JPH03287370A - 微細バニシ仕上げ用フレックスヘッド構造体 - Google Patents
微細バニシ仕上げ用フレックスヘッド構造体Info
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- JPH03287370A JPH03287370A JP2295166A JP29516690A JPH03287370A JP H03287370 A JPH03287370 A JP H03287370A JP 2295166 A JP2295166 A JP 2295166A JP 29516690 A JP29516690 A JP 29516690A JP H03287370 A JPH03287370 A JP H03287370A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B39/00—Burnishing machines or devices, i.e. requiring pressure members for compacting the surface zone; Accessories therefor
- B24B39/06—Burnishing machines or devices, i.e. requiring pressure members for compacting the surface zone; Accessories therefor designed for working plane surfaces
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/47—Burnishing
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Supporting Of Heads In Record-Carrier Devices (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
磁気記録用媒体の製造において、摩耗を減少し、記録性
能と信頼性を増すために、非常に滑らかな、また剛性媒
体の場合には、非常に平坦な面を得ることに努力が向け
られる。剛性媒体については、面から上の隆起又は突起
の高さを除去し、又は少なくとも実質的に制限すること
が重要である。何故ならば、かかる隆起は高速衝撃を介
してリード／ライトヘッド／ディスク界面の破滅的破損
を直接的又は間接的に惹起するからである。かかる隆起
の許容高さは勿論平常操作中のヘッドとディスクの面と
の間隔、所謂フライングハイド（ｆｌｙｉｎｇｈｅｉｇ
ｈｔ）に関係する。而して、性能を向上するためにフラ
イングハイドを低くすると、隆起の許容高さか減少し、
かかる滑らかな面を作る作業は重要になるのみならず、
非常に困難かつ高価になる。
能と信頼性を増すために、非常に滑らかな、また剛性媒
体の場合には、非常に平坦な面を得ることに努力が向け
られる。剛性媒体については、面から上の隆起又は突起
の高さを除去し、又は少なくとも実質的に制限すること
が重要である。何故ならば、かかる隆起は高速衝撃を介
してリード／ライトヘッド／ディスク界面の破滅的破損
を直接的又は間接的に惹起するからである。かかる隆起
の許容高さは勿論平常操作中のヘッドとディスクの面と
の間隔、所謂フライングハイド（ｆｌｙｉｎｇｈｅｉｇ
ｈｔ）に関係する。而して、性能を向上するためにフラ
イングハイドを低くすると、隆起の許容高さか減少し、
かかる滑らかな面を作る作業は重要になるのみならず、
非常に困難かつ高価になる。
薄膜剛性媒体の準備において、従来の方法は磁気記憶層
の付着の前に媒体基板の面を粗面化又は”チク不チャラ
イズ” （ｔｅｘｔｕｒｉｚｅ） して速度セロ又は低
速度でのヘッドと媒体面との間の接触面積を減少し、こ
れによりステイクション（ｓｔｉｃｔｉｏｎ）、即ちヘ
ッドか媒体面積へ付着する傾向を減少する。
の付着の前に媒体基板の面を粗面化又は”チク不チャラ
イズ” （ｔｅｘｔｕｒｉｚｅ） して速度セロ又は低
速度でのヘッドと媒体面との間の接触面積を減少し、こ
れによりステイクション（ｓｔｉｃｔｉｏｎ）、即ちヘ
ッドか媒体面積へ付着する傾向を減少する。
かかるテクスチャ工程を行うと、一般の面かｅ上へ突出
した隆起が生しることかある。その結果、磁気記憶及び
保護オーバーコート層の付着をスパッタリング又は他の
工程に拘わらず行うとコンフォーマル面が生じ、これに
より隆起を保存、更には大きくする。隆起はまたこれら
の層を付着する工程で形成することもてきる。
した隆起が生しることかある。その結果、磁気記憶及び
保護オーバーコート層の付着をスパッタリング又は他の
工程に拘わらず行うとコンフォーマル面が生じ、これに
より隆起を保存、更には大きくする。隆起はまたこれら
