JPH0346611A - マルチビーム走査光学装置 - Google Patents
マルチビーム走査光学装置Info
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- JPH0346611A JPH0346611A JP1183308A JP18330889A JPH0346611A JP H0346611 A JPH0346611 A JP H0346611A JP 1183308 A JP1183308 A JP 1183308A JP 18330889 A JP18330889 A JP 18330889A JP H0346611 A JPH0346611 A JP H0346611A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は、レーザープロッタ、カラースキャナ等の画
像走査記録装置におけるマルチビーム走査光学装置に関
し、特に記録面」二における複数の光ビームの像(光点
)相互の間隔(ピッチ)を、光点径を変えることなく変
更することのできるビーム間隔調整手段を備えたマルチ
ビーム走査光学装置に関する。
像走査記録装置におけるマルチビーム走査光学装置に関
し、特に記録面」二における複数の光ビームの像(光点
)相互の間隔(ピッチ)を、光点径を変えることなく変
更することのできるビーム間隔調整手段を備えたマルチ
ビーム走査光学装置に関する。
(従来の技術)
スキャナやプリンタなどの画像走査記録装置においては
、複製画像を記録する際の露光時間を短縮すること等の
ために、複数の光ビームを同時に感光材上に結像させて
露光するマルチビーム走査方式が用いられている。そし
て、記録される複製画像が網目版画像の場合には、個々
の網点は所定数の光ビームの走査によって形成されてい
る。
、複製画像を記録する際の露光時間を短縮すること等の
ために、複数の光ビームを同時に感光材上に結像させて
露光するマルチビーム走査方式が用いられている。そし
て、記録される複製画像が網目版画像の場合には、個々
の網点は所定数の光ビームの走査によって形成されてい
る。
一方、特に製版用の画像走査記録装置では、複製画像の
網点のピッチを所定の範囲内で変更できる機能を有する
ことが必要で、その際網点のピッチを変更しても、1つ
の網点を形成するための光ビームの数は変わらないのが
普通である。従って、網点のピッチを変更する場合には
、光ビームの感光組上の像(以下、「光点」と呼ぶ。)
のピッチも網点ピッチに比例して変更する必要がある。
網点のピッチを所定の範囲内で変更できる機能を有する
ことが必要で、その際網点のピッチを変更しても、1つ
の網点を形成するための光ビームの数は変わらないのが
普通である。従って、網点のピッチを変更する場合には
、光ビームの感光組上の像(以下、「光点」と呼ぶ。)
のピッチも網点ピッチに比例して変更する必要がある。
このような光点のピッチを変更する装置としては、例え
ば時開)1((60−169820号公開に開示された
ものなどが知られている。この装置では、ズームレンズ
を用いて光点のピッチを変化させているため、光点のピ
ッチを大きくすると、光点の直径(以下、「光点径」と
呼ぶ。)も大きくなる。
ば時開)1((60−169820号公開に開示された
ものなどが知られている。この装置では、ズームレンズ
を用いて光点のピッチを変化させているため、光点のピ
ッチを大きくすると、光点の直径(以下、「光点径」と
呼ぶ。)も大きくなる。
(発明が解決しようとする課題)
ところが、光点が大きくなると、それに応して光点内の
強度分布か緩やかになる。従って、光点があまり大きく
なり過ぎると、露光された網点の境界がはけてくるとい
う問題がある。特に、10の主走査の距離が長い平面走
査型スキャナなどでは光学系の制約から光点ピッチが小
さいときにも光点径をあまり小さくできないので、この
問題が大きい。すなわち、光点ピッチが小さいときに、
比較的大きな光点径(例えば約20t= m )の光点
て走査するように光学系を設定し、ズームレンズを用い
て光点ピッチを3倍にすると、光点径が約60μmとな
ってしまう。このような大きな光点径の光ビームで網点
を露光すれば、上述のように網点の境界かひどくはけて
しまうことになる。
強度分布か緩やかになる。従って、光点があまり大きく
なり過ぎると、露光された網点の境界がはけてくるとい
う問題がある。特に、10の主走査の距離が長い平面走
査型スキャナなどでは光学系の制約から光点ピッチが小
さいときにも光点径をあまり小さくできないので、この
問題が大きい。すなわち、光点ピッチが小さいときに、
比較的大きな光点径(例えば約20t= m )の光点
て走査するように光学系を設定し、ズームレンズを用い
て光点ピッチを3倍にすると、光点径が約60μmとな
ってしまう。このような大きな光点径の光ビームで網点
を露光すれば、上述のように網点の境界かひどくはけて
しまうことになる。
槌って、このような平面走査型スキャナなどにおいては
、光点径を変えずに光点ピッチを変更できることが望ま
しい。
、光点径を変えずに光点ピッチを変更できることが望ま
しい。
(発明の目的)
この発明は従来技術における上述の課題を解決するため
になされたものであり、光点径を変えずに光点ピッチを
変更することのできるビーム間隔調整手段を備えたマル
チビーム走査光学装置を堤供することを目的とする。
になされたものであり、光点径を変えずに光点ピッチを
変更することのできるビーム間隔調整手段を備えたマル
チビーム走査光学装置を堤供することを目的とする。
(課題を解決するための手段)
上述の課題を解決するため、この発明では、複数の光ビ
ームを合成して合成ビームとするビーム合成手段と、前
記合成ビームを所定の記録面上に結像させる結像レンズ
とを備えたマルチビーム走査光学装置において、前記ビ
ーム合成手段の入射側にビーム間隔調整手段を設ける。
ームを合成して合成ビームとするビーム合成手段と、前
記合成ビームを所定の記録面上に結像させる結像レンズ
とを備えたマルチビーム走査光学装置において、前記ビ
ーム合成手段の入射側にビーム間隔調整手段を設ける。
このビーム間隔調整手段は、前記複数の光ビームのすべ
ての光ビームの光路上、または1本を除くすべての光ビ
ームの光路上にそれぞれ配設されて前記光ビームの光軸
を所定の方向に所定の角度傾ける第1の偏向手段と、当
該第1の偏向手段の出射側にそれぞれ配設されて前記所
定の方向と逆方向に前記光軸を前記所定の角度傾ける第
2の偏向手段と、前記第1と第2の偏向手段を相対的に
平行移動させるための駆動手段とを備えている。
ての光ビームの光路上、または1本を除くすべての光ビ
ームの光路上にそれぞれ配設されて前記光ビームの光軸
を所定の方向に所定の角度傾ける第1の偏向手段と、当
該第1の偏向手段の出射側にそれぞれ配設されて前記所
定の方向と逆方向に前記光軸を前記所定の角度傾ける第
2の偏向手段と、前記第1と第2の偏向手段を相対的に
平行移動させるための駆動手段とを備えている。
なお、当該第1と第2の偏向手段に入射する光ビーム自
体は平行ビームでないことが必要である。
体は平行ビームでないことが必要である。
そして、前記駆動手段によって、各光ビームの光路上に
それぞれ設けられた前記第1と第2の偏向手段の組のそ
れぞれを相対的に平行移動させることにより、前記記録
面上における複数の光点の間隔を調整する。
それぞれ設けられた前記第1と第2の偏向手段の組のそ
れぞれを相対的に平行移動させることにより、前記記録
面上における複数の光点の間隔を調整する。
なお、第1と第2の偏向手段の組が光路上に設置された
光ビームが、2本以」二存在するとともに、駆動手段は
、前記第1と第2の偏向手段を相対的に平行移動させる
に際して、各光ビームにおける前記第1と第2の偏向手
段の移動量を互いに整数比に保つように構成されている
ことが好ましい。
光ビームが、2本以」二存在するとともに、駆動手段は
、前記第1と第2の偏向手段を相対的に平行移動させる
に際して、各光ビームにおける前記第1と第2の偏向手
段の移動量を互いに整数比に保つように構成されている
ことが好ましい。
さらに、第1と第2の偏向手段のそれぞれは、互いに等
しい偏角で光ビームを屈折するブリスムであって、かつ
、互いに近つけて重ね合わせると平行平板を構成するよ
うな位置関係で配置されていることが好ましい。
しい偏角で光ビームを屈折するブリスムであって、かつ
、互いに近つけて重ね合わせると平行平板を構成するよ
うな位置関係で配置されていることが好ましい。
なお、偏向手段としては、ブリスムのほかに、鏡やAO
M (音響光学変調器)などを用いることもできる。
M (音響光学変調器)などを用いることもできる。
(作用)
第1と第2の偏向手段を相対的に平行移動させると、こ
れらを通過した後の光ビームは、通過前の光ビームから
平行移動する。そして、その移動量は偏向手段の移動量
に比例する。従って、例えば2木の光ビームのうち、1
本の光ビームをこのビーム間隔調整手段で平行移動させ
れば、記録面」二ての2個の光点のピッチが変わる。一
方、ズムレンスを用いていないので、記録面へ収束する
光ビームの収束角は変化せず、その結果光点径の大きさ
は変わらない。
れらを通過した後の光ビームは、通過前の光ビームから
平行移動する。そして、その移動量は偏向手段の移動量
に比例する。従って、例えば2木の光ビームのうち、1
本の光ビームをこのビーム間隔調整手段で平行移動させ
れば、記録面」二ての2個の光点のピッチが変わる。一
方、ズムレンスを用いていないので、記録面へ収束する
光ビームの収束角は変化せず、その結果光点径の大きさ
は変わらない。
また、第1と第2の偏向手段が光路上に設置された光ビ
ームが、2本以上あるときに、各光ビームにおける偏向
手段の移動量を整数比に保つようにすれば、各光ビーム
に対応する記録面上の光点のピッチも、その整数比に従
って変化する。
ームが、2本以上あるときに、各光ビームにおける偏向
手段の移動量を整数比に保つようにすれば、各光ビーム
に対応する記録面上の光点のピッチも、その整数比に従
って変化する。
(実施例)
A、装置の全体構成
第1図は、この発明の一実施例としてのマルチビーム走
査光学装置MSAを示す概略斜視図である。図において
、レーザ発振器1から出射されたレーザービームLtは
、第1レンズ2により発散光となる。このレーサービー
ムL1はミラー3によって反射された後、マルチビーム
制御機構4に人別する。
査光学装置MSAを示す概略斜視図である。図において
