JPH03500272A - インキ記録ヘツドの中の噴射ノズルの印刷位置検出方法及び装置 - Google Patents

インキ記録ヘツドの中の噴射ノズルの印刷位置検出方法及び装置

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JPH03500272A JP63507546A JP50754688A JPH03500272A JP H03500272 A JPH03500272 A JP H03500272A JP 63507546 A JP63507546 A JP 63507546A JP 50754688 A JP50754688 A JP 50754688A JP H03500272 A JPH03500272 A JP H03500272A
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    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
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    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/165Preventing or detecting of nozzle clogging, e.g. cleaning, capping or moistening for nozzles
    • B41J2/16579Detection means therefor, e.g. for nozzle clogging

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 インキ記録ヘッドの中のDJ′射ノメノズ印刷位置検出方法及び装置 本発明は、請求項1及び4の上位概念に記載のインキ記録ヘッドの印刷位置検出 方法及び装置に関する。
インキ印all襞直による文字記号又はグラフィックパターンの表示は公知のよ うに、個々の潰を、?irl制御しながらインキ記録ヘッドの9を躬−ノズルか ら9を射することを基健としている。この形式の装置はいわゆるドロップオンチ ーr7ド(Drop−on−Demand、 DOD ) 装置tt トして公 知である。従って、記録担体とインキ記録ヘッドとの間の相対運動によシ又字記 号又はグラフィックパターンが多数の単一点の形状で2スター状に記録担体の上 に形成される0従って!トリクス嵌示又はマトリクス印字方法と称される。この 方法で形成された記録の品質即ち文字品質は冥質的に、文字記号を形成するイン キ酒の1に依存している。これによシ、例えば多数の列で配置されている多くの 鳴射紬口又はノズルを有するインキ記録ヘッドが開発された。これによル、記録 担体の上の個々のインキ流を、これらのインキ渦が1畳し、垂直方向にも水平方 向にも視覚的には連続している碌に見えるように互いに密接させて配置すること が可能である。いわゆるCODシステムにおいては各噴射ノズルに、例えば電気 的にガ御することのできる圧′#L素子の形式の固有の駆動素子が対応して配置 されている。この圧寛累子は、誤シのない作動のためにインキチャネル及びイン キ供給管と共働して、整合された動作を有しなければならない。これらの隼−シ ステムのそれぞれが約4kHzのインキ抛繰返し周波数で(作し、数年にわたシ インキ印刷装置はほぼ常時作動され、噴鵬ノズルが、100μmよシ小さい直径 を有することも考慮すると、完全な(作能力に関する監視の重要性が分かる。例 えば粉塵又は微小な転層又は噴射ノズルの中の乾燥したインキ又はインキチャネ ルの中のカス又は全党の泡等の外部影響は特にlちに噴射ノズルの故障を発生す るおそれがあ夛、従って文字品質の劣化を招くおそれがある。従って、このよう な障害を適当な時点で検出し適当な時点で対え、することが別の問題は印桐画倫 容認でおる。インキ印刷装置の使用者は逼蟲な時点で、形成された文字画像は障 害を受けているかいないかを検出しなければなら々い。これは特に、高い分解能 の多重ノズル形インキ記録ヘッドにおいて困難である。何故ならばインキ記釘、 ヘッドの1つ又は複数のノズルの故障は始めは印刷画像の僅かな劣化を招くにす ぎないからでおる。
更に、種々の技術(圧電効果形インキ記録ヘッド又はバブルジェット記録ヘッド )によっても製作することのできるインキ記録ヘッドは、紙レベル年面にスプレ ーされたインキ流の印刷位置に関して、前もって決められている精度を満足する か又は前もって決められている公差を守らなければならない。l#にインキ記録 ヘッドの製作のmK、インキ記録ヘッドか、前もって決められている公差を下回 ったか上回ったかを検出するために、任意のノズルによシ放射されたインキ流又 はインキ済の印刷位置誤差を測定する必要がある。
一般K、記録ヘッドの玉算な動作は使用省自身によシ峙別の印刷パターンの目視 検査によシ検量される。