の層を付着する工程で形成することもてきる。
かかる隆起の数と大きさは適当な工程、材料及び環境制
御により減少できるが、完全に除去することは不可能で
ある。これは最も確実な操作を保証するのに必要な作業
である。故に、これらの隆起の高さを除去又は減少する
ために種々の手段及び対策が用いられたが、その中には
最終媒体面を”キスバッフィング（ｋｉｓｓ ｂｕｆｆ
ｉｎｇ）及び／又はバニシ仕上げすることが含まれる。
御により減少できるが、完全に除去することは不可能で
ある。これは最も確実な操作を保証するのに必要な作業
である。故に、これらの隆起の高さを除去又は減少する
ために種々の手段及び対策が用いられたが、その中には
最終媒体面を”キスバッフィング（ｋｉｓｓ ｂｕｆｆ
ｉｎｇ）及び／又はバニシ仕上げすることが含まれる。
前者の技術は回転媒体ディスクと非常に軽く接触した研
磨テープを採用する。後者はり一ド／ライトヘッドが正
常に飛ぶときよりも十分低いヘッド／媒体分離において
媒体面の上方で特別に設計されたバニシ仕上げヘッドを
飛ばすことにより達成される。これにより隆起は剪断又
は塑性変形する。従来のバニシ仕上げ用ヘッドは従来の
リード／ライトヘッドと大きさと質量の点で匹敵し、ま
た相当の負荷を受けるから、バニシ仕上げ自体がヘッド
ク又は媒体面の損傷を惹起する危険がある。課題は従来
のバニシ仕上げ用ヘッドが媒体面との損傷的接触を回避
するよう十分高く、しかも隆起を捕捉し除去するよう十
分に低く飛ぶようにすることである。
磨テープを採用する。後者はり一ド／ライトヘッドが正
常に飛ぶときよりも十分低いヘッド／媒体分離において
媒体面の上方で特別に設計されたバニシ仕上げヘッドを
飛ばすことにより達成される。これにより隆起は剪断又
は塑性変形する。従来のバニシ仕上げ用ヘッドは従来の
リード／ライトヘッドと大きさと質量の点で匹敵し、ま
た相当の負荷を受けるから、バニシ仕上げ自体がヘッド
ク又は媒体面の損傷を惹起する危険がある。課題は従来
のバニシ仕上げ用ヘッドが媒体面との損傷的接触を回避
するよう十分高く、しかも隆起を捕捉し除去するよう十
分に低く飛ぶようにすることである。
圧電変換器と取り付けた低飛行ヘッドを採用したグライ
ド−ハイド試験か特定の基準に従ってヘッドとディスク
との接触を指示しないときバニシ仕上げ用ヘッドはこの
微妙な作業を遂行する。
ド−ハイド試験か特定の基準に従ってヘッドとディスク
との接触を指示しないときバニシ仕上げ用ヘッドはこの
微妙な作業を遂行する。
上記のことから明らかなように、バニシ仕上げ操作中に
媒体面を損傷する危険は、所望フライングハイド（最終
の意図される性能に対する）が減少するにつれて急増す
る。
媒体面を損傷する危険は、所望フライングハイド（最終
の意図される性能に対する）が減少するにつれて急増す
る。
本発明はバニシ仕上げ操作中のヘッドクラッシュの可能
性を減少する重要な必要性を認識し、最終的にバニシ仕
上げされたディスクをリード／ライトヘッドと共に用い
るときに非常に低いフライングハイドでの隆起の除去を
促進して確実な操作を可能ならしめ、最終的に連続滑り
接触させる。ヘッド／媒体の界面の破滅的（クラッシュ
による）破壊が生しるのは所与の相対速度に対し、局部
圧力、即ち単位接触面積当たりの力が非常に大きくなる
ときで、これにより極端な局部温度と複雑な非可逆性化
学反応か生しる。故に、要点は付与負荷と慣性力とから
生しる接触区域の最大圧力を破壊限界よりも十分低いレ
ベルに制限することである。
性を減少する重要な必要性を認識し、最終的にバニシ仕
上げされたディスクをリード／ライトヘッドと共に用い
るときに非常に低いフライングハイドでの隆起の除去を
促進して確実な操作を可能ならしめ、最終的に連続滑り
接触させる。ヘッド／媒体の界面の破滅的（クラッシュ
による）破壊が生しるのは所与の相対速度に対し、局部
圧力、即ち単位接触面積当たりの力が非常に大きくなる
ときで、これにより極端な局部温度と複雑な非可逆性化
学反応か生しる。故に、要点は付与負荷と慣性力とから
生しる接触区域の最大圧力を破壊限界よりも十分低いレ
ベルに制限することである。
経験によると、典型的スライダとディスクの面との間の
接触面は通常はスライダのフットプリントの非常に小さ
い部分である。何故ならば、接触は隅で又は縁に沿って
、又は粒状汚染物で生じる。
接触面は通常はスライダのフットプリントの非常に小さ
い部分である。何故ならば、接触は隅で又は縁に沿って
、又は粒状汚染物で生じる。
この観測から、第１近似として、接触面積はスライダの
寸法と質量から比較的に独立しているものと結論できる
。しかし、比較的に大きい質量を持つ比較的に大きいス
ライダでは、ダイナミック応答の理由で比較的に大きい
付与力が必要である。
寸法と質量から比較的に独立しているものと結論できる
。しかし、比較的に大きい質量を持つ比較的に大きいス
ライダでは、ダイナミック応答の理由で比較的に大きい
