JPH03503571A - 試験体の多点を同時に無接触試験する装置およびその使用 - Google Patents

試験体の多点を同時に無接触試験する装置およびその使用

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 試験体の多点を同時に無接触試験する装置およびその使用本発明は、入射光によ り試験体の表面または内面を、または、後方散乱光または後方反射透過光により 試験体の層または空間部分を同時に無接触試験するための装置に関し、該装置は 、少なくも1つの光源と、複数の試験チャンネルとを含み、各試験チャンネルは 、光電子変換器と、前記光源と前記光電子変換器との間のライトバスに配置され た少なくも1つの光チャンネルとを含み、該光チャンネルにはビームスプリッタ エレメントが配置され、各光チャンネルは光束を規定する光学エレメントとして 構成され、前記ライトバスの少なくも一部において前記光チャンネルは共通のケ ーシング内に並置されかつ該ケーシングを経る凹所として構成され、前記試験体 は前記光源と前記光電子変換器との間のライトバスに配置される。
本発明は、また、多分滑らかにまたは一様に形成された試験体の表面または内面 の不整を試験し、試験体の光を透過する、多分均一にまたは一様に形成された層 の不整または不均一を試験し、試験体の光を透過する、多分静止の表面または内 面の該面に対する位置変化を試験し、試験体の光を透過する、多分静止の空間部 分の運動、特に試験体の不均一の振動または介在物を浮遊または懸濁する粒子と 共に試験し、または、シャフトの同心性を同心誤差、特に振動について試験する ために、本発明の装置を使用することに関する。
これらの使用は、一部において、レーザスキャナ検査装置(LS I S)と同 じである。レーザスキャナ検査装置は、回転多角形ミラーのような機械的に作動 する走査装置および光電子変換器に走査光線を案内する光導体のような集光装置 を必要とする。したかって、このレーザスキャナ検査装置は、高価で、嵩ぼり、 また、静的に作動されないので、摩耗による故障を生じ易い。このレーザスキャ ナ検査装置は、また、相対運動における運動面または回転シャフト面の中断のな い連続的な試験ができない。縦方向における試験体の運動と横方向における試験 体の走査との組合わせまたは試験体の回転とその走査との組合わせは、試験体に ジグザグ状の試験面を与え、試験体の全表面を中断なしに試験すべきとき、また 、シャフトの同心性を試験するとき、レーザスキャナ検査装置を経過する最大速 度を制限する。しがたって、標準通過速度が600m/minでありまた回転シ ャフトの標準回転速度が10m/minである場合の4m幅の織物エウブは、レ ーザスキャナ検査装置で連続的に試験するには、速すぎる。さらに、シャフトの 同心性ばかりでなく、その振動をも試験する場合、レーザスキャナ検査装置での 試験または検査は不可能である。
WO−87/3957は、基本的な光電子試験装置を示し、該試験装置は光源と 、試験チャンネルとを含み、該試験チャンネルは光電子変換器および前記光源と 光電子変換器との間のライトバスに配置された光チャンネルを備える。試験体は 、前記光源と前記光電子変換器との間に配置される。光チャンネルは、ハーフミ ラ−と前記光電子変換器とを支持する壁を有し、該壁は必要な強度をもつために ある厚さを有する。また、ある大きさの空間が前記ハーフミラ−および変換器を ホールダにより光チャンネルに保持するために必要である。
WO−87103957に記載の基本的な試験装置を並置することにより、前記 タイプの装置を組立てることが試みられる。しかし、これは、WO−87103 957に記載の試験装置は運動(相対運動、振動、回転)する試験体を連続的に 試験するために十分に近接させて並置させることできないので、不可能である。
たとえ試験装置が1または2の互い違いの列に配置されたとしても、壁厚および ホールダは、光チャンネルおよびしたがって試験装置の所望の充填度(pack ing density)のために多くのスペースを取り過ぎる。
所望結果は、対応的なコスト高を伴う2列以上の試験装置によってのみ得られる 。
同じタイプの試験装置がFR−24916i5で知られている。
たとえば、DE−3428435,GB−2025041,US−373606 5およびLU−56099で知られている試験装置も同じ原理で作動する。しか し、これらの特許公報のいずれも、前記の充填密度の問題の解決には参考となら ない。5U−666418で知られた試験装置は、ケーシング内に1列のフォト ダイオードを備えるが、1または2列以上の基本的な試験装置がいかにして高充 填密度でケーシング内に収容できるかについて示唆していない。
本発明の課題は、試験体または検査体の連続した中断のない試験または検査が行 える並置試験装置の充填密度を実現することが可能である。i¥ir記タイプの 装置を提供することにある。運動(相対運動、振動、回転)する試験体の場合、 最大2列の試験装置により中断のない試験を行うことが可能でなければならない 。試験体の静止した、平らなまたは多分静止した表面または内面、または、試験 体の光を透過する、多分静止した空間部分の中断のない試験のために、または、 シャフトの同心性の中断のない試験のために、適宜互い違いにされた数列の試験 装置が必要な充填密度で並置されねばならない。この8題は、光チャンネルが対 称な共通の面を有し、ケーシングが対称な面内において互いに分離可能な2つの 部分で構成され、ビームスプリッタエレメントが、単一のサブアセンブリを形成 しかつ前記ケーシング内に取り外し可能に配置されたビームスプリッタの部分と して構成され、光電子変換器が、ビームスプリッタが並置されかつ光チャンネル に対応すると同じケーシングに配置されることにより解決される。