これは簡単ではない、F160μmのオークにある比較的小さい滴直径のために 非常に困難な観察を特徴とする特に、故障が、互いに比較的間隔をおいて位置す る2つのajt射ノスルに発生すると、肉眼の能力を越える。
全体として、このような検査は満足のいくものではない。
前記の形態の作動障害をインキ滴センサによシ検出することが公知である(西独 特許出願公−第3310365号公報)。この場合、インキ潰のための捕捉電極 が設けられてお夛、インキ流は、捕捉を極への運動において¥f!電する。帯電 したインキ流の命中の際に、111害のための測定及び通報信号として評価する ことのできる電気信号が発生される。
この公知の方法は、インキ@を帯電させるために(300VKまで及ぶことのる る)比較的高い電圧を印加しなければならない特別の帯i!電極を必要とする。
この結果、付刀口的な構造的コストが発生するだけでなく、高’−h’に圧のた めに、電圧が印加されている部分との接触に対する保護手段を設けなければなら ない。
本発明の課題は、FrJ刷パターンの目視検歪を行う必要なしに、インキ記録ヘ ッドの動作能力と、そのノズルから放射されたインキ滴の印刷位置との双方を検 出することのできる、インキ噴射監視平段を提供すると上記課題は、請求よ1及 び4の特徴部分に記載の唇彷によシ解決される。その他の有利な笑り例はその他 の請求項に記載されている。
次に本発明を笑施伊・に基づき図を用いて説明する。
第1図は本発明を説明するための原理図、第2図はインキ簡センサの平面図、第 3図はセンサ7ル−トの詳細な部分平面図、第4図は第3図のセンサプレートの 断面図、第5図及び第6図及び第7図はそれぞれ評価回路のか・の回路図、第8 図はインキ滴七ンサフロックのF&のための笑&例の斜視囚、第9図は印刷位置 測定の指度の決定装置、第10図はセンを信号の匍」御及び評価装置のブロック 回路図である。
第1図において、布筒に公知のインキ記録ヘッド1が示されておシ、インキ記録 ヘッド1は本例においては、9つの噴射ノズル3を有するノズルブレート2と、 9つのインキチャネル5を有するヘッド部4と、これらに対応して配置されてい るffi勤素子6と、インキ供給部7とから成る。インキヘッド部4#′iイン キ供給管8を介して、図示されていないインキ貯蔵容器と接続されている。&動 素子6の個別の制徊によ少、対応す多くの列で配置することもでき、個々の列の ノズルはとの場合に互いにずらして配置することもできる。本発明のインキ潰セ ンサ11は間隔10をおいてノズルブレー)2JC対向して配置さ九ている。イ ンキ滴センサ】1は実質的に、夕)都力・ら接触接続することのできるコンタク ト面を有する、S状電極として形成されているセンサブレート12と、これらの 背後又は下に配置されている、9@において吸込みブロック17と称されインキ 液の排出のために用いられる層とから反る。
櫛状電極は少なくともインキ滴の命中点の領域の中に、インキ滴の轡゛射領域の 中に平行に走行する多しの導体路18及び19を有する。インキ間の命中によシ 供給されるインキ液の排出装置は非環1iL性の多孔性材料から欣る。この@首 は1つの層から成ることもろシ、有第1:には多くの部分層で≧ら取ることもめ る。センサブレート12のコンタクト面はシートケーブル13を介して評価回路 20と接続されておシ、評価回路20は後述のように、櫛状t[極に対する1つ 又は袂数のインキ滴の命中に依存して、対応する信号BIjちセンサ信号S〜1 を送出する〇 本発明の方法及び製型の動作を次に婢2図及び第3図及び第4図を用いて説明す る。第2図はインキ滴センサ11の多重機能センサブレー)12の平面図、第3 図はその詳辷部分平面図、第4図はその断面図である。
センサ7レート12¥i−状電極14.18.19を有し、櫛状電極14,18 .19はホトリンクランイ法によシ非環亀性の多孔性材料の表面に設けられる。
これらは詳細には櫛状コンタクト14でろシ、板状コンタクト14から櫛の歯状 に多数(不作では32)の互いに平行の導体路9が出ておシ、従ってこれらイン キ滴のための命中点の領域の中に互いに隣接して位置する。それぞれ2つの隣接 する導体路19の中間9間の中に別の導体路18が挿入され、これKよシ命中点 の領域即ちvbウィンドウ22の中に2つの互いにかみ合う板状電極が形成され ている。すべての導体路19が板状コンタクト14と電気的に接続されておシ、 共通にコンタクト面〜il、M2を介して外地から′!#続可能てろるのに対し て、導体路18は噴射ウィンドウ22の外に延在しておp、それぞれ導体路18 に対応配置されている個々のコンタクト面に1ないしに32につながシ、コンタ クト面に1ないしに32と導体路18は外部から例・えばシートケ・−プル13 を用いて接続することができる。コンタクト面fV11.M2.Kl・−に32 はこの場合にセンサブレート12の表面にインセクションウィンドウ22の周囲 に分散配置されている。
