JPH0350511Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は、写真感光材料の処理装置の分野、特
に一方において多量の帯状写真感光材料の処理を
行ない、他方において限られた量のデイスクフイ
ルムの処理を行なうようにしたデイスクフイルム
処理装置の改良に関するものである。

（従来の技術） 近年、カメラ用の写真感光材料として、これま
で一般的に使用されて来た、例えば35ミリフイル
ム等の帯状のフイルムとは別に、所謂デイスクフ
イルムと称する円盤状の写真感光材料が開発され
市販されて来ている。

これに伴い、この型のフイルムに対する現像等
の処理装置或いは処理機なるものが提案されるに
至つているが、これらの処理装置に用いられる処
理方式乃至処理システムは、あくまで多量処理を
対象とする帯状フイルム等にとつて都合の良いよ
うに、且つそれの能率アツプが図れるように考え
られた方式であるため、未だ需要量の少ないデイ
スクフイルムを対象とした処理装置として見た場
合には、不経済な面も多く、且つ実用性に乏しい
という傾向にあつた。

そのため、本出願人はこの需要量の少ないデイ
スクフイルムの処理をも同時に能率よく行ない得
る写真感光材料処理装置を、実願昭61−16828号
（実開昭62−129546号）、実願昭61−16829号（実
開昭62−129547号）等として出願した。

（考案が解決しようとする問題点） これらの装置は、帯状フイルム等の多量の処理
が可能であると共に、より少量のデイスクフイル
ムの処理をも能率的、経済的に行なうことが出来
るという優秀なものではあるが、これでもなお、
デイスクフイルム処理用の装置としては未だ不充
分な面を有している。

それは、この処理装置においては、各種の処理
液を順次に処理タンク内に供給し得るような複数
の処理液注入口が設置されるが、これら注入口群
がタンク壁面に直接設けられているために、現像
作業に際して、処理液を順次にタンク内に供給し
ている最中に振動等が加わつた場合には、処理目
的の液以外の処理液がタンク内にこぼれて「一種
の懸濁現象（Contami−nation）」を引き起す虞
れがあるというものである。

この現象は、写真材料処理に際して処理作業中
の或る処理液に他の処理液、特に次段階用の処理
液が混入することにより生じる「汚染または汚
濁」の現象であつて、良好な写真処の精度を著し
く損なう原因の一つとなるものである。そのた
め、この問題の解決が要望されている。

本考案は、この事情に鑑みてなされたもので、
前述のコンタミ現象を防止し得る新規なデイスク
フイルム処理装置を提供することを目的とする。

（問題点を解決するための手段） この目的を達成するための本考案の構成は、デ
イスクフイルム処理用タンクの内周壁面に各種処
理液用の注入口群を形成すると共に、これら注入
口群に各種処理液貯蔵槽からの注入管を連接し、
これら各種処理液用注入口群の位置する内周壁面
の前方タンク内に、各種処理液の注入時における
注入流動慣性により各液が飛越し得る程度の高さ
及び幅をもつ部分的排液区画を設置したことであ
る。

（作用） そして、この構成に基づく本考案の作用は、各
注入口群における、通常の処理液注入の際の処理
液の流入速度と各注入口群に残留する少量処理液
のこぼれ落ち速度との差を利用して、残留処理液
のタンク本体内への混入を防止することにある。

（実施例） 以下、図示の一実施例に基づいて本考案を詳述
するが、説明文中、デイスクフイルムは「DF」
と略称する。

第１図及び第２図は本考案に係わるデイスクフ
イルム処理装置を併設したこれまでの写真感光材
料自動現像処理装置の説明用の概略構成図であ
る。図中、２０はそれ自体公知である帯状フイル
ムの現像処理装置部（図示せず）を内蔵した自動
現像処理装置の暗箱で、その内部には、現像液槽
２１、漂白液槽２２、第１水洗液槽２３、定着液
槽２４、第２水洗液槽２５、安定化液槽２６等が
一列に配設されている。２７は該自動現像処理装
置用暗箱２０の外郭体を代表的に示すものであ
る。Ｙなる符号を付した部分はデイスクフイルム
の現像処理装置部で、３０は該部Ｙの基本部分を
構成するDF用暗箱である。