光チャンネルの試験体側の端部は、試験体の表面と平行に構成されかつ配置され た面と一致することが好ましい。光源は、ケーシングから隔てて配置されかつ光 導体を介して光チャンネルに接続された、1つの光チャンネルに対応する光放射 ダイオードまたはレーザダイオードにより構成されることが好ましい。光電子変 換器は、ケーシングから隔てて配置されかつ光導体を介して光チャンネルに接続 された、1つの光チャンネルに対応するフォトダイオードであフて光チャンネル の少なくも一部に少なくも部分的に配置することができるフォトダイオードによ り構成されることが好ましい。
ケーシングの2つの部分は、これから結合したとき、ビームスプリッタの各サブ アセンブリを受は入れる凹所を形成する。光チャンネルは、ケーシング内に取り 外し可能に配置されかつ単一のサブアセンブリを形成する偏光および/またはカ ラーフィルターの部分として構成される偏光および/またはカラーフィルターエ レメントを含み、前記ケーシングの2つの部分は、これらが結合したとき、前記 フィルターの各サブアセンブリを受は入れる凹所を形成する。前記ビームスプリ ッタエレメントは、好ましくは、ストリップミラーエレメントとして構成され、 各光チャンンネル内に第2のストリップミラーエレメントとして配置することが でき、そのストリップは、半透過で、ストリップミラーエレメントとして構成さ れたビームスブリシタエレメントのストリップに実質的に相当する。前記ストリ ップミラーエレメントは、単一のサブアセンブリを構成し、前記ケーシングに取 り外し可能に配置された半透過ストリップミラーの部分として構成される。各光 チャンネルは、第2のビームスプリッタエレメントを収容することが好ましい。
第2のビームスプリッタ−エレメントは、サブアセンブリを形成しかつ前記ケー シング内に取り外し可能に配置された第2のビームスプリッタの部分として構成 される。第1の光電子変換器が第1のビームスプリッタエレメントに面して配置 されているように、第2の光電子変換器が第2のスプリッタエレメントに対向し て配置されている。
1つの共通なケーシング内に並置して光チャンネルを配置する結果として、並置 した試験装置の充填密度を、最大2列の光チャンネルで運動(相対運動、振動、 回転)する試験体の中断のない試験または検査が得られる程度に増大することが できる。光チヤンネル内で行われる規準の機能として、単一列の光チャンネルで 試験体の中断のない試験を行うことも可能である。したがって、本発明の装置は 、静的、小型、丈夫で、製造が安価であり、そのためレーザスキャナ検査装置に 代えて使用することができる。
レーザスキャナ検査装置に代る本発明の装置による中断のない試験体の試験の場 合、その通過速度(相対運動、振動、回転)は、従来のものと比較して著しく増 大し、これは、試験体の通過速度、振動または回転速度に対する制限が光電子信 号処理によって決定されるだけで、通過速度は、例えば1000m/minとす ることができ、また、振動または回転速度は、例えば10m/s以上とすること ができるからである。レーザスキャナ検査装置の場合とは違って、光チャンネル の列の長さは、本発明では制限がなく、そのため本発明の場合、運動する試験体 の寸法に制限がなく、例えば10m幅のものでも試験することができる。このよ うに幅広で急速に通過するまたは大型で急激に振動または回転する試験体の場合 でさえ、2.5mmの空間誤差分析の場合、測定原理により10〜500μmの 検査範囲が得られ、5μmの孔を検出することができる。
本発明の装置が光チャンネルに対応しかつ光透過ダイオードまたはレーザダイオ ードからなる複数の光源を備える場合、1つの光源が機能しないとき、唯1つの チャンネルが機能しないだけで、装置自体は機能し、そのため故障中も試験体の わずかな部分が試験されないだけである。
本発明による装置が小寸法であることにより、レーザスキャナ検査装置ではその 寸法により収容できない、限られた空間条件下のケーシング、例えば蒸気沈澱装 置、噴射装置等の真空ベル内に収容することができる。本発明による装置が小寸 法であることにより、レーザスキャナ検査装置ではその寸法により収容できない バイブおよびセクション内に収容することもできる。
これらの状況下でまたこれらの有利な特徴のために、本発明の装置は、運動、振 動、膨張、収縮、成長、沈澱等によって引き起こされる、試験体の多分静止の表 面または内面の位置変化を試験し、または、シャフトの回転速度の関数としての 、シャフトの同心性の誤差、特に振動を測定するために、または、試験体の光を 透過する多分静止の層または光を透過する多分静止の空間部分の運動、特に試験 体の不均一性または介在物の振動を、試験体における懸濁または浮遊の粒子と共 に試験するために使用することができる。
そのような使用の例は、コンパクトディスクおよび半完成または完成の状態にあ るミラー、ディスクおよびパイプのようなガラス製品である。かつて、コンパク トディスクをブランクの被覆の前および後の双方において試験することは価格の 点から適当でなかったため、被覆の後に試験する必要があフた。本発明の装置は 、前後双方の試験を低コストで行うことを可能にする。他の例は、飛行機翼のよ うな部品の機能、膨張、収縮、圧縮、沈澱、蒸発、位相変化、結晶、偏光変化の ような物理学上の過程の進行、腐食のような遅い化学反応の進行、爆発のような 急激な化学反応の進行、培養微生物、植物等の成長のような生物学上の過程の進 行についての試験、または、例えば、色、偏光または密度変化のような化学的効 果、流体力学的または音響学的効果、蒸気泡の生成、流速、同伴する粒子または 気泡の量に対する静止のまたは流動するガスまたは液体、乳濁液、懸濁液等つい ての試験に関する。
従来タイプの加速度計および抵抗歪計は接続線を必要とするが、本発明の装置は 無接触で慟〈。
別の使用によれば、試験体の一方の側で、入射光によりまたは後方散乱透過光に より試験するために装置を使用することができ、また、試験体の他方の側で、前 記透過光のための逆反射体を使用することができる。他の使用例において、試験 体の一方の側に入射光または後方散乱透過光により試験するための装置を設け、 また、試験体の他方の側に前記透過光のための吸収体を設けることができる。