センサブレート12を裏作するために、電気絶縁性の担体プレートは金属−腹を 備えている。有利にはこれは、Ti、Cuから成る下地金属化層を有する厚さ1 00μmないし800μm(代衣的には200μm)のガラス7°レートの蒸着 により行われる。
このように加工されたセンサブレート12の両側にホトランクが被着される。次 いで片側に写真技術的に、後にセンサブレート12に設ける柾、状電極構造(導 体路18.19を有する櫛状コンタクト14)のパターンが形成され、このパタ ーン¥i電気めっきによシlOないし20μmの厚さのNi4c!、!>めっき される。後続の写真技術的な工程で噴射ウィンドウ22の領域は両側において露 光され、下地金属化層のエツチングによシこの領域のガラスがエツチングによシ 除去され、従って導体路18.19は、カラスなしの噴射ウィンドウ22が形成 されている。竹原的に、この力ラスエツチング工程においてコンタクト面Ml、 M2.Kl・−に32−7Eエツチングによシ形仄される。
センサブレート12はこの手段によシ非常に有利に製作することができ、簡単な 方法で吸込みブロック17と接続及び接触接続することができる。
第3図は、を射ウィンドウ22の領域に1−ける導体路決意の一部を拡大して示 す平面ぶてちる。図示のm−■切断線に沿ってrgtL先・ウィンドウ22を切 断して示す断面図が第4図に示されている。第4図においては、第1図に略示さ れている吸込みブロック17Fi、厚さFl及びF2を有する吸込み能力を有す る材料から成る2つの部分層15及び16から成る。最上の部分層15には、上 側が金でコーティングされているM!縁シート21の形状の絶縁膜が被着されて おシ、lr::縁シート21は次いで極状電極のヒツチに相応して構造化され、 その際に導体路18及び19が設けられる。これKよシ、第3図及び第4図に示 されている構造が形成される。櫛状電極14と導体路18及び19は高さLを有 する。導体路18及び19はそれぞれ@Aを有し、互いに間隔日をおいて走行す る。これによりピッチT=A+Bが設定されている。インキ液センサ11が直径 りの単一のインキ液を既に検出することできるためには、隣接する導体路18及 び190間ひいては櫛状コンタクト14と対応するコンタクト面Kt との間の 電気抵抗値の短絡を形成するためにT<Dでなければ々らない。
第4図の物から、インキ決9が、インキ液センサ11の界面に命中の際にこの条 件を満足する、即ち2つの隣接する導体路18.19の間に著しい抵抗値低下が 発生し、この抵抗値低下をシートケーブル13を介して評価回路20に供給し、 評価することができることが分かる。インキ液9の命中の後にインキ液は先ず。
上部の多孔性部分Nk15によ力受取られ、下7へ搬送され、最終的に第2の部 分Njk16の中に侵入する。非導電性の多孔性す分/1i15及び16に、毛 細’irQ象を玉する一糎の吸込みボンフとして作用する。この吸込みホンフの 効率は多孔性(又は細孔直径)及び/又は部分層の1又は厚さFl、F2の選択 によシ特定の用途に調整することができる。
2つの層15及び16の多孔性PI、P2は異なる。
個々の層の多孔性が、極状電極の間隔の増那とともに増加する( F2>PI  )と有利でるる。多孔性の高ま少は細孔直径の減少を意味し、ひいては毛細%i 塾象の高まシを意味する。これによル、インキ液の搬送が有第1には上部部分層 15から下部部分層16へ行われることが保証される。これは、櫛状電極の近傍 の全開が比較的急速にインキを排除され、従って、短時間の間隔で到来する一連 の単−滴を確笑に検出することができるト点を有する。異なる多孔性を再する個 々の部分層15′及び16の材料として亜オリには、上部部分層15にはテユラ ン(Duran) 7アイバーカラスが、下地部分層16のためにはミリホアC 〜+1llil)Ore) フィルタベーパーが適して囚る。上部の多孔性部分 Jil*15の細孔直径はこの場合に0.01と0.021111の間にあり、 下部の多孔性か分層16の細孔山径は0005と0.01藺の藺にある。前述の 壺状構造は有利には、公知の淋裏扱術又は厚膜技術により製作することもできる 。
このような檜、状御造に河する所定の4亀藁を有するインキ液の命中の際に、l !J射されたインキ液の場所においてIk麺的に、2つの叛・状部分の閣の導体 路の間の電気的抵抗価が変化する。2つの層の内部へインキ液を毛#I管我象に よシ吸込むことによシインチ滴を除去するととKよシ、電気的に互いに接続され ていない1扛部分、即ち共通の極状コンタク)14を有する導体路18との間で 少j定可舵な抵抗は時間の経過とともに揶びm7JOL、従っテ、部分15及び 16 O多孔性P 1゜F2とインキの特注とに依存する吸込み時間の経過後に 、例えば記録ヘッドの別のノスルから噴射された新しいインキ液を同和の方法で 検出することができる。
ピッチTとインキ液のM径りとの間にT≦Dの関係が成立する前述の装置によっ てでも、個々のインキ済の命中を確実に測定することはできる。単一インキ液の 直径りより大きいピッチT (T>D )とすることは本発明の範囲内にある。