、レーザ発振器1から出射されたレーザービームLtは
、第1レンズ2により発散光となる。このレーサービー
ムL1はミラー3によって反射された後、マルチビーム
制御機構4に人別する。
マルチビーム制御機構4には、この発明の特徴部である
ビーム間隔調整手段が設けられている。
ビーム間隔調整手段が設けられている。
このマルチビーム制御機構4では、し−一す−ビームL
が4本の光ビームL 、L 、L 、Ldl、
a
b cに分割され、その0N10FF状態
や、ビーム間隔調整手段を通過した光ビームL −L
d相互のピッチが調整されるが、その詳細については後
述する。
が4本の光ビームL 、L 、L 、Ldl、
a
b cに分割され、その0N10FF状態
や、ビーム間隔調整手段を通過した光ビームL −L
d相互のピッチが調整されるが、その詳細については後
述する。
4木の光ビームは、マルチビーム制御機構4内で見かけ
上1本の光ビームL2に合成されて出射する。この合成
光ビームL2はミラー5で反射された後、ポリゴンミラ
ー6によって偏向される。
上1本の光ビームL2に合成されて出射する。この合成
光ビームL2はミラー5で反射された後、ポリゴンミラ
ー6によって偏向される。
ポリゴンミラー6で偏向された合成光ビームL2は走査
レンズ8およびミラー9を介して記録面10上で結像す
る。なお、図の記録面10上には、合成光ビームL2が
結像した結果として得られる4つの隣接した光点の軌跡
R−Rdが拡大して示されている。
レンズ8およびミラー9を介して記録面10上で結像す
る。なお、図の記録面10上には、合成光ビームL2が
結像した結果として得られる4つの隣接した光点の軌跡
R−Rdが拡大して示されている。
この図からもわかるように、ポリゴンミラー6がモータ
7で駆動されて同転することによって、記録面10上の
y方向(主走査方向)に合成光ビームL2の主走査が行
われる。また、レーサビーム発振器1からミラー9まて
の機構と記録面10とをX方向(副走査方向)に相対的
に移動させることにより、副走査が行われる。
7で駆動されて同転することによって、記録面10上の
y方向(主走査方向)に合成光ビームL2の主走査が行
われる。また、レーサビーム発振器1からミラー9まて
の機構と記録面10とをX方向(副走査方向)に相対的
に移動させることにより、副走査が行われる。
B、マルチビーム制御機構の構成
第2A図はマルチビーム制御機構4を拡大して示す概略
斜視図であり、第2B図はその概略平面図である。
斜視図であり、第2B図はその概略平面図である。
マルチビーム制御機構4に入射されたレーザビームL1
は、集光レンズ410によって絞り込まれ、後述する音
響光学変調器(AOM)451〜454内で結像する収
束光となる。このレーザビームLtは水平面と45°の
方向に偏波面を持つ直線偏光である。
は、集光レンズ410によって絞り込まれ、後述する音
響光学変調器(AOM)451〜454内で結像する収
束光となる。このレーザビームLtは水平面と45°の
方向に偏波面を持つ直線偏光である。
集光レンズ410を通過したレーザビームL1は4本の
光ビームに分割される。すなわち、まず無偏光ビームス
プリッタ42]で互いに光量の等しい2木の光ビームL
L に分割される。こab’ cd のうち、無偏光ビームスプリッタ421を直進した光ビ
ームLa1)は、偏光ビームスプリッタ422によって
さらに2本の光ビームL、L、、に分割される。そして
、光ビームLbはさらにミラー431で反射されてX方
向に平行に進む光ビームになる。一方、無偏光ビームス
プリッタ42]て反射された光ビームL。0は一旦ミラ
ー432で反射された後、偏光ビームスプリッタ423
て2木の光ビームL、Ldに分割される。そして、光ビ
ームLdはさらにミラー433て反射されてX方向に平
行に進む光ビームになる。この結果、光量が互いに等し
い4本の光ビームL −Ldが形成される。なお、こ
れらの光ビームL −Ldをそれぞれ第1〜第4チヤ
ンネルの光ビームと呼ぶ。
光ビームに分割される。すなわち、まず無偏光ビームス
プリッタ42]で互いに光量の等しい2木の光ビームL
L に分割される。こab’ cd のうち、無偏光ビームスプリッタ421を直進した光ビ
ームLa1)は、偏光ビームスプリッタ422によって
さらに2本の光ビームL、L、、に分割される。そして
、光ビームLbはさらにミラー431で反射されてX方
向に平行に進む光ビームになる。一方、無偏光ビームス
プリッタ42]て反射された光ビームL。0は一旦ミラ
ー432で反射された後、偏光ビームスプリッタ423
て2木の光ビームL、Ldに分割される。そして、光ビ
ームLdはさらにミラー433て反射されてX方向に平
行に進む光ビームになる。この結果、光量が互いに等し
い4本の光ビームL −Ldが形成される。なお、こ
れらの光ビームL −Ldをそれぞれ第1〜第4チヤ
ンネルの光ビームと呼ぶ。
X方向に進む4本の光ビームL −Ldは、それぞれ
平行平面板441〜444を通過した後、AOM451
〜454の中で集光する。すなわち、集光レンズ4]0
から各AOM451〜454までの光路長が等しくなっ
ている。
平行平面板441〜444を通過した後、AOM451
〜454の中で集光する。すなわち、集光レンズ4]0
から各AOM451〜454までの光路長が等しくなっ
ている。
平行平面板441〜444は、各AOM451〜454
の内部におけるトランスデユーサ45]a〜454aか
ら光ビームL −Ldの結像位置までの距離を調整す
るためのものである。これらの平行平面板441〜44
4は、図示しない支持構造を個別に調節することによっ
て、光ビーム1 L −L 、+の光軸と直交する水平な回転輔、ずな
わちY方向の軸を中心として互いに独立して傾けられる
ようになっている。そして、平行平面板441〜444
の傾きを調整すると、各光ビームL −L 、!がA
OM451〜454に入射する高さ(Z方向の位置)が
変化する。トランスデユー451a−454aはAOM
451−454の最上部に設けられており、光ビームL
−Ldの入射高さが変化すると、各トランスデユー
サ451a−454aから光ビームL −Ldの結像
位置までの距離が変化する。従って、平行平面板441
〜444の傾きを個別に調整することによって、トラン
スデユーサ451.a 〜454aにON・OFF信号
を人力してから各光ビームLa〜Ldが実際に0N10
FFされるまでの遅延時間を耳いに一致させることがで
きる。
の内部におけるトランスデユーサ45]a〜454aか
ら光ビームL −Ldの結像位置までの距離を調整す
るためのものである。これらの平行平面板441〜44
4は、図示しない支持構造を個別に調節することによっ
て、光ビーム1 L −L 、+の光軸と直交する水平な回転輔、ずな
わちY方向の軸を中心として互いに独立して傾けられる
ようになっている。そして、平行平面板441〜444
の傾きを調整すると、各光ビームL −L 、!がA
OM451〜454に入射する高さ(Z方向の位置)が
変化する。トランスデユー451a−454aはAOM
451−454の最上部に設けられており、光ビームL
−Ldの入射高さが変化すると、各トランスデユー
サ451a−454aから光ビームL −Ldの結像
位置までの距離が変化する。従って、平行平面板441
〜444の傾きを個別に調整することによって、トラン
スデユーサ451.a 〜454aにON・OFF信号
を人力してから各光ビームLa〜Ldが実際に0N10
FFされるまでの遅延時間を耳いに一致させることがで
きる。
各AOM451〜454から出射された1次回折光L
−L、は水平面(XY平面)から傾いているので、偏
心レンズ461〜464によってそれぞれ水平な光ビー
ムに修正される。これらの光 2 ビームLA−LDは、ビーム間隔調整機構に入射する。
−L、は水平面(XY平面)から傾いているので、偏
心レンズ461〜464によってそれぞれ水平な光ビー
ムに修正される。これらの光 2 ビームLA−LDは、ビーム間隔調整機構に入射する。
ビーム間隔調整機構は、第1プリズム601〜604と
、第2〜第4チヤンネルの第1プリズム602〜604
のためのホルダー612〜6]4と、第2プリズム62
1〜624と、ビンガイド板490と、アーム板4つ]
と、ナツト部493と、モータ494と、ネジ部495
とを備えている。なお、ビンガイド板490.アーム板
49]。
、第2〜第4チヤンネルの第1プリズム602〜604
のためのホルダー612〜6]4と、第2プリズム62
1〜624と、ビンガイド板490と、アーム板4つ]
と、ナツト部493と、モータ494と、ネジ部495
とを備えている。なお、ビンガイド板490.アーム板
49]。
ナツト部493.モータ494およびネジ部495は、
図示の都合上第2B図では省略されている。
図示の都合上第2B図では省略されている。
第2〜第4チヤンネルの光ビームL −LDの■
ための第1プリズム602〜604は、特別なホルダー
612〜614にそれぞれ入れられている。
612〜614にそれぞれ入れられている。
第3図は、このうちの1つのホルダー613を示す斜視
図である。ホルダー613は外筒613aの中に内筒6
]3bが滑らかに摺動できるように嵌入されている。内
筒613bの中には第1プリズム603か固定されてい
る。また、内筒613bは、その外面から外側に伸びる
駆動ピン6]3Cを有しており、駆動ピン613Cは、
外筒613aに設けられた長平方向のスリット613d
を貫通して外部に突出している。この駆動ピン613c
を光軸方向くホルダー613の長平方向)に動かすこと
によって、第1プリズム603を光軸方向に沿って滑ら
かに平行移動させることができる。
図である。ホルダー613は外筒613aの中に内筒6
]3bが滑らかに摺動できるように嵌入されている。内
筒613bの中には第1プリズム603か固定されてい
る。また、内筒613bは、その外面から外側に伸びる
駆動ピン6]3Cを有しており、駆動ピン613Cは、
外筒613aに設けられた長平方向のスリット613d
を貫通して外部に突出している。この駆動ピン613c
を光軸方向くホルダー613の長平方向)に動かすこと
によって、第1プリズム603を光軸方向に沿って滑ら
かに平行移動させることができる。
ホルダー61.2〜6]4のそれぞれの駆動ピン612
C〜614Cは、ホルダー612〜614の上方に設置
されたビンガイド板490のビンガイド穴490b〜4
90dにそれぞれ挿通されている。ビンガイド穴490
