JPH0332535B2 - - Google Patents

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JPH0332535B2
JPH0332535B2 JP58008764A JP876483A JPH0332535B2 JP H0332535 B2 JPH0332535 B2 JP H0332535B2 JP 58008764 A JP58008764 A JP 58008764A JP 876483 A JP876483 A JP 876483A JP H0332535 B2 JPH0332535 B2 JP H0332535B2
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JP
Japan
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phenoxytoluene
reaction
oxyquinoline
phenol
chlorotoluene
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JP58008764A
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English (en)
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JPS59134743A (ja
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Kenji Sugii
Kenji Nakaji
Hiroaki Eguchi
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明はm−フエノキシトルエンの製造法に関
する。 m−フエノキシトルエンはピレスロイド系農薬
の有用な原料であり、安価な製造法の開発が望ま
れている。 従来から銅触媒の存在下でm−クレゾラートと
ブロムベンゼン、クロルベンゼンとを反応させて
m−フエノキシトルエンを製造する方法が知られ
ているが、高温高圧を必要とし、しかも反応収率
が低いために種々の改良法が提案されてきた。た
とえば、特開昭49−62432号公報では、有機塩基
性の高沸点溶媒中で200℃程度で反応することが
提案されたが、この方法の大きな欠点は高価で分
離回収に手間がかかるキノリンのごとき溶媒を使
用することであつた。 また、特開昭53−119840号公報では、溶媒を使
用することなく、m−クレゾール、苛性アルカ
リ、クロルベンゼンを密閉器中で反応させている
が、210〜250℃の高温での加圧反応となる点で工
業化には困難性があつた。 さらに、特開昭54−3023号公報では、150℃を
越える温度かつ実質的に無水の条件下で対フエノ
ラート50モル%を越える遊離フエノールの存在下
で反応させているが、収率が低く、生成物の精製
が困難であつた。 また、特開昭56−29539号公報では、特定のア
ミン化合物を金属封鎖剤として使用しているが、
この金属封鎖剤が特殊であり、使用する触媒量も
比較的多いので、経済的に有利な方法とはいい難
い。 本発明者らは、特殊な触媒を使用せずに工業的
に安価に、しかも純度の良いm−フエノキシトル
エンを製造する方法を提供することを目的として
鋭意検討した結果、温和な条件下で収率よく高純
度のm−フエノキシトルエンを生成せしめること
のできる方法を見出し、本発明に到達した。 すなわち、本発明はクロルベンゼン類とフエノ
ール類のアルカリ金属塩とからm−フエノキシト
ルエンを製造するに際して、銅化合物と8−オキ
シキノリンあるいはこれらに代えて8−オキシキ
ノリン銅錯体ならびに式 R−O(−CH2CH2O)−oR′ (式中R、R′は水素原子、メチル基またはエ
チル基、nは1〜10の整数を示す。ただし、n=
1の場合はRは水素原子、R′はメチル基または
エチル基を示す) で表わされるアルキレングリコール類を添加する
ことを特徴とするm−フエノキシトルエンの製造
法である。 以下に本発明を具体的に説明する。 本発明の出発原料であるクロルベンゼン類とし
てはクロルベンゼンまたはm−クロルトルエン等
が挙げられる。また、フエノール類としてはフエ
ノールまたはm−クレゾール等が挙げられる。 これらのクロルベンゼン、m−クロルトルエ
ン、フエノール、m−クレゾール等は反応に影響
を及ぼされることのない任意の置換基、たとえ
ば、アルキル基、アリール基、等を有することが
できる。 本発明においては、例えばフエノールのアルカ
リ金属塩とm−クロルトルエン、あるいはm−ク
レゾールのアルカリ金属塩とクロルベンゼンとを
反応させる。 フエノールまたはm−クレゾール等のフエノー
