JPH0338539A - メチル t―ブチルエーテルの製造法 - Google Patents

メチル t―ブチルエーテルの製造法

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JPH0338539A
JPH0338539A JP2165507A JP16550790A JPH0338539A JP H0338539 A JPH0338539 A JP H0338539A JP 2165507 A JP2165507 A JP 2165507A JP 16550790 A JP16550790 A JP 16550790A JP H0338539 A JPH0338539 A JP H0338539A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は1反応と蒸留を同時に行う改良された方法〔本
方法においては、触媒も蒸留塔構造物(ijistjl
laLion 5tructure)となる)に関する
近年、触媒反応を行う新規な方法が開発されており、該
方法によれば、蒸留塔構造物として触媒構造物(cat
alyst 5tructures)を使用し、蒸留に
よって反応系の成分を同時に分離することができる。該
方法は接触蒸留(catalytic disti目a
tion)として一般に知られており、接触蒸留に関し
ては多くの文献がある。このようなシステムは、米国特
許第4.215.01li 4,232.177; 4
,242,530;4.302,356; 4.30?
、254; 4,336.407; 4.439.35
0;4.443,559.及び4,482.775号各
明細書等に説明されている。
簡単に言えば、上記特許中に説明されている好ましい工
業的触媒構造物は、ある間隔を置いて配置され且つ粒状
触媒物質を含有した複数のポケントを有する布ベルトを
含み、このとき前記布ベルトは、ステンレス鋼で編んだ
メツシュのような。
ある間隔を置いた材料のまわりにらせん状に巻かれてい
る。これらのユニットは9蒸留塔反応器(d4sLil
lation column reactor)中に配
置されている。さらに、共通の形で譲渡された米国特許
第4.443.559号及び4,250,052号明細
書には、こうした用途に対する種々の触媒構造物が開示
されており、これらの特許を参照の形でここに引用する
接触蒸留が旨くいくかどうかは、蒸留に関連した原理を
よく理解することにかかっている。第一に5蒸留と同時
に反応が起こっているので、初期反応生成物はそれが形
成される速さと同じくらいの速さで反応ゾーンから除去
される0反応生成物が除去されると、さらなる反応9分
解、及び重合等が最小限に抑えられる。第二に、蒸留に
おいては化合物が沸騰しているので、系の圧力における
!jFij1合物の沸点によって反応の温度が制御され
るや反応熱によってさらに沸騰が進むが、温度は上昇し
ない、第三に、該反応はさらに進行するための駆動力を
有する。なぜなら1反応生成物が既に除去されていて、
逆方向の反応に寄与することがないからである(ルシャ
トリエの原理)。
上記特許の開示内容における蒸留塔構成部分(dist
illation parts)は従来タイプのもので
ある。
すなわち、触媒を含んだ触媒充填層における向流の蒸気
液体流れ(vapor 1iquid flow)は、
少なくとも反応ゾーンにおいては接触構造物として作用
する。触媒充填物を有する反応ゾーンは、不活性充填物
や従来の蒸留トレーを含んだ他の蒸留ゾーンと区別する
ために1反応蒸留ゾーン(reactiondisti
llation zone)と称している。従来の蒸留
ゾーンは、必要とする分離に応じて、蒸留反応ゾーン(
distillation reacLion zon
e)より上であっても下であってもよい。
メチルt−ブチルエーテルを製造するある特定の実8!