しがたって、本発明の装置は、種々の方法で種々の不整、不均一、介在物および 運動を試験し、結論をそれらの原因に関係させることができる、対応的に区別さ れた結果を与える。
前記した本発明の装置の使用例のうち、被覆なしのまたは金属或いはカラー被覆 したポリマー箔およびフィルム、コンパクトディスクのような金属または金属被 覆物、ウェブまたはシート状の被覆または着色の紙、被覆なしのまたは金属或い はカラー被覆した板ガラス、被覆なしのまたは被覆された織物、不整、沈澱、か き傷、ダスト粒子、孔、キャビティ、介在物、色または光の差、粗い点、溝等の ような被覆上の欠陥の試験が、架橋、模様または印刷の質に関する構造上の変更 と共に参照される。
250mm幅の通過するウェブの試験のための、本発明装置の実施例において、 横断面が2.54X2.54mmで、2つの互い違いの列のそれぞれに48の光 チャンネル、合計96の光チャンネルが2つのケーシング内にある。
直径130mmのコンパクトディスクを1枚につき最大8秒の速て、横断面が2 .54x2.54mmで、2つの互い違いの列のそれぞれに16の光チャンネル 、合計32の光チャンネルが1つまたは2つのケーシング内に設けられている。
いずれの場合も、全体的に反射する表面を反射モードで試験することができる。
透明な試験体の部分的に反射する表面を試験するために、試験体の下に黒色の光 吸収体を置くことができる。透明なまたは光を透過する試験体の内面を試験する ために、試験体の下にミラーを置くことができ、また、ハーフミラ−を使用する とき、部分的に反射する表面および内面は同時に試験される。
長さ250mmのシャフトの同心性を試験するための、本発明の装置の他の実施 例において、2つのケーシングは、横断面が2.54x2.54mmで、2つの 互い違いの列のそれぞれに48の光チャンネル、合計96の光チャンネルを含む 。鏡状の平滑表面の場合、試験は反射モードで行う。
パイプ内の透明な液体またはガスを幅100mrnの検査ガラスで試験するため に使用する、本発明の装置の他の実施例において、1つまたは2つのケーシング は、横断面が2.54X2.54mmで、2つの互い違いの列のそれぞれに20 の光チャンネル、合計40の光チャンネルを備える。この目的のために、試験は 、光源側ケーシグおよび第2の変換器側ケーシングにより透過光モードで、また は、対向向するミラーにより入射光モードで行うことができる。
以下、添付図面を参照して、実施例についてさらに詳しく説明する。
第1図は、6つの光チャンネルのそれぞれのための光源側の2つの部分からなる 第1のケーシングと、2つの部分からなる第2のケーシングとを含む本発明の装 置の構成を示す概略的な側面図である。
第2図は、第1図に示した装置の左側に示された光源側ケーシング部分の概略的 な正面図である。
第3図は、第1図に示した装置の光源側ケーシングの概略的な後面図である。
第4図は、第1図に示した装置の第2のケーシングの概略的な後面図である。
第5図は、第1図に示した装置の光源側ケーシングの下側から見た概略図である 。
第6図は、第1図に示した装置の第2のケーシングの概略的な平面図である。
第7図は、第1図の左側に示された光源側ケーシングのケーシング部分を示す概 略的な後面図である。
第8図は、第1図の右側に示された第2のケーシングのケーシング部分を示す概 略的な正面図である。
第9図は、入射光により試験物の表面または内面を試験し、または、後方散乱透 過光により試験物の層または空間部分を試験するために使用する本発明の装置の 光学的に基本的なエレメントを示す概略図である。
第10図は、透過光により試験物の層または空間部分を試験するために使用する 本発明の装置の光学的に基本的なエレメントを示す概略図である。
第11図は、曲線状の試験体を試験するための、光導体および単一の光源を使用 する、第1図の装置に基づく装置の光学的の基本的なエレメントを示す概略図で ある。
第12図は、曲線状の試験体を試験するための、ある光学エレメントが第2のケ ーシング中に移動している、第1図の装置に基づく装置の光学的に基本的なエレ メントを示す概略図である。
第13図は、2つの互いに変位した試験チャンネルをもつ構成における、第1図 の装置の第2のケーシングの概略的な平面図である。
本発明に係る装置の実施例を概略的に示す第1図を参照するに、この装置は、試 験体1の表面または空間部分の点を同時に無接触試験するためのものであり、W O−87103957で知られた装置と同じ原理に従って機能するので、その詳 細についてはこれを参照されたい。
前記装置は、光透過ダイオードとして構成された1つの光#i3に関係する6つ の試験チャンネル2と、3つの光電子変換器4a。
4b、4cと含む。各試験チャンネルにおいて、光源3と変換器4a、4cとの 間のライトバスに、光チャンネル5aが配置されている。光源3と変換器4bと の間のライトバスには、2つの部分からなる光チャンネル5a、5bが設けられ ている。
試験体は、光源3と変換器4a、4bまたは4Cとの間のライトバスに配置され る。厳密に言えば、光源3と変換器4aとの間の光チャンネル5aも2つの部分 からなり、これは、光は光[3から光チャンネル5を経て試験体1へ、その後、 光チャンネルの一部分を経て試験体1から変換器4bに至るからである。
光チャンネル5a、5bの作用は、光源3から試験体1へ通される光の光束を制 限すること、すなわち、光束の光線間の分岐を所定角度より小さく保つことであ る。この意味で、光チャンネル5a。
5bは光学エレメントである。
図示の例において、この光学エレメントは、ケーシング6a。
6bに設けられた平行六面体のキャビティとして構成され、図示の例において、 6つの前記キャビティが1つの共通な第1のケーシング6aまたは第2のケーシ ング6bに並置されている。