b〜490dは光軸と平行なX方向に沿って伸びる長孔
である。第4図は、第1プリズム6(Ill〜604と
ホルダー612〜614とビンガイド板490とをX方
向から見た正面図である。この実施例では第1プリズム
601〜604が等間隔て配置されている。また、第2
チヤンネルと第4チヤンネルのホルダー612.614
は、それぞれの駆動ピン612c、614Cが鉛直上向
きから時訓回りに所定の角度量 4 転した位置になるように設置されている。そして、アー
ム板491の支点(連結ピン492の中心)から、駆動
ピン612 c −61−4cの作用点Pa2〜Pa4
(駆動ピン612C〜614Cがアーム板491の端面
491a(第2A図参照)によって押される点)までの
距離の比は2:5ニアになっている。このような作用点
Pa2〜Pa4の配列は、後述するインターレース走査
方法との関連で定められている。
C〜614Cは、ホルダー612〜614の上方に設置
されたビンガイド板490のビンガイド穴490b〜4
90dにそれぞれ挿通されている。ビンガイド穴490
b〜490dは光軸と平行なX方向に沿って伸びる長孔
である。第4図は、第1プリズム6(Ill〜604と
ホルダー612〜614とビンガイド板490とをX方
向から見た正面図である。この実施例では第1プリズム
601〜604が等間隔て配置されている。また、第2
チヤンネルと第4チヤンネルのホルダー612.614
は、それぞれの駆動ピン612c、614Cが鉛直上向
きから時訓回りに所定の角度量 4 転した位置になるように設置されている。そして、アー
ム板491の支点(連結ピン492の中心)から、駆動
ピン612 c −61−4cの作用点Pa2〜Pa4
(駆動ピン612C〜614Cがアーム板491の端面
491a(第2A図参照)によって押される点)までの
距離の比は2:5ニアになっている。このような作用点
Pa2〜Pa4の配列は、後述するインターレース走査
方法との関連で定められている。
アーム板491とビンガイド板490とは、連結ピン4
92によって回転自在に連結されている。
92によって回転自在に連結されている。
また、アーム板491には、連結ピン492と反対側の
端部にナツト部493が固定されており、このナツト部
493は、モータ494の回転軸に連結されたネジ部4
95と螺会されている。モタ494は、図示しない支持
構造によってマルチビーム制御機構4の粘合(図示せず
)側に固定されており、モータ494が回転すると、ア
ーム板49]が連結ピン492を支点として同動する。
端部にナツト部493が固定されており、このナツト部
493は、モータ494の回転軸に連結されたネジ部4
95と螺会されている。モタ494は、図示しない支持
構造によってマルチビーム制御機構4の粘合(図示せず
)側に固定されており、モータ494が回転すると、ア
ーム板49]が連結ピン492を支点として同動する。
なお、ホルダー612〜614の駆動ピン6125
C〜614cは、ビンガイド板490の下面に設けられ
た図示しない支持構造と、バネ612e〜6]、4e(
第3図参照)によって連結されている。
た図示しない支持構造と、バネ612e〜6]、4e(
第3図参照)によって連結されている。
この結果、駆動ピン612c〜614cは常に(−X)
方向に付勢されてアーム板491に押しつけられている
。
方向に付勢されてアーム板491に押しつけられている
。
連結ピン492の中心として規定されるアーム板491
の支点は、第1チヤンネルの光ビームL の光軸の真上
にあり、この支点と3つの駆動ビン612C〜614c
とは水平面内の一直線上に並んでいる。また、支点から
3つの駆動ピン61、2 c〜614Cの作用点Pa2
〜”a4までの距離の比は前述したように2:5ニアで
ある。
の支点は、第1チヤンネルの光ビームL の光軸の真上
にあり、この支点と3つの駆動ビン612C〜614c
とは水平面内の一直線上に並んでいる。また、支点から
3つの駆動ピン61、2 c〜614Cの作用点Pa2
〜”a4までの距離の比は前述したように2:5ニアで
ある。
モータ494の回転によりネジ部495が回転すると、
アーム板491が水平面内で同動し、駆動ピン612c
〜614cがX方向に押される。
アーム板491が水平面内で同動し、駆動ピン612c
〜614cがX方向に押される。
この結果、第1プリズム602〜604がX方向に平行
移動する。このように第1ブリスム602〜604を平
行移動させることによって、4本の光ビームLA”Ll
)が記録面10上に結像する像 6 (光点)のピッチを調整することができるが、その詳細
については後述する。なお、第1チヤンネルにおかれた
第1プリズム601はこの実施例では移動させる必要が
ないが、各チャンネルの光路長を備えるために配置して
あり、図示しない支持機構によって基台側に固定されて
いる。
移動する。このように第1ブリスム602〜604を平
行移動させることによって、4本の光ビームLA”Ll
)が記録面10上に結像する像 6 (光点)のピッチを調整することができるが、その詳細
については後述する。なお、第1チヤンネルにおかれた
第1プリズム601はこの実施例では移動させる必要が
ないが、各チャンネルの光路長を備えるために配置して
あり、図示しない支持機構によって基台側に固定されて
いる。
第1プリズム601〜604を通過した各光ビームLA
−LDは、さらに第2プリズム621〜624をそれぞ
れ通過する。この第2ブリスム621〜624は、第1
プリズム601〜604によって傾いた光軸を再びX方
向に平行な方向に揃えるためのものである。
−LDは、さらに第2プリズム621〜624をそれぞ
れ通過する。この第2ブリスム621〜624は、第1
プリズム601〜604によって傾いた光軸を再びX方
向に平行な方向に揃えるためのものである。
4本の光ビームL t、 −L Dは、次のようにして
見かけ」−1本の合成光ビームL2に合成される。
見かけ」−1本の合成光ビームL2に合成される。
まず、第1チヤンネルの光ビームLAはミラー434で
反射された後、偏光ビームスプリッタ424によって第
2チヤンネルの光ビーム” +3と合成されて合成光ビ
ームLABとなる。一方、第3チヤンネルの光ビームT
、cもミラー435で反11、Jされた後、偏光ビーム
スプリッタ425によって第47 チャンネルの光ビームLDと合成されて合成光ビームL
cDとなる。さらに、2本の合成光ビームL 、L
は無偏光ビームスプリッタ426によAI’3
CD って合成光ビームL21に合成される。なお、無偏光ビ
ームスプリッタ426から出射されるもう1本の合成光
ビームL22は記録面10での露光に用いられない。従
って、合成光ビーム■、21の光量は、合成前の4本の
光ビームL 〜L、の合羽の光量へ の約半分である。
反射された後、偏光ビームスプリッタ424によって第
2チヤンネルの光ビーム” +3と合成されて合成光ビ
ームLABとなる。一方、第3チヤンネルの光ビームT
、cもミラー435で反11、Jされた後、偏光ビーム
スプリッタ425によって第47 チャンネルの光ビームLDと合成されて合成光ビームL
cDとなる。さらに、2本の合成光ビームL 、L
は無偏光ビームスプリッタ426によAI’3
CD って合成光ビームL21に合成される。なお、無偏光ビ
ームスプリッタ426から出射されるもう1本の合成光
ビームL22は記録面10での露光に用いられない。従
って、合成光ビーム■、21の光量は、合成前の4本の
光ビームL 〜L、の合羽の光量へ の約半分である。
合成光ビームL21は、AOM451〜454から出射
された0次光と1次光とをともに含むが、このうちO・
次光はO次光カッター51.0によってカットされる。
された0次光と1次光とをともに含むが、このうちO・
次光はO次光カッター51.0によってカットされる。
0次光を露光に用いないのは、0次光がAOM451〜
454によって0N10FF制御できない光だからであ
る。0次光は1次光の下方側を通っているので、O次光
カッター510は、1次光のみを通過させるように合成
光ビームL21の下方側に設置されている。
454によって0N10FF制御できない光だからであ
る。0次光は1次光の下方側を通っているので、O次光
カッター510は、1次光のみを通過させるように合成
光ビームL21の下方側に設置されている。
このようにして、0次光がカットされた合成光ビームL
2は、コリメータレンズ520を通過し、平行光として
マルチビーム制御機構4から出射される。
2は、コリメータレンズ520を通過し、平行光として
マルチビーム制御機構4から出射される。
なお、上記のマルチビーム制御機構4の中で制御される
4本の光ビームL A ” L nのうち、例えば第1
および第3チヤンネルの光ビームLA。
4本の光ビームL A ” L nのうち、例えば第1
および第3チヤンネルの光ビームLA。
Loの偏波面は水平であり、第2および第4チヤンネル
の光ビームL、LDの偏波面は垂直てあ3 る。すなわち、隣接する2本の光ビームは互いに偏波面
が直交している。このようにするのは、記録面10」二
の4つの光点の位置が互いに近接しているときに、隣接
する光点同士で干渉を起こさないようにするためである
。
の光ビームL、LDの偏波面は垂直てあ3 る。すなわち、隣接する2本の光ビームは互いに偏波面
が直交している。このようにするのは、記録面10」二
の4つの光点の位置が互いに近接しているときに、隣接
する光点同士で干渉を起こさないようにするためである
。
C,ビーム間隔調整の原理
次に、ビーム間隔調整機構4におけるビーム間隔調整の
原理について説明する。
原理について説明する。
第5A図および第5B図は、第1プリズムの平行移動に
よって光ビームが平行移動する様子を示す概念図である
。第5A図において、光ビームL。がX方向に進行して
おり、その光路上に第1プリズム603と第2プリズム
623とが配置されている。第1プリズム603と第2
プリズム623はともにXZ断面がくさび形であり、4
r7.いに等しい頂角αを有している。そして、第1ブ
リスム603の入射面603aと、第2プリズム623
の出射面623aとは、どちらも光ビームL。の光軸に
対して垂直になっている。さらに、第1プリズム60B
の出射面603bと、第2プリズム623の入射面62
3bとは互いに平行であり、光軸に垂直な面から、Y方
向に平行な輔を中心として頂角αと等しい角度たけ傾い
ている。すなわち、第1ブリスム603と第2プリズム
623とは、重ね合わせると平行平板となるように配置