態様においては、蒸留塔反応器の物理的態様は、未反応
の供給成分がエーテル生成物(塔底生成物として取り出
される)から確実に除去されるよう、蒸留反応ゾーンの
下に別の蒸留ゾーンを含んでいる。少なくとも1つの場
合においては。
下側の蒸留ゾーンは別個の蒸留塔であり、この蒸留塔が
触媒を含有した他の蒸留塔に接続されている。この2つ
の蒸留塔が実質的に1つのものとして作用するよう、蒸
気液体フローライン(vaporand 1iquid
 flow 1ines)が設けられている。
蒸留というものの特性により1反応物と生成物が分離さ
れる。しかしながら、使用する構威威分に応じて、所望
の反応が完了する前に反応物を分離することができる。
従って、生成物を分離しつつ反応物を触媒と接触した状
態に保持するのが望ましいことが明らかとなった。
WIt#に言えば0本発明は、液体と触媒との接触状態
を改良することによって反応速度を増大させることがで
きるという発見であり、この接触状態の改良は1反応蒸
留ゾーンにおける液体レベルを上げることによって行わ
れる。このことは、蒸留反応ゾーンと下方の蒸留ゾーン
との間に設けられた液体流れレストリクターによって達
成される。
すなわち、下方からの蒸気は従来技術による操作の場合
と同じように反応蒸留ゾーンまで上昇するが、液体の一
部がそこに保持される。単一の蒸留塔反応器を使用する
場合、降液管の部分がブロックされた従来の蒸留トレー
が3反応蒸留ゾーンと蒸留ゾーンとの間に設置される。
トレーのまわりに液体流れのためのバイパスラインが設
けられそして液体流れ導管中に弁が設けられて液体の下
向き流れが制限され、これによって液体レベルは触媒層
の真下のトレーより上になる。これとは別に、多孔板を
使用して触媒を支持し、蒸留塔中において液体の圧力降
下を引き起こすことができ。
従って触媒層における液体のレベルを上げることができ
る。2つの蒸留塔からなる系が使用される場合、2つの
蒸留塔間の液体フローライン中に弁又は他の制限手段が
設けられる。
蒸留反応ゾーンの下端に液体レベルの特定の位置がある
と説明されているけれども、所望の反応に応じて、触媒
層のいかなる場所においても容易にその位置を定めるこ
とができる。
本明細書では、“液体レベル”という用語は、連続液相
とは異なる単一蒸留物の密度を凌ぐ2反応蒸留ゾーンに
おける該物質の増大した密度を意味するのに使用されて
いる0反応蒸留ゾーン内に存在する相系は物理的にはフ
ロス(froth)である。
これは、ゾーン内に保持されている液体を通って蒸気が
移動することによるものである。
他にも次のような考え方ができる。すなわち。
通常の蒸留では、蒸気と蒸気を通ってしたたり落ち且つ
触媒と接触する液体(内部還流物)が存在するが1本発
明の“フランデッド(目ooded)”システムにおい
ては、蒸気が液相を通って上昇してフロス又は泡を生成
する。
要するに2本発明によれば、蒸留というものの利点が依
然として得られる(すなわち、蒸留によって種々の成分
が分離できる)だけでなく、触媒と接触する液体の容積
が増大するために合成反応が改良される。
さて1図面を参照しつつ好ましい実施態様について詳細
に説明する。
第1図は1本発明を使用したプロセスの簡単な流れ図を
示している。示されている特定のプロセスは5ブテン/
ブタンの混合供給流れにて、メタノールとイソブテンと
の反応からメチルt−ブチルエーテル(MTBE)を製
造するためのプロセスである0本プロセスの詳細な説明
を進める上で、読者は米国特許第4,307,254号
明細書を参照のこと。
反応に対して適切な酸カチオン交換樹脂充填物7を含有
した第1(7)蒸留塔が示されている。酸カチオン交換
樹脂触媒7は、米国特許第4.307.254号明細書
に記載の如く蒸留塔l中に配置され、触媒及び蒸留塔構
造物として作用する。WJ単に説明すると、イソブテン
を分離するためのこの方法は。
(a)  イソブテンとn−ブテンを含んだ混合物とメ
タノールを蒸留塔反応器の供給ゾーンに供給する工程; (b)(1)  前記混合物とメタノールを、蒸留反応