図示のように、ケーシング6a、6bは、たとえば、研削による光チャンネル5 a、5bの製作を容易にするために2部分で構成されている。この2部分構成の ケーシングは第5.6図に見ることができ、第5図は光源側のケーシング6aの 下方からの概略図であり、また、第6図は第2のケーシング6bの概略図である 。
第1図および第5図は、ケーシング6aの2つのケーシング部分8a、9C間の 面7aを示し、他方、第1図および第6図はケーシング6bの2つのケーシング 部分8b、9b間の面7bを示している。第5.6図は、平行六面体のキャビテ ィ5a、5bの横断面に光チャンネル5a、5bの構成を示し、前記キャビティ の6つは並置されかつ互いに同じであり、以下において試験チャンネル(すなわ ち、個々の光チャンネルに関係するすべて)を説明するとき、これらの1つのみ を説明する。前記面7aまたは7bは、光チャンネル5a、5bの対称の面を有 利に形成する。
第1図は、入射光により試験体1の上の表面11を試験し、または、後方散乱透 過光により試験体1の完全な層厚または空間部分の完全な厚さを試験するために 使用される装置の部分10を試験体1の上方に示している。キャビティ5aは、 ケーシング6aを経過している。光放射ダイオード3は、キャビティの一端に挿 入されており、該キャビティの他端で、試験体1の表面11に面する、第5図に 見られる開口5aに帰している。
ハーフミラ−として構成されたビームスプリッタ−エレメント12は、試験体1 により光電子変換器4aに反射または後方散乱された光を偏向させるために、キ ャビティ5aの長手方向軸線に対して45度の角度で配置されている。ビームス プリッタ−エレメント12は、半反射ガラス板として構成されており、該ガラス 板は、一体にすなわち6つの光チャンネル5aおよびケーシング6aの全幅にわ たる単一のサブアセンブリとして伸びている。このガラス板は、ケーシング部分 8aまたは9aの対応するスロット13または14に挿入され、スロット13. 14は、ケーシング部分8a。
9aが結合されるとき、ガラス板12を受は入れるための凹所を形成する。ケー シング部分8aに設けられたスロット13は、該ケーシング部分に配置されたキ ャビティ5aの半分とともに、第7図に詳しく示されている。ケーシング部分9 aに設けられたスロット14は、該ケーシング部分に設けられたキャビティ5a の半分とともに、第2図に詳しく示されている。
ケーシング6aのケーシング部分8a、9aへの分割は、スロット13.14の 形成を容易にし、また、必要であれば、ガラス板12は、スロット13.14外 に滑らせることによりケーシグ6aから取り出すことができる。
各試験チャンネルのためのライトバス15は、ケーシング部分9a(第1.2図 )に設けられており、光をキャビティ5aから外部に導く。ライトバス15は、 ガラス板12により反射された光放射ダイオードの光を外部に通させ、ガラス板 にキャビティ5aの壁により後方散乱させない。例えば、ガラス板12により反 射された光放射ダイオード3の不本意な光は、ライトバス15を経て光吸収体に 吸収させることができる。キャビティ5aの壁を光吸収するように構成すること もでき、これによりガラス板12により反射された光放射ダイオード3の不本意 な光をガラス板12および該ガラス板を介してフォトダイオード4aに戻す。
ケーシング部分8aは、各試験チャンネル(第1.7図)のためのライトバス1 6を有し、該ライトバスは光をキャビティ5aから光電子変換器4aに導く。ラ イトバス16は、試験体からの、ガラス板により反射された光を光電子変換器4 aに到達させる。光電子変換器はフォトダイオードであり、その光感知側はケー シング部分8a(第1.3.5図)に設けられたスロット17に向けられている 。印刷回路板18(第1図)は、フォトダイオード4aのための電子回路を支持 し、また、ケーシング部分8aに支持エレメント19.20により支持されてい る。ねしおよびねじ孔のような使用される締結エレメントは図示していない。印 刷回路板18は、コンネクタ21a、21bにより、ケーブル接続部に受は入れ られる嵌込み接続部22に電気的に接続される。光放射ダイオード3は、印刷回 路板23に配置され、ケーシング8a、9a(第1.2.7図)の満24または 25内に支持されている。印刷回路板23は、また、ケーブル接続部に受は入れ られる嵌込み接続部26を支持している。
6つの光放射ダイオード3および6つのフォトダイオード4aは、ビームスプリ ッタ−12として、同じケーシング8aに並置され、各場合において、1つの光 放射ダイオード3および1つのフォトダイオード4aは各光チャンネル5aと協 働し、一方、ビームスプリッタ−12は6つの光チャンネル5aの全てに共通で ある。
入射光により試験体1の上面11を試験するために、前記の装置10を直接使用 することができる。各試験チャンネルについて、フォトダイオード4aは、光放 射ダイオード3から光チャンネル5aを介して試験体1に達し、試験体1により 反射されまたは後方へ散乱された光を受け、試験体1は、光源3と変換器4aと の間のライトバス内に配置されている。試験体が透明である場合、その下方(す なわち、装置10に対してその外側)に光学エレメント20aを配置することが でき、該光学エレメントは、後方散乱の透過光により試験体1の完全な層厚を試 験するために光吸収体とすることができ、または、透過光により試験体1の空間 部分の全層厚または全厚を試験するためにミラーとすることができる。この配置 での光学的に基本的なエレメントは第9図に概略的に示されており、光学エレメ ント28は光吸収体として示され、光線は、参照符合3aで示されている。
この構成の変形例において、ビームスプリッタ−エレメント12は、ストリップ ミラーエレメントとして構成され、その結果WO−87103957で知られて いる条こん効牙が得られる9、第1図は、試験体lの下方に、装置10の部分2 9を示し、該部分は透過光による試験体の層または空間部分の試験に関係する。