されている。さらに、第1プリズム603と第2プリズ
ム623とは等しい材質で作成されている。
よって光ビームが平行移動する様子を示す概念図である
。第5A図において、光ビームL。がX方向に進行して
おり、その光路上に第1プリズム603と第2プリズム
623とが配置されている。第1プリズム603と第2
プリズム623はともにXZ断面がくさび形であり、4
r7.いに等しい頂角αを有している。そして、第1ブ
リスム603の入射面603aと、第2プリズム623
の出射面623aとは、どちらも光ビームL。の光軸に
対して垂直になっている。さらに、第1プリズム60B
の出射面603bと、第2プリズム623の入射面62
3bとは互いに平行であり、光軸に垂直な面から、Y方
向に平行な輔を中心として頂角αと等しい角度たけ傾い
ている。すなわち、第1ブリスム603と第2プリズム
623とは、重ね合わせると平行平板となるように配置
されている。さらに、第1プリズム603と第2プリズ
ム623とは等しい材質で作成されている。
このとき、第1プリズム603の出射光の偏角iは次式
で−jjえられる。
で−jjえられる。
i 4 α (n−1−)
・・・(1)ここで、nニブリズムの屈折率 光ビームL。が第2プリズム623を通過するとその先
軸が再びX方向と平行になる。光ビーム9 Lcが第1プリズム603と第2プリズム623とを通
過することによって下行移動するm h oは、次式で
与えられる。
・・・(1)ここで、nニブリズムの屈折率 光ビームL。が第2プリズム623を通過するとその先
軸が再びX方向と平行になる。光ビーム9 Lcが第1プリズム603と第2プリズム623とを通
過することによって下行移動するm h oは、次式で
与えられる。
ho=セ tani ・・・(
2)ここで1.l!:第1プリズム603の出射位置か
ら第2プリズム623の入射位置まで の距離(これは、第1プリズムと第 2プリズムのそれぞれの内向面60 3b、623bの距離投。にほぼ等 しい。) 第5A図の状態から、第1プリズム603を第5B図に
示すようにX方向にΔXだけ移動させると、光ビームの
平行移動量ΔZ1は次式で与えられる。
2)ここで1.l!:第1プリズム603の出射位置か
ら第2プリズム623の入射位置まで の距離(これは、第1プリズムと第 2プリズムのそれぞれの内向面60 3b、623bの距離投。にほぼ等 しい。) 第5A図の状態から、第1プリズム603を第5B図に
示すようにX方向にΔXだけ移動させると、光ビームの
平行移動量ΔZ1は次式で与えられる。
Δz1=ΔX tan i −(3)
例えば第1.第2プリズム603,623の頂角αが5
°であり、その屈折率nの値が光ビームLCの波長に対
して1 、51.5であれば、(])式より1= 2.
58°となる。そして、第1プリズム603を10m+
n(=ΔX)移動させれば、(3)式ヨリ、光ビームL
。の平行移動量ΔZ1は0.45mmとなる。
例えば第1.第2プリズム603,623の頂角αが5
°であり、その屈折率nの値が光ビームLCの波長に対
して1 、51.5であれば、(])式より1= 2.
58°となる。そして、第1プリズム603を10m+
n(=ΔX)移動させれば、(3)式ヨリ、光ビームL
。の平行移動量ΔZ1は0.45mmとなる。
0
なお、第5A図と第5B図とは第3チヤンネルのプリズ
ム603.623について説明したが、第2.第4チヤ
ンネルにおけるプリズムも、上記と同様に配置されてい
る。すなわち、第2.第4チヤンネルにおいても、それ
ぞれの第1プリズム602.604がX方向に平行移動
すると、光ビームL 、 Ll)がX方向に平行移
動するように第3 1プリズムと第2プリズムが配置されている。第2、第
4チヤンネルの駆動ピン61.2c、614Cは、前述
のように鉛直方向から傾いているが、第1プリズム60
2,604と第2プリズム622.624は、他のチャ
ンネルの第1プリズム601、.603.第2プリズム
62]、、623とそれぞれ同じ向きに配置されている
。さらに、アーム板49]によって駆動ビン6]2c〜
614cが押されていない状態では、第1〜第4チヤン
ネルの各々の第1プリズムと第2プリズムの距離セ0は
等しくなっている。
ム603.623について説明したが、第2.第4チヤ
ンネルにおけるプリズムも、上記と同様に配置されてい
る。すなわち、第2.第4チヤンネルにおいても、それ
ぞれの第1プリズム602.604がX方向に平行移動
すると、光ビームL 、 Ll)がX方向に平行移
動するように第3 1プリズムと第2プリズムが配置されている。第2、第
4チヤンネルの駆動ピン61.2c、614Cは、前述
のように鉛直方向から傾いているが、第1プリズム60
2,604と第2プリズム622.624は、他のチャ
ンネルの第1プリズム601、.603.第2プリズム
62]、、623とそれぞれ同じ向きに配置されている
。さらに、アーム板49]によって駆動ビン6]2c〜
614cが押されていない状態では、第1〜第4チヤン
ネルの各々の第1プリズムと第2プリズムの距離セ0は
等しくなっている。
第6A図および第6B図は、アーム板491の移動量と
第1プリズムの移動量の関係を示す概念図である。いま
、第6A図に示すように、アーム板49]の支点P、と
、ホルダー613の駆動ピン6]3cへのアーム板49
]の作用点Pa3とのy1離をbとし、支点P とアー
ム板491上のカ点Pr(ネジ部495がアーム板49
1を押す点)とのV巨離をaとする。そして、第6B図
に示すように、力点Prを距離Sたけ動がすことにより
、作用点PR3を距離ΔXだけ移動さげたとき、移動量
ΔXは次式で+5えられる。
第1プリズムの移動量の関係を示す概念図である。いま
、第6A図に示すように、アーム板49]の支点P、と
、ホルダー613の駆動ピン6]3cへのアーム板49
]の作用点Pa3とのy1離をbとし、支点P とアー
ム板491上のカ点Pr(ネジ部495がアーム板49
1を押す点)とのV巨離をaとする。そして、第6B図
に示すように、力点Prを距離Sたけ動がすことにより
、作用点PR3を距離ΔXだけ移動さげたとき、移動量
ΔXは次式で+5えられる。
ΔX = b s / a ・・
・(4)(1)〜(4〉式を使用ずれば、モータ494
によって、アーム板491の力点Prを距離sだけ移動
させたときの光ビームL。の高さ方向の移動量ΔZ1を
算出できる。ずなわち、力点P、の移動距離Sと光ビー
ムL。の平行移動量ΔZ1は次式%式% (5) ここで、値a、b、 α、nは定数なので、(5)式
は次のように書換えられる。
・(4)(1)〜(4〉式を使用ずれば、モータ494
によって、アーム板491の力点Prを距離sだけ移動
させたときの光ビームL。の高さ方向の移動量ΔZ1を
算出できる。ずなわち、力点P、の移動距離Sと光ビー
ムL。の平行移動量ΔZ1は次式%式% (5) ここで、値a、b、 α、nは定数なので、(5)式
は次のように書換えられる。
ΔZI =ko sb ・・、(
6)タ コ このように、平行移動量△Z1は、(6)式のように、
距離Sに比例する一次関数で与えられる。
6)タ コ このように、平行移動量△Z1は、(6)式のように、
距離Sに比例する一次関数で与えられる。
一方、第4図にも示したように、第1チヤンネルから、
第2〜第4チヤンネルの各駆動ビンの作用点Pa2〜P
a4までのY方向の距離の比は、第1チヤンネルと第2
チヤンネルとの距離を2boで表わせば、2b :5
b ニアboである。そこ0 て、(6)式の値すに2b 、5b 、7boを代
0 人すれば、アーム板491を距離Sだけ動かしたときの
、第2〜第4チヤンネルの光ビームLn〜LI)の平行
移動量ΔZr3〜ΔZDが次のように表わされる。
第2〜第4チヤンネルの各駆動ビンの作用点Pa2〜P
a4までのY方向の距離の比は、第1チヤンネルと第2
チヤンネルとの距離を2boで表わせば、2b :5
b ニアboである。そこ0 て、(6)式の値すに2b 、5b 、7boを代
0 人すれば、アーム板491を距離Sだけ動かしたときの
、第2〜第4チヤンネルの光ビームLn〜LI)の平行
移動量ΔZr3〜ΔZDが次のように表わされる。
ΔZ =2k b 5=2k s −(7
a)+3 0 0 1 ΔZ =5k b 5=5k s ・・・
(7b)C001 ΔZ =7k b 5−7k s ・・・
(7c)D 00 1 但し、k t (”” k o b o )は定数で
ある。
a)+3 0 0 1 ΔZ =5k b 5=5k s ・・・
(7b)C001 ΔZ =7k b 5−7k s ・・・
(7c)D 00 1 但し、k t (”” k o b o )は定数で
ある。
(7a)〜(7c)式かられかるように、アーム板49
]を距離Sたけ移動させたとき、第2〜第4チヤンネル
の光ビームL ”” L DのZ方向の平行移動量Δ
Zn〜ΔZDは2・5ニアの比を保っている。
]を距離Sたけ移動させたとき、第2〜第4チヤンネル
の光ビームL ”” L DのZ方向の平行移動量Δ
Zn〜ΔZDは2・5ニアの比を保っている。
アーム板491を移動させると第2〜第4チヤンネルの
光ビームLn〜LDか平行移動し、後で詳しく述べるよ
うに、この平行移動量に応じて記録面10」二の光点の
位置も変化する。徒って光ビームLA−LDの記録面1
0上の4つの光点の距離の比が常に2:5ニアに保たれ
るように光点相互のピッチが変化する。つまり、光点相
互のピッチは常に2:3:2に保たれる。
光ビームLn〜LDか平行移動し、後で詳しく述べるよ
うに、この平行移動量に応じて記録面10」二の光点の
位置も変化する。徒って光ビームLA−LDの記録面1
0上の4つの光点の距離の比が常に2:5ニアに保たれ
るように光点相互のピッチが変化する。つまり、光点相
互のピッチは常に2:3:2に保たれる。
第7図は、ビーム間隔調整機構における光ビームの平行
移動量と、記録面上の光点位置のずれ量との関係を示す
概念図である。図に示すように、光ビームL はAOM
453内で1度結像し、第1プリズム603.第2プリ
ズム623.コリメータレンズ520および走査レンズ
8を通過して記録面10上で再び結像する。すなわち、
AOM453内の結像面と記録面10とは共役となって
いる。これは他のAOM451..452,454も同
様である。なお、実際の光ビームL。の像1 、I
は円形たが、本図では図示の都合上、2 矢印で示している。
移動量と、記録面上の光点位置のずれ量との関係を示す
概念図である。図に示すように、光ビームL はAOM