ル類のアルカリ金属塩は、アルカリ金属アルコラ
ートのアルコール溶液にフエノール類を添加する
などの方法によつてあらかじめ調製して使用して
もよいが、フエノール類、苛性アルカリ、m−ク
ロルトルエンまたはクロルベンゼン等のクロルベ
ンゼン類を直接反応器に仕込んで生成する水を留
去しながら加熱することにより、反応器内で調製
して使用する方が簡便であり、好ましい。 このように反応器にフエノール類と苛性アルカ
リを仕込んで反応器内でフエノール類のアルカリ
金属塩を調製して使用する方法も本発明の範囲に
含まれる。 後者の場合に、フエノール類、苛性アルカリ、
クロルベンゼン類の反応器への仕込みモル比は任
意に選びうるが、フエノール類1モルに対して、
苛性アルカリ0.7〜1.1モルとクロルベンゼン類1
〜15モル特に1.5〜5モルを仕込み、クロルベン
ゼン類を過剰に使用して、溶媒としても機能させ
た場合に、特に好ましい結果が得られる。 また、キシレン、キノリン等の溶媒を併用する
こともできる。 苛性アルカリとしては、水酸化ナトリウムまた
は水酸化カリウムを使用する。これらは取扱いの
容易な水溶液として反応器に仕込み、仕込んだ水
をフエノラート合成時に生成する水とともに系外
に留去することもできる。 触媒として使用する銅化合物としては、銅粉、
ハロゲン化銅、酸化銅、銅錯体などが挙げられる
が、特に塩化第一銅、臭化第一銅、ヨウ化第一
銅、酸化第一銅、8−オキシキノリン銅錯体が好
ましい。添加量は、フエノール類のアルカリ金属
塩に対して0.001〜0.2モル倍の範囲が適当であ
る。 銅化合物と併用する8−オキシキノリンの添加
量は、銅化合物の0.5〜2.5モル倍の範囲が適当で
ある。なお銅化合物として、8−オキシキノリン
銅錯体を使用した場合は、8−オキシキノリンを
さらに併用する必要はない。 本発明においては、銅化合物、8−オキシキノ
リンに加えて、一般式R−O(−CH2CH2O)−o
R′〔式中R、R′は水素、メチル基、エチル基、n
は1〜10の整数を示す。ただし、n=1の場合
は、Rは水素、R′はメチル基、エチル基を示
す。〕で表わされるアルキレングリコール類を添
加することにより、転化率、選択率を飛躍的に増
加させ、m−フエノキシトルエンの反応収率を大
幅に向上させることが可能になつた。上記の一般
式で表わされるアルキレングリコール類の具体例
としては、セロソルブ、ジエチレングリコール、
ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエ
チレングリコール、テトラエチレングリコール、
PEG−300(平均分子量300のポリエチレングリコ
ール)などが挙げられる。エチレングリコールは
無効であり、上記のアルキレングリコール類には
含まれない。 アルキレングリコール類の添加量は、フエノー
ル類のアルカリ金属塩に対して1〜25重量%、特
に3〜15重量%の範囲が好ましい。 反応は通常、常圧下において沸点近辺で5〜20
時間程度行なう。 例えばm−クロルトルエン、フエノール、苛性
アルカリからm−フエノキシトルエンを合成する
場合について述べると、これらの原料と所定の触
媒を仕込んだ反応器を不活性ガス雰囲気下で撹拌
しながら加熱し、生成する水を留去する。還流下
で加熱を続け、m−フエノキシトルエンが所定量
生成して、還流温度がほぼ一定になつた時点で反
応を終了し、冷却する。析出した無機塩を別
し、液を希望酸と希アルカリ水で洗浄後、蒸留
を行ない、未反応のm−クロルトルエンを初留と
して回収後、m−フエノキシトルエンを主留とし
て得る。回収したm−クロルトルエンは、くり返
し反応に供することができる。 以上、記述した本発明方法により、品質の良好
なm−フエノキシトルエンを経済的に製造するこ
とが可能になつた。 以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明す
る。 実施例 1 撹拌装置、水分離器、温度計をつけた200mlの
フラスコにm−クロルトルエン0.5モル、フエノ
ール0.2モル、苛性ソーダ0.2モルを含む水溶液
25gを入れ、さらに塩化第一銅0.50g、8−オキシ
キノリン0.73gおよびジエチレングリコール3.0g
を加えて不活性ガス雰囲気下で、撹拌しながら反
応液が還流するような状態で加熱を続ける。最初
に水とm−クロルトルエンが留出するので分離器
で水を分離した後、m−クロルトルエンは反応系
に戻す。脱水がほぼ終了した時の反応液の温度は
159℃であり、内容物はスラリー状であつた。さ
らに還流下で加熱を続けると、約8時間後に反応
液の温度は176℃となつた。反応液は冷却後、無
機塩を過し、10%塩酸水と希アルカリ水で洗浄
した後、有機層を分析した結果、m−クロルトル
エン37.2g m−フエノキシトルエン29.2gを含有
しており、フエノールの転化率は84.6%、m−フ