これによシ、記録ヘッドのノズルから噴射される多くの短い間隔で拳法に続く単 −滴を確笑に検出することができる。即ち伽々のインキ液が1つの期間円に櫛状 電極に、前に到来したインキ液によるインキ液が吸込まれる罰に命中すると、新 たに命中するインキ液によシ、2つの隣接する導体路の間のインキ液量に、イン キ液量がこれら2つの導体路の間の電気的接続′5!:形成するまで増加する。
このようにして、例1えF!3食目に到来した滴によ少初めて著しい跳鋤的な抵 抗値の変化が発生されることが可能である。この場合に、インキ液の電線を検数 による吸込み作用をする個々の層の多孔性も相え、してiil!整することは本 発明の範囲内にちる。実際の上ではこれは、第4図に関連して脱明したように、 ピッチがT>Dであシ、吸込みフロックがり数の鳥から成る場合に個々の部分層 の多孔性を上部から下部、へ向かって増加するように選択することを意味する。
櫛状電極の導体路の途中での突然の抵抗値低下を伴うインキ液の命中を評価する ために、1つのインキ液の命中の都度にセンサ信号SMを送出する評価回路が設 けられる。このだめの実施例・が第5図に示されている。第5図に示されている 回路は実質的に、固足姐抗30と変化する測定抵抗31とから成る分圧器から成 る。この分圧器は、櫛状電極の導体路18と19との間のその都度に実際の抵抗 値を弄す、即ち図示の回路はこの場所でコンタクト面h/11.M2と、櫛状電 極のコンタクト面にi と接続されている。分圧器の抵抗30.31間のタップ は比較器320入力側と接続されている。この接続は、分圧器30.31のタッ プ点くおいて調整された電圧値Umがその都度の瞬時値として抵抗39を介して 1接に比較器32の一方の入力側に、積分素子35.36を介して平均値として 他方の入力側に供給されるように行われる。別の抵@34は、比較器32の動作 に必兼な雑音電圧間隔を形成する、2つの比較器入力側のうちの1つにおけるバ イアス電圧を発生するために用いられる。比較器32にvkts絖されている双 安定マルチパイプレーク37は比較器32の出力信号から、第10図のフロック 回路図に示されている後続のフリンタ匍J御装童のためのセンフ信号5tVlを 形成する。
次に本回路の動作を詳しく説明する◎ プリンタ制御装置によシ記錘ヘッドの中に惹起されるインキ滴の’J射によりイ ンキ洞が板状電極に命中すると、突然の抵@値低下が発生する。測定抵抗31は 従って小さくなシ、従って短時間にわたシ一時価Umが時間的平均値Ltmmよ り小さくなる。第5図の例において、比較器32の出力側に論理値“1′から論 理値“0°への短時間のレベル変化が発生する。この状態変化は双安定マルチパ イプレーク回路37に緩衝記憶され、プリンタ制御装置によシ処理される。イン キ検出の後に双安定マルチバイブレータ回j837はそのυセット入刃物を介し てリセット信号Rによりリセットされ、インキ滴センサ11は従って、記動ヘッ ドの別のノズルからの次のインキ滴の命中と評価のために作動でれる。
プリンタ制御装置によるインキI!J射のための作動と、センサ信号S Mの発 生との間の時間を監視することによル、個々のノズルの動作能力を検量すること ができる。俤4えば圧力増加、酒の飛翔時間、インキ約成等の罰もって与えられ ているパラメーターに依存して論發可能な特定の期間の鮭過後に跳廠的な抵抗値 変化が発生しない夢合にはプリンタ@、制御Ij:直に、作動されたノズルが動 作しないことを検出する。
m」述の回路装置は直流でに作する、即ち分圧器回路は正の電圧源Uとアースの 間に接続されている。これは、ある種のインキ液を使用する場合にインキ液の分 解を招くおそれがあシ、これは特に、インキ液を評価するために、短時間の間隔 で順次に続いて到来する多くのインキ滴が必要である夢合1−生しやすい。測定 可能な后抗値但下を実現するために、インキ液はとのの 場合にはt≧100m5Jli2期間にわたり電流が流されるが、これは!気分 解約な変化を4庄することがおる。
従って例えば着色剤が溶媒から分離し、このようにして固化致象が発生し、これ Kよシ毛細管刊、象による吸込みがもはや可能でなくなることもある。
本発明の別の実施例・においては、この問題は、インキ滴センナを交流により作 動することにより解決される。この実施例・が第6図に示てれている。
第6図に示でれている評価回路20は、固定抵抗30と、導体路18.19の間 の実際の抵抗値を衣す測定抵抗31とから成る分圧器回路を有する。分圧器回路 30.31はこの場合にはしかし又流電圧F生器38に接続されている。更に、 分圧器回路30.31の分圧点と、比較器32との間に、第7図に2いて選択さ れた回路の実施例においていわゆるピーク値整流器として(作する復調器33が 接続されている。その出力側からは従って、分圧器点における電圧にピーク値に 相応する電圧値がル出される。
この電圧値は比較器32の一方の入力側に抵抗39を介して直接に、他方の入力 側に積分素子35.36を介して時間的平角値として供給される。