453内で1度結像し、第1プリズム603.第2プリ
ズム623.コリメータレンズ520および走査レンズ
8を通過して記録面10上で再び結像する。すなわち、
AOM453内の結像面と記録面10とは共役となって
いる。これは他のAOM451..452,454も同
様である。なお、実際の光ビームL。の像1 、I
は円形たが、本図では図示の都合上、2 矢印で示している。
つへ
記録面]0上の像12の大きさは、次に示すようにAO
M453内の像11の大きさの1/2となる。まず、A
OM453内に絞り込まれる光ビームL の開■数NA
、の値は]、 / 80である。
M453内の像11の大きさの1/2となる。まず、A
OM453内に絞り込まれる光ビームL の開■数NA
、の値は]、 / 80である。
一方、記録面10上に絞り込まれる光ビームL2の開口
数N A 2の値は]/40である。従って、これらの
光ビームL、L2の間の角倍率(=NA /NA、)
の値は2であり、その横倍率(−1/(角倍率))の値
は1/2である。横倍率はAOM453内の像■1の大
きさに対する記録面10上の像■2の大きさの比を示す
値である。従っで、像I は像11の1/2の大きさと
なる。
数N A 2の値は]/40である。従って、これらの
光ビームL、L2の間の角倍率(=NA /NA、)
の値は2であり、その横倍率(−1/(角倍率))の値
は1/2である。横倍率はAOM453内の像■1の大
きさに対する記録面10上の像■2の大きさの比を示す
値である。従っで、像I は像11の1/2の大きさと
なる。
このように、光ビームL とL2の間の横倍率が1/2
であるので、第1プリズム603を移動させて光ビーム
L。をZ方向にΔZ1だけ平行移動させると、記録面1
0上の光点の位置は1/2・Δz1だけ移動する。
であるので、第1プリズム603を移動させて光ビーム
L。をZ方向にΔZ1だけ平行移動させると、記録面1
0上の光点の位置は1/2・Δz1だけ移動する。
すなわち、プリズム603,623を透過する光ビーム
が平行光でさえなければ(収束光または発散光であれば
)、プリズム603,623の位 6 置と記録面10の間の横倍率は零でなく、ブリスム60
3.623を透過する光ビームの平行移動にともなって
記録面10上の光点の位置は移動する。また、このプリ
スム603,623はAOM453からビーム合成手段
までの光路上の仔意の位置に配置できる。
が平行光でさえなければ(収束光または発散光であれば
)、プリズム603,623の位 6 置と記録面10の間の横倍率は零でなく、ブリスム60
3.623を透過する光ビームの平行移動にともなって
記録面10上の光点の位置は移動する。また、このプリ
スム603,623はAOM453からビーム合成手段
までの光路上の仔意の位置に配置できる。
なお、第1.第2プリズム603,623は光ビームL
。を平行移動させるたけであり、像Iの大きさを変えて
いないので、記録面10上の像(光点)I2の大きさは
変わらない。また、ここで発生する球面収差、非点収差
は充分小さく、無視できる程度である。
。を平行移動させるたけであり、像Iの大きさを変えて
いないので、記録面10上の像(光点)I2の大きさは
変わらない。また、ここで発生する球面収差、非点収差
は充分小さく、無視できる程度である。
第1および第2プリズムによる光ビー、ムの平行移動量
と記録面10上の光点の移動量との関係は、第2〜第4
チヤンネルで共通である。従って、ビーム間隔調整機構
で第2〜第4チヤンネルの光ビームLB−LDが2+5
ニアの比でZ方向に平行移動すれば、記録面10 J:
のそれぞれの光点の位置も2:5ニアの比で移動する。
と記録面10上の光点の移動量との関係は、第2〜第4
チヤンネルで共通である。従って、ビーム間隔調整機構
で第2〜第4チヤンネルの光ビームLB−LDが2+5
ニアの比でZ方向に平行移動すれば、記録面10 J:
のそれぞれの光点の位置も2:5ニアの比で移動する。
第8図は、光点ピッチを変更した場合の記録面7
上の光点の位置変化の例を示す図である。まず、状態C
]において、光ビームL13〜L、Dの光点I 〜■
は、光ビームLAの光点IAからそれl31) ぞれ副走査方向(X方向)に11.2μm、 28.0
μmおよび392μmの距離にある。そして、光点ピッ
チの比は2・3・2になっている。また、各光点1 −
11)は直径的20μmの田である。
]において、光ビームL13〜L、Dの光点I 〜■
は、光ビームLAの光点IAからそれl31) ぞれ副走査方向(X方向)に11.2μm、 28.0
μmおよび392μmの距離にある。そして、光点ピッ
チの比は2・3・2になっている。また、各光点1 −
11)は直径的20μmの田である。
その後、ビーム間隔調整機構を動作させることによって
、状態C2になったとする。このとき、光点I から光
点IB−IDまでの距離はそれそれ342μm、 85
.5μmおよび119.7μmである。
、状態C2になったとする。このとき、光点I から光
点IB−IDまでの距離はそれそれ342μm、 85
.5μmおよび119.7μmである。
そして、光点ピッチの比は2:3・2に保たれている。
また、各光点IA−1,の直径も約20μmのままであ
る。
る。
状態C1は例えばスクリーン線数が200線/インチ、
状態C2は65線/インチの場合に相当するが、このよ
うに、光点ピッチを約3倍に拡大しても光点径を一定に
保ったまま、かつ、相互の光点ピッチを−・定の化生に
保っておくことができる。
状態C2は65線/インチの場合に相当するが、このよ
うに、光点ピッチを約3倍に拡大しても光点径を一定に
保ったまま、かつ、相互の光点ピッチを−・定の化生に
保っておくことができる。
8
以上のように、この実施例では、アーム板4つ1をモー
タ494で移動させるだけで、第1〜第4チヤンネルの
光ビームL −Ll)の記録面10上での光点1 −
IDの大きさを変えずに、かつ、相互のピッチの比を一
定に保ったまま光点ピッチを拡大したり縮小したりする
ことかできるという利点がある。
タ494で移動させるだけで、第1〜第4チヤンネルの
光ビームL −Ll)の記録面10上での光点1 −
IDの大きさを変えずに、かつ、相互のピッチの比を一
定に保ったまま光点ピッチを拡大したり縮小したりする
ことかできるという利点がある。
D、インターレース走査方式
上述のように、この実施例では光点IA〜■。
のピッチの比を2:3:2としている。もちろん、この
比を:1. : 1 : ]にしてもよく、この発明の
効果も変わらない。そして、最も111.純には、光点
ピッチの比を1 : 1. : 1として、さらに、光
点ピッチの値を副走査方向の走査ピッチと等しくするこ
とも可能である。
比を:1. : 1 : ]にしてもよく、この発明の
効果も変わらない。そして、最も111.純には、光点
ピッチの比を1 : 1. : 1として、さらに、光
点ピッチの値を副走査方向の走査ピッチと等しくするこ
とも可能である。
このとき、第9A図に示すように、走査ピッチp が光
点1 、I の直径d、よりも十分太きA
a b lときには問題はない。しかし、第9B図に示すように
、走査ピッチp が光点径d+と同等以下■ になると、隣接する光点I、T、、同士が下池して光点
I 、Ibの形状が乱れるという問題が生しる。
点1 、I の直径d、よりも十分太きA
a b lときには問題はない。しかし、第9B図に示すように
、走査ピッチp が光点径d+と同等以下■ になると、隣接する光点I、T、、同士が下池して光点
I 、Ibの形状が乱れるという問題が生しる。
隣接する光点I、I、の偏光方向を互いに直交させれば
、第9B図のような場合にも光点I 。
、第9B図のような場合にも光点I 。
■+)の形状か乱れることはない。しかし、走査ピッチ
pBがさらに小さくなると、1つおきの光点同士が違い
に干渉し合うようになる。
pBがさらに小さくなると、1つおきの光点同士が違い
に干渉し合うようになる。
そこで、このような問題を回避するために、この実施例
では光点’A−I+)のピッチを、副走査方向の走査線
ピッチの整数倍にしている。すなわち、走査線ピッチを
pとずれば、光点IA = Il)間の光点ピッチを2
p、3p、2pとしている(第8図参照)。このように
、光点線ピッチを走査線ピッチpよりも大きくして走査
する方式を、インターレース走査方式と、一般に呼んで
いる。
では光点’A−I+)のピッチを、副走査方向の走査線
ピッチの整数倍にしている。すなわち、走査線ピッチを
pとずれば、光点IA = Il)間の光点ピッチを2
p、3p、2pとしている(第8図参照)。このように
、光点線ピッチを走査線ピッチpよりも大きくして走査
する方式を、インターレース走査方式と、一般に呼んで
いる。
第10図は、この実施例におけるインターレース走査の
方法を示す概念図である。図に示すように、第1−〜第
4チャンネルの光点■A−IDは、光点ピッチが2p、
3p、 2pとなるように配列されている。従っ
て、11す11−1の走査では、光点 0 ■ 〜I がそれぞれ副走査方向位置X。、x2A
I) X およびx7において主走査方向yに沿って走査され
る。なお、この主走査に什い、必要に応じてAOM45
1〜454によって光ビームL 〜Ldが独立に0N1
0FF制御され、主走査線上の露光位置が決定されるこ
とは言うまでもない。
方法を示す概念図である。図に示すように、第1−〜第
4チャンネルの光点■A−IDは、光点ピッチが2p、
3p、 2pとなるように配列されている。従っ
て、11す11−1の走査では、光点 0 ■ 〜I がそれぞれ副走査方向位置X。、x2A
I) X およびx7において主走査方向yに沿って走査され
る。なお、この主走査に什い、必要に応じてAOM45
1〜454によって光ビームL 〜Ldが独立に0N1
0FF制御され、主走査線上の露光位置が決定されるこ
とは言うまでもない。
2回1ユ1の走査ては光点IA〜’ I)がそれぞれ副
走査方向位置X4、N6.X およびX11に配列さ
れる。1回口と2回「−1の走査ザイクルの間に送られ
る副走査方向の送りピッチは4pである。一般に、チャ
ンネル数をN。とすると、1走査サイクルの間に送られ
る副走査方向の距離はN。Xpで表わされる。なお、第
1−0図では図示の都合」二1回目〜4回目の主走査の
開始位置をずらせて書いているが、実際には同じ主走査
方向位置から走査を開始することは言うまでもない。
走査方向位置X4、N6.X およびX11に配列さ
れる。1回口と2回「−1の走査ザイクルの間に送られ
