JPH03505804A - パルス化されたガスレーザーのための電極と、これを製造する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 パルス化されたガスレーザーのための電極と、これを製造する方法 この発明は、請求の範囲の従来技術の部に記載されている特徴をもつ電極に関す るものである。

ＣＯ２レーザ−またはエキシマレーザ−のようなパルス化されたガスレーザーに 使用されるガス放出チャンバは、二つの相互に対向した電極を含み、これらは、 光学軸に平行で、それらの間で、電気放電が行なわれ、これによって、ガス放出 チャンバ内にあるガスが励起されてレーザー光線を放射する６パルス化された操 作において、典型的なガスレーザーは、数メガワットまたは、それ以上のパルス パワーを発生し、パルス幅は、代表的には、５０ナノセコンド（ｎｓ）までのオ ーダーであり、電極表面領域は、１０ＣＩ２程度になっている．最高のパルスパ ワーは、エキシマレーザ−で達成される．代表的なエキシマレーザ−に充填され たガスは、クリ１ｌ・ンのような活性希ガス５〜１０％、ハロゲンガス、特に、 弗素または塩素ガス０，１〜０．５ｘおよびヘリウムまたはネオンガスのような 軽いバッファーガスを合計圧力　１．５ｘｌＯ　”から４×１０５Ｎ／Ｉ１２の 圧力条件下で含む。

ガスレーザーのガス放出チャンバにおける電極には、各種の条件が適合しなけれ ばならない、基礎的な条件は、電極が使用可能な電極表面にわたり可能な限り均 一に広げられるべきものである拡散グロー放電を行なう電子の放射に特に適して いなければならないことである。ＣＯ２およびＣＯレーザーにおける酸素または エキシマレーザ−における弗素ガスと塩素ガスのような電気陰性であるガス雰囲 気をもつ既知のガスレーザーにおいては、そのレー　トフェーズの間の多くの場 合において、ガス放電が欠如として、グロー放電からアーク放電へと変わること が観察される。これは、プレイオン化手段により利用できる電子が電気陰性であ る原子または分子に付着し、そして、つぎには、放電プロセスに利用できなくな るという事実による。陰極が充分な数のメーキャップ電子を供給できなければ、 放電は、欠如変化する。このような放電は、数多くの欠点を有する放電である。

まず第１に、アーク放電は、レーザープロセスに全く貢献せず、その結果、パル スレートは、極端に減少する。それに加え、アーク放電は、電極を侵食する。こ の結果、電極の表面は、荒れて、電極輪郭は、様変りする。他方、除去された電 極マテリアルの大部分が放電チャンバのウィンドウに付着してしまう。該ウィン ドウのクリーニングは、エンクローズされたレーザーでは、不可能であり、エン クローズされていないレーザーでは、極めて高価なものにつく。

個々のアーク放電を完全に防ぐことは、不可能であるから、スパッターする電極 マテリアルの傾向を可能な限り低くしなければならない。さらに、該マテリアル には、付与される電圧パルスが可能な限り速やかに電極の表面全面にわたり広が ることを確実にするために、高い電気伝導性をもつことが要求される。

電極マテリアルに合致する他の要件は、熱伝導性が可能な限り高くあるべきこと で、その結果、高いパルス反復レートにおける電極のポットスポットの発生が阻 止できる。このようなホットスポットは、アーク放電のルーツからなり、燃えて し才う、最後に、電極表面への化学反応が顕著な役割を行なう、ガスの強力な部 分的加熱は、ガスにおける解離と化学的成分ｉｆ換を結果し、その特性を変えて しまう。例えば、ガス放電チャンバ内に００２と、窒素とヘリウムの低いプロポ ーションのガスで圧力が１．０ｘｌＯから　１．５ｘｌＯ５Ｎ＃＋　２であるガ スを含むＣＯレーザーにおいては、ＣＯ２の解離と共に極端に活性の酸素が生成 され、これが電極のマテリアルまたはチャンバの壁マテリアルに反応するか、ま たは、ガス充填に含まれている窒素と反応し、窒素酸化物が形成され、これは、 電子的に負で、放電から電極を損耗させる。このような理由で、ＣＯ２レーザー における電極は、ガス放電チャンバに充填のガスに対し可能な限り不動態でなけ ればならず、その結果、充填ガスも電極表面も相互作用による化学的成分置換を 受けなくなり、そして、また、電極が酸素に充分対抗できることが肝要で、これ は、最高のポジティブな酸素粒子圧力までガス放電チャンバにおけるアークのフ ラッシュオーバーが全くないことを意味する。