このようにして、比較器32での比較と、双安定マルチバイブレータ回路37の 切換制御と、第10図にブロック回路図の範囲内で示されているフリンタ匍」御 装賃におけるセンサ信号SMの送出とが、第5図に示されているように行われる 。
第6図の評価回路のための笑kgilの例としての詳細な回i@挺成が第7図に 示されている。
る。吸込ブロック17の吸込み能力はその体積とその材料とインキ液と鳴側・テ ストの頻度に任存する。吸込み体積を高め、吸込みのための時間を短縮するため に、吸込みブロック17の中に受容でれているケーシングに、付加的なインキ処 理のだめの開口部が設けられ、この開口部は、吸込みブロック17の多孔性よシ 高い多孔性の吸込与材料により充填されている。
2つ又はそれよシ多くの導体路18.19の間の測定可能な抵抗値質重は、評価 回路20全用込て論理情報に処理され、この処理の結果は、多重ノズル−インキ 記録ヘッドIKおける選択されたノズルDi が噴射したかどうかそしてgfi hしたとしたら例外へかに関する。以降の観察のため、に、第8図に示されてい るX。
Y、Z軸を有する厘夕座標を基礎とすると、先ずgi[射ウィンドウ22の中の インキ渦9の命中場所はただ1つの方向即ちY方向においてのみしか検出するこ とができないことが分かる。導体路18.19はこの例・においては行方向に走 行する、即ち2つまたはそれよシ大きいVの導体路18.19が短絡され、その 際に、後続の評価回路20は、(噴tウィンドウ22の中において)XNの上の いずれの部分に導体路18.19の短絡が狗−生したかを検出することができな い。
第8図の装置においては、この装置のノズルDi が神び”1トする際K、イン キ流位置はX方向におりても検出することができ、従って、次いで2つのセンサ 信号SMを評価することによりインキ瀝9の完全な位重検出をインキ滴センサ1 1を用いて実現することができる。
これは−万では、第8図に示てれているように間隔10をおいてインキ記録ヘッ ド1のツメルアレート2の前に、互いに90°回転されている2つのインキ滴セ ンサ11 、11’を有するセンサフロック23を設りることによシ可能となる 。行方向に走行する導体路18゜19(第29を径照)を有するインキ滴センサ によシ、Y77向におけるインキ済の位置が検出され、列方向に走行する導体路 18.19を有するインキ渦センサ1】′にょシX方向における位置が検出され る。インキシセンサ11のI!JjJ#::ウインドウ22に河する、選択され たノズルDi からのインキ流9の噴射の後にセンサブロックは・インキシセン サ11′の*−iウィンドウ22がノズルプレート2に対向して位置するまで並 進追動によシx方向においてシフトされる(矢印PF1の方向)o次いでこのノ ズルDi から再びインキ@9が噴射される。他方、完全な位it調整は、イン キ涙センサ11を具備するセンサブロック23が、選択されたノズルDi から のインキ流9のI!jr豹後に90°だけ回転され、次いでノズルDi が再・ びインキ流9の噴射に作動され、これによシノズルDi からのインキ流9のX 位置及びY位tItが検出される場合にはただ1つのインキシセンサ11によっ ても可能である(矢印PF2の方0と接続することができ、その際に、プリンタ 制御製置によシ作動されその815度のインキシセンサ11.11′を選択する 切換ヌインチを設けなければならない。
2つのインキシセンサ11 、11’のために、2つの別個の評価回路20を設 けることも可能であることは自明である。
印刷位&設定の精度又はインキ記録ヘッド1のノズルの傾斜噴射の尺度は、第9 図に示されている装置によシ固定することが可能である。
この場合、インキ流又はインキ流の飛翔が(ノズルのI!J東1東口10剖力測 定して)約30脳まで厳密の回線状に行われるという認識から出発している。従 って・飛翔軌道が湾曲していることによシ発生する位@調整の際に精度の偲下を 覚悟しなければならないことなしに、インキシセンサ11を比較的太きい間隔を おいてノズルフレート2の前に配置することができる。この状況を明瞭にするた めに、2方向においてZM−ZP区間だけ間隔をおいている、軸x、y、zを有 する2としている。この仮想細面PEの内に、実際の印刷動作の際に記録する記 録担体が位置する。検■動作の間にインキ@は記←担体にではなく、インキシセ ンサ11の噴射ウィンドウ22の表面に9j′船される。測定面22はこの図に おいて従って鴨航ウィンドウ22をトす。インキ記録ヘッド1a2つの座標系を 基準として、ノズルからのインキ流の9t1方向がzr8に平行に走行するよう に位置決めされている。インキ配録ヘッド1の製作の際に完全には排除すること のできない公差に起因シて、ノ/CルDi から鳴見、されるインキ流は、要求 されるように、仮想細面PEを座葆位tILXso I l 、Ysol lに おいて貫通するのではなく座標位&X1st、Yistにおいて頁通し、従って 測定面MEを座標位置X1st’。