ゾーンの固定層酸カチオン交換樹脂充填物と接触させ、
これによってイソブテンとメタノールとを触媒反応によ
り反応させて、メチルt−ブチルエーテルを形成させる
こと、及び(2)  こうして得られたメチルt−ブチ
ルエーテルとn−ブテンを含んだ混合物を分別蒸留する
こと を同時に行う工程; (c)  前記供給ゾーンより下の箇所にて。
前記蒸留塔反応器から前記メチルt−ブチルエーテルを
取り出す工程;及び (d)  前記供給ゾーンより上の箇所にて。
前記蒸留塔反応器からn−ブタンを取り出す工程; の各工程を含む。
本反応系は、不均一系としてみなすことができる。なぜ
なら、触媒がそのまま完全に残存するからである。触媒
は、従来の蒸留充填物形状(例えばラシしリング、ポー
ルリング、及びサドル等)にて使用することができる。
同様に、交換樹脂は粒状形態又はビーズの形態にて使用
することができる。
メタノールは、化学を論ffiの最大10%過剰の量に
て存在するのが望ましいこともあるが2通常は化学量論
量にて存在するのが好ましい、さらに。
化学量論量より若干少ない量も使用することができる。
−見本発明の基本的内容を理解すれば8当技術者は、各
成分の使用比率や装置の正確な使用条件、そして触媒の
種類等を最適化することができよう。
従来の固定層形態の樹脂ビーズは、上向きに流れる蒸気
及び下向きに流れる液体に対しては緻密すぎることが見
出されている。しかしながら、布ベルト(オープンメツ
シュの編んだステンレス鋼線によって蒸留塔反応器中に
支持されている)の複数のポケット中に樹脂ビーズを置
くと、必要な流れが可能となり、触媒の損失が防止され
、そして機械的磨砕によるビーズの損傷が防止される。
ということが見出されている。
上記の布は、炭化水素供給物や反応条件下での生成物に
よって影響を受けないようなものであればいかなる材料
でもよい、コツトンやリネンが有用であるが、ガラス繊
維布や“テフロン”布が好ましい、好ましい触媒システ
ムは、密に連結した金網によって前記蒸留塔反応器中に
配置され支持されている複数の閉じた布ポケットを含む
触媒物質は、粉末、小さな不規則形状の断片もしくはチ
ャンク、及び小さなビーズ等のいずれであってもよい、
適切な反応速度が得られるだけの充分な表面積が提供さ
れる限り、布ポケット中における触媒物質の形態は重要
なポイントではない。
触媒粒子の大きさは、それぞれの触媒物質に対して定め
るのが最も良い(なぜなら、多孔性すなわち利用できる
内部表面積は物質の種類によって異なり、当然のことな
がら触媒物質のキャビティに影響を与えるからである)
本発明の方法が従来技術の方法と明確に異なるのは次の
点である。すなわち、従来技術による方法では、イソオ
レフィンを酸触媒と接触させるために連続液相システム
を使用しているが2本発明の方法では、気相といくらか
の液相を含むことのできる触媒充填蒸留塔を使用してい
る。
イソブテンのエーテル化反応とその結果得られたn−ブ
テン/エーテル混合物の分留は同時に1テわれる。すな
わち、触媒層においてエーテルが形成されると、低沸点
のn−ブテンが触媒層において分留されてオーバーヘッ
ドから除去され、このとき高沸点のエーテルは蒸留塔の
下部へと降下していく。
接触蒸留法が旨くいくかどうかは、蒸留に関連した原理
を理解することにかかっている。第一に。
蒸留と同時に反応が起こっているので、初期反応生成物
であるメチルL−ブチルエーテルは5それが形成される
速さとほぼ同じくらいの速さで反応ゾーンから除去され
る。メチルt−ブチルエーテルが除去されると、該エー
テルの分解反応や連鎖反応の生起によるインブテンポリ
マーの形成が最小限に抑えられる。第二に、蒸留におい
ては全てのc、rIi、分が沸騰しているので、系の圧
力におけるC4混合物の沸点によって反応温度が制御さ
れる。
反応熱によってさらに沸騰が進むが、温度は上昇しない
、第三に、該反応はさらに進行するための駆動力を有す
る。なぜなら1反応生成物が既に除去されていて、逆方
向の反応に寄与することがないからである(ルシャトリ
エの原理)。
従って、系の圧力を調節することによって1反応器度や