ガス放電の開、レーザーガスが電極表面とスパッターされた電極マテリアルと相 互作用するので、そして、スパッターされた電極マテリアルがレーザーチャンバ のウィンドウに付着するので、レーザー電極のマテリアルは、電極の寿命を決定 し、電極が消耗するにつれ、その形状は、変化するのみならず、レーザーガスの 寿命と、レーザーの光学的システムの寿命を決定する。しかしながら、工業生産 におけるレーザーの使用にとり、メインテナンスの間隔ができるだけ長いことは 、重要なことである。アルゴンと弗素ガスが充填されている代表的なエキシマレ ーザ−は、約２０００稼働時間後にメインテナスを必要とし、これによって、充 填ガスがあたらしくされ、ウィンドウがクリーニングされる。この結果、メイン テナンスの作業期間によるのみならず、充填ガスを更新するたびごとに、電極を 再び不動態化しなければならず、作業中断時間が大幅に増える。不動態化時間は 、ガスの各チェンジにより増加する。不動態化時間は、交換後、レートされた出 力パワー、に達する前に経過しなければならない時間であり、電極マテリアルに よるが、１時間から２日の間のものである。

電極間のガス放電を可能な限り均一にすることを確保するためには、ロゴスキー ・プロファイルをもつ電極を使用することが知られている。しかしながら、これ は、それ自体、異なるエネルギー密度をもつ放電ゾーンの形成を排除するもので はないことを経験が示している。

ドイツ出ｉｌ！ｌ　３６４２７４９には、表面に様々に並列された細かく分割さ れた物質を含む電極が開示されており、これによって、ガス放電ができるかぎり 均一に行なわれ、寿命が可能な限り延びる０例えば、銅のような高い電気伝導性 を有する基礎物質は、サイズが０．１〜１００ノ１ｌｌｌの粒子を含み、種々の マテリアルからなり、低いワークファンクションを有する。かくして、このよう な電極の表面は、異性分組成を有し、電界強度の局部的増加によりもたらされる 、より強力な電界放出により電極からの放出を促進する。

一般的にいって、電極に合う各種の条件は、互いに匹敵するものではない、現在 、ニッケルまたは真鍮の電極がエキシマレーザ−に多くの場合使用されている。

ニッケルめっきアルミニウム電極は、あまりにも知られている（ドイツ出願３８ １７１４５）　、真鍮電極は、通常、４０００稼働時間のライフである。ニッケ ル電極は、Ｃ０２レーザーに通例である。タングステン、アルミニウム、特殊鋼 、イリジウム、金またはプラチナから作られた電極も提案されているが（ダブリ ユウ、ジエイ、ホイットマン“ザ・ＣＯ２レーザ−”スブリンガーベルラグ１９ ８７．　１０５頁）、これらのすべては、欠点を有している。金、プラチナ、銀 、銅、アルミニウムのような高い電気伝導性を有するマテリアルは、特別に高い 電子放射率を有しておらず、各種の充填ガスに対する抵抗性も、場合によりさほ ど高くなく；それに加え、それらは、高いスパッタリング率をもつ。モリブデン とタングステンのような遷移金属は、良好な電子放射率を有するが、電気伝導性 に劣り、成形も非常な困難性を伴なう（ＣＯ２ハイパワーレーザーのタングステ ン電極の製造には、約１週間の日数を要し、このような方法は、実用的に代替で きない）。

本発明の目的は、電極がより均一な拡散放電を可能とし、充填ガスと電極それ自 体の寿命を永くさせ、ガスレーザーに要求される電極寸法を大型化（電極表面領 域は、数ｄ１１２、電極の長さは、１１１のオーダーである）させる反面製造に なんらの困難性をも伴わない、パルス化されたガス−レーザーの電極を提供する ことにある。

該目的は、請求の範囲】に記載の特徴をもつ電極により達成される。このような 電極を製造する望ましい方法は、請求の範囲１３に記載されている。この発明の 望ましい発展は、従属請求の範囲によりカバ・−されている。

