JPH03283249A - 二次電子検出器 - Google Patents

二次電子検出器

Info

Publication number
JPH03283249A
JPH03283249A JP2080727A JP8072790A JPH03283249A JP H03283249 A JPH03283249 A JP H03283249A JP 2080727 A JP2080727 A JP 2080727A JP 8072790 A JP8072790 A JP 8072790A JP H03283249 A JPH03283249 A JP H03283249A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
secondary electron
light guide
optical axis
detector
electron detector
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2080727A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenichi Yamamoto
健一 山本
Katsuhiro Kuroda
黒田 勝弘
Mitsugi Sato
貢 佐藤
Yasushi Nakaizumi
泰 中泉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP2080727A priority Critical patent/JPH03283249A/ja
Publication of JPH03283249A publication Critical patent/JPH03283249A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野) 本発明は走査形電子顕微鏡等に用いられる二次電子検出器に係わり、特に低加速電圧から高加速電圧までの広範囲の加速電圧で使用できる二次電子検出器に関する。 【従来の技術】
近年、走査形電子顕微鏡においてより高分解能の二次電
子像を得るために、実開昭59−71563号に記載の
ように試料を対物レンズギャップの中へ入れ、レンズ収
差の影響を小さくすることが行なわれている。この様な
装置では、第5図に示すように二次電子検出器17は対
物レンズ4と偏向コイル2の間に配置され、二次電子は
次のように検出される。 二次電子ビーム16によって試料5から発生した二次電
子3は対物レンズ4の磁場により螺旋運動をしながらレ
ンズ4上方へ移動する。二次電子検出器17のシンチレ
ータ9には正の高電圧(10kV)が印加されているた
めシールド筒8の開口10から電界がしみ出し二次電子
3を引き込む。 二次電子3によってシンチレータ9から発生した光はラ
イトガイド7を伝わり、光検出器(図示路)により検出
される。 このような構造の検出器では、シンチレータ9に印加さ
れている10kVの電圧により、−次電子ビーム16の
通過経路(走査路電子顕微鏡の光軸1付近)に横向きの
電界E22がしみだして二次電子ビーム16を偏向させ
てしまう。特に−次電子16の加速電圧が低い場合には
、この偏向量が大きくなり対物レンズ4の軸外収差の影
響でビームがぼけるという問題があった。 [発明が解決しようとする課題1 上記従来技術の問題点は、−次電子ビームの通過経路(
走査路電子顕微鏡の光軸付近)での検出器による横方向
電界が強過ぎることにある。本発明の目的は、二次電子
を高効率に検出しかつ光軸付近の横方向電界を弱めるよ
うな構成の二次電子検出器を提供することにある。 [課題を解決するための手段] 上記課題は検出器の二次電子検出面の法線が光軸と垂直
に近い方向を向いていることから生じている。したがっ
て、上記目的は、検出器の二次電子検出面の法線と光軸
とのなす角度をできるだけtJsさくすることにより、
達成される。 [作用] 本発明の作用を1kV以上の加速電圧で使用する走査路
電子顕微鏡の場合を例にとって第6図により説明する。 二次電子検出器17の二次電子検出面18からしみだす
電界E22は、試料5がら発生した二次電子3を引き込
むとともに、−次電子ビーム16を偏向させ軸外収差を
生じさせる。 二次電子3の高効率検出のためには、この電界E22は
強いほど有利であり、実験的に2.0kV/m以上にす
ればよいことがわかっている。一方、軸外収差が無視で
きるようにするためには、電界E22の横方向成分(横
方向電界とよぶことにする)を小さくする必要がある。 また、−次電子ビーム16の偏向量は電界E22の強さ
を一定としたとき、加速電圧が低いほど大きくなる。し
たがって、加速電圧の全域にわたって軸外収差が無視で
きるようにするためには、最も低加速電圧の場合に無視
できるようにすればよい。 ところで、1kVの低加速電圧では、横方向電界を1.
5kV/m以下にすれば軸外収差が無視できることが実
験的にわがっている。ここで、二次電子検出器17の二
次電子検出面18の法線19と光軸1との交点をPとし
、そのなす角をθとする。電界E22の強さを一定とし
たとき点Pでの横方向電界はE sinθとなり、θが
小さいほど弱くなる。−次電子ビーム16の偏向量はこ
の横方向電界の強さに比例する。そこで、電界E22を
2.0kV/mとしたとき、θを50″とすれば横方向