生成物の配分を充分にコントロールすることができる。
さらに処理量〔滞留時間−1時間ごとの液体空間速度′
(目quid hourly 5paceνeloci
ty”) )を調節すれば、生成物の配分とイソブテン
の除去程度をさらにコントロールすることができる。
反応器中の温度は、ある与えられた圧力におけるC4成
分の沸点によって決まる。すなわち、一定の圧力におい
ては、系の温度変化は蒸留塔中における組成が変化した
ことを示している。従って。
温度を変化させるためには圧力を変える。圧力を増大さ
せることによって、系の温度が増大する。
一般には、  0〜400ps is (好ましくは3
030−150psiの圧力が使用される。
本反応に対するカチオン樹脂は、従来技術において使用
されている樹脂である。新規MTBI!プロセスに対し
て適切な触媒は、スルホン酸基を含むカチオン交換樹脂
、及び芳香族ビニル化合物の重合又は共重合に次いでス
ルホン化することによって得られたカチオン交換樹脂で
ある。ポリマー又はコポリマーを作製するのに適した芳
香族ビニル化合物の例としては、スチレン、ビニルトル
エン。
ビニルナフタレン、ビニルエチルベンゼン、メチルスチ
レン、ビニルクロロベンゼン、及びビニルキシレン等が
ある。ポリマーを作製するには種々の方法を使用するこ
とができる0例えば、モノビニル化合物単独での重合、
他のモノビニル化合物との組み合わせによる重合、ある
いはポリビニル化合物(例えば、ジビニルベンゼン、ジ
ビニルトルエン、及びジビニルフェニルエーテル等)を
使用して架橋させるなどの方法を使用することができる
。ポリマーは、溶媒や分散剤があってもなくても作製す
ることができ、Il々の重合開始剤(例えば、無機又は
有機の過酸化物や過硫酸塩等〉を使用することができる
実験室用の蒸留塔反応器は、直径1インチ、高さ5フイ
ートのチューブであって、2フイートの従来タイプのガ
ラス、 1/16インチのらせん形状物。
及び3フイートの触媒充填物を含んでいる。パイロット
プラントの蒸留塔は直径が3インチであり。
IOフィートの触媒充填物と5フイートの従来型の37
8インチボールリングを含んでいる。
これらの例において使用されている実験室用蒸留塔では
、布ベルト(幅6インチ)の形でバッグが作製され、こ
のとき狭いポケットは幅が約374インチであって布ベ
ルトを横切る形で縫いつけられている。これらのポケッ
トは約1/4インチ離して配置されている。これらのポ
ケットに触媒ビーズを充填してほぼ円筒状の容器を形成
させ、そして開放端を縫いつけて閉じて、ビーズを閉じ
込める0次いでこのベルトをねじってらせん形にし。
1インチ蒸留塔の内部にフィツトさせる。ベルトと共に
ねじるとオーブンメンシュの編んだステンレス鋼線のス
トリノブとなり、これによって樹脂の充填された布ポケ
ットが分離され1そして蒸気流れのための通路が提供さ
れる。3インチのパイロットプラント蒸留塔においても
類似の触媒支持システムが使用されている。
メタノールとブテン/ブタン混合流れが、フローライン
5と7を介して供給ゾーンにおける触媒7中に供給され
る。触媒層又は反応蒸留ゾーン中にてメタノールとイソ
ブテンが反応してMTB[!が形成される。ブテン/ブ
タン混合流れの未反応成分はオーバーヘッドから留去さ
れ、フローライン8を介して回収される。このとき同時
に、 MTBE生戒物生成底に向かって留去される。な
ぜなら、触媒(反応蒸留)ゾーンの温度が、蒸留塔の作
動圧力にて反応物の沸点(MTHEの沸点より低い〉に
保持されているからである。
MTBE及び溶解した少量の未反応メタノールとC4炭
化水素を含有した塔底液体生成物が、第1蒸留塔lの底
部を出て、フローライン3を介して第2蒸留塔2の頂部
に送られ、トレー又は不活性充填物を有する従来の蒸留
塔2において、 MTBEが少量の溶解したメタノール
又はC4炭化水素からさらに充分に分離され、そしてフ
ローライン9を介して回収される。未反応物質は、フロ
ーライン4を介してオーバーヘッドから回収され、第1
蒸留塔lの底部に送られる。レベルコントローラー10