エノキシトルエンの選択率は93.8%(対フエノー
ル)、収率は79.4%であつた。フエノールと苛性
ソーダの代りに別途調整したナトリウムフエノラ
ートを使用して同様に反応を行なつた場合も、同
様な反応成績が得られた。 実施例 2〜6、比較例 1〜4 実施例1と同様にしてジエチレングリコールの
代りに各種アルキレングリコール類を用いて155
℃で10時間反応を行なつた場合(実施例2〜6)
および8−オキシキノリンまたはアルキレングリ
コール類を添加しないで反応を行なつた場合(比
較例1〜4)の結果を表1に示す。
【表】
【表】 実施例 7 実施例1と同様の反応装置にm−クロルトルエ
ン63.3g、フエノール24.5gと8.0gの苛性ソーダを
含む40%アルカリ水溶液および8−オキシキノリ
ン銅錯体0.8g、テトラエチレングリコール3.0gを
加え不活性ガス雰囲気下で加熱し、留出する水を
分離しながら還流下で反応し、8時間後に反応液
の内温が175℃となつた時、加熱を中止し冷却し
た。反応液は無機塩を除去後、酸性水で洗浄し、
有機層を分析した結果、m−クロルトルエン
34.5g、フエノール5.9g、m−フエノキシトルエ
ン33.6gを含む溶液であり、フエノールの転化率
は75.9%、m−フエノキシトルエンの選択率は
92.3%、収率は70.1%であつた。 実施例 8 実施例1と同様の反応装置に、クロルベンゼン
56.3g、m−クレゾール10.8g、40%苛性ソーダ水
溶液10.0gならびに塩化第一銅0.5g8−オキシキノ
リン0.7g、テトラエチレングリコール3.0gを入
れ、不活性ガス雰囲気下で加熱し脱水を行なつた
後、還流下で反応を行ない16時間後に反応液温度
が139℃となつた時点で加熱を中止し、反応液を
洗浄後、分析した結果、m−フエノキシトルエン
11.1gを含有しており、対クレゾール収率は60%
であつた。 実施例 9 実施例1と同様の反応装置にクロルベンゼン
22.5g、m−クレゾール54.1g、40%苛性ソーダ水
溶液10.0gならびに塩化第一銅0.3g、8−オキシ
キノリン0.45g、テトラエチレングリコール3.0g
を入れて脱水しながら還流下で5時間反応を行な
つた後、塩酸酸性水で洗浄し、有機層を分析した
結果、m−クレゾール43.0g、クロルベンゼン
8.6g、m−フエノキシトルエン16.4g(対クロルベ
ンゼン収率45%)などを含んでいた。 比較例 5 実施例9と同様の方法に従がい、8−オキシキ
ノリンとテトラエチレングリコールを添加しない
で実験を行なつた。脱水後還流下で5時間反応し
たが、m−フエノキシトルエンの生成は3%以下
であり、大部分は未反応のままであつた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 クロルベンゼン類とフエノール類のアルカリ
    金属塩とからm−フエノキシトルエンを製造する
    に際して、 (イ) 銅化合物および8−オキシキノリンの2種ま
    たは8−オキシキノリン銅錯体の1種ならびに (ロ) 次式 R−O(−CH2CH2O)−oR′ (式中R、R′は水素原子、メチル基またはエ
    チル基、nは1〜10の整数を示す。ただし、n=
    1の場合は、Rは水素原子、R′はメチル基また
    はエチル基を示す) で表わされるアルキレングリコール類を添加する
    ことを特徴とするm−フエノキシトルエンの製造
    法。
JP58008764A 1983-01-24 1983-01-24 m−フエノキシトルエンの製造法 Granted JPS59134743A (ja)

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JP58008764A JPS59134743A (ja) 1983-01-24 1983-01-24 m−フエノキシトルエンの製造法

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JPS59134743A JPS59134743A (ja) 1984-08-02
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JPH089564B2 (ja) * 1985-12-24 1996-01-31 広栄化学工業株式会社 ポリオールの部分エーテル類の製造方法
CN101885670A (zh) * 2010-07-19 2010-11-17 扬州大学 间苯氧基甲苯的合成方法

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JPS59134743A (ja) 1984-08-02

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