この発明による電極は、特徴の組合わせを構成し、その内のあるものは、以前に 知られているが、そのような組合わせが予期されない好ましい特性をもつ電極を 結果する。例えば、ＣＯ２レーザーにおけるタングステンが被覆された銅電極は 、通常用いられているもので、電子放出、ガス放電の均一性、寿命の点などでタ ングステン電極よりも劣るとされているニッケル電極のそれの４倍の酸素分圧に おいてのみフラッシュオーバーする。

ドイツ出願３６４２７４９の教示から出発すると、この発明による電極は、均質 な表面層を有し、その組成は、操作されようとするガス雰囲気に匹敵し、ガス雰 囲気における電極消費が最小で、その電子放出率が、そのような制限された状態 において最高のものとなるように選択される。

この発明によれば、表面層の厚さは、２０μ−を越えてはならない。この理由で 、表面層のマテリアルの選択に、電気伝導性について特別の考慮を払わなくても よい０反対に、短時間でパルスエネルギーを作るために要求される電気コンダク タンスは、担体マテリアルの選択および／または形成される中間層のマテリアル の選択により保証される。さらに、担体マテリアルは、二つの観点、即ち、マテ リアルの容易な成形性（深絞りに要求される）の観点と、レーザーガスに対する 耐食性の観点からのみ本質的に選択される。耐食性は、被覆が活性電極表面にお いてのみ行なわれ、担体が完全に保護されない場合、重要であり、適したもので ある０選択の補助基準は、中間層がなく、ガス放電による熱を配分し、担体によ り発散させるなければならない場合、高い熱伝導性である。中間層の、または、 中間層がない場合は、担体の高い熱伝導性により、電極表面の維持される温度が 低ければ低いほど、操作中の消費（スパッタリング率）が小さくなる。消費が小 さければ、レーザーチャンバのウィンドウに付着する電極マテリアルは、少なく なり、寿命は、長くなり、メインテナンスの間隔もより間をあけることができる 。中間層の高い熱伝導性または中間層がなければ担体の高い熱伝導性により同じ 方向の結果が生じるもので、これは、原則として、高い熱伝導性には、高い電気 伝導性が附随し、これが、より一層の均一な放電を促進し、アーク放電の発生傾 向を抑制する。表面温度の低下は、電子放出率を減少させるが、この発明による ラミネートされた電極においては、該表面は、特にタングステンのような高い電 子放出率をもつマテリアルで構成されているから、欠点はない、タングステンを 電極として用いることができないエキシマ弗化物レーザーにおいては、例外では あるが、これは、放電ベッセルの窓を汚ず容易に蒸発する訂。が形成されるから である。伝導性が低いマテリアルが中間層に、または、中間層がなければ、担体 に選択されると、電子放出を促進させるなめに望ましいならば、電極の温度を高 めることができる。

電極に要求される条件が被覆層のマテリアルの選択と、また任意の中間層のマテ リアルの選択とにより、部分的に充足されると、各種形式のレーザーの最適なプ ログレッシブな電極構造が得られることができる。化学的適合性については、請 求の範囲１に記載のすべてのマテリアルがＣＯにおける表面層に使用でき、これ は、Ｃ０２レーザーがアグレッシブなガスを含まないからである。

このようなマテリアルは、解離により生ずる反応性酸素にスローな反応のみを示 す、前記したタングステンは、特に適している。

塩化物含有エキシマレーザ−においては、前記した耐火性マテリアルが、また、 表面層に特に適している。弗化物含有エキシマレーザ−においては、表面層は、 クロム、タンタルとレニウムからなる。

結論として、あたらしい電極による利点は、組成が電子放射率と消耗に決定的で ある電極表面に選択されたマテリアルがレーザーのタイプによるガス雰囲気にお ける電子放射率と消耗に関し最適であり、伝導性と成形性に関する選ばれたマテ リアルの欠点が除かれるという点にある。前記のマテリアルは、成形が困難であ るから、前記マテリアルは、薄い層として付午されて容易に成形できる担体とさ れ、これが、電極に望ましい形状として与えられていない限り、電極の形状とサ イズの条件から見て、経済的に実用化されない、担体および／または、それに施 される中間層のマテリアルの選択は、担体および／または中間層の低い電気と熱 の伝導性の点で、表面層の平均厚みが所定の上限を越えないことを条件として、 利点をもたらす。

この発明により作られた陰極は、従来の技術により作られた電極と明白に区別さ れる：この発明による陰極には、より頻繁にホットスポットが発生するが、これ らは、低い強度をもたず、極めて均質な分布で、レーザーの寿命と保守点検のイ ンターバルは、長くなる。