が第11留塔lに取り付けられていて、第1蒸留塔1に
おける液体レベルを感知しく例えば圧力差によって)、
2つの蒸留塔間の液体流れ制限手段として作用する流量
制御n弁11を作動させ、そして蒸留塔lの触媒層7中
に予め設定した所望の液体レベルを保持する。レベルコ
ントローラー10は、蒸留塔lのいかなる部分に対して
もレベルを感知するよう設置することができる。
ポンプ、圧縮機、及び他の装置については記載していな
い、これらは従来通りであり、蒸留塔設計の5技術者に
よって容易に選定できるからである。実施例■は、触媒
層中にレベルコントローラーを使用して操作した場合と
使用しないで操作した場合の比較を示している。
第2図は、1つだけの蒸留塔が用いられた場合に使用す
ることのできる集成体を示している。触媒層にて液体レ
ベルを保持するのに使用される蒸留塔部分だけが示され
ている。
第2図においては、蒸留塔200は蒸留塔構造物として
作用する触媒層201を有する。触媒層201のすぐ下
には、触媒層201を支持する多孔板202が示されて
いる。第3図に示されている多孔板202は触媒層20
1に向かってガスが通過できるよう孔が開けられている
が、液体レベルが触媒層201の多孔板より上になるよ
う充分な圧力降下を与える該多孔板は、約5〜20%が
オーブンスペースとなっている。液体レベルがさらに制
御できるよう。
多孔板202のまわりに液体バイパスフローライン20
3が設けられている。バイパス203における弁204
は、圧力差に応じて開閉して液体レベルを制御すること
ができる。必要であれば、弁は液体レベルコントローラ
ーに応答するコントロールループ(control 1
oop) (図示せず)の構成部分とすることもできる
これとは別に、多TL仮202の代わりに標準的な蒸留
トレーを使用することもできる。1準トレーの降液管部
分がブロックされ、触媒層中の液体レベルヲ制御するた
めにバイパスフローライン203が使用される。
裏益班上 MTBEを製造するための工業的接触蒸留プロセスを、
米国特許第4 、307 、254号明細書に開示の手
順に従って操作した。 MTB[i製造のための工業的
接触蒸留プロセスは、前述の方法に従って操作した。
触媒を部分的に不活性化させた後、液体レベルを触媒ゾ
ーンの頂部に保持するよう操作を変えた。
本集成体は、第1図に示したものと類似している。
制21M弁は、蒸留反応塔1における圧力差によって感
知される液体レベルを制御するための、液体フローライ
ン3中のレストリクターとして作用した。
予想外のことに、損なわれた触媒を含んだ工業的ユニッ
トの性能は、 t*なわれていない触媒を含んだユニッ
トとほぼ同等であった。
裏胤斑エ イソブチレンの水和反応により (−ブチルアルコール
(TBA)を接触蒸留製造を行うのに1本発明による方
法と構造物が特に有用であることが見出された。 TB
Aプロセスにおいては、イソブチレンを含有した流れが
触媒層の下の蒸留塔に供給され。
そして水が触媒層の上に供給される。触媒層は5米国特
許第4.307.254号明細書に記載の酸カチオン交
換樹脂を含有し、該特許に記載の方法で1インチの実験
室用蒸留塔中に組み込んだ、未反応のブチレン、水、及
び不活性物質(他のC1炭化水素等)をオーバーヘッド
から取り出し、 TBA生威生成塔底液として回収した
水は、触媒を水和状態を保持し且つ反応が充分に進むに
足る量にて、そして水共沸混合物が系中に収容されるに
足る量にて存在しなければならない、対照標準となる方
法は、蒸留塔内のTBAフラクシッン中に存在する水の
量を測定し、そして使用する温度と圧力にて、その量を
0より高く且つ共沸混合物濃度より低く保持する。とい
う方法である。
液体レベルが存在しないとしても、触媒は最初は適切に
機能するが、前記した制御方法にもかかわらず水の損失
によってその選択性をすぐに失ってしまう、これは、触
媒層内での物質移動と分布の問題によるものである。第
2図と第3図の方法を使用して触媒層中に液体レベルを
保持すると。
触媒の湿潤状態か維持され、t−ブチルアルコール製造