2部分からなる光チャンネル5a、5bの第2の部分5bは平行六面体のキャビ ティ5bとして構成され、該キャビティは第2のケーシング6bを経通する。
キャビティ5bの一端に第2の光電子変換器4bが配置されており、該変換器は 光電子変換器4aと同様にフォトダイオードであり、その光感短調は2つのケー シング部分8b、9bに設けられたスロット30(第1.4.8図)に向けられ ている。印刷回路板31(第1図)は刀オドダイオード4bのための電子回路を 支持し、支持エレメント32によりケーシング部分8bに支持されており、ねじ およびねじ孔のような使用される締結エレメントは図示していない。接続部33 a、33bにより、印刷回路板31は、ケーブル接続部に受は入れられる嵌め込 み接続部34に電気的に接続されている。
キャビティ5bはその他端で試験体1の下面35に対向する、第6図に見ら九る 開口5bに帰する。
本発明に係る装置は、2つのケーシング6a、6bを含み、各光チャンネルのた めに、これに対応して、光放射ダイオード3が第1のケーシング6a内にまたフ ォトダイオード4bが第2のケーシング6b内に並置されている。第1図に示さ れた構成において、各光チャンネルの部分5bは第2のケーシング6b内に設け られている。
各試験チャンネルにおいて、フォトダイオード4bは、試験体1により透過され た先部分を受け、該先部分は光放射ダイオード3から光チャンネル5aを経て試 験体1に、また、光チャンネル5bからフォトダイオ−ド4bに達する。したが って、試験体1は光源3ど変換器4bとの間のライトバス「配置される。この配 置の光学的に基本的な工17.メントは、第10図に示されている。
耐記の構成において、試験体1は実質的に平面であり、光チャンネル5a、5b の試験体側の端部は、試験体1に平行な面と一致する。試験体が所定の曲率をも つ場合、例えば、試験体がガラス管として構成さ第1る場合、装置は試験体の形 状に適合することができ、光チャンネル5a、5bの試験体側の端部は試験体の 面に一致し、前記チャンネルは試験体の面に平行に構成されかつ配置されている 。筒状または球状に曲がった試験体の場合、第2.3.7図における下方の水平 方向の線は、直線に代え弧状の線となる。試験体の形状が種々の曲線状である場 合、光チャンネルの試験体の側端部は、試験体の面に平行であるように、該試験 体の面に対応的に適合する面と一致する。この構成の光学的に基本的なエレメン トは、第11図に概略的に示され、後に詳しく説明する。
光チャンネル5a、5bの壁は、試験体1への光源3からの光の光束を、キャビ ティ5a、5hの壁で反射される場合より良く規定することができるように、有 利には黒くされる。変形例において、光源と光チャンネル5a、5bとの組合わ せは、コリメータとして構成することができ、これはコリメータも光源3から試 験体1への光の光束を規定する光学エレメントであることによる。光源3もレー ザダイオードとして構成することができ、この場合、光チャンネル5a、5bの 構成および特に該チャンネルの壁の反射特性は臨界的ではなく、これは、光ダイ オードからの光束は自動的にうまく規定され、また、実体は光源3から試験体1 への光の光束を規定する光学エレメントであることによる。変形例において、光 チャンネルはウィンストン・コレクタとして構成することができ、また、光源か ら試験体1への光の光束を規定する他の光学エレメントが考えられる。
第11図に示されているように光源3から試験体1への光の光束を規定する光学 エレメントの変形例において、光源3はケーシング6aから離れて配置され、光 導体36を経て光チャンネル5aに接続されている。フォトダイオード4bもケ ーシング6bから離れて配置され、光導体37を経て光チャンネル5bに接続さ れている。同じごとがケーシング6aにおけるフォトダイオード4aに関して適 用されるが、第11図の簡略化のため図示しない。光源3またはフォトダイオー ド4aまたは4bから隔てられた光導体36は、その端部で、光導体36または 37および光チャンネル5aまたは5bのある長さにわたって対応する光チヤン ネル内に挿入されている。このことから、光導体は、少なくとも、光チャンネル の部分に部分的に配置されている。
第11図もすべての試験チャ二ノネルに共通な単一の光源のみを有する本発明の 装置を概略的に示lノでいる。この実施例において、すべての光導体36は、そ の光源側の端部において、単一の光源3に光学的に接続され、該光源は、すべて の光導体36を照明り、、したがって有利には光放射ダイオードであるう第1図 のフォトダイオード4aは、また、フォトダイオード4bおよび光チャンネル5 bに関して第11図の下部分に示されているように、光導体を介して関係するラ イトバス16に接続することができる。原理は同じであり、また、その使用は第 11図から明らかであるので、詳細な説明は省く。
第1図は、また、試験体1の上方に配置された、本発明装置の部分10の光チヤ ンネル5a内に別の光学エレメント38が配置さ九、該光学エレメントは光学エ レメント12と同様に板として構成され、また、スロット13.14によるガラ ス板12とほとんど同様に、スτ1ット39.40によりケーシング6a内に挿 入されている。ケーシング部分8a、9aが結合されるとき、ストット39およ び40は板状の光学エレメント38を受は入れる凹所を形成する。ライトバス4 .1.42がライ[・バス15.26と同様に設けられており、ライトバスス4 iは、キャビティ5aの壁が光吸収体として構成され、光放射ダイオードからの 、光学エレメント38により反射された不本意な光が該光学ユ、レメンI・へお よびごれを経てフォトダイオード4aへ戻らないならば、設ける必要はない。