この暗箱３０は、図示のように、前記外郭体２
７に固着された取付けパネル３１を始めとして、
底面パネル３２、該底面パネル３２よりも短い頂
面パネル３３、前記取付けパネル３１の高さより
も低い前面パネル３４、前記頂面パネル３３と前
面パネル３４とに連接し、且つ開閉可能な両手挿
入開口部３５を備えた傾斜パネル３６及び台形の
両側面パネル３７，３８の７枚のパネルを光密的
に組合わせて構成される。３９は、第１図上で、
Ｌ字断面をもつ仕切板で、その水平位置には、後
述するDF処理タンク６０を取付けるための装置
孔４１が形成される。４０は前記両手挿入開口部
３５を遮光的に覆うように設けられた遮光袖であ
る。

５０は該DF用暗箱３０の上方に設置された恒
温水槽で、攪拌用管路５１とそれに連結する循環
用ポンプ５２とを有し、図示なきサーモスタツト
やヒータ及び制御回路等と協同して恒温水槽を構
成している。そして、この恒温水槽５０には、そ
の内部に溢流処理液貯溜用の小タンク５３，５
４，５５，５６が設けられ（各水洗液槽からの溢
流水洗液用小タンクも設けるも図示省略），且つ
これら小タンクの底部にそれぞれ接続する導液管
５３′，５４′，５５′，５６′を介してDF処理タ
ンク６０に連通している（各溢流水洗液用の小タ
ンクからの導液管も前記同様図示省略）。５７ａ，
５７ｂ，５７ｃ及び５７ｄは該溢流管群のそれぞ
れに介装された電磁弁である。

尚、前記小タンク５３，５４，５５，５６は、
前記現像液槽２１、漂白液槽２２、定着液槽２４
及び安定化液槽２６からの溢流処理液を、それぞ
れの第１段溢流管２１′，２２′，２４′，２６′を
介して各別に貯溜するためのものであり（各水洗
液槽からの第１段溢流管は図示省略），また、５
８は前記暗箱３０の下部に取出し可能に装備した
排液タンクであつて、前記小タンク５３，５４，
５５，５６からの溢流液は、それぞれの第２段溢
流管５３″，５４″，５５″及び５６″を介して該タ
ンク５８に排出される（各溢流水洗液用の小タン
クからの第２段溢流管は図示省略）。

而して、全体を６０なる記号で示す前出のDF
処理タンクは、上部が前述のＬ字断面仕切板３９
上の装着孔４１に装着されたタンク本体６００
と、該タンク本体６００の底部に接続され、且つ
タンク本体からの処理作業後の処理液を前記排液
タンク５８に導くための排出管６１と、該管に取
付けられた電磁弁６２と、前記タンク本体６００
の上部開口部に着脱自在に結合するタンクキヤツ
プ６３と、該キヤツプ６３の中央を貫通して回動
可能に設けられ、且つその下端部に１個または数
個のデイスクフイルムを取外し可能に保持する
DF支持用スピンドル６４と、適宜の支持台によ
つてタンクキヤツプ６３上に設けられたスピンド
ル駆動用のモータ６５とから構成される。

さて、前記タンク本体６００は、その上部が前
述のＬ字断面仕切板３９上の装着孔４１に装着さ
れると共に、その周壁の一部には、予定される注
入処理液の液面よりもやや高い個所に各種処理液
用の注入口群６０１〜６０４が形成される（各溢
流水洗液貯留用の小タンクからの流入口は図示省
略）。

これらの注入口群には前述の導液管５３′，５
４′，５５′，５６′が連通していて、前記各種処
理液の小タンク５３，５４，５５，５６からの処
理液を順次にタンク本体６００内に導き得るよう
に構成され、これらの各導液管に設けられた電磁
弁５７ａ〜ｄと前記排出管６１に設けられた電磁
弁６２との制御下にその注入順序・注入タイミン
グ・注入量を設定される。

即ち、適宜のタイマー付き制御回路装置（図示
せず）を用いて電磁弁５７ａ〜ｄと電磁弁６２と
を制御することにより、最初の処理に必要な処理
液を、例えば導液管５３′を使つてタンク本体６
００内に所定量導入せしめ、この液による処理が
終了すると作業後の液を排出管６１から排液タン
ク５８へと排出し、次に、後続処理過程に必要な
処理液を、例えば導液管５４′を使つてタンク本
体６００内に所定量導入せしめて次段階の処理を
行ない、更に後続の処理過程に移行する、という
ように順次に必要処理液の注入・排出操作を行な
う。

更に、タンク本体６００内部の注入口群６０１
〜６０４の前方位置には、第３図に示すように、
タンク内周壁に沿うような形の部分的排液区画６
０５が形成される。この排液区画の高さ及び幅
は、処理液の注入時に生じる各液の注入流動速度
に起因する流動慣性により各液が該排液区画６０
５を飛越し得るような値に予め設定される。そし
て、この排液区画６０５の下部６０６はタンク本
体外に突出する構造となつていて、不要処理液が
該区画６０５内に入つた際に、その不要液をタン
ク外に排出するように構成される。

以下、本考案の構成による写真感光材料処理装
置の作用について説明する。

先ず、帯状フイルムの処理装置部（図示せず）
における処理作業の概略を述べると、帯状フイル
ムは、それ自体公知の処理手順に従い、現像液槽
２１、漂白液槽２２、第１水洗液槽２３、定着液
槽２４、第２水洗液槽２５、安定化液槽２６によ
つて順次自動的に連続して所謂現像処理せしめら
れる。この際、各処理液槽２１〜２６にはそれぞ
れの処理液が補充されるため、それぞれの溢流処
理液が第１段溢流管２１′，２２′，２４′，２
６′を介して溢流処理液貯溜用の小タンク５３，
５４，５５，５６内に導入貯溜されると共に、恒
温水槽５０によつて所定の温度に保温される。
尚、小タンク群から溢流される各液については、
第２段溢流管５３″，５４″，５５″，５６″を介し
て排液タンク５８に排出されることになる。

次に、DF処理装置部における作業であるが、
先ずDF用暗箱３０内において、DF支持用スピン
ドル６４の下端部に複数のデイスクフイルムDF
を取付けた後、タンクキヤツプ６３をタンク本体
６００に装着した状態で、前記タイマー付き制御
回路装置（図示せず）により排出管６１の電磁弁
６２を閉じると共に、導液管５３′の電磁弁５７
ａを開閉せしめて、この現像処理に必要な適量の
前記溢流処理液を小タンク群の一つ５３から第１
の注入口６０１を経てタンク本体６００内に導入
する。そして、この状態でモータ６５を所定時間
駆動してスピンドル６４に往復回動または一方向
回動を与えて、第１段の過程である現像処理を行
なう。

この処理過程を終了の後、電磁弁６２を開いて
処理作業後の現像液を排液タンク５８に排出する
と共に、後段処理のために再び電磁弁６２を閉
じ、次いで、導液管５４′の電磁弁５７ｂを開閉
して漂白処理に必要な処理液の適量を小タンク群
の５４から第２の注入口６０２を介してタンク本
体６００内に導入せしめて、第２段の過程である
漂白処理を行なう。そして、このような手順を繰
返して順次に後続過程である水洗処理を適宜間に
交えて定着処理と安定化処理とを行なつて行く。
この場合、各処理液の適量注入操作の完了時点に
おいて各電磁弁５７ａ〜ｄが閉じられた時でも、
各注入口６０１〜６０４には若干の処理液が残留
するから、何等かの原因で振動等が加えられる
と、この残留処理液がタンク本体６００内に溢れ
ることになる。

従来の装置では、これに対する処置が執られて
いなかつたために、この溢れ現象が生じると、或
る残留処理液が処理作業中の他の処理液中に混入
して処理精度に悪影響を及ぼしていたが、本考案
の場合には、次のような構成のもたらす効果によ
り、この弊害を防止してある。

即ち、通常の処理液注入の際には、前記小タン
ク群５３〜５６と注入口群６０１〜６０４との間
に存在する落差のため、注入口群から流出する処
理液の流速は、その位置のエネルギに見合つた相
当に大きなものとなる。従つて、この時の流入処
理液は、前述の部分的排液区画６０５の上方を飛
越えてタンク本体６００内に注入されることにな
るが、前述したような各注入口群に残留する少量
の処理液は、それ自身流速を持たないために、振
動等の度毎にそのまま排液区画６０５内にこぼれ
落ちて、タンク本体の外に排出される。そのた
め、これら残留処理液がタンク本体内において作
業中の処理液へ混入するという現象が生じなくな
る。

そして、本考案を図示実施例の構成のような形
で実施した場合には、本考案の本来の効果の外
に、大量処理の帯状フイルム用処理液槽からの各
種溢流処理液を利用して少量のデイスクフイルム
の処理を行ない得るという効果を期待することが
出来る。

以上、一実施例について述べたが、本考案はこ
れに限定されるものではなく、その要旨を逸脱し
ない範囲内で種々に変形実施することができる。
例えば、通常の処理液注入の際に必要な流入処理
液の流速を得る手段は、位置のエネルギーに限る
ことなく、例えば軸流ポンプ等の強制的流速発生
手段を利用するものであつてもよく、また、前述
の部分的排液区画は全ての注入口群に対して設置
する必要はなく、例えば第４図のように、これを
省略してもよい。更に、図示実施例では帯状フイ
ルムの処理装置と結合した形の装置として説明し
てあるが、デイスクフイルム専用の装置として構
成することも可能である。

（考案の効果） 以上述べた通り本考案を用いる時は、デイスク
フイルムの処理に際して、タンク内において処理
作業中の処理液に他の処理液が混入することによ
つて惹き起される不測の弊害を防止することの可
能なデイスクフイルム処理装置を提供することが
出来る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案を適用した写真感光材料自動現
像処理装置における要部の一例を示す概略縦断面
図、第２図はそのＡ−Ｄ視の平断面図、第３図は
第１及び第２図に略載した本考案に係わるデイス
クフイルム現像用タンクの構造図で、同図ａは断
面図をｂはそのＢ−Ｂ視の斜視図をそれぞれ示
し、第４図は本考案の他の実施例を示す部分斜視
図である。 DF−デイスクフイルム、Ｙ−DF処理装置部、
２０−自動現像処理装置用暗箱、３０−DF用暗
箱、２１〜２６−各種処理液槽群、２１′〜２
６′−第１段溢流管群、５３〜５６−小タンク群、
５３′〜５６′−導液管群、５７ａ〜ｄ−電磁弁、
５８−排液タンク、６０−DF処理タンク、６０
０−タンク本体、６０１〜６０４−注入口群、６
０５−部分的廃液区画、６１−排出管、６２−電
磁弁、６３−タンクキヤツプ、６４−DF支持用
スピンドル、６５−モータ。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) デイスクフイルム処理用タンクの内周壁面に
   各種処理液用の注入口群を形成すると共に、こ
   れら注入口群に各種処理液貯蔵槽からの注入管
   を連接し、これら各種処理液用注入口群の位置
   する内周壁面の前方タンク内に、各種処理液の
   注入時における注入流動慣性により各液が飛越
   し得る程度の高さ及び幅をもつ部分的排液区画
   を設置したことを特徴とするデイスクフイルム
   処理装置。 (2) 前記部分的排液区画が、全ての処理液用注入
   口群の前方に存在するものである実用新案登録
   請求の範囲第１項に記載のデイスクフイルム処
   理装置。 (3) 前記部分的排液区画が、大部分の処理液用注
   入口群の前方に存在するものである実用新案登
   録請求の範囲第１項に記載のデイスクフイルム
   処理装置。 (4) 前記処理液用注入口群から処理タンク内に流
   出する各種処理液の流速が、注入口群と前記各
   種処理液貯蔵槽との間の落差により与えられる
   ものである実用新案登録請求の範囲第１項乃至
   第３項のいずれか１項に記載のデイスクフイル
   ム処理装置。 (5) 前記各種処理液貯蔵槽が帯状フイルム処理用
   の処理液槽からの溢流処理液により満たされる
   ものである実用新案登録請求の範囲第１項乃至
   第４項のいずれか１項に記載のデイスクフイル
   ム処理装置。