に対する高い選択性が得られる。下記の第1表では、触
媒層中に液体レベルが存在する場合と存在しない場合に
ついて、プロセスの結果を比較している。触媒層中の液
体レベルは、触媒層前後の高い圧力差によって表わされ
る。試験では。
直径1インチで長さ10フイートの蒸留塔を使用した。
4フイートのローム&ノ\−ス社製アンノく一リスト(
As+berlysL)15触媒を、蒸留塔中の金網製
ポケット付きベルトに挿入した。
第1表 t−ブチルアルコールの製造 110也l 米国特許出願第122,485号明細書に記載の如く。
触媒構造物のポケット中にユニオンカーバイド社製LZ
Y42モレキュラーシーブを充填した3インチのパイロ
ットプラント蒸留塔を使用して、プロピレンによるベン
ゼンのアルキル化反応によりクメンを製造した。触媒層
の頂部から6インチ上にて、ロタメーターを通して窒素
圧力下で蒸留塔にベンゼンを供給した。窒素で加圧した
タンクから触媒層の底部に、オレフィン(エチレン又は
プロピレン)を供給した。液体オレフィンの供給速度を
11節して、ガスオーバーヘッドのゆっくりした一定流
出が得られるよう蒸留塔の圧力を保持した。
オレフィンを加える速度は3反応の速度よりやや高くし
た。ベンゼンの供給速度と塔底液の取り出し速度とは相
関している。ベンゼンに対するロタメーターを所定の値
に設定し、塔底液の取り出し速度を調節しである一定の
塔底液レベルを保持した。この場合も、液体レベル(触
媒層前後の圧力差により測定)の使用により、触媒の性
能及びプロセスが改良された。下記の第■表は1通常の
操作と液体レベルを使用した場合の操作との比較データ
を示している。
第U表 クメンの製造 特定の配WIII Igが示されているけれども、第1
図と第2又は3図に開示されている方法を使用して、触
媒層内のいかなる場所においても液体レベルを保持する
ことができる。という点に留意しなければならない。
【図面の簡単な説明】
第1図は、蒸留ゾーンと反応ゾーンのための別々の塔を
示した1本発明の1つの実施U様の流れ図である。 第2図は、単一の蒸留塔における液体流れレストリクタ
ーの平面図である。 第3図は。 第2図の蒸留塔に対して有用な多孔 板の上面図である。 茅 茅

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(a)(1)イソブテンとn−ブテンを含有した混
    合物、及び (2)メタノール を蒸留塔反応器の供給ゾーンに供給する工程; (b)(1)前記混合物と前記メタノールを、蒸留反応
    ゾーンにおいて固定層酸カチオン交換樹脂充填物と接触
    させ、これによってイソブテンをメタノールと接触的に
    反応させてメチルt−ブチルエーテルを形成させること
    、及び (2)前記固定層酸カチオン交換樹脂充填物中にある液
    体レベルを保持しながら、メチルt−ブチルエーテル、
    未反応イソブテン、及びn−ブテンを含んだ混合物を精
    留することを前記蒸留塔反応器内にて同時に行う工程; (c)前記供給ゾーンより下の箇所にて、前記蒸留塔反
    応器からメチルt−ブチルエーテルを取り出す工程;及
    び (d)前記供給ゾーンより上の箇所にて、前記蒸留塔反
    応器から未反応のイソブテンとn−ブテンを取り出す工
    程; の各工程を含むメチルt−ブチルエーテルの製造法。 2、前記蒸留塔の温度が前記混合物の沸点であり、前記
    メタノールが前記蒸留塔内の圧力下にて存在する、請求
    項1記載の製造法。 3、前記反応と前記精留が10〜300psigの範囲
    の圧力にて行われる、請求項2記載の製造法。 4、前記製造法においてイソブテンが混合物から除去さ
    れ、これによって実質的に減少した量のイソブテンを有
    するオーバーヘッドが得られる、請求項1記載の製造法
    。 5、前記メチルt−ブチルエーテルが回収される、請求
    項1記載の製造法。 6、蒸留塔反応器への前記供給物が1%未満の水を含有
    している、請求項1記載の製造法。 7、前記供給ゾーンが前記固定層酸カチオン交換樹脂充