さらに、アーク放電を行なう傾向が減少することは、よりワイドなレーザーパル スが使用できるという利点を与える。

担体に特に好適なマテリアルは、銅、アルミニウム、真鍮、すずブロンズおよび スチール、特に特殊鋼を含む、担体は、前記マテリアルを深絞りにより作られる 。電極表面が成形困難なマテリアルからなるとじても、これが、所望の形状をも つ電極を達成できる最も簡単な方法である。この後、担体へは薄い被覆を施すだ けで充分で、担体は、最早成形する必要がない。これは、銅−タングステンのよ うなくドイツ出願３８１７１４５）マテリアルからなる電極への多大の利点であ って、何故ならば、要求された寸法をもつ電極を製造することが容易でないから である。

表面層は、少なくとも３μ−の厚みでなければならず、アーク放電の影響でバン クしないようになる。

好ましくは、その厚みは、５μ−から１０μ−の間であり、グロー放電の均一な 分布と表面層からの熱発散の達成を前記層の比較的高い電気と熱の伝導性に頼ら なくても該表面層の下のマテリアルのより高い伝導性により促進することができ る。

原則として、特に、担体が深絞りでき、高い電気と熱の伝導性をもつ銅または他 のマテリアルからなる場合、表面層を担体の上に直接存在させる。しかしながら 、担体と表面層の間に、表面層と、好ましくは、担体よりも高い電気と熱の伝導 性をもつメタルからなる中間層を介在させることが好ましい。これが、担体のマ テリアルの選択の幅を広げ、中間層の選択を高い電気と熱の伝導性に的を絞って 選択することができ、その結果、中間層は、銅からなることが好ましい、また別 に、中間層は、アルミニウムまたは銀または銀−銅からなることもよい、中間層 の厚みは、少なくとも５μ−であるべきで、これにより、電流と熱とを電極表面 にわたり均一・に分布させることができる。技術的な理由（担体に軽く接合する という該層の固有のストレスの発生）で、該層の厚みは、２０／１ｍを越えては ならず、１０μ−の厚みが最も満足するものである。

中間層から表面層への遷移を急激よりも徐々に行なうことに注意を払うことが好 ましい、中間層から表面層への、このような徐々に行なわれる遷移は、例えば、 両層のマテリアルがＰＶＤプロセスで蒸着される場合、両層のマテリアルで作ら れたターゲットがデポジションチャンバ内に設けられ、該デポジションチャンバ のバキュウムを維持しながら、中間層と表面層のマテリアルを徐々にレートを増 やしながら蒸着し、最後に表面層のマテリアルのみを蒸着させることで達成され る。このような連続遷移は、表面層のボンド強度を改善し、レーザーの操作の間 、スパッタリングされるマテリアルが減少するという利点を与える。このような 連続遷移は、中間層から表面層への連続遷移を行なうため、中間層と担体に同じ マテリアルが選ばれた場合、特に、高い電気と熱の伝導性をもつマテリアルが担 体に選ばれた場合（例えば、銅が銅担体の上の中間層に使用され、例えば、タン グステンの表面層が、これに続く場合）に有利である。

この発明による電極の製造に好適な方法は、請求の範囲１３の主題である。それ によれば、まず最初に、電極に意図されている最終形状に担体を形成する。

該担体は、マツシブなものであるが、深絞りで成形される輪郭の部材であること が好ましい。表面層のマテリアルがこの発明によって、ガス相から物理蒸着によ り蒸着される。物理蒸着は、表面層が担体の面と同じ形状をもつ点で利点があり ：該担体の表面プロファイルは、物理真空蒸着によって均されない。

前記担体の表面プロファイルが物理蒸着によって均されないから、電極に微少な 粗面の担体を使用することが可能となり、該表面は、被覆されるにも拘らず、電 界電子の放出を促進する。この理由で、表面層を後処理して微少な粗面仕上げを する必要がなく；電極表面は、後処理で除去するような汚染を受けない利点があ る。他方、高純度の電極表面は、ガスレーザーの操作に極めて重要である。

表面層は、請求の範囲に述べた金属の一つが均一に蒸着される。また、前記金属 で作られた合金が蒸着され、最適な表面特性が得られる。

一つの中間層または複数の中間層が、所望のプロセス、例えば、電着または機械 的クラツディングにより担体に設けられ、基礎的に施される。しかし、どの中間 層も物理蒸着により形成されることが好ましく、所望しない物質が該層へ入るの を防ぎ、ピュアーな状態を維持し、担体の表面が均されないという利点がある。