付与力が必要である。
而して、非常に小さい低質量のスライダが受ける最大局
部接触圧力は従来のスライダのそれよりも数桁小さく、
その結果、破滅的破壊の恐れは極めて少ない。非常に多
くの試験によりこの論理か立証されている。勿論、スラ
イダと保護媒体オーバーコートの製作に使用されまた潤
滑剤に採用される材料はへラドクーラッシュを無くする
ように最良に選択され処理されるべきである。
部接触圧力は従来のスライダのそれよりも数桁小さく、
その結果、破滅的破壊の恐れは極めて少ない。非常に多
くの試験によりこの論理か立証されている。勿論、スラ
イダと保護媒体オーバーコートの製作に使用されまた潤
滑剤に採用される材料はへラドクーラッシュを無くする
ように最良に選択され処理されるべきである。
この推理に基づき、本発明は質量が小さく、比較的に高
速で連続滑り接触で操作するように設計され、媒体ラン
アウト（ｒｕｎ−ｏｕｔ）に急速にダイナミック応答で
きる集積された一体的微細バニシ仕上げ用可撓性（又は
フレックス）ヘッド構造体を提案する。急速ダイナミッ
ク応答性により、バニシ仕上げ用ヘッドの切断縁は媒体
面と接触状態に留まること、及びこの面から突出する隆
起が剪断されることか保証される。
速で連続滑り接触で操作するように設計され、媒体ラン
アウト（ｒｕｎ−ｏｕｔ）に急速にダイナミック応答で
きる集積された一体的微細バニシ仕上げ用可撓性（又は
フレックス）ヘッド構造体を提案する。急速ダイナミッ
ク応答性により、バニシ仕上げ用ヘッドの切断縁は媒体
面と接触状態に留まること、及びこの面から突出する隆
起が剪断されることか保証される。
最も簡単な形態では、本発明のバニシ仕上げヘッド構造
体は細長い撓曲体の形態をとり、その一端に隣接して、
単結晶として又は低多孔性微細構造多結晶として存在す
る適当な高硬度材料から形成された低質量研磨ヘッドか
接合されている。研磨ヘッドの前縁と考えられるものは
、後述の如く、バニシ仕上げされるへきディスクの面に
供されるときに種々の角度と位置を占め、前記縁は比較
的に長期の使用期間にわたり自己鋭利化されるように設
計されている。
体は細長い撓曲体の形態をとり、その一端に隣接して、
単結晶として又は低多孔性微細構造多結晶として存在す
る適当な高硬度材料から形成された低質量研磨ヘッドか
接合されている。研磨ヘッドの前縁と考えられるものは
、後述の如く、バニシ仕上げされるへきディスクの面に
供されるときに種々の角度と位置を占め、前記縁は比較
的に長期の使用期間にわたり自己鋭利化されるように設
計されている。
本発明のやや複雑な実施例、即ち、ディスクの多量生産
に特に有益と見える実施例では、提案されるものは櫛状
アレイ構造体てあり、これは独立的に撓曲可能な複数個
の撓曲体を含み、各撓曲体は一端に研磨ヘッドを担持し
、対向端に隣接して共通接合構造体へ接合されている。
に特に有益と見える実施例では、提案されるものは櫛状
アレイ構造体てあり、これは独立的に撓曲可能な複数個
の撓曲体を含み、各撓曲体は一端に研磨ヘッドを担持し
、対向端に隣接して共通接合構造体へ接合されている。
本発明のヘッド構造体は約２０ないし約１００ｍｇの有
効負荷で操作するように設計されている。
効負荷で操作するように設計されている。
これらの提案された構造の詳細は添付図面に関する以下
の記載からより明白になろう。
の記載からより明白になろう。
第１−９図は本発明による構造の４つの個となる型式の
単一撓曲体微細バニシ仕上げ用ヘッド構造体を示す。こ
れらの４つの型式は主として採用される研磨ヘッドの形
態が異なり、図示の４つの形態は種々の条件下で良好な
性能を提供するために示されている。これらの図に示す
単一撓曲体ユニットは本発明の最も簡単な形態を表すか
ら最初に説明される。引き続く第１０図に関する説明で
は単一撓曲体アレイ構造体が説明され、これは媒体ディ
スクの多量生産に有望である。
単一撓曲体微細バニシ仕上げ用ヘッド構造体を示す。こ
れらの４つの型式は主として採用される研磨ヘッドの形
態が異なり、図示の４つの形態は種々の条件下で良好な
性能を提供するために示されている。これらの図に示す
単一撓曲体ユニットは本発明の最も簡単な形態を表すか
ら最初に説明される。引き続く第１０図に関する説明で
は単一撓曲体アレイ構造体が説明され、これは媒体ディ
スクの多量生産に有望である。
まず第１図、第２図に注目するに、２０は本発明による
一形態の集積されたユニット状微細バニシ仕上げ用ヘッ
ド構造体である。構造体２０は撓曲体２２を含み、その
左端の下側に研磨ヘッド２４が取り付けられる。好まし
くはこれら２つの構Ｆｉ５Ｆ素に採用される材料は後で
述べられる。
一形態の集積されたユニット状微細バニシ仕上げ用ヘッ
ド構造体である。構造体２０は撓曲体２２を含み、その
左端の下側に研磨ヘッド２４が取り付けられる。好まし
くはこれら２つの構Ｆｉ５Ｆ素に採用される材料は後で