電界は1.5kV/mとなり、軸外収差を無視できるよ
うになることがわかる。このように、θを0°〜50’
とすれば、二次電子を高効率に検出しかつ二次電子検出
器17からの電界による軸外収差を無視できるようにな
る。 本発明はこのような作用を基本になされたものである。
【実施例1 以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。二次
電子検出器17は偏向コイル2と対物レンズ40間に配
置され、シールド筒8の中に、シンチレータ9を先端に
もつライトガイド7が設置された構造である。検出器の
軸6は走査路電子顕微鏡の光軸1に対して35°となる
ように配置されている。ライトガイドはその端面の法線
11が光軸1に平行、すなわち検出器の軸6に対して3
5°となるように加工されている6シールド筒8の開口
10面はシンチレータ9面に平行となるように加工され
ている。 一次電子ビーム16は対物レンズ4で試料5上に集束さ
れ、偏向コイル2により試料5上を二次元的に走査され
る。−次電子ビーム16によって試料5からは二次電子
3が発生する。シールド筒8はアースポテンシャルにな
っている。シンチレータ9には正の高電圧(10kV)
が印加されているためシールドWi8の開口10から電
界がしみ出し二次電子3が引きこまれる。 10kVで加速された二次電子3がシンチレータ9に入
射すると、第2図に示すようにシンチレータ9からは等
方的に光が発生する。この光のうち、ライトガイド7の
材質で決まる全反射角14内(第2図の斜線の範B13
)でライトガイド側面12.12′に入射した光だけが
全反射を繰り返しながらライトガイド7中を伝わる。そ
して後方の図示されていない光電子増倍管に入射し、電
気信号に増幅変換される。この電気信号がブラウン管の
輝度変調信号となり二次電子の走査像を形成する。ここ
で、ライトガイド7は一般にガラスでできており、全反
射角14は約40’である。 したがって、今の場合ライトガイド側面12.12′に
全反射角以上で入射するような方向に発した光を逃すこ
とはない。二次電子検出器をこのような構成にすること
により、ライトガイド中での光の伝播効率を従来通りに
維持しながら、シンチレータに印加された高電圧による
軸上付近の横方向電界を従来よりも弱くすることができ
る。 なお、上記の実施例に挙げた数値例は1本発明の一例で
あり、要するに二次電子検出器の二次電子検出面の法線
と光軸とのなす角がO°〜50゜であれば上記の数値に
限るものではない。また、本実施例ではライトガイド端
面の法線11とライトガイドの軸(検出器の軸6)との
なす角を35°としたが、ライトガイドの材質で決まる
全反射角以下であればどのような値でもよい、この角が
00でもよいことは言うまでもない。 本実施例によれば、シンチレータに印加された高電圧に
よる軸上の横方向電界を従来よりも弱くすることができ
る。従って、検出器の電界の影響による一次電子ビーム
の偏向量を従来よりも小さくすることができる。 また、第3図に示すように、シンチレータ9とシールド
筒8の開口10が同心状となるように。 シールド筒8の先端15をライトガイド7端面の法線1
1と平行となるようにしてもよい。これにより、シンチ
レータ9からシールド筒8開口10までの電界分布の対
称性がよくなり、二次電子が先端15に衝突しにくくな
って二次電子検出効率の向上に役立つ。 また、第4図に示すように、ライトガイド7及びシール
ド筒8を一ケ所以上屈曲させてもよい。 これにより、第1及び第2の実施例では周辺の部材の関
係で設置できないような場合においても、設置可能とな
る。 本発明の第2の実施例を第7図に示す。第7図(A)は
検出器の軸6を含む面の断面図であり、第7図(B)は
光軸1下方から見た図である。円筒上のライトガイド7
の先端面はその面の法線(光軸1と一致)が検出器の軸
6に対して35゜となるように削られ、光軸1を中心と
する円筒状部分には穴20が設けられている。ライトガ
イド7先端面にはドーナツ状のシンチレータ9が設置さ
れている。さらに、シンチレータ9の高電圧が一次電子
ビームに悪影響を与えないように、穴の中に同心円筒状
に内側シールド筒21が設けられている。この内側シー
ルド筒21は外側シールド筒8と接続され、アース電位
になっている。動作は第1の実施例とほぼ同様である。 また、第7図(B)の楕円状のシールド筒8開口及びシ
ンチレータ9を円状とするために、ライトガイド7及び
シールド筒8断面が適当な楕円となるように加工しても
よい。 本実施例によれば、検出器の電界分布が軸対称またはそ
れに近くなるので、−次電子ビームへの悪影響を除去で
きるという効果がある。 【発明の効果】 本発明によれば、光軸付近での検出器の電界の強さを一
定に保ちながら横方向電界を除去または弱くできるので
、低加速電圧から高加速電圧の広範囲にわたって二次電
子を高効率に検出しかつmへ電子ビームへの悪影響を回
避できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の装置の要部を示す縦断面図
、第2図は本発明の一実施例の二次電子検出器の縦断面
図、第3図、第4図は本発明の実施例の変形例になる二
次電子検出器の縦断面図、第5図は従来の二次電子検出
器を示す縦断面図、第6図は本発明の詳細な説明図、第
7図は本発明の他の実施例の二次電子検出器を示す縦断
面図および平面図である。 符号の説明

