JPH03269349A - Automatic solution management device - Google Patents
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- Investigating Or Analysing Materials By The Use Of Chemical Reactions (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
この発明は、処理液の管理を自動的に行うことかできる
自動液管理装置に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION "Field of Industrial Application" The present invention relates to an automatic liquid management device that can automatically manage processing liquid.
「従来の技術」
従来より、例えば半導体の製造工程等で用いられる洗浄
液（処理液）は自動、手動を問わず様々な方法て分析、
管理されていた。"Conventional technology" Conventionally, cleaning solutions (processing solutions) used in semiconductor manufacturing processes, etc., have been analyzed and analyzed using various methods, both automatic and manual.
It was managed.
具体的には、半導体用ンリコンウェハの製造工程で使用
されるレジスト剥離液（処理液）を分析するに際しては
、該レジスト剥離液の有効成分である硫酸、過酸化水素
を中和滴定、酸化還元滴定したり、前記レジスト剥離ｌ
夜の吸光度及びその変化量を吸光度計により測定するこ
とで、レジスト剥離液の劣化程度を測定していた。Specifically, when analyzing the resist stripping solution (processing solution) used in the manufacturing process of silicon wafers for semiconductors, we conduct neutralization titration and redox titration of sulfuric acid and hydrogen peroxide, which are the active ingredients of the resist stripping solution. or remove the resist
The degree of deterioration of the resist stripping solution was measured by measuring the absorbance at night and the amount of change thereof using an absorbance meter.
なお、レジスト剥離液は、半導体用シリコンウェハ（被
処理物）の上面に積層されたレジスト（ノボラック樹脂
等）により着色され、また、前記レジスト剥離液の成分
である硫酸、過酸化水素により、前記レジストが分解さ
れることで脱色されるものである。これによって、レジ
スト剥離液の吸光度及び吸光度変化を観察した場合に、
レジストか該剥１Ｐｉｒ、 ｉｌｌ中に存在しているか
否か、また、該レジストか硫酸、過酸化水素により有効
に分解されているか否かが判定されるものである。The resist stripping solution is colored by the resist (novolak resin, etc.) layered on the top surface of a semiconductor silicon wafer (workpiece), and is colored by the resist stripping solution, which is a component of the resist stripping solution, such as sulfuric acid and hydrogen peroxide. The color is removed by decomposing the resist. As a result, when observing the absorbance and absorbance change of the resist stripping solution,
It is determined whether or not resist exists in the peeled film, and whether or not the resist has been effectively decomposed by sulfuric acid and hydrogen peroxide.
「発明か解決しようとする課題」
ところで、上記のようなレジスト剥離液の劣化判定法で
は、レジスト剥離液が十分に活性である場合には、レジ
スト剥離液へレジストを投入した後の吸光度変化が大き
く、また、変化の進行も速く、これによって処理液が吸
光度計、滴定手段などの劣化検知手段に至るまでにレジ
ストの分解反応が終了していることかある。"Problem to be solved by the invention" By the way, in the method for determining deterioration of a resist stripping solution as described above, if the resist stripping solution is sufficiently active, the change in absorbance after the resist is added to the resist stripping solution is The decomposition reaction of the resist may be completed by the time the processing liquid reaches the deterioration detection means such as an absorbance meter or titration means.
一方、し／スト剥離液の劣化が進行している場合には、
レジスト剥離液へレジストを投入した後の吸光度の変化
する度合が小さく、処理液か吸光度計、滴定手段かどの
劣化検知手段などに到達しても十分に変化の状態が把握
できる。On the other hand, if the deterioration of the stripping solution is progressing,
The degree of change in absorbance after the resist is added to the resist stripping solution is small, and the state of the change can be sufficiently determined even when the processing solution reaches the deterioration detection means, such as the absorbance meter, titration means, etc.
つまり、上記のような劣化検出法では、液か劣化した状
態と活性な状態とで、これら比較を有効に行うことがで
きないという問題があった。In other words, the deterioration detection method described above has a problem in that it is not possible to effectively compare the degraded state and the active state of the liquid.
この発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであって
、レジスト剥離液の劣化程度に応じて、レジスト剥離液
を劣化検知手段（フォトセンサ、滴定手段）に至らしめ
るまでの時間を、送液ポンプを制御することにより調整
し、これによって、現時点のレジストの劣化程度を正確
に検出することができる自動肢管理装置の提供を目的と
する。This invention was made in view of the above circumstances, and the time required for the resist stripping solution to reach the deterioration detection means (photosensor, titration means) is adjusted depending on the degree of deterioration of the resist stripping solution. The present invention aims to provide an automatic limb management device that can accurately detect the current degree of deterioration of a resist by adjusting it by controlling a liquid pump.
「課題を解決するための手段」
上記目的を達成するために、本発明では、処理槽内の処
理液を供給路を通して所定の流速でサンプリング手段に
取り込む送液ポンプを制御する制御手段と、前記処理液
の劣化状態を検知する劣化状態検知手段とからなる自動
肢管理装置において、前記送液ポンプによりサンプリン
グされる処理液の流速を適宜設定する流速設定機能を前
記制御手段に設けるようにしている。"Means for Solving the Problems" In order to achieve the above object, the present invention includes a control means for controlling a liquid feeding pump that takes the processing liquid in the processing tank into the sampling means at