光学エレメント38は、その1つの構成において、偏光フィルターまたはカラー フィルターの形をとる。光学ゴレメント12の場合のように、個々の試験チャン ネルと間係″ウーる偏光またはカラーフィルター38は、ケーシング内に取外し 可能に配置される1個のナブアセンブリを構成する。このよ)7/′偏光または カラーフィルター・は、試験がさ第1る試験体の性質の偏光またはカラーによる 識別検査を可能にする。ライトバス41,42は、偏光またi、t bシーフィ ルター38に反射した光を光チヤンネル5a外に通しまた光学的に吸収するよう にすることができ、この反射し/だ光によりて試験は乱さない。このことは、光 学エレメント12に関してのライトバス15にお1・するどC1どんど同様に生 ずるの′7?、図面の簡略化のために図示しない。さらに、ライトバス41は、 キャビティ5aが対応する光吸収構造を備えるとき、省くことができる。
光学エレメント38は、他の構成において、第2のビームスブリッターとして構 成され、それは、単一のサブアセンブリを構成しかっケーシング6a内に取り外 し可能に配置された半透過ストリブミラーである。
この構成の第1の変形例において、フォトダイオード4Cは、ケーシング6aお よびライトパス16におけるフォトダイオード4aとほとんど同しようにケーシ ング6aおよびライトパス42に配置されている。ビームスプリッタ−38によ り反射された光は、フォトダイオード4aの場合においてビームスプリッタ−1 2により反射されると同様に、フォトダイオード4cに達する。
第2の変形例において、フォトダイオード4Cは、ケーシング6aおよびライト パス16におけるフォトダイオード4aとほとんど同様にケーシング6aに、し かし、この場合、ライトパス41に配置される。ビームスプリッタ−38により 反射された光はフォトダイオード4Cに達するが、これは光源3からの発する光 の一部分であり、そのためフォトダイオード4Cは光源からの光3を測定しかつ 光学的に規制するために使用される。
この第2の変形例は、ライトパス42にフォトダイオード4Cを残すこと、光源 3からの光の部分をフォトダイオード4Cに偏向させるように面7aに関してビ ームスプリッタ−38を対称的に置き代えることにおいて、第1の変形例と同様 である。
本質的に単位構成のこれらの変形例は、主として、入射光により試験体の表面を または後方散乱の透過光により試験体の層または空間部分を試験するのに適して いる。
光学エレメント12.38は、ざらに他の構成において、ストリップミラーとし ても構成されるビームスプリッタ−により構成される。これらは、サブアセンブ リを形成しかつケーシング6a内に取り外し可能に配置された半透過ストリップ ミラーの部分として構成される。各光チャンネルにおいて、ストリップミラーの ストリップは、半透過性で、相互に本質的に対応し、WO−87103957で 知られる条こん効果を生じさせる。
一般に、光学エレメント!2および38をケーシング6aからケーシング6bに 代えることは光学的には均等であり、ケーシング6aの光源3とケーシング6b のフォトダイオードとを交換することもまた均等である。この配置のために、光 学的に基本的なエレメントは第12図に概略的に示されており、追加的なビーム スプリッタ−および関係するフォトダイオードは、光源からの光の測定および規 制のために、ケーシング6aに設けられている。
本発明に係る装置の前記の説明および関係する図面において、簡略化のために、 単一列に配置された並置の試験チャンネルを説明のために選んだ。光チャンネル 5aまたは5bは、他の寸法に比例して示されておらず、代りに、相当に厚くさ れている。しかし、ケーシングによる装置の強度は前記の壁によらないので、該 壁は、実際に、それが透明でないことを確実にする厚さをもつ。したがつて、並 置された試験チャンネルの充填密度が得られ、試験体の中断されない試験ができ る。そのことは、所要の充填密度で、相互に置き換え、並置される態様で2以上 の試験チャンネル列をもつよう中断のない試験体の試験を成就するために、静止 した平らな試験の場合、実際に必要でさえある。相互に置き換えられる2列の試 験チャンネルは、第6図から引き出される第13図の第2のケーシングにより概 略的に示されている。第13図のエレメント5b、6b、7bおよび8bは、第 6図のそれらと同じである。第6図のエレンネント9bは、第13図では2部分 で構成されており、第2列の光チャンネルはゲージング内に、光チャンネル5b の列に平行に配置されるか、第13図に示すように該光チャンネルに対して変位 されている。この変位の結果とは別に、ケーシング6a内ラーは、第6図のケー シング部分9bに相当する。ケーシング部分8bとケーシング部分9bとの間に ケーシング部分9b”が設けられており、こわのケーシング部分9と面する部分 は、第6図のケーシング9bの機能を果たし、ケーシング9b’ と面する部分 は、第6図のケーシング部分8bの機能を果たし、そのため第6図の面7bが第 13図の2つの面7b’ 、7b”に置き換えられている。
第13図に示すような構成は、数列の試験チャンネルまたは光チャンネル5a、 5b’の配置の場合について前記したとおりである。空間がなくまたその機能が 光チャンネルの壁の光吸収により果たされるならば、ライトパス15.41に相 当するライトパスはなくてよい。第13図の光チャンネルは、第16図における と同じ比率で示されている。実際に、光チヤンネル間の間隔(すなわち光チヤン ネル分離壁の幅)を選択することがきまたそうすることが有利であり、そのため 、第1および第2の列の光チャンネルにより検出される試験物の面は重ならずま た相互に結合し、試験体の最少の可能性と試験チャンネルの最も経済的な数が試 験物の所定の面を検査するために得られる。
互いに同じ、すなわち、同じ数の試験チャンネルを有し、かつ、実質的に平行で 近接して並置されている二列の試験チャンネルまたは光チャンネルがあれば、そ れの1列は装置の光源側部分に関係させ、また、他の1列は装置の変換器側に関 係させることができ、肉部分10および29は試験体1の同一側に配置される。