担体へ施される層の合計厚みは、５９μ−を越えてはならない。

マグネトロンスパッタリングが蒸着プロセスに特に望ましい。この場合、磁界が グロー放電の電界にスーパーインポーズされる。その結果によるスパッタリング の増加は、比較的厚い均一な層をより経済的に形成させる。

この発明による電極がガス放電チャンバに使用される前には、該電極には、その 特性を安定させるためにコンディショニングを行なうことが好ましい。このコン ディショニングは、電極が使用されるようになっている雰囲気と同じ成分をもつ ものか、または、少なくとも電極の安定に必須の前記成分のそれら、即ち、少な くともエキシマレーザ−には、ハロゲン、ＣＯ２レーザーには、−酸化炭素およ び／または酸素、ＣＯレーザーには、−酸化炭素および／または酸素、窒素レー ザーには、窒素および／または酸素を含むガス雰囲気中で行なわれる；請求の範 囲１８から２２を見ると、意図した目的に特に好適な表面層への金属が記載され ている。コンディショニングが行なわれる前記ガスは、レーザーのガス放電チャ ンバにおけると同じ濃度で存在しなくてもよく、ガス雰囲気の成分と、その濃度 は、最も早く電極を安定させることができる最も好ましいものから選択すること ができる。原則として、安定化に必要な組成物の選択された濃度は、レーザーの ガス放電チャンバにおけるよりも高い、コンディショニングのためのガス圧力は 、電極の意図された使用におけるガス圧力と全く異なるものでもよい、これは、 コンディショニングがコーティングチャンバで既になされているからで、レーザ ーチャンバよりも早い。さらなる利点は、レーザーチャンバで遂行されるかもし れないバーンイン・プロセスを除去できる；レーザーのタイプにもよるが、この プロセスは、１００．０００パルスが要求される。

コンディショニングを行なうプロセスにおいて、表面層に不動態化層が形成され る。この不動態化層は、コンディショニングが行なわれたガスの成分を含み、前 記成分は、表面層に使用の金属の原子と化学的に結合する６例えば、二酸化炭素 、−酸化炭素または酸素の雰囲気をもつレーザーにおけるタングステン層のコン ディショニングは、深い部分から、ＷＯで開始され、上向きにＷＯとＷ０３コン テンツが増加する各種のタングステン酸化物を含む不動態化層を形成する。同様 に、窒化物は、窒素含有雰囲気中で生成する。不動態化層は、レーザーのパフォ ーマンスに重要である。不動態化された面は、純粋な金属面よりもワークファン クションが低い。

不動態化層の厚さは、ガスにおける処理の期限によるもので、好ましくは、約１ ０ｎ園（ナノメーター＝）であるべきである。

図面の簡単な説明： 第１図は、質量のある電極を示す横断断面図、そして、 第２図は、シート状メタル要素を深絞りで形成したキャリアーからなる他の電極 を示す横断断面図である。

両者の場合において、電極は、長い、第１図に示された実施例において、担体１ は、深く引き延ばすことができる金属から作られ、コーティングが不要である背 面側が平坦な面であるマスのある部分、例えば、中間層２と、その上に表面層３ を有するシリンドリカルな表面であるマス部分からなり、該表面からガス放出に 要求される電子が放射される。

第２図に示された電極は、基本的には、同じラミネート構造を有するが、マス状 の担体の代りに、比較的薄い担体を有し、シート状金属要素から成形され、この ような理由で、平坦な背面よりも凹面をなしている。

区反立皇１１ 例　　１　： 該電極は、第１図に示すような形状を６つ銅損体を備え、厚さが３μ−で、スパ ッタリングで該担体に付着されたタングステン表面層が設けられている。中間層 は、存在しない６該電極は、−酸化炭素を含む高いヘリウム雰囲気で、ガス圧力 および電流がＣＯ２レーザーにおいて維持される条件下よりも低く維持されなが ら、電気放電に付されるように調整されである。

例　　２　： 深く引き延ばされた銅シートからなる担体を備え、第２図に示されている。該担 体は、コーティングされ、例１で述べたように調整されている。

例　　３　： 特殊鋼で作られた担体を備え、第１図または第２図に示された形状をもつ、物理 蒸着により、厚さ５μ−の銅の中間層と、厚さ　３μ−のタングステン表面層が 、該担体へ物理蒸着により付着される。該電極は、例１に述べたように調整され るが、該雰囲気は、付加成分として、ある程度の酸素を含む。