る副走査方向の送りピッチは4pである。一般に、チャ
ンネル数をN。とすると、1走査サイクルの間に送られ
る副走査方向の距離はN。Xpで表わされる。なお、第
1−0図では図示の都合」二1回目〜4回目の主走査の
開始位置をずらせて書いているが、実際には同じ主走査
方向位置から走査を開始することは言うまでもない。
第10図に示すように、主走査と副走査送りを繰り返し
ていくと、各副走査位置における主走査が必ず1回行わ
れ、しかも同じ副走査位置で主走査が2回行われること
か無い。副iJ=査方向の座標Xの左に示されたクラス
A−Dは、それぞれの副走査位置x −x が光点
IA−IDのうちのい0 19 すれによって走査されるかを示している。このように、
インターレース走査方式では、光点同士の干渉を防止し
つつ、複数の光点を用いて効率的に走査を行っていくこ
とができる。
ていくと、各副走査位置における主走査が必ず1回行わ
れ、しかも同じ副走査位置で主走査が2回行われること
か無い。副iJ=査方向の座標Xの左に示されたクラス
A−Dは、それぞれの副走査位置x −x が光点
IA−IDのうちのい0 19 すれによって走査されるかを示している。このように、
インターレース走査方式では、光点同士の干渉を防止し
つつ、複数の光点を用いて効率的に走査を行っていくこ
とができる。
なお、本実施例の走査レンズ8としては、疋弦歪曲特性
を持つレンズ(すなわちrslnθレンズ)が用いられ
ている。これは、主走査をする間に副走査方向の走査ピ
ッチpか変わらないようにするためである。(fθレン
ズを使用すると画角端て各光ビーム間の副走査方向のピ
ッチが変わる。)さらに、第10図では、複数の光点■
A−IDを副走査方向Xに一列に並べて主走査を行って
いる。こうずれば、光点I A”’−I nの主走査位
置は常に互いに同じなので、各チャンネルの光ビームL
−L、、をAOM451〜454でそれぞれON1
0 F F制御するための4つの制御信号を、常に互い
に同期させておけばよいからである。逆に言えば、光点
■ 〜IDを互いに主走査方向yに3 つ すらせて走査すると、そのずれ量に応じてAOM451
〜454の制御信号を遅延させることかできるように4
つの遅延回路を設けておかなくてはならない。
を持つレンズ(すなわちrslnθレンズ)が用いられ
ている。これは、主走査をする間に副走査方向の走査ピ
ッチpか変わらないようにするためである。(fθレン
ズを使用すると画角端て各光ビーム間の副走査方向のピ
ッチが変わる。)さらに、第10図では、複数の光点■
A−IDを副走査方向Xに一列に並べて主走査を行って
いる。こうずれば、光点I A”’−I nの主走査位
置は常に互いに同じなので、各チャンネルの光ビームL
−L、、をAOM451〜454でそれぞれON1
0 F F制御するための4つの制御信号を、常に互い
に同期させておけばよいからである。逆に言えば、光点
■ 〜IDを互いに主走査方向yに3 つ すらせて走査すると、そのずれ量に応じてAOM451
〜454の制御信号を遅延させることかできるように4
つの遅延回路を設けておかなくてはならない。
従って、マルチビームの走査方法としては、副走査方向
Xに沿って一列に光点■ 〜IDを配列し、かつ走査レ
ンズ8としてfsinθレンズを用いて走査を行うのが
最も好ましい。そして、この実施例では、このような走
査方法を維持しつつ、かつ、光点径を変化させずに光点
ピッチを変えることができるという利点がある。
Xに沿って一列に光点■ 〜IDを配列し、かつ走査レ
ンズ8としてfsinθレンズを用いて走査を行うのが
最も好ましい。そして、この実施例では、このような走
査方法を維持しつつ、かつ、光点径を変化させずに光点
ピッチを変えることができるという利点がある。
第11. A図〜第1.1− E図は、光点数を変えた
場合の種々のインターレース走査方式における光点の配
列を示す図である。このように、インターレス走査方式
は、光点の数N と光点ピッチの取り方によって多数の
変形が考えられる。
場合の種々のインターレース走査方式における光点の配
列を示す図である。このように、インターレス走査方式
は、光点の数N と光点ピッチの取り方によって多数の
変形が考えられる。
なお、このような他のインターレース走査方式を使用し
ても、上記実施例と同様のピッチ間隔調整機構を用いれ
ば、光点径を変えずに光点ピッチを変更できることは言
うまでもない。
ても、上記実施例と同様のピッチ間隔調整機構を用いれ
ば、光点径を変えずに光点ピッチを変更できることは言
うまでもない。
3
E、変形例
この発明は、上記実施例に限らず、次のような変形も可
能である。
能である。
■ 第1図、第2A図および第2B図に示す例では、1
本のレーザービームL1を、4本の光ビームL −L
dに分割したが、4本の光ビームL −Ldを形成する
ためのレーザ発振器を4つ用いてもよい。第12図は、
4つのレーザーダイオード1a〜1dをレーザ発振器と
して用いた場合の例を示す図である。各レーザーダイオ
ード]a〜1dから出射された光ビームL −Ldは
、それぞれ集光レンズ410a〜41. Odで収束光
とされた後、ビーム間隔調整機構の第1プリズム601
〜604に入射する。第12図の装置では、レーザ光を
4本の光ビームに分割するためのビームスプリツタやミ
ラーなどが不要であるばかりでなく、第2A図および第
2B図に示した要素のうちで、平行平面板441〜44
4.AOM451〜454.偏心レンズ461〜464
、および0次光力ツタ−510が不要である。これは、
レー 4 ザーダイオード]、 a 〜1. dの0N10FFを
レザーダイオード自体で個別に制御てきるのて、AOM
451〜454が不要になるからである。また、平行平
面板441〜444や偏心レンズ461〜464および
0次光力ツタ−510はAOMがなければ不要だからで
ある。
本のレーザービームL1を、4本の光ビームL −L
dに分割したが、4本の光ビームL −Ldを形成する
ためのレーザ発振器を4つ用いてもよい。第12図は、
4つのレーザーダイオード1a〜1dをレーザ発振器と
して用いた場合の例を示す図である。各レーザーダイオ
ード]a〜1dから出射された光ビームL −Ldは
、それぞれ集光レンズ410a〜41. Odで収束光
とされた後、ビーム間隔調整機構の第1プリズム601
〜604に入射する。第12図の装置では、レーザ光を
4本の光ビームに分割するためのビームスプリツタやミ
ラーなどが不要であるばかりでなく、第2A図および第
2B図に示した要素のうちで、平行平面板441〜44
4.AOM451〜454.偏心レンズ461〜464
、および0次光力ツタ−510が不要である。これは、
レー 4 ザーダイオード]、 a 〜1. dの0N10FFを
レザーダイオード自体で個別に制御てきるのて、AOM
451〜454が不要になるからである。また、平行平
面板441〜444や偏心レンズ461〜464および
0次光力ツタ−510はAOMがなければ不要だからで
ある。
■ 光ビームの本数は4本に限らず、2本以」−であれ
ば何本であってもこの発明か適用可能である。
ば何本であってもこの発明か適用可能である。
■ ビンガイド板490とアーム板491との支点(連
結ピン492)は、第1チヤンネルの光軸上にあるとし
たが、これに限らず、他の位置に支点をずらせてもよい
。(7a〉〜(7c)式の導出の際に述べたように、記
録面10上における各光点I 〜IDの移動量は、支点
から各チャンネルの駆動ピンの作用点までの距離に比例
する。従って、支点から各チャンネルの駆動ピンの作m
点までの比が整数倍になるようにすればよい。例えば、
支点の位置を第2〜第4チヤンネルのいずれかの光軸上
に決めてもよく、第1〜第4チヤンネルの光 5 輔以外の位置にしてもよい。
結ピン492)は、第1チヤンネルの光軸上にあるとし
たが、これに限らず、他の位置に支点をずらせてもよい
。(7a〉〜(7c)式の導出の際に述べたように、記
録面10上における各光点I 〜IDの移動量は、支点
から各チャンネルの駆動ピンの作用点までの距離に比例
する。従って、支点から各チャンネルの駆動ピンの作m
点までの比が整数倍になるようにすればよい。例えば、
支点の位置を第2〜第4チヤンネルのいずれかの光軸上
に決めてもよく、第1〜第4チヤンネルの光 5 輔以外の位置にしてもよい。
しかし、上記実施例のように1つのチャンネルの光軸上
に支点を位置させるようにすれば、そのチャンネルのプ
リズムを移動させる必要がないという利点がある。さら
には、そのチャンネルの記録面10上の光点の位置が、
光点ピッチを調整しても変化しないという利点もある。
に支点を位置させるようにすれば、そのチャンネルのプ
リズムを移動させる必要がないという利点がある。さら
には、そのチャンネルの記録面10上の光点の位置が、
光点ピッチを調整しても変化しないという利点もある。
なお、支点から各チャンネルの駆動ピンの作用点までの
比が整数倍になっていればよいので、各チャンネルの駆
動ピンをすべて鉛直上向きにしてもよい。このとき、各
チャンネルの光ビームLA〜L、は整数比のピッチで配
列される。
比が整数倍になっていればよいので、各チャンネルの駆
動ピンをすべて鉛直上向きにしてもよい。このとき、各
チャンネルの光ビームLA〜L、は整数比のピッチで配
列される。
■ さらに、プリズムを平行移動させる機構は、ビンガ
イド板490やアーム板491を用いたものに限らず、
他の機構や手段でもよい。特に、光ビームが2木の場合
には、そのうちの少なくとも1本の光ビームに対応した
プリズムを平行移動させて、その移動量を調整できるよ
うな駆動手段であればよい。但し、」二記実施例のよう
に、作用点Pa2〜Pa4(第4図参照)を光軸と平行
な方向に移動させれば、その移動量と記録面上での光点
の移動量が比例するので、ビーム間隔調整機構の構造が
簡単になるという利点がある。さらに、2本以上の光ビ
ームに対応したプリズムを平行移動させるときに、それ
らを所定の整数比で移動させるようにすれば、その整数
比に従って走査面」二の光点ピッチが変わるという利点
がある。
イド板490やアーム板491を用いたものに限らず、
他の機構や手段でもよい。特に、光ビームが2木の場合
には、そのうちの少なくとも1本の光ビームに対応した
プリズムを平行移動させて、その移動量を調整できるよ
うな駆動手段であればよい。但し、」二記実施例のよう
に、作用点Pa2〜Pa4(第4図参照)を光軸と平行
な方向に移動させれば、その移動量と記録面上での光点