述べられる。
構造体２０の全長Ａは約０．４インチ、全深さＢは約０
．００５ないし約０．００８インチ、全幅Ｃは約０．０
１ないし約０．０２インチである。撓曲体２２の厚さＧ
は約０．００１ないし約０．００３インチである。
．００５ないし約０．００８インチ、全幅Ｃは約０．０
１ないし約０．０２インチである。撓曲体２２の厚さＧ
は約０．００１ないし約０．００３インチである。
研磨へット２４は段付き構造と称されるものを有し、第
工図に見られる如く、段２４ｄを介してやや大きい又は
長い下面２４ｅへ接合する短い下面２４ｃへ前縁２４ｂ
を介して接合する前縁２４ａにより形成される。面２４
ｃ、 ２４ｅはそれぞれ第１と第２の連続媒体形成面状
広がり部分と称される。研磨ヘッドの全長りは約０．０
１５インチ、面２４ｅの長さＥは約０．００２ないし約
０．００５インチ、段の深さＦは約０．００１ないし約
０．００２インチである。研磨へット２４の段付き底面
は機械加工により形成され、面２４ｃはラップ仕上げさ
れ、平坦に研磨される。面２４ｃに接合して前縁２４ｂ
を形成する面２４ａはラップ仕上げ及び研磨により形成
され、また好ましくは約３０ないし約８０°範囲のレー
キ角αで位置する。研磨ヘッド２４の質量は約１００マ
イクログラムである。
工図に見られる如く、段２４ｄを介してやや大きい又は
長い下面２４ｅへ接合する短い下面２４ｃへ前縁２４ｂ
を介して接合する前縁２４ａにより形成される。面２４
ｃ、 ２４ｅはそれぞれ第１と第２の連続媒体形成面状
広がり部分と称される。研磨ヘッドの全長りは約０．０
１５インチ、面２４ｅの長さＥは約０．００２ないし約
０．００５インチ、段の深さＦは約０．００１ないし約
０．００２インチである。研磨へット２４の段付き底面
は機械加工により形成され、面２４ｃはラップ仕上げさ
れ、平坦に研磨される。面２４ｃに接合して前縁２４ｂ
を形成する面２４ａはラップ仕上げ及び研磨により形成
され、また好ましくは約３０ないし約８０°範囲のレー
キ角αで位置する。研磨ヘッド２４の質量は約１００マ
イクログラムである。
ヘッド２４の底側に形成された段付き逃げの効果はヘッ
ドか摩耗するときに媒体面との接触長さ及び面積を制限
し、また前縁２４ｂ１即ちヘッドの切断縁が媒体のラン
アウトから独立した媒体面と接触状態に留まる。
ドか摩耗するときに媒体面との接触長さ及び面積を制限
し、また前縁２４ｂ１即ちヘッドの切断縁が媒体のラン
アウトから独立した媒体面と接触状態に留まる。
第１図、第２図と共に第３図を参照するに、図の撓曲体
２２の右端はバニシ仕上げ用／滑走高さ試験装置（図示
せず）の作動腕２６へ適当に取り付けられ剛性媒体２８
の面と接触して適正な負荷力を確立する。この取り付け
の効果は撓曲体を曲げ、偏向させ、媒体の頂部と研磨ヘ
ッド面２４ｃとの間に小さい角βを確立し、これにより
縁２４ｂは常に媒体の面と接触することができる。媒体
の運動方向は第３図の矢印３０により示される。
２２の右端はバニシ仕上げ用／滑走高さ試験装置（図示
せず）の作動腕２６へ適当に取り付けられ剛性媒体２８
の面と接触して適正な負荷力を確立する。この取り付け
の効果は撓曲体を曲げ、偏向させ、媒体の頂部と研磨ヘ
ッド面２４ｃとの間に小さい角βを確立し、これにより
縁２４ｂは常に媒体の面と接触することができる。媒体
の運動方向は第３図の矢印３０により示される。
構造体２０の装着方法から生しる接触力に加えて、２つ
の他の素子は研磨ヘッドが媒体２８の面に生しる全部の
力に貢献する。第１に、媒体の面と研磨へント面との間
にβにより示される区域に存在する楔状隙間はこの区域
に負圧を発生し、第２にレーキ角αは正圧を発生する。
の他の素子は研磨ヘッドが媒体２８の面に生しる全部の
力に貢献する。第１に、媒体の面と研磨へント面との間
にβにより示される区域に存在する楔状隙間はこの区域
に負圧を発生し、第２にレーキ角αは正圧を発生する。
好ましくは、全接触力又は有効負荷の全範囲は約２０な
いし約１００ミリグラムである。
いし約１００ミリグラムである。
本発明によれば、研磨ヘッドは媒体面と連続滑り接触し
て操作するように設計され、故に非常に硬く、稠密で、
鋭利な前切削縁を形成し維持できる材料から機械加工す
るのが望ましい。非常に細かい粒子のセラミック（粒度
綿５μ）または熱アイソスタチｙクプレス法（ｈｏｔ
１ｓｏｓｔａｔｉｃ ｐｒｅｓｓｐｒｏｃｅｓｓ）によ
り形成されたセメント材料、例えばＡ１２０３ＴＩＣ１
安定化したジルコニア、窒化はう素、なとか好ましい。
て操作するように設計され、故に非常に硬く、稠密で、
鋭利な前切削縁を形成し維持できる材料から機械加工す
るのが望ましい。非常に細かい粒子のセラミック（粒度
綿５μ）または熱アイソスタチｙクプレス法（ｈｏｔ
１ｓｏｓｔａｔｉｃ ｐｒｅｓｓｐｒｏｃｅｓｓ）によ
り形成されたセメント材料、例えばＡ１２０３ＴＩＣ１
安定化したジルコニア、窒化はう素、なとか好ましい。