    填物の下端部にある、請求項1記載の製造法。 8、前記エーテル生成物中に溶解している未反応イソブ
    テンと未反応メタノールが前記蒸留反応ゾーンより下の
    蒸留ゾーンにおいて分離され、これによって前記未反応
    イソブテンと未反応メタノールが留去されて前記蒸留反
    応ゾーンに戻される、請求項1記載の製造法。 9、前記イソブテンとメタノールの実質的に全てを反応
    させてメチルt−ブチルエーテルを形成させ、このとき
    実質的に純粋なn−ブテンを含有したオーバーヘッド流
    れ及び実質的に純粋なメチルt−ブチルエーテルを含有
    したボトム流れが生成する、請求項8記載の製造法。 10、蒸留塔構造物として作用する触媒固定層を組み込
    んだ蒸留反応塔中において、反応物の触媒反応並びに反
    応生成物及び/又は反応物の分別蒸留を同時に行う製造
    法であって、このとき改良点が、触媒層の所定部分にお
    いてある液体レベルを保持することにある前記製造法。 11、(a)反応蒸留ゾーンを有する蒸留反応塔の供給
    ゾーンに反応物を導入する工程;(b)(1)反応物の
    少なくとも一部を反応させて反応生成物を形成させるこ
    と、及び (2)分別蒸留によって反応生成物及び/又は反応物を
    分離すること を前記反応蒸留ゾーンにおいて同時に行う工程;及び (c)前記反応蒸留ゾーンの所定箇所において内部還流
    物の下向き流れを制限して、液体と蒸留蒸気のさらなる
    接触と反応が制限されるよう、液体レベルを保持する工
    程; の各工程を含む、接触蒸留プロセスの操作方法。 12、(a)蒸留塔構造物として作用し且つ反応蒸留ゾ
    ーンを画定する触媒を含有した第1の蒸留塔; (b)従来使用されている不活性の蒸留塔充填物又はト
    レーを含有した第2の蒸留塔; (c)前記第1蒸留塔の下端を前記第2蒸留塔の頂部に
    接続している第1のフローラインであって、塔底液を前
    記第1蒸留塔から前記第2蒸留塔の頂部に移送するため
    の第1フローライン; (d)前記第2蒸留塔の頂部を前記第1蒸留塔の底部に
    接続している第2のフローラインであって、蒸気オーバ
    ーヘッドを前記第2蒸留塔から前記第1蒸留塔の底部に
    移送するための第2フローライン;及び (e)前記の第1及び第2蒸留塔が平衡状態にて作動し
    ているときに、前記蒸留反応ゾーンにおいて所望の液体
    レベルを保持するための、前記第1フローライン内の制
    限手段; を含む、接触蒸留プロセスを実施するための装置。 13、前記第1蒸留塔に取りつけられた液体レベルを感
    知/制御する手段をさらに含み、このとき前記制御手段
    が、前記の液体レベル感知/制御手段に応答して作動す
    る流量制御弁を含む、請求項12記載の装置。 14、(a)蒸留ゾーンを画定する従来の不活性な蒸留
    塔充填物又はトレー、及び反応蒸留ゾーンを画定する蒸
    留塔構造物として作用する、前記蒸留ゾーンより上の触
    媒充填物、を含んだ蒸留塔反応器;及び (b)前記蒸留塔反応器が平衡状態にて作動していると
    きに、前記反応蒸留ゾーン内に所望の液体レベルを保持
    するための、前記蒸留ゾーンと前記反応蒸留ゾーンとの
    間に存在する液体流れ制限手段; を含む、接触蒸留プロセスを実施するための装置。 15、前記液体流れ制限手段が蒸留塔構造物を含む、請
    求項14記載の装置。 16、前記制限手段が、前記蒸留反応ゾーン内又は前記
    蒸留反応ゾーンより下にて多孔板を含む、請求項15記
    載の装置。 17、前記液体流れ制限手段の近くの液体バイパスライ
    ン、及び液体レベルを前記多孔板より上に制御するため
    の前記バイパスライン中の制御弁をさらに含む、請求項
    14記載の装置。
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