置において、 前記基板上に描画される描画パターンのパター
   ンデータを記憶した記憶装置と、 前記基板を前記パターンデータに応答して移動
   する第１の手段と、前記基板の位置を検出する位
   置センサと、前記位置センサ出力に基づいて前記
   基板位置と前記パターンデータとの誤差を補償す
   る閉ループ制御回路とを含む基板位置決め装置と
   、 前記位置センサの出力に基づいて上記基板の現
   在位置を演算する現在位置決定装置と、 前記現在位置決定装置の内容と前記パターンデ
   ータの照射位置データとに基づいて前記基板の現
   在位置が照射位置であることを検出する検出装置
   と、 前記検出装置から検出信号があるときは該照射
   位置に対応した前記パターンデータの光変調デー
   タに対応して前記照射光の強度を変調する光変調
   手段と、 前記変調された照射光を前記基板上に照射する
   自動焦点合わせ機構を備えたレーザービーム集光
   光学系装置と、 を備えたことを特徴とする光集積回路用レーザー
   ビーム直接描画装置。 ２ 前記基板位置決め装置が、分解能０．１μｍ
   ／ステツプのステツピングモータを含み、 前記ステージの可動距離範囲が１００mm×１０
   ０mmであり、前記ステージの移動速度が０．１mm
   ／ｓｅｃであり、 前記光学系装置が倍率６０倍の対物レンズを含
   み、 前記光変調手段の出力が５μＷであることを特
   徴とする実用新案登録請求の範囲第１項に記載の
   光集積回路用レーザービーム直接描画装置。