単結晶材料、例えば酸化アルミ、又は接触面及び切削面
上のダイアモンド状の薄い炭素膜を形成された構造体は
ハニシ仕上げ用研磨へｌトとして役立つ。
上のダイアモンド状の薄い炭素膜を形成された構造体は
ハニシ仕上げ用研磨へｌトとして役立つ。
炭素被服された薄膜媒体と高速接触して、かつ付与負荷
を比較的に大きくしてＡ１２０３ＴｉＣから形成された
微細バニシ仕上げ用ヘッドの試験の結果、媒体の面に対
する影響または損傷を与えることなく隆起を迅速に除去
できることが証明された。この条件下で媒体面が摩耗又
は損傷を受けないことが証明されたが、本発明により形
成された微細バニシ仕上げ用ヘッドの接触面の結果、研
磨ヘッドを形成する材料が極めて硬いにも拘わらず、前
縁又は切削縁が連続的に自己鋭利化し研磨状に摩耗する
。
を比較的に大きくしてＡ１２０３ＴｉＣから形成された
微細バニシ仕上げ用ヘッドの試験の結果、媒体の面に対
する影響または損傷を与えることなく隆起を迅速に除去
できることが証明された。この条件下で媒体面が摩耗又
は損傷を受けないことが証明されたが、本発明により形
成された微細バニシ仕上げ用ヘッドの接触面の結果、研
磨ヘッドを形成する材料が極めて硬いにも拘わらず、前
縁又は切削縁が連続的に自己鋭利化し研磨状に摩耗する
。
第４図、第５図を参照するに、微細バニシ仕上げ用フレ
ックスヘッド構造体が３２で示され、これは、撓曲体３
４が第５図にδで示すプラウ角（ｐｌｏｗ ａｎｇｌｅ
）と称されるものを有する研磨ヘッド３６を担持するこ
と以外は構造体２０と非常に類似している。角δは典型
的には約３０ないし約４０度の範囲にあり、その結果、
ヘッド３６の前縁３６ａが撓曲体３４の縦軸線３４ａに
対して非垂直になる。
ックスヘッド構造体が３２で示され、これは、撓曲体３
４が第５図にδで示すプラウ角（ｐｌｏｗ ａｎｇｌｅ
）と称されるものを有する研磨ヘッド３６を担持するこ
と以外は構造体２０と非常に類似している。角δは典型
的には約３０ないし約４０度の範囲にあり、その結果、
ヘッド３６の前縁３６ａが撓曲体３４の縦軸線３４ａに
対して非垂直になる。
第６図、第７図において、撓曲体４０と研磨ヘッド４２
とを含む微細バニシ仕上げ用フレックスヘッド構造体３
８を示す。研磨へット４２は段付き底面形態を含まない
こと以外は前記ヘッド２４と同様である。
とを含む微細バニシ仕上げ用フレックスヘッド構造体３
８を示す。研磨へット４２は段付き底面形態を含まない
こと以外は前記ヘッド２４と同様である。
第８図、第９図に注目するに、他の形態の微細バニシ仕
上げ用フレックスヘッド構造体４４が示され、これは撓
曲体４６と研磨ヘッド４８を含む。
上げ用フレックスヘッド構造体４４が示され、これは撓
曲体４６と研磨ヘッド４８を含む。
ヘッド４８はプラウ角δが形成されたこと以外は前記ヘ
ッド４２と同様である（第９図参照）。
ッド４２と同様である（第９図参照）。
第４図、第５図、第８図、第９図に示すプラウ角はバニ
シ仕上げ用ヘッド／媒体面界面から屑を除去するのを容
易ならしめる。第１０図は左端が自由でかつ右端に隣接
して共通接合構造体５４を介して接合された５２て示す
如き撓曲体を含む櫛状アレイの形態のマルチ撓曲体微細
バニシ仕上げ用ヘッド構造体を５０で部分的に示す。
シ仕上げ用ヘッド／媒体面界面から屑を除去するのを容
易ならしめる。第１０図は左端が自由でかつ右端に隣接
して共通接合構造体５４を介して接合された５２て示す
如き撓曲体を含む櫛状アレイの形態のマルチ撓曲体微細
バニシ仕上げ用ヘッド構造体を５０で部分的に示す。
７個の撓曲体が第１０図に示され、その左端は先に述べ
た如き研磨ヘッドを担持する。特に、構造体５０はこれ
まで述べてきた幾つかの型式の研磨ヘッドの一つを含む
ように形成でき、また第↓Ｏ図を上から下へ見ると、第
■の撓曲体は前記ヘッド３６と同様の研磨ヘッド５６を
担持し、次に遭遇する撓曲体は前記ヘッド３６と同様の
研磨ヘッド５８を担持し、次に遭遇する撓曲体は前記へ
ット４２と同様の研磨ヘッド６０を担持し、第４の撓曲
体は前記ヘッド４８と同様の研磨ヘッド６２を担持する
。第１０図に示す最後の３つの撓曲体はヘッド５６と同
様の研磨ヘッドを担持する。
た如き研磨ヘッドを担持する。特に、構造体５０はこれ
まで述べてきた幾つかの型式の研磨ヘッドの一つを含む
ように形成でき、また第↓Ｏ図を上から下へ見ると、第
■の撓曲体は前記ヘッド３６と同様の研磨ヘッド５６を
担持し、次に遭遇する撓曲体は前記ヘッド３６と同様の
研磨ヘッド５８を担持し、次に遭遇する撓曲体は前記へ
ット４２と同様の研磨ヘッド６０を担持し、第４の撓曲
体は前記ヘッド４８と同様の研磨ヘッド６２を担持する
。第１０図に示す最後の３つの撓曲体はヘッド５６と同
様の研磨ヘッドを担持する。
単一撓曲体構造体に勝るアレイ構造体の重要な利点は、
アレイは媒体の操作面の全部又は大部分を跨ぐことがで