Yjst’において命中する。この観察のための前提として、(第3図及び第4 囚に示されている)センサズレ−との間の間隔2Mを増那することによシ、間隔 ZMに比伸1して増加する、仮想に一//:、/”面PEを基準とする位置又は 傾斜スプレーの設定の¥P度が得られる。目標値位置からのずれはこの場合に式 し△XとΔY とは、対応する目標値及び実際値の間の差を示す。
810図はインキ滴信号の制御及び評価装置のブロック回路図を示す。
第1図に示されている記録ヘッド10個々の噴射ノズル3は、インターフェース SSを介してマイクロンロセツサ匍j御中央制御装置ZSと接続されている通常 のように構成されている記録ヘッド制御装置sTを介してmlされる。中央制御 装置ZSからリセット信号Rが、第5図ないし男7図を用込て説明した評価回路 20に供給され、評価回路20はセンサ信号SM1をインターフェースSSを介 して中央制御装置ZsK送出する。センサンレート12の上の櫛状コンタクト1 4のコンタクト面Ml、M2は直接に評価回路2oと接続されているのに対して 、それぞれ個々の導体路18の;ンタクト面Ki と評価回路2oとの間のリー ド線の途中に、電気的に制御可能な切換素子Si が挿入接続されている。切換 素子S1 の圧力@は並列接続されておシ、評価回路20と接続されている。中 央t+j御兵置装Sにより節、・御される通常のように構成されているアドレヌ テコーダADKよシ僅々の切換素子Sj は順次に作動することができる。選択 されたノズルDi がものインキ流のI!Jj#の後に5中央制t1装&ZSか ら制御され迅速に順次の、アドレステコーダADを介して個々のアドレス指定の 可能な切換素子S1が制御される。2つの隣接する導体路18.19の短絡によ る、評価回路20にょ9検出された拒抗値食化にょシこのようにして噴射能力の 他に噴射ウィンドウ22におけるインキ流の命中場所も検出することができる。
DJJ=ウィンドウ22の幾何学的形状はインキ記録ヘッドIKお性る対比する ノズル配置に整合されている。
インキシセンサ11によシ個々のノズルの’J射能力のみを検査する場合には噴 射ウィンドウ22の高さは、インキ記録ヘッド1の外9リノスルの垂匣高さに整 合される。噴射ウィンドウ22の幅はインキ糎記録ヘッド1のノズル’Jj射仙 域の水平方向の拡がシに整合されているOクズ/1−配置が1列の場合には狭幅 の噴射ウィンドウ22で済み、多重列の場合には対応して広幅の噴射ウィンドウ 22が必要である。場所的に分離されているノズル列を時間的にのみ順次に9i L射ウインドウ22に指向することも可能でるる。これは有おでちる、何故なら ば個々のノズルの噴射テストは時間的に順次にのみ即ち同時にではなく行われ、 狭幅の噴射ウィンドウ22は本装置の幅を狭くひいてはプリンタシャシの幅を狭 くすることを可能にするからである。
インキ記録ヘッド1が例えば製作工程の後に続いてI!J東・能力の他に印刷位 置1度の検量も行う場合には、その側面長が少なくとも、インキ記録ヘッドlの 外側ノズルの垂M間隔に整合吉れているインキ滴センサ11の噴芽・ウィンドウ 22のために方形形状を選択しなければならない。これによシ、インキ滴センサ 】1を90°だけ回転した場合又は互いに90°回転されている2つのインキ籠 センサ11 、11’を使用した場合にインキ滴が吠えウィンドウ22の中で到 過することが保証さnる。
本発明に従って1!!成されている装置のオリ用及び使用のために、この装置を 央際の却刷佃域の外、例1えば左シ又は右側の行端縁部に設けると有利である。
インキ漬噴射を監視するために又は簡の命中を検出するために及び印刷位置誤り を検出するためにインキ記録ヘッドlはこの位置に動かされ、この位置でインキ 記録へラド1は前述のインキ渭センサ11に一定の間隔をおいて対向して位置す る。インキ記録ヘッド1がこの位置をfl−えば靜止状態又り各記録部ち印刷開 始の前にと)、作動開始に監視動作が先行することが可能であ夛、このようにす ると有オ(である。この場合に1つ又は脅鯵の噴射ノズルの故障が検出されると 、独往公知の多くのインキ記録ヘッドにおいて設けられている手動又は0勲で実 施可能な圧力増加によシ逼当な時点で、清掃効果を有する短時間の洗浄を行うこ とができる。
本発明はこれまで、インキ噴身τ、の監視のためと印刷位置調整精度のために印 刷装置の中に設けるために説明された。しかし、本発明の装置を個々のインキ酒 の飛翔速度を測定し調整するために用いることも本発明の範口内におる。吹射ノ ズルとインキ洒センサの表面との間の間隔は既知であるので、これは、I!J射 及び命中の時点を検出するだけで行える。この検出は例えばフリンタ年・Th装 置の中で、電子的コストをそれほどかりずに可能である。この可能性は伺よシも 、多重の噴射ノズルを有するインキ記処ヘッドの製作の場合に著しい木魚を提供 する、何故ならばこの場合には、個々の1子構成部品及び(例えば圧電素子等の )セラミック構成部品における完全には回避できない公差に起因して、制御回路 及び駆勲素子及びインキチャネル及びシ委、ノズルから取る各個々のシステムを 補償しなければ々らないからでわる。