の移動量が比例するので、ビーム間隔調整機構の構造が
簡単になるという利点がある。さらに、2本以上の光ビ
ームに対応したプリズムを平行移動させるときに、それ
らを所定の整数比で移動させるようにすれば、その整数
比に従って走査面」二の光点ピッチが変わるという利点
がある。
■ 上記実施例では、第5A図に示すように第1プリズ
ムの入射面603aと第2プリズムの出#1面623a
とが光軸に対して垂直であるとしたが、これらの面は光
軸に対して垂直でなくともよい。第13図は、第1プリ
ズム600の入剃面と第2プリズム620の反射面が光
軸に対して垂直でない場合を示す概念図である。第13
図の場合、第1プリズム600の出射光の偏角lは次式
で!jえられる。
ムの入射面603aと第2プリズムの出#1面623a
とが光軸に対して垂直であるとしたが、これらの面は光
軸に対して垂直でなくともよい。第13図は、第1プリ
ズム600の入剃面と第2プリズム620の反射面が光
軸に対して垂直でない場合を示す概念図である。第13
図の場合、第1プリズム600の出射光の偏角lは次式
で!jえられる。
i−φ−a+ 5in−’((n2− .2 ”2S
in φ) X slnα−aosa sinφ)l =
・(8)ここで、φ:第1プリズム600への光ビーム
Lの入射角 3 も なお、前記(1)式は(8)式においてφ−0と置いた
場合の近似式である。プリズムの頂角αが小さい場合に
は、(I)式による誤差は無視できる。
in φ) X slnα−aosa sinφ)l =
・(8)ここで、φ:第1プリズム600への光ビーム
Lの入射角 3 も なお、前記(1)式は(8)式においてφ−0と置いた
場合の近似式である。プリズムの頂角αが小さい場合に
は、(I)式による誤差は無視できる。
なお、このように第1プリズム600の人11面600
aを光軸に垂直な面から傾けたときにも、光ビームLが
第1プリズム600の出n=を面600bで全反射され
ることがないように、頂角αや角度φが設定される。但
し、頂角αは5°〜10゜が好ましく、このような場合
、通常は光ビームLが出射面600bて全反射されるこ
とはない。
aを光軸に垂直な面から傾けたときにも、光ビームLが
第1プリズム600の出n=を面600bで全反射され
ることがないように、頂角αや角度φが設定される。但
し、頂角αは5°〜10゜が好ましく、このような場合
、通常は光ビームLが出射面600bて全反射されるこ
とはない。
以上のように、第1−プリズムと第2プリズムとはJl
いに等しい偏角で光ビームを屈折するプリズムであれば
よく、また、互いに近づけて重ね合わせたときに平行平
板を構成するように配置されていればよい。
いに等しい偏角で光ビームを屈折するプリズムであれば
よく、また、互いに近づけて重ね合わせたときに平行平
板を構成するように配置されていればよい。
■ 上記実施例では、第5A図および第5B図に示すよ
うに、第1プリズムをX方向に移動させたが、第1プリ
ズムを(−X)方向に移動させてもよく、また、第2プ
リズムをX方向または(X)方向に移動させてもよい。
うに、第1プリズムをX方向に移動させたが、第1プリ
ズムを(−X)方向に移動させてもよく、また、第2プ
リズムをX方向または(X)方向に移動させてもよい。
さらには、どちらか一方をZ方向に移動させてもよい。
第14図は、第1ブリスム600をZ方向に平行移動さ
せた場合の概念図である。図において、第1ブリスム6
00のZ方向の移動量ΔZ と、光ビームのZ方向の移
動量ΔZ1との関係は次式で与えられる。
せた場合の概念図である。図において、第1ブリスム6
00のZ方向の移動量ΔZ と、光ビームのZ方向の移
動量ΔZ1との関係は次式で与えられる。
ΔZl=ΔZ ptanαtan i −(9
)ここで、α:第1−プリズム600の出射面600b
が入射光りの光軸となす角(=頂 角) このように、第1プリズムと第2プリズムとの組を用い
たときには、それぞれのプリズムの内向面(第14図の
面600bと620b)の相互距離が変化するように、
第1プリズムと第2プリズムとを相対的に平行移動させ
れば、光ビームの光点ピッチを調整することができる。
)ここで、α:第1−プリズム600の出射面600b
が入射光りの光軸となす角(=頂 角) このように、第1プリズムと第2プリズムとの組を用い
たときには、それぞれのプリズムの内向面(第14図の
面600bと620b)の相互距離が変化するように、
第1プリズムと第2プリズムとを相対的に平行移動させ
れば、光ビームの光点ピッチを調整することができる。
なお、この平行移動は、光軸Xを含む任意の平面(例え
ばXY\Iξ面やXZ平面)上の所定の直線に沿って行
えば容易である。
ばXY\Iξ面やXZ平面)上の所定の直線に沿って行
えば容易である。
■ 1組のプリズムのうち、1つのプリズムを 9
AOMに置換えてもよい。第15図は、第1プリズムの
かわりにAOM450を配置した場合の例を示す概念図
である。この場合には、第1図、第2A図および第2B
図から、偏心レンズ461〜464と、第1プリズム6
01〜604を省略できる。第15図では、AOM45
0による光ビームLの回折角lと、プリズム620によ
る偏角iとが等しくなるようにプリズム620を作成し
、配置している。こうすれば、AOM450への入射光
の光軸とプリズム620からの出射光の光軸とが平行に
なる。そして、プリズム620の入射面620bとAO
M4’50内の結像位置との相互距離夏が変化するよう
に、プリズム620を平行移動させることにより、光点
ピッチを調整することができる。
かわりにAOM450を配置した場合の例を示す概念図
である。この場合には、第1図、第2A図および第2B
図から、偏心レンズ461〜464と、第1プリズム6
01〜604を省略できる。第15図では、AOM45
0による光ビームLの回折角lと、プリズム620によ
る偏角iとが等しくなるようにプリズム620を作成し
、配置している。こうすれば、AOM450への入射光
の光軸とプリズム620からの出射光の光軸とが平行に
なる。そして、プリズム620の入射面620bとAO
M4’50内の結像位置との相互距離夏が変化するよう
に、プリズム620を平行移動させることにより、光点
ピッチを調整することができる。
■ また、プリズムをミラーで置換えてもよい。
第1.6A図は、第2プリズムのかわりにミラー430
を配置した場合の例を示す概念図である。この場合には
、第1−図、第2A図および第2B図から、第2プリス
ム621〜624を省略すること 0 ができる。第16 A図のミラー430は、これらの図
のミラー434,435とビームスプリッタ424.4
25とに対応している。第16 A図に示すように、プ
リズム600によって偏角1て廂折した光ビームLはミ
ラー430で反射され、これによって光軸がプリズム6
00に入射する前の光軸と平行になる。プリズム600
の移動量ΔXと、光ビームの平行移動量ΔZ1の関係は
、次式%式% () 第1.6 B図は、ミラー430によって、光ビームの
光軸を平行に戻す方法を示す概念図である。
を配置した場合の例を示す概念図である。この場合には
、第1−図、第2A図および第2B図から、第2プリス
ム621〜624を省略すること 0 ができる。第16 A図のミラー430は、これらの図
のミラー434,435とビームスプリッタ424.4
25とに対応している。第16 A図に示すように、プ
リズム600によって偏角1て廂折した光ビームLはミ
ラー430で反射され、これによって光軸がプリズム6
00に入射する前の光軸と平行になる。プリズム600
の移動量ΔXと、光ビームの平行移動量ΔZ1の関係は
、次式%式% () 第1.6 B図は、ミラー430によって、光ビームの
光軸を平行に戻す方法を示す概念図である。
図に示すように、ミラー430を輔A を中心に■
回転させてその角度を調整することにより、プリズム6
00への入射光りの光軸と、ミラー430の反射光L
の光軸が平行になる。M A は、ミOm ラー430の反射面430aの法線に垂直な第1の平面
と、ミラー430への入射光り、と反射光L とが形成
する平面に平行な任意の第2の平面とが交わる直線であ
る。第1図、第2A図および第2B図に対応して言えば
、ミラー434,435、およびビームスプリッタ42
4,425の角度をそれぞれ第1.6 B図のように調
整することにより、各チャンネルの光ビームの光軸を平
行に戻すことができる。なお、プリズム600の偏角i
は、プリズム600を平行移動しても変わらないので、
ミラー430は第16 B図のようにして1度調整した
後、固定される。
00への入射光りの光軸と、ミラー430の反射光L
の光軸が平行になる。M A は、ミOm ラー430の反射面430aの法線に垂直な第1の平面
と、ミラー430への入射光り、と反射光L とが形成
する平面に平行な任意の第2の平面とが交わる直線であ
る。第1図、第2A図および第2B図に対応して言えば
、ミラー434,435、およびビームスプリッタ42
4,425の角度をそれぞれ第1.6 B図のように調
整することにより、各チャンネルの光ビームの光軸を平
行に戻すことができる。なお、プリズム600の偏角i
は、プリズム600を平行移動しても変わらないので、
ミラー430は第16 B図のようにして1度調整した
後、固定される。
■ 第1図に示す走査レンズ8と第2A図および第2B
図に示すコリメータレンズ520は、まとめて↑つの結
像レンズにしてもよい。すなわち、これらのレンズ系は
合成光ビームL2を記録面]0上に結像させる結像レン
ズ系を構成していればよい。
図に示すコリメータレンズ520は、まとめて↑つの結
像レンズにしてもよい。すなわち、これらのレンズ系は
合成光ビームL2を記録面]0上に結像させる結像レン
ズ系を構成していればよい。
」−記した実施例はいずれも記録面を平面として図示し
、説明したが、例えば第17図に示す様な静止円筒(又
は円筒の一部)内面走査にも適用することができる。
、説明したが、例えば第17図に示す様な静止円筒(又
は円筒の一部)内面走査にも適用することができる。
(発明の効果)
以」二説明したしたように、この発明によれば、複数の
光ビームを合成光ビームとする前に、第1と第2の偏向
手段を通過させるようにし、これらの偏向手段を相対的
に平行移動させることによって結像面上での光ビームの
像(光点)のピッチを変えるように、マルチビーム光学
装置を構成したので、ズームレンズを用いずに光点ピッ
チを変えることができる。従って、光点径を変えずに光