き、これにより面の隆起を迅速に経済的かつ効果的に短
時間で除去できることである。かかるアレイは典型的に
は支持作動構造体の比較的に小さいストローク又は揺動
を必要とする。
アレイは媒体の操作面の全部又は大部分を跨ぐことがで
き、これにより面の隆起を迅速に経済的かつ効果的に短
時間で除去できることである。かかるアレイは典型的に
は支持作動構造体の比較的に小さいストローク又は揺動
を必要とする。
例えば、第１０図にＧで示す研磨ヘッドのピッチ（中心
間）間隔か約０．０１５インチであり、Ｈて示す全スパ
ン幅が約１インチ以上であるアレイ５０の如きアレイを
容易に作ることができる。
間）間隔か約０．０１５インチであり、Ｈて示す全スパ
ン幅が約１インチ以上であるアレイ５０の如きアレイを
容易に作ることができる。
残りの図面全てに関し、微細バニシ仕上げ用フレｉクス
ヘッド構造体並びにそのアレイについて述へる。
ヘッド構造体並びにそのアレイについて述へる。
厚さ約０．０１インチ、２インチ平方の熱アイソスタチ
ックプレスしたＡ１□０３ＴｉＣのウェーハ６４ （第
１１図）は層６４を介してセラミック基板６８へ膠着さ
れ、傾斜アーバ鋸によりスライスされてバー７０になる
。これは第１１図に斜面図で、また第１２図に端面図で
示される。得られたバ一端平行四辺形（特に第１２図参
照）の縦の長さは約０゜０１５インチである。
ックプレスしたＡ１□０３ＴｉＣのウェーハ６４ （第
１１図）は層６４を介してセラミック基板６８へ膠着さ
れ、傾斜アーバ鋸によりスライスされてバー７０になる
。これは第１１図に斜面図で、また第１２図に端面図で
示される。得られたバ一端平行四辺形（特に第１２図参
照）の縦の長さは約０゜０１５インチである。
次いて逃げカット７２ （第１３図参照）を機械加工し
、その結果第１３図に示す横断面形状が得られる。次い
で上面７４をラップ仕上げし研磨すると、全厚約０．０
０４ないし約０．００６インチ、７６で示す逃げ面に対
し段部約ｏ、 ｏｏｔないし約０．００２インチになる
。基板６８から除去されたバー７０は第１４図に示すの
と同様の横断面を有する。
、その結果第１３図に示す横断面形状が得られる。次い
で上面７４をラップ仕上げし研磨すると、全厚約０．０
０４ないし約０．００６インチ、７６で示す逃げ面に対
し段部約ｏ、 ｏｏｔないし約０．００２インチになる
。基板６８から除去されたバー７０は第１４図に示すの
と同様の横断面を有する。
第１５図、第（６図へ移るに、第１５図は単一撓曲体構
造体の形成を示し、第■６図は櫛状アレイの作成を示す
。厚さ約０．００１ｆｉいし約０．００３インチ、かつ
適当な弾性を有する撓曲体筋７８はセラミック基板８０
へ膠着され光化学的に蝕刻されて多数の撓曲体８２とな
り、１セ・ｌトの端にｔＯって接合された個々の体（第
１５図）又は櫛状撓曲体アレイ８４（第１６図）を形成
する。ベリリウム銅又は熱処理したステンレス鋼は撓曲
体の作成に適した材料の例である。これらの体は典型的
には前述の寸法を有し、また第１６図に示す如きアレイ
の場合、約０．１インチの非蝕刻共通ストックは体のア
レイを単一化する前述の接合構造体を形成する。
造体の形成を示し、第■６図は櫛状アレイの作成を示す
。厚さ約０．００１ｆｉいし約０．００３インチ、かつ
適当な弾性を有する撓曲体筋７８はセラミック基板８０
へ膠着され光化学的に蝕刻されて多数の撓曲体８２とな
り、１セ・ｌトの端にｔＯって接合された個々の体（第
１５図）又は櫛状撓曲体アレイ８４（第１６図）を形成
する。ベリリウム銅又は熱処理したステンレス鋼は撓曲
体の作成に適した材料の例である。これらの体は典型的
には前述の寸法を有し、また第１６図に示す如きアレイ
の場合、約０．１インチの非蝕刻共通ストックは体のア
レイを単一化する前述の接合構造体を形成する。
基板８０はスライスされてバーになり、バーの面には８
２の孤立した撓曲体の列（第１５図に示す構造体から引
き出す）又は撓曲体のアレイ（第１６図に示す構造体か
ら引き出す）があり、かかるスライス操作は撓曲体の列
を分離するストリート８６において行われる（第１５１
ｍ、第１６図の上方の図参照）。
２の孤立した撓曲体の列（第１５図に示す構造体から引
き出す）又は撓曲体のアレイ（第１６図に示す構造体か
ら引き出す）があり、かかるスライス操作は撓曲体の列
を分離するストリート８６において行われる（第１５１
ｍ、第１６図の上方の図参照）。
最終的にはヘッド２４の如き研磨ヘッドを形成する前記
バー７０は撓曲体の適正な端へ適当に結合される。最終
機械操作において、バー７０はスライスされて独立した
撓曲体又はかがる体のアレイ（第１７図参照）を分離し
、完成構造体は関連支持基板から除去される。
バー７０は撓曲体の適正な端へ適当に結合される。最終
機械操作において、バー７０はスライスされて独立した
撓曲体又はかがる体のアレイ（第１７図参照）を分離し
、完成構造体は関連支持基板から除去される。