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、電子銃で発生した一次電子ビームを対物レンズの磁
    場内に置かれた試料に照射し、試料から発生した二次電
    子を対物レンズより電子銃側に配設した二次電子検出器
    によって検出するように構成した走査形電子顕微鏡にお
    いて、前記二次電子検出器の二次電子検出面の法線と光
    軸とのなす角が0°〜50°となるように構成したこと
    を特徴とする二次電子検出器。 2、前記二次電子検出器は前面に開口をもったシールド
    筒の中にシンチレータを先端にもったライトガイドが配
    設されており、該ライトガイド先端面の法線と該ライト
    ガイドの軸とのなす角が該ライトガイドの材質で決まる
    全反射角以下としたことを特徴とする請求項第1項記載
    の二次電子検出器。 3、前記ライトガイドが一ヶ所以上屈曲していることを
    特徴とする請求項第1項または第2項のいずれかに記載
    の二次電子検出器。 4、前記二次電子検出器の二次電子検出面が前記走査形
    電子顕微鏡の光軸と交差するように設置し、かつ光軸部
    分に穴を設け、その穴の中にシールド筒を設けたことを
    特徴とする請求項第1項から第3項までのいずれかに記
    載の二次電子検出器。 5、請求項第1項から第4項までのいずれかに記載の二
    次電子検出器を搭載したことを特徴とする走査電子顕微
    鏡及びその類似装置。
JP2080727A 1990-03-30 1990-03-30 二次電子検出器 Pending JPH03283249A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2080727A JPH03283249A (ja) 1990-03-30 1990-03-30 二次電子検出器

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2080727A JPH03283249A (ja) 1990-03-30 1990-03-30 二次電子検出器

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03283249A true JPH03283249A (ja) 1991-12-13

Family

ID=13726404

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2080727A Pending JPH03283249A (ja) 1990-03-30 1990-03-30 二次電子検出器

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH03283249A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10134754A (ja) * 1996-11-05 1998-05-22 Jeol Ltd 走査電子顕微鏡
JP2002184340A (ja) * 2000-09-29 2002-06-28 Schlumberger Technol Inc 二次電子検出用の小型高効率シンチレーション検出器
JP2022028851A (ja) * 2018-09-21 2022-02-16 株式会社日立ハイテク 荷電粒子線装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10134754A (ja) * 1996-11-05 1998-05-22 Jeol Ltd 走査電子顕微鏡
JP2002184340A (ja) * 2000-09-29 2002-06-28 Schlumberger Technol Inc 二次電子検出用の小型高効率シンチレーション検出器
JP2022028851A (ja) * 2018-09-21 2022-02-16 株式会社日立ハイテク 荷電粒子線装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100309323B1 (ko) 주사전자현미경과주사전자현미경제어방법
US6259094B1 (en) Electron beam inspection method and apparatus
US4442355A (en) Device for detecting secondary electrons in a scanning electron microscope
JP3081393B2 (ja) 走査電子顕微鏡
US4714833A (en) Arrangement for detecting secondary and/or backscatter electrons in an electron beam apparatus
US6642520B2 (en) Scanning electron microscope
KR19980081497A (ko) 주사 전자 현미경
JPH0536371A (ja) 粒子線装置
US6504164B2 (en) Electron beam apparatus
US5677530A (en) Scanning electron microscope
US3717761A (en) Scanning electron microscope
US6617579B2 (en) Scanning electronic beam apparatus
EP0952606B1 (en) Dynamically compensated objective lens-detection device and method
JP4292068B2 (ja) 走査電子顕微鏡
US7645988B2 (en) Substrate inspection method, method of manufacturing semiconductor device, and substrate inspection apparatus
JPH11195396A (ja) エネルギーフィルタを有する粒子線装置
US3792263A (en) Scanning electron microscope with means to remove low energy electrons from the primary electron beam
JP2777840B2 (ja) 電子線装置
US6710340B2 (en) Scanning electron microscope and method of detecting electrons therein
US6653632B2 (en) Scanning-type instrument utilizing charged-particle beam and method of controlling same
JP5280238B2 (ja) 荷電粒子ビーム装置
JP3432091B2 (ja) 走査電子顕微鏡
JPH03283249A (ja) 二次電子検出器
JPH03295141A (ja) 検出器
JPS63110543A (ja) 走査電子顕微鏡の信号検出器