光チャンネルの光源側部分または変換器側部分の長さは、木質的にゼロに減する ことができ、光チャンネルの部分が光源から試験物への光を適当に制限するなら ば、光チャンネルの光源側部分と変換器側部分との間の壁は部分的に省くことが できる。
試験チャンネルの寸法は、同じである必要はない。光チャンネルを、例えば、列 の一端から他端へ拡大することができ、光チャンネルの光源側部分を変換器側部 分に対して種々の横断面形状に構成することもできる。光チャンネルは、必ずし も、前記の横断面形状とする必要はなく円形とすることもでき、他方、キャビテ ィは、円筒状、円錐状、角錐状などすることができる。試験チャンネルの列は、 直線状である必要はなく、種々の通用のために円弧のような曲線に添ってこれを 配置することもできる。
5b 国際調査報告 国際調査報告

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)入射光により試験体(1)の表面または内面を、または、後方散乱光また は後方反射透過光により試験体(1)の層または空間部分を同時的に無接触試験 するための装置であって、少なくも1つの光源(3)と、複数の試験チャンネル とを含み、該試験チャンネルは、光電子変換器(4a)と、前記光源と前記光電 子変換器との間のライトパスに配置された少なくも1つの光チャンネル(5a) とを含み、該光チャンネルにはビームスプリッタエレメントが配置され、各光チ ャンネルは光束を規定する光学エレメントとして構成され、前記ライトバスの少 なくも一部において前記光チャンネルは共通のケーシング(6a)内に並置され つ該ケーシングを経る凹所として構成され、前記試験体は前記光源と前記光電子 変換器との間のライトパスに配置され、さらに、前記光チャンネル(5a)は対 称な共通の面(7a)を有し、前記ケーシング(6a)は前記の対称な面におい て相互に分離可能な2つの部分(8a,9a)から構成され、前記ビームスプリ ッタエレメントは単一のサブアセンブリを形成しかつ前記ケーシング内に取り外 し可能に配置されたビームスプリッタ(12)の部分として構成され、前記光電 子変換器(4a)は並置されかつ光源(5a)に対応するビームスプリッタ(1 2)として同じケーシング(6a)に配置されていることを特徴とする、無接触 試験装置。
  2. (2)光チャンネル(5a)の試験体側の端部は、試験体の表面(11)に平行 に形成されかつ配置された表面と一致する、請求項(1)に記載の無接触試験装 置。
  3. (3)前記光源(3)は、1つの光チャンネル(5a)に対応する光放射ダイオ ードまたはレーザダイオードからなる、請求項(1)記載の無接触試験装置。
  4. (4)光源(3)は、前記ケーシング(6a)から隔てて配置され、光導体(3 6)を介して前記光チャンネル(5a)に接続されている、請求項(1)記載の 無接触試験装置。
  5. (5)前記光電子変換器(4a)は、1つの光チャンネル(5a)に対応するフ オトダイオードからなり、前記ケーシング(6a)から隔てて配置されかつ光導 体を介して光チャンネル(5a)に接続されている、請求項(1)記載の無接触 試験装置。
  6. (6)各光導体(36)は、光チャンネル(5a)の少なくも一部に少なくも部 分的に配置されている、請求項(4)および(5)のいずれか1項に記載の無接 触試験装置。
  7. (7)ケーシング(6a)の2つの部分(8a,9a)は対応する凹所(13, 14:39,40)を備え、該凹所は前記部分(8a,8b:9a,9b)が結 合するとき前記ビームスプリッタの各サブアセンブリを受け入れる、請求項(1 )記載の無接触試験装置。
  8. (8)偏光および/またはカラーフィルターエレメント(38)は、光チャンネ ル(5a)内に配置され、単一のサブアセンブリを構成しかつケーシング(6a )内に取り外し可能に配置される偏光および/またはカラーフィルター(38) の部分を構成する、請求項(1)記載の無接触試験装置。
  9. (9)前記ケーシング(6a)の前記2つの部分((a,9a)は対応する凹所 (13,14:39,49)を備え、該凹所は前記部分(8a,8b:9a,9 b)を結合する際に前記フィルター(38)の各サブアセンブリを受け入れる、 請求項(8)記載の無接触試験装置。
  10. (10)前記ビームスプリッタエレメント(12)は、ストリップミラーエレメ ントとして構成されている、請求項(1)記載の無接触試験装置。
  11. (11)各光チャンネルには第2のストリップミラーエレメント(38)が配置 されており、そのストリップは、半透過で、基本的にストリップミラーエレメン トとして構成されたビームスプリッタエレメント(12)のストリップに対応し 、前記ストリップミラーエレメント(38)は単一のサブアセンブリを構成しか つケーシング(6a)内に取り外し可能に配置された半透過ストリップミラーの 部分として構成されている、請求項(10)記載の無接触試験装置。
  12. (12)各光チャンネル(5a)に配置された第2のビームスプリッタエレメン ト(38)が設けられており、該エレメントが、単一のサブアセンプリを形成し かつ前記ケーシング(6a)内に取り外し可能に配置されたビームスプリッタ( 38)の部分として構成され、さらに、第1の光電子変換器(4a)が第1のビ ームスプリッターエレメント(12)に面すると同じように、第2のビームスプ リッタエレメント(38)に面して配置された第2の光電子変換器(4c)が設 けられている、請求項(1)記載の無接触試験装置。
  13. (13)多分滑らかにまたは一様に形成された試験体の表面または内面の不整を 試験するための請求項(1)記載の装置の使用。