例１，２．３の電極は、Ｃｏ２レーザーに使用できる。

例　　４　： 第１．２図に示すような形状のアルミニウム担体には、エキサイマーＡｒＦレー ザーの陽極を形成するために、厚さ　３μ−のクロム層が設けられる。コーティ ングは、ＰＶＤプロセスで行なわれ、中間層は、ない。

例　　５　： 電極は、アルミニウムまたは特殊鋼からなる担体を備えている。該担体は、第１ 図または第２図に示された形状を有する。約８μ園の厚さをもつ銅の中間層がマ グネトロンスパッタリングにより該担体に施される。

デポジションチャンバ内の真空度を変えずに、ついで約１０μｍの厚さをもつタ ングステン層が該中間層へ施され、タングステン表面層の付着性とスパッタリン グのレートを改善するために、鋼中間層からタグステン表面屑への連続した遷移 が行なわれるように注意が払われる。

該電極は、好ましくはＣ０２と０２、特に、３（ＨのＣＯと　１〜２％の０２． さらにまた窒素および／またはヘリウムを、レーザー操作におけるよりも低いガ ス圧力（例えば、０８５〜０．８バール）で含むガス混合体において調整されて いる。二つの電極の問または電極と補助コンダクタとの間におけるグロー放電ま たはパルス化電気放電が好ましくは、被覆層が形成された直後にコーティングチ ャンバ内で行なわれる。このようなグロー放電またはパルス化放電は、レーザー のガス放電チャンバにおける電圧よりも低い、ガス圧力に基づく電圧で行なわれ る。

タングステン層が約１０００オングストロームの深度に酸化されるまでコンディ ショニングが行なわれる。

そのような厚さをもつ不動態化層は、ＣＯまたはＣＯ２レーザーにおいての、特 に、高い圧力（１バールまたは以上）下で使用される安定した放電を保証する。

該層のそのような厚さは、コンディショニングが０．８〜１バールのガス圧力、 約５００ｇ１のガス量、放電表面領域（有効な電極表面領域）の約０．３Ｊ／ｃ ｍ”の電気エネルギー密度で行なわれるとすれば、約ｓｏ、　ｏｏｏショットの 後で達成できる。

より長い操作時間が用いられなければ、同じ結果が、より低い圧力で、対応する 、より低い電圧により達成できる。オリエンテーションは、電極表面を介してカ ップルされる電気エネルギーの１・−タル（約１０μ躍の厚さをもつ層に対し約 １５ｋＪ／Ｃ１１２）により与えられる。

より薄い厚さをもつ不動態化酸化物層は、ガス混合体を変化させる、即ち、レー ザー特性を変化させる結果となる。より厚い厚さをもつ不動態化酸化物層は、低 下した放電とレーザーにおける不安定な状態を結果させる。

エキシマレーザ−には、相当する技術により、酸化物層よりもハロゲン層が形成 される。

例　　６　： １０％ＣＯ２と２〜４％０２、平衡した窒素および／またはヘリウムを含むガス 混合体内でコンディショニングするようにして例５をモディファイした。

国際調査報告 □　ａ−□　１Ｐ　ＣＴ　／　Ｅ　Ｐ　９０　／　ＯＯ５１６国際調査報告 ＥＰ　９０００５１６ Ｓ＾　　　３５７５８

Claims (23)