前述のインキ決検出装置は、臼刷藪首の中に簡単に取付は及び交換でき更に完全 自動取付けの可能性t−提供するコンパクトで小型の構成形態を特榮とする・本 装置は、多重ノズル形記伽ヘッドで動作するインキジェットプリンタの中に開方 に有21−= K取付けることができるだけでなく、経済的な品質保証にも適す る、何故ならば本装置は多重ノズル形記鉛ヘッドの製作及び持続的試運転の場合 に有牙′、Iに用いることができるからでちる。
参照記号 】−・インキ記録ヘッド、2−ノス/L−7レート、3−I5j#lノズル、4 −ヘッド部%5−インキチャネル、6−駆wJ素子、7−インキ供給部、8−イ ンキ供給管、9−インキ滴、10−・間隔、l 1 、 l 1’−インキ滴セ ンサ、12 、12’−センサブレート、13−シートケーブル、14−・・櫛 状コンタクト、15.16・一部分層、17・−吸込みブロック、18.19・ −導体路、2〇−評価回路、21−・組法シート、22−19iF射ウインドウ 、23−センサブロック、3〇−固定抵抗、31−11定抵抗、32−比較器、 33−・復′v@器、34.39・・−抵抗、35 、36−fi分素子、37 −双安定マルチバイブレータ回路、38・−又流気圧発生器、八−導体路の略、 B−導体路の間隔、D−インキ滴の1径、Di −ノズル、し−・櫛状コンタク ト及び導体路の高さ、Pl。
・−・厚さ、S M−センサ信号、T−ピッチ、Llm−レ時電圧値、Llmm 一時間電圧平均値、+U−電圧、PFI。
PF2−矢印、蘭x、tv+2.に1・−にi−K 32−コンタクト面、ST −記録へラード制御装置、SS−インターフェース、AD−アドレステコータ、 ZM、ZP−・間隔、ME・−測定面、PE−・仮想に面、zS−中央制御装置 、X、V、Z・−座標軸、Si・−切要素子。
FIG 2 FIG5 FIG7 FIG 10 国際調査報告

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.インキ滴の命中を検出するインキ滴センサ(11)によるインキ印刷装置の 中のインキ記録ヘッド(1)の個々の噴射ノズル(3)の印刷位置検出方法にお いて、 a)所定のピツチ寸法(T)で配置されている導体路(18,19)を有する、 第1の位置に位置決めされているセンサブレート(12)に対する、噴射ノズル (3)から噴射された少なくとも1つのインキ滴の命中後に印刷装置の中央制御 装置(ZS)が、個々に切換素子(Si)を介してアドレス指定可能である、セ ンサフレート(12)の導体路(18)に導体路(18,19)の間の抵抗値変 化に関して質問し、 b)この抵抗値変化を評価回路(20)が評価しこれに基づいて、第1の検出方 向(X)におけるインキ滴の命中位置を表す第1のセンサ信号(SM)を中央制 御装置(ZS)に送出し、 C)センサブレート(12)を、第1の位置に対して回転されている第2の位置 に動かし、再び噴射ノズル(3)をインキ滴の噴射に作動し、命中個所において 短絡された導体路(18,19)の抵抗変化を再び、中央制御装置(ZS)から 制御される切換素子(Si)を介して評価回路(20)に供給し、評価回路(2 0)は、第2の検出方向(Y)における命中個所に対応して第2のセンサ信号( SM)を中央制御装置(ZS)に供給し、 d)印刷装置の中央制御装置(ZS)が、このようにして得られた2つのセンサ 信号(SM)を結合し、従って噴射ノズル(3)から噴射されたインキ滴の命中 個所の完全な位置検出を保証することを特徴とするインキ記録ヘッドの個々の噴 射ノズルの印刷位置検出方法。 2.センサブレート(12)の、完全な位置検出に必要であり互いにず九ている 位置に、インキ滴センサ(11)の相応する回転により達することを特徴とする 請求項1に記載のインキ記録ヘッドの個々の噴射ノズルの印刷位置検出方法。 3.センサブレート(12)の、完全な位置検出に必要な互いにずれている位置 が互いに別個の2つのセンサフレート(12,12′)を得られようにし、セン サブレート(12,12′)は双方ともにセンサブロック(23)の上に装着し 、センサブロック(23)を、命中個所の検出すべき座横位置(X,Y)に対応 して並進運動的にインキ滴ヘッド(1)のノズルブレート(2)の前を動かすこ とを特徴とする請求項1に記載のインキ記載ヘッドの個々の噴射ノズルの印刷位 置検出方法。 4.