  14. (14)試験体の光を透過する、多分均一のまたは一様に形成された層の、また は、光を透過する、多分均質のまたは一様に形成された空間部分の、不均一性や 介在物のような不整を試験するための、請求項(1)記載の装置の使用。
  15. (15)試験体の多分静止の表面または内面を、移動、振動、膨張、収縮、成長 、沈澱等による該面に対する位置の変化について試験するための請求項(1)記 載の装置の使用。
  16. (16)シャフトの同心性を、該シャフトの回転速度の関数として、同心誤差、 特に振動について試験するための請求項(1)記載の装置の使用。
  17. (17)試験体の光を透過する、多分静止の層または光を透過する多分静止の空 間部分を運動、特に試験体の不均一または介在物の振動について、懸濁または浮 遊する粒子と共に試験するための請求項(1)記載の装置の使用。
  18. (18)試験体の一方の側に入射光または後方散乱透過光により該試験体を試験 する装置が配置され、該試験体の他方の側に前記透過光のための逆反射体が配置 されている、請求項(13)および(14)のいずれか1項記載の、装置の使用 。
  19. (19)試験体の一方の側に入射光または後方散乱透過光により該試験体を試験 する装置が配置され、該試験体の他方の側に前記透過光の吸収体が配置されてい る、請求項(13)および(14)のいずれか1項記載の、装置の使用。
  20. (20)試験体の一方の側に入射光または後方散乱透過光により該試験体を試験 する装置が配置され、該試験体の他方の側に前記透過光のための逆反射体が配置 されている、請求項(15)ないし(17)のいずれか1項記載の、装置の使用 。
  21. (21)試験体の一方の側に入射光または後方散乱透過光により該試験体を試験 する装置が配置され、該試験体の他方の側に前記透過光のための吸収体が配置さ れている、請求項(15)ないし(17)のいずれか1項記載の、装置の使用。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4707632B2 (ja) * 2005-09-21 2011-06-22 旭化成エンジニアリング株式会社 欠陥検査装置

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002014846A2 (en) * 2000-08-10 2002-02-21 Kla-Tencor Corporation Multiple beam inspection apparatus and method
US6636301B1 (en) 2000-08-10 2003-10-21 Kla-Tencor Corporation Multiple beam inspection apparatus and method
US6879390B1 (en) 2000-08-10 2005-04-12 Kla-Tencor Technologies Corporation Multiple beam inspection apparatus and method
FR2864338B1 (fr) * 2003-12-23 2006-03-10 Commissariat Energie Atomique Procede et dispositif d'inspection de defauts dans un film mince
FI117834B (fi) * 2004-04-28 2007-03-15 Abb Research Ltd Paperipinnan laadun testaus
EP3420338B1 (en) * 2016-02-26 2023-05-03 Single Technologies AB Method and apparatus for high throughput imaging
CN110346378B (zh) * 2019-07-24 2024-05-14 浙江欧视电科技有限公司 一种全自动aoi检测设备

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8429211D0 (en) * 1984-11-19 1984-12-27 Mit Peritronic Ltd Reflectometer
EP0200301A1 (en) * 1985-03-01 1986-11-05 Therma-Wave Inc. Method and apparatus for evaluating surface and subsurface features in a semiconductor
DE3513475A1 (de) * 1985-04-15 1986-10-16 Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch Lumineszenztaster
CH669663A5 (ja) * 1985-12-17 1989-03-31 Schweiz Eidgenossenschaft Sin
US4910402A (en) * 1987-04-10 1990-03-20 Mcmillan Norman Apparatus and method for measuring a property of a liquid

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4707632B2 (ja) * 2005-09-21 2011-06-22 旭化成エンジニアリング株式会社 欠陥検査装置

Also Published As

Publication number Publication date
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EP0414829A1 (de) 1991-03-06

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