点ピッチを変更することができるという効果がある。
光ビームを合成光ビームとする前に、第1と第2の偏向
手段を通過させるようにし、これらの偏向手段を相対的
に平行移動させることによって結像面上での光ビームの
像(光点)のピッチを変えるように、マルチビーム光学
装置を構成したので、ズームレンズを用いずに光点ピッ
チを変えることができる。従って、光点径を変えずに光
点ピッチを変更することができるという効果がある。
また、請求項2に記載したように構成すれば、偏向手段
が設置された光ビームが2木以」二ある場合に、結像面
上の光点のピッチが整数比を保つように変化するので、
複数の光点ピッチの比を常にその整数比に保ちつつ、光
点ピッチを変更することかできるという効果がある。
が設置された光ビームが2木以」二ある場合に、結像面
上の光点のピッチが整数比を保つように変化するので、
複数の光点ピッチの比を常にその整数比に保ちつつ、光
点ピッチを変更することかできるという効果がある。
さらに、請求項3に記載したように、偏向手段をプリズ
ムで構成すれば、ビーム間隔調整手段を簡単な構成で実
現できる。
ムで構成すれば、ビーム間隔調整手段を簡単な構成で実
現できる。
第1図および第2A図はこの発明の一実施例としてのマ
ルチビーム光学装置を示す概略斜祖図、 3 第2B図は第2A図の平面図、 第3図はプリズムのホルダーを示す斜視図、第4図はホ
ルダーとその駆動ピンの配置関係を示す正面図、 第5A図および第5B図はプリズムの移動と光ビームの
平行移動量の関係を示す説明図、第6A図および第6B
図はビーム間隔調整機構の動きとプリズムの移動量の関
係を示す説明図、第7図は光ビームの平行移動量と走査
面上の光点の移動量の関係を示す概念図、 第8図は光点ピッチの調整の例を示す説明図、第9A図
および第9B図は光点同士の干渉の有無を示す説明図、 第10図および第11 A図ないし第11E図はインタ
ーレース走査方式を示す説明図、第12図はこの発明の
他の実施例としてのマルチビーム光学装置を示す概略斜
視図、 第13図ないし第15図、第1.6 A図および第1、
6 B図は偏向手段の他の実施例を示す図、第17図は
記録面の変形例を示す概念図である。 4 1・・・レーザ発振器、 4・・・マルチビーム制御機構、 6・・・ポリゴンミラー 8・・・走査レンズ、
10.10a・・・記録面、 451〜454・・・音響光学変調器(AOM)、60
1〜604・・・第1プリズム、 612〜614・・・ホルダー 621〜624・・・第2プリズム、 612C〜614C・・・駆動ピン、
ルチビーム光学装置を示す概略斜祖図、 3 第2B図は第2A図の平面図、 第3図はプリズムのホルダーを示す斜視図、第4図はホ
ルダーとその駆動ピンの配置関係を示す正面図、 第5A図および第5B図はプリズムの移動と光ビームの
平行移動量の関係を示す説明図、第6A図および第6B
図はビーム間隔調整機構の動きとプリズムの移動量の関
係を示す説明図、第7図は光ビームの平行移動量と走査
面上の光点の移動量の関係を示す概念図、 第8図は光点ピッチの調整の例を示す説明図、第9A図
および第9B図は光点同士の干渉の有無を示す説明図、 第10図および第11 A図ないし第11E図はインタ
ーレース走査方式を示す説明図、第12図はこの発明の
他の実施例としてのマルチビーム光学装置を示す概略斜
視図、 第13図ないし第15図、第1.6 A図および第1、
6 B図は偏向手段の他の実施例を示す図、第17図は
記録面の変形例を示す概念図である。 4 1・・・レーザ発振器、 4・・・マルチビーム制御機構、 6・・・ポリゴンミラー 8・・・走査レンズ、
10.10a・・・記録面、 451〜454・・・音響光学変調器(AOM)、60
1〜604・・・第1プリズム、 612〜614・・・ホルダー 621〜624・・・第2プリズム、 612C〜614C・・・駆動ピン、
Claims (3)
- (1)複数の光ビームを合成して合成ビームとするビー
ム合成手段と、前記合成ビームを所定の光ビーム偏向手
段を介して記録面上に結像させる結像レンズとを備えた
マルチビーム走査光学装置において、 前記ビーム合成手段の入射側に、それぞれ非平行光であ
る複数の光ビームが入射するビーム間隔調整手段を設け
、 前記ビーム間隔調整手段は、前記複数の光ビームのすべ
ての光ビームの光路上、または1本を除くすべての光ビ
ームの光路上にそれぞれ配設されて前記光ビームの光軸
を所定の方向に所定の角度傾ける第1の偏向手段と、当
該第1の偏向手段の出射側にそれぞれ配設されて前記所
定の方向と逆方向に前記光軸を前記所定の角度傾ける第
2の偏向手段と、前記第1と第2の偏向手段を相対的に
平行移動させるための駆動手段とを備えており、前記駆
動手段によって、各光ビームの光路上にそれぞれ設けら
れた前記第1と第2の偏向手段の組のそれぞれを相対的
に平行移動させることにより、前記記録面上における複
数の光点の間隔を調整することを特徴とするマルチビー
ム走査光学装置。 - (2)第1と第2の偏向手段が光路上に設置された光ビ
ームが2本以上存在するとともに、駆動手段は、前記第
1と第2の偏向手段を相対的に平行移動させるに際して
、各光ビームにおける前記第1と第2の偏向手段の移動
量を互いに整数比に保つように構成されている請求項1
記載のマルチビーム走査光学装置。 - (3)第1と第2の偏向手段は、互いに等しい偏角で光
ビームを屈折するプリズムであって、かつ、互いに近づ
けて重ね合わせると平行平板を構成するような位置関係
で配置されている請求項2記載のマルチビーム走査光学
装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1183308A JPH0346611A (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | マルチビーム走査光学装置 |
US07/510,466 US5210635A (en) | 1989-04-17 | 1990-04-07 | Multibeam scanning system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1183308A JPH0346611A (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | マルチビーム走査光学装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0346611A true JPH0346611A (ja) | 1991-02-27 |
Family
ID=16133414
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1183308A Pending JPH0346611A (ja) | 1989-04-17 | 1989-07-14 | マルチビーム走査光学装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0346611A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0586110A1 (en) * | 1992-08-21 | 1994-03-09 | Xerox Corporation | Multi-beam laser diode beam separation control |
US5383047A (en) * | 1993-06-22 | 1995-01-17 | Xerox Corporation | Ros bow compensation |
JP2002174785A (ja) * | 2000-12-08 | 2002-06-21 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | マルチビーム走査装置における光ビーム調整方法およびマルチビーム走査装置および画像形成装置 |
JP2006018011A (ja) * | 2004-07-01 | 2006-01-19 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置、及び、その光走査装置を具備する画像形成装置 |
JP2006334043A (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Pentax Corp | 内視鏡の先端部 |
JP2010210965A (ja) * | 2009-03-11 | 2010-09-24 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置及び画像形成装置 |
-
1989
- 1989-07-14 JP JP1183308A patent/JPH0346611A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US5383047A (en) * | 1993-06-22 | 1995-01-17 | Xerox Corporation | Ros bow compensation |
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JP4632528B2 (ja) * | 2000-12-08 | 2011-02-16 | リコー光学株式会社 | マルチビーム走査装置における光ビーム調整方法およびマルチビーム走査装置および画像形成装置 |
JP2006018011A (ja) * | 2004-07-01 | 2006-01-19 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置、及び、その光走査装置を具備する画像形成装置 |
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JP4657013B2 (ja) * | 2005-06-01 | 2011-03-23 | Hoya株式会社 | 内視鏡の先端部 |
JP2010210965A (ja) * | 2009-03-11 | 2010-09-24 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置及び画像形成装置 |
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