【特許請求の範囲】
1. １．電極がメタリック担体と該担体マテリアルと異なるマテリアルからなる表面 層とを備え、下記の特性の組合わせを特徴とするパルス化されたガスレーザーの ための電極： 担体（１）が深く延伸できるマテリアルからなること； 表面層（３）が３ｕｍと２０ｕｍの間の平均厚みを有すること；そして、 表面層（３）は、タングステン、ニオビウム、タンタルおよびクロムのような融 解されにくい金属の一つ、または、二つからなり、表面層（３）の下側に接合さ れるマテリアルよりも、低いワークファンクションと低い熱と電気伝導性をもつ こと。
2. ２．表面層（３）が５ｕｍから１０ｕｍの間の厚みをもっことを特徴とする請求 の範囲１による電極。
3. ３．担体（１）が銅かちなり、表面層（３）が担体（１）の直上にあることを特 徴とする請求の範囲１または２による電極。
4. ４．表面層（３）よりも高い電気と熱の伝導性もつ金属からなる中間層（２）が 担体（１）と表面層（３）の間に介在することを特徴とする請求の範囲１または ２による電極。
5. ５．中間層（２）が担体（１）よりも高い電気伝導性と熱伝導性をもつことを特 徴とする請求の範囲４による電極。
6. ６．中間層（２）が少なくとも５ｕｍの厚みをもつことを特徴とする請求の範囲 ４または５による電極。
7. ７．中間層（２）が２０ｕｍを越えない厚み、好ましくは、１０ｕｍを越えない 厚みをもつことを特徴とする請求の範囲６による電極。
8. ８．中間層（２）の成分から表面層（３）の成分への遷移が徐々に行なわれるこ とを特徴とする請求の範囲４または５による電極。
9. ９．中間層（２）が銅またはアルミニウムからなることを特徴とする請求の範囲 ４から８のいずれかによる電極。
10. １０．担体（１）が銅、アルミニウム、真輪、すずブロンズまたはスチール、特 に、特殊鋼からなることを特徴とする先行請求の範囲のいずれかによる電極。
11. １１．担体（１）が深く延伸された輪郭の部材であることを特徴とする請求の範 囲１０による電極。
12. １２．耐火性金属が均質な混合物または合金として表面層（３）に存在すること を特徴とする先行請求の範囲のいずれかによる電極。
13. １３．下記を特徴とする先行請求の範囲のいずれかによる電極の製造方法： 担体（１）を電極に意図した最終形状に深い延伸で形成し、 表面層（３）の金属を物理蒸着（ＰＶＤ）により付着させること。
14. １４．中間層（２）の金属が、また、ＰＶＤによりデポジットされることを特徴 とする請求の範囲４による電極を製造するための請求の範囲１３による方法。
15. １５．表面層（３）そして任意にまた中間層（２）がマグネトロンスパッタリン グにより施されることを特徴とする請求の範囲１３または１４による方法。
16. １６．ＰＶＤコーティングチャンバ内にある間、電極がガス雰囲気内で、電気放 電、即ち、低圧プラズマで処理され、電極を用いようとするレーザー内での雰囲 気と同じ成分または電極の安定に必須な前記成分の少なくともそれらを含む不動 態化層を形成させることを特徴とする請求の範囲１４または１５による方法。
17. １７．平均厚さ１００ナノメーターである不動態化層が形成されるまで、不動態 化処理が遂行されることを特徴とする請求の範囲１６による方法。
18. １８．ＣＯ２レーザーへの使用のために、表面層（３）がタグスチン、ニオビウ ム、タンタリウムまたはレニウムまたは、それらの合金の一つからなり、不動態 化がＣＯ２および／またはＯ２雰囲気下で行なわれることを特徴とする請求の範 囲１６または１７による方法。
19. １９．ＣＯ２レーザーへの使用のために、表面層（３）がタグステン、ニオビウ ム、タンタリウムまたはレニウムまたは、それちの合金の一つからなり、不動態 化がＣＯ２および／またはＯ２雰囲気下で行なわれることを特徴とする請求の範 囲１６または１７による方法。
20. ２０．Ｎ２レーザーへの使用のために、表面層（３）がタグスチン、クロム、タ ンタリウムまたはレニウムまたは、それらの合金の一つからなり、不動態化がＣ Ｏ２および／またはＯ２雰囲気下で行なわれることを特徴とする請求の範囲１６ または１７による方法。
21. ２１．エキシマ塩化物レーザーへの使用のために、表面層（３）がタグスチン、 クロム、タンタリウムまたはレニウムまたは、それらの合金の一つからなり、不 動態化がＨＣｌまたはＣｌ２雰囲気下で行なわれることを特徴とする請求の範囲 １６または１７による方法。
22. ２２．エキシマ弗化物レーザーへの使用のために、表面層（３）がニオビウム、 クロム、タンタリウムまたはレニウムまたは、それらの合金の一つからなり、不 動態化がＨＦまたはＦ２雰囲気下で行なわれることを特徴とする請求の範囲１６ または１７による方法。
23. ２３．表面層（３）に請求の範囲１６から２２のいずれかによる方法で不動態化 層をもつ表面層（３）が形成されているパルス化されたガスレーザーのための電 極。