インキ滴の命中を検出するインキ滴センサ(11)によるインキ印刷装置の 中のインキ記録ヘッド(1)の個々の噴射ノズル(3)の印刷位置検出方法にお いて、 a)インキ記録ヘッド(1)の連動領域の中に間隔(10)をおいて噴射ノズル (3)の前に少なくとも1つのセンサブレート(12)を配置し、b)センサブ レート(12)の、噴射ノズル(3)に対向して位置する表面を櫛状電極として 構造化し、この櫛構造を形成する導体路(18,19)が、導体路(18,19 )の幅(A)と間隔(B)とを決めるピツチ(T)を有し、 C)すべての導体路(18)に、センサブレート(12)の上のコンタクト面( K1−K32)を介して外部から接触接続することができ、導体路(19)を櫛 状コンタクト(14)と接続し、導体路(19)に共通のコンタクト面(M1, M2)を介して外部から接触接続することができ、 d)導体路(18,19)を電気的に評価回路(20)と接続し、評価回路(2 0)は、センサブレート(12)の櫛状電極の表面に少なくとも1つの滴が命中 すると発生する、2つの隣接する導体路(18,19)の間の抵抗値変化を評価 してセンサ信号(SM)を送出し、 e)コンタクト面(K1−K32)と評価回路(20)との間のリード縁の途中 に電子制御可能な切換素子(Si)を挿入接続し、切換素子(Si)は印刷装置 の中央制御装置(ZS)によりアドレスデコーダ(AD)を介して順次に制御す ることができることを特徴とするインキ記録ヘッドの個々の噴射ノズルの印刷位 置検出装置。 5.インキ滴センサ(11)を、90°回転可能なセンサブロック(23)の上 に配置することを特徴とする請求項4に記載のインキ記録ヘッドの個々の噴射ノ ズルの印刷位置検出装置。 6.互いに90°だけ回転されている2つのセンサブレート(12,12′)を 有する2つの別個のインキ滴センサ(11,11′)を、並進的にインキ記録ヘ ッド(1)のノズルブレートの前を運動可能なセンサブロック(23)の上に配 置することを特徴とする請求項4に記載のインキ記録ヘッドの個々の噴射ノズル の印刷位置検出装置。 7.個々のインキ滴の命中を監視するために櫛状構造のビソチ(T)を単一のイ ンキ滴の直径(D)に等しいかまたは大きくとる(T≦D)ことを特徴とする請 求項4ないし6のうちのいずれか1項に記載のインキ記録ヘッドの個々の噴射ノ ズルの印刷位置検出装置。 8.その都度の1つの噴射ノズル(3)から噴射された複数の単一滴の順次の命 中を監視するために櫛状構造のピツチ(T)を単一の滴の直径(D)よりおおき くとる(T>D)ことを特徴とする請求項4ないし6のうちのいずれか1項に記 載のインキ記録ヘッドの個々の噴射ノズルの印刷位置検出装置。 9.吸込みブロック(17)が、吸込み能力を有する非導電性の材料から成るこ とを特徴とる請求項4に記載のインキ記録ヘッドの個々の噴射ノズルの印刷位置 検出方法。 10.吸込みブロック(17)が、異なる多孔性を有し同一又は異なる厚さを有 しかつ吸込み能力を有する非導電性の材料の少なくとも2つの部分層(15,1 6)から成り、 個々の層の多孔性が、櫛状電極からの間隔の増加とともに増加する(P2>P1 )ことを特徴とする請求項8に記載のインキ記録ヘッドの個々の噴射ノズルの印 刷位置検出装置。 11.センザブロツク(23)を印刷領域の外に、有利には印刷領域の左側又は 右側にプリンタシャシに配置することを特徴とする請求項5又は6に記載のイン キ記録ヘッドの個々の噴射ノズルの印刷位置検出装置。 12.評価回路(20)が、固定抵抗(30)と導体路(18,19)の端子( Ki,M1,M2)の間の抵抗(31)とから成っていて直流電源(+U)に接 続されている分圧器回路と、分圧器回路の分圧器点に接続されている比較器(3 2)と、比較器(32)の出力側を介して制御することのできる双安定マルチバ イブレータ回路(37)とを有し、分圧器回路(30,31)の分圧器点におい て調整される電圧値(Um)が一方では直接に比較器(32)の一方の入力側に 、他方では積分素子(35,36)を介して時間的平均値(Umm)として他方 の入力側に供給され、比較器(32)の出力側を介して端子(Ki,M1,M2 )の間の抵抗変化に依存して双安定マルチバイブレータ回路(37)を切換制御 してセンサ信号(SM)を送出し、 中央制御装置(ZS)におけるセンサ信号(SM)の評価後に双安定マルチバイ ブレータ回路(37)をリセット信号(R)により再びリセツトすることを特徴 とする請求項1に記載のインキ記録ヘッドの個々の噴射ノズルの印刷位置検出装 置。 13.評価回路(20)が、固定抵抗(30)と導体路(18,19)の端子( Ki,M1,M2)の間の抵抗(31)とから成っていて、交流電圧発生器(3 8)に接続されている分圧器回路と、分圧器回路(30,31)の分圧器点に接 続されている復調器回路(33)とを有し、 復調器回路(33)の出力側を一方では直接に比較器(32)の一方の入力側に 、他方では積分素子(35,36)を介して他方の入力側に接続し、比較器(3 2)の出力側を介して端子(Ki,M1,M2)の間の抵抗変化に依存して双安 定マルチバイブレータ回路(37)を切換制御してセンサ信号(SM)を送出し 、 センサ信号(SM)の評価後に双安定マルチバイブレータ回路(37)をリセッ ト信号(R)により再びリセットすることを特徴とする請求項1に記載のインキ 記録ヘッドの個々の噴射ノズルの印刷位置検出装置。
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