故に、本発明により提案された構造体の種々の実施例が
図示かつ記述され、これらの構造体は先に述べた特徴と
利点に従って機能することができる。
図示かつ記述され、これらの構造体は先に述べた特徴と
利点に従って機能することができる。
第１図は段付き構造と称されるものを有する研磨ヘッド
を含む本発明の実施例により作成した単一撓曲体微細バ
ニシ仕上げ用ヘッド構造体の部分側面図、第２図は第１
図の底から見た部分図、第３図はバニシ仕上げ操作中に
ディスクの面に関して操作状態にある第１図、第２図の
構造体を示す側面図、第４図はプラウ角前縁を含む段付
き研磨ヘッドを含む本発明の他の実施例の第工図と同様
の部分側面図、第５図は第４図の底から見た図、第６図
と第７図は第４図及び第５図と同様の部分側面図と部分
底面図であり、非役付き、非プラウ角研磨ヘッドを含む
本発明の他の実施例を示す図、第８図と第９図は非役付
き、プラウ角研磨ヘッドの他の実施例を示す部分側面図
及び底面図、第１０図はマルチ撓曲体微細バニシ仕上げ
用ヘッド構造体の部分底面図であり、各撓曲体は自由端
に隣接して研磨ヘッドを担持し、対抗端に隣接して共通
接合構造体を介して接合される。第１０図に関しある撓
曲端は上記研磨ヘッドの４つの型式の各−つと接合され
、第１０図に示すのと同様のユニットを選択的に作り、
幾つかの提案された研磨ヘッドの一つを含み得ることを
示す。第１０図に示すのと同様のユニットは選択された
型式の研磨ヘッドの一つのみを含むように構成されるこ
とは勿論である。第１１−１７図は製造技術を示す図で
ある。 ２０１．ヘッド構造体、 ２２．、、撓曲体２４、、、
研磨ヘッド。 特許出ｍ人 センスター・コーポレイＶヨン ＦＩＧ、１ ＦＩＧ、 ６ ／＼−３８ ＦＩＧ、 ７ ＦＩＧ、 １３ ＦＩＧ、 ７４ ＦＩＧ、 ７５ ＦＩＧ、 １６ ＦＩＧ、 １０ ｎ ＦＩＧ、 ７２ ＦＩＧ、 １７
を含む本発明の実施例により作成した単一撓曲体微細バ
ニシ仕上げ用ヘッド構造体の部分側面図、第２図は第１
図の底から見た部分図、第３図はバニシ仕上げ操作中に
ディスクの面に関して操作状態にある第１図、第２図の
構造体を示す側面図、第４図はプラウ角前縁を含む段付
き研磨ヘッドを含む本発明の他の実施例の第工図と同様
の部分側面図、第５図は第４図の底から見た図、第６図
と第７図は第４図及び第５図と同様の部分側面図と部分
底面図であり、非役付き、非プラウ角研磨ヘッドを含む
本発明の他の実施例を示す図、第８図と第９図は非役付
き、プラウ角研磨ヘッドの他の実施例を示す部分側面図
及び底面図、第１０図はマルチ撓曲体微細バニシ仕上げ
用ヘッド構造体の部分底面図であり、各撓曲体は自由端
に隣接して研磨ヘッドを担持し、対抗端に隣接して共通
接合構造体を介して接合される。第１０図に関しある撓
曲端は上記研磨ヘッドの４つの型式の各−つと接合され
、第１０図に示すのと同様のユニットを選択的に作り、
幾つかの提案された研磨ヘッドの一つを含み得ることを
示す。第１０図に示すのと同様のユニットは選択された
型式の研磨ヘッドの一つのみを含むように構成されるこ
とは勿論である。第１１−１７図は製造技術を示す図で
ある。 ２０１．ヘッド構造体、 ２２．、、撓曲体２４、、、
研磨ヘッド。 特許出ｍ人 センスター・コーポレイＶヨン ＦＩＧ、１ ＦＩＧ、 ６ ／＼−３８ ＦＩＧ、 ７ ＦＩＧ、 １３ ＦＩＧ、 ７４ ＦＩＧ、 ７５ ＦＩＧ、 １６ ＦＩＧ、 １０ ｎ ＦＩＧ、 ７２ ＦＩＧ、 １７
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、剛性磁気記録媒体の面に使用する集積された一体的
微細バニシ仕上げ用ヘッド構造体であって、下記のもの
を含む： 細長い撓曲体、及び 前記体へその一端に隣接して接合され、かかる面と研磨
滑り接触する研磨ヘッド。 ２、全長約０．４インチ、全幅約０．０１ないし約０．
０２インチ、撓曲体厚さ約０．００１ないし約０．００
３インチ、研磨ヘッド厚さ約０．００４インチ、研磨ヘ
ッド質量約１００マイクログラムである請求項１記載の
ヘッド構造体。 ３、約２０ないし約１００ｍｇの範囲の有効負荷で操作
するように設計した請求項１または２記載のヘッド構造
体。 ４、前記研磨ヘッドは自己鋭利作用前縁を有する請求項
１記載のヘッド構造体。 ５、前記前縁は公称約３０°ないし約８０°内の角度で
交差する実質的に平坦な面の交線により形成される請求
項４記載のヘッド構造体。 ６、前記前縁は前記撓曲体の長軸線に対して非垂直な角
度にある請求項４又は５記載のヘッド構造体。 ７、前記研磨ヘッドはかかる面との構造体の意図された
接触区域から離れるように延びた第１の連続した媒体対
向面状広がり部分を含み、前記部分は構造体がかかる面
に関して操作状態にあるときに面から発散して前記区域
から離れる方向に進む請求項１、４又は５記載のヘッド
構造体。 ８、前記研磨ヘッドは前記第１の面状広がり部分と、段
部を介して接合する第２の連続した媒体対向面状広がり
部分とを含み、この部分は前記第１の面状広がり部分よ
りも更に離れてかかる面に対向するように配置された請
求項７記載のヘッド構造体。 ９、前記研磨ヘッドは単結晶として形成された高硬度の
材料を含む請求項１、４又は５記載のヘッド構造体。 １０、前記研磨ヘッドは約５ミクロン以下の粒度を特徴
とする微粒子構造体を有する高硬度、低多孔度の多結晶
材料から形成された請求項１記載のヘッド構造体。 １１、剛性磁気記録媒体の面に使用する集積された一体
的微細バニシ仕上げ用ヘッド構造体であって、下記のも
のを含む： １組の端に隣接して共通接合構造体へ接合され反対組の
端に隣接して自由とされた複数個の細長い一般に平行な
独立的に可撓な撓曲体、及び各体について、一つの研磨
部、これは体の前記自由反対端に隣接して体へ接合され
、かかる面と研磨滑り接触する。 １２、各撓曲体は全長約０．４インチ、全幅約０．０１
ないし約０．０２インチ、厚さ約０．００１ないし約０
．００３インチであり、各研磨ヘッドは厚さ約０．００
４インチ、質量約１００マイクログラムである請求項１
１記載のヘッド構造体。 １３、各組み合わせ／関連撓曲体及び研磨ヘッドは約２
０ないし約１００ｍｇの範囲の有効負荷で操作するよう
に設計した請求項１１または１２記載のヘッド構造体。 １４、各研磨ヘッドは自己鋭利作用前縁を有する請求項
１１記載のヘッド構造体。 １５、各前縁は公称約３０°ないし約８０°の範囲内の
角度で交差する実質的に平坦な面の交線により形成され
る請求項１４記載のヘッド構造体。 １６、前記前縁は前記撓曲体の長軸線に対して非垂直な
角度にある請求項１４又は１５記載のヘッド構造体。 １７、各自研磨ヘッドはかかる面との意図された接触区
域から離れるように延びた第１の連続した媒体対向面状
広がり部分を含み、前記部分は構造体がかかる面に関し
て操作状態にあるときに面から発散して前記区域から離
れる方向に進む請求項１１、１４又は１５記載のヘッド
構造体。 １８、各研磨ヘッドは前記第１の面状広がり部分と段部
を介して接合する第２の連続した媒体対向面状広がり部
分を含み、この部分は前記第１の面状広がり部分よりも
更に離れてかかる面に対向するように配置された請求項
１７記載のヘッド構造体。 １９、前記研磨ヘッドは単結晶として形成された高硬度
の材料を含む請求項１１、１４又は１５記載のヘッド構
造体。 ２０、前記研磨ヘッドは約５ミクロン以下の粒度を特徴
とする微粒子構造体を有する高硬度、低多孔度の多結晶
材料から形成された請求項１記載のヘッド構造体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US503276 | 1990-04-02 | ||
| US07/503,276 US5063712A (en) | 1990-04-02 | 1990-04-02 | Micro-burnishing flex head structure |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03287370A true JPH03287370A (ja) | 1991-12-18 |
| JPH0677897B2 JPH0677897B2 (ja) | 1994-10-05 |
Family
ID=24001415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2295166A Expired - Lifetime JPH0677897B2 (ja) | 1990-04-02 | 1990-10-30 | 微細バニシ仕上げ用フレックスヘッド構造体 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5063712A (ja) |
| EP (1) | EP0450226B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0677897B2 (ja) |
| AT (1) | ATE146006T1 (ja) |
| CA (1) | CA2026694C (ja) |
| DE (1) | DE69029321D1 (ja) |
Families Citing this family (41)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US5795217A (en) * | 1995-11-22 | 1998-08-18 | International Business Machines Corporation | Stressed burnisher |
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