JPH0350489Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0350489Y2 JPH0350489Y2 JP1981122381U JP12238181U JPH0350489Y2 JP H0350489 Y2 JPH0350489 Y2 JP H0350489Y2 JP 1981122381 U JP1981122381 U JP 1981122381U JP 12238181 U JP12238181 U JP 12238181U JP H0350489 Y2 JPH0350489 Y2 JP H0350489Y2
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- optical fiber
- core layer
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- Prior art date
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- Expired
Links
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Landscapes
- Light Guides In General And Applications Therefor (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
この考案は光フアイバーによるレーザ光伝送装
置に係り、特にレーザ光による光フアイバーの出
射端部の損傷を防止する装置に関する。
置に係り、特にレーザ光による光フアイバーの出
射端部の損傷を防止する装置に関する。
第１図は従来の光フアイバーを使つたレーザ加
工を示すもので、コア層１、クラツド層２および
被覆層３の三層構造になる光フアイバー４の出射
端面におけるコア層１から出射したレーザ光５
は、集光レンズ６を透過し被加工物７の加工部８
に集束されるようになつている。上記の加工にお
ける問題は加工部８からの反射光９，９′による
光フアイバー４の損傷である。すなわち、加工部
８はレーザ照射が進むにつれて穴が堀られる状態
に加工される。この加工された穴の内面は凹凸と
なつていて、レーザ光５はこのような凹凸部分で
散乱し、その散乱した光の一部の反射光９，９′
が集光レンズ６を透過して光フアイバー４に戻
る。この反射光９，９′は焦点部以外からの反射
光であるため、コア面以外の部分に戻ることにな
る。このことは加工される穴が深くなるにつれて
焦点部からのずれが大きくなるので、コア面から
ますます外れた部分に戻る。このためコア層１に
比べ耐熱性の点で劣るクラツド層２および被覆層
３が損傷し光フアイバー４を使用不能にしてしま
う。上記の場合、クラツド層２の耐熱性がコア層
１と同等であつても、クラツド層２に戻つた反射
光はこのクラツド層２の内面を通過し被覆層３を
損傷してしまう。また、第２図に示すように出射
端部の被覆層３を剥き、SUS製のコネクタ１０
を装着した構造にしても、反射光９，９′を受け
て過熱し、隣接する被覆層３を損傷していた。
工を示すもので、コア層１、クラツド層２および
被覆層３の三層構造になる光フアイバー４の出射
端面におけるコア層１から出射したレーザ光５
は、集光レンズ６を透過し被加工物７の加工部８
に集束されるようになつている。上記の加工にお
ける問題は加工部８からの反射光９，９′による
光フアイバー４の損傷である。すなわち、加工部
８はレーザ照射が進むにつれて穴が堀られる状態
に加工される。この加工された穴の内面は凹凸と
なつていて、レーザ光５はこのような凹凸部分で
散乱し、その散乱した光の一部の反射光９，９′
が集光レンズ６を透過して光フアイバー４に戻
る。この反射光９，９′は焦点部以外からの反射
光であるため、コア面以外の部分に戻ることにな
る。このことは加工される穴が深くなるにつれて
焦点部からのずれが大きくなるので、コア面から
ますます外れた部分に戻る。このためコア層１に
比べ耐熱性の点で劣るクラツド層２および被覆層
３が損傷し光フアイバー４を使用不能にしてしま
う。上記の場合、クラツド層２の耐熱性がコア層
１と同等であつても、クラツド層２に戻つた反射
光はこのクラツド層２の内面を通過し被覆層３を
損傷してしまう。また、第２図に示すように出射
端部の被覆層３を剥き、SUS製のコネクタ１０
を装着した構造にしても、反射光９，９′を受け
て過熱し、隣接する被覆層３を損傷していた。
この考案は上記の問題点を解決するためになさ
れたもので、光フアイバーの出射端側に加工部か
らの反射光を反射する部材を設けることにより、
レーザ光を安定して伝送するようにしたものであ
る。
れたもので、光フアイバーの出射端側に加工部か
らの反射光を反射する部材を設けることにより、
レーザ光を安定して伝送するようにしたものであ
る。
以下、実施例を示す図面を参照してこの考案を
説明する。
説明する。
第３図において、光フアイバー４の出射端面１
１に近接してコア層１の直径とほぼ同径に形成さ
れた通過孔１２を有しかつ出射端面１に対峙する
面が光フアイバー４の被覆層３を含む横断面の面
積以上の面積になる保護部材１３が設定される。
この場合、通過孔１２がコア層１に同軸的に対峙
されかつ出射端面１１に対峙する保護部材１３の
面がこの出射端面１１を遮蔽するようにして設定
されている。また、保護部材１３は銅、タングス
テン等に代表されるレーザ光に対する損傷の閾値
が比較的高い材料からなり、また、出射端面１１
に対面しない反対側の外面１４は凸球面になりか
つ金メツキなどを施された高反射面に処理されて
いる。
１に近接してコア層１の直径とほぼ同径に形成さ
れた通過孔１２を有しかつ出射端面１に対峙する
面が光フアイバー４の被覆層３を含む横断面の面
積以上の面積になる保護部材１３が設定される。
この場合、通過孔１２がコア層１に同軸的に対峙
されかつ出射端面１１に対峙する保護部材１３の
面がこの出射端面１１を遮蔽するようにして設定
されている。また、保護部材１３は銅、タングス
テン等に代表されるレーザ光に対する損傷の閾値
が比較的高い材料からなり、また、出射端面１１
に対面しない反対側の外面１４は凸球面になりか
つ金メツキなどを施された高反射面に処理されて
いる。
上記の構成により、コア層１から出射したレー
ザ光５は通過孔１２を通り集光レンズ６で集光さ
れ加工部８に照射される。第１図で説明したと同
様に加工部から散乱した光の一部である反射光は
集光レンズ６を通過後、光フアイバー４の出射端
面１１に向う。この場合、反射した光の一部がレ
ーザ光５と同じ光路を通り、通過孔１２を経てコ
ア層１に入射するが、通過孔１２はコア層１と同
径でかつ同軸的に対峙しているためコア層１以外
に入射することはない。したがつて、その入射し
た光は元のレーザ光５の一部でありエネルギも小
さいため光伝送するコア層１の端面が損傷するこ
とはない。一方、他の反射光９，９′は保護部材
１３の外面１４で反射されてしまうことと、しか
も、保護部材１３全体が光フアイバー４の出射端
面１１全体を遮蔽していることによりクラツド２
や、被覆材３の損傷は防止される。また、外面１
４は凸球面になつているため、反射光９，９′を
加工部側に戻すことなく、発散する方向へ反射し
てしまう。したがつて反射光９，９′は加工部１
０間とで反復作用を繰り返さないために保護部材
１３の温度上昇も著しく低く押えられ、仮に保護
部材１３を出射端面に密接していても、伝導熱で
端部のクラツド２、被覆材３が損傷してしまうよ
うな事態には至らない。この結果、レーザ光は安
定して伝送される。なお上記実施例において外面
１４を平面もしくは凹球面にした場合でもクラツ
ド層２、被覆層３の損傷を防止することができる
が、凸球面に比べて発散しないで戻つてくる光が
あるため保護部材１３自身の温度上昇が大きいこ
とはいうまでもない。
ザ光５は通過孔１２を通り集光レンズ６で集光さ
れ加工部８に照射される。第１図で説明したと同
様に加工部から散乱した光の一部である反射光は
集光レンズ６を通過後、光フアイバー４の出射端
面１１に向う。この場合、反射した光の一部がレ
ーザ光５と同じ光路を通り、通過孔１２を経てコ
ア層１に入射するが、通過孔１２はコア層１と同
径でかつ同軸的に対峙しているためコア層１以外
に入射することはない。したがつて、その入射し
た光は元のレーザ光５の一部でありエネルギも小
さいため光伝送するコア層１の端面が損傷するこ
とはない。一方、他の反射光９，９′は保護部材
１３の外面１４で反射されてしまうことと、しか
も、保護部材１３全体が光フアイバー４の出射端
面１１全体を遮蔽していることによりクラツド２
や、被覆材３の損傷は防止される。また、外面１
４は凸球面になつているため、反射光９，９′を
加工部側に戻すことなく、発散する方向へ反射し
てしまう。したがつて反射光９，９′は加工部１
０間とで反復作用を繰り返さないために保護部材
１３の温度上昇も著しく低く押えられ、仮に保護
部材１３を出射端面に密接していても、伝導熱で
端部のクラツド２、被覆材３が損傷してしまうよ
うな事態には至らない。この結果、レーザ光は安
定して伝送される。なお上記実施例において外面
１４を平面もしくは凹球面にした場合でもクラツ
ド層２、被覆層３の損傷を防止することができる
が、凸球面に比べて発散しないで戻つてくる光が
あるため保護部材１３自身の温度上昇が大きいこ
とはいうまでもない。
第１図および第２図は従来例を示す要部断面
図、第３図はこの考案の一実施例を示す断面図で
ある。 ４……光フアイバー、１２……通過孔、１３…
…保護部材。
図、第３図はこの考案の一実施例を示す断面図で
ある。 ４……光フアイバー、１２……通過孔、１３…
…保護部材。
Claims (1)
- レーザ発振器と、コア層を中心にしてその周囲
にクラツド層および被覆層を順次配した構造を有
し上記レーザ発振器から放出しレーザ光を伝送す
る光フアイバーと、この光フアイバーの出射端面
の近傍に設けられかつ上記コア層とほぼ同径の通
過孔を有するとともに上記出射端面に対峙しない
面が反射面に形成された保護部材とを備え、この
保護部材の上記出射端面に対峙する面は上記光フ
アイバーの被覆層を含む横断面の面積以上の面積
になり、上記保護部材を上記通過孔が上記コア層
に同軸的に対峙された状態で上記出射端面に対峙
する保護部材の面がこの出射端面全体を遮蔽する
ようにして設けたことを特徴とするレーザ光伝送
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1981122381U JPS5829859U (ja) | 1981-08-20 | 1981-08-20 | レ−ザ光伝播装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1981122381U JPS5829859U (ja) | 1981-08-20 | 1981-08-20 | レ−ザ光伝播装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5829859U JPS5829859U (ja) | 1983-02-26 |
| JPH0350489Y2 true JPH0350489Y2 (ja) | 1991-10-29 |
Family
ID=29916305
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1981122381U Granted JPS5829859U (ja) | 1981-08-20 | 1981-08-20 | レ−ザ光伝播装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5829859U (ja) |
-
1981
- 1981-08-20 JP JP1981122381U patent/JPS5829859U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5829859U (ja) | 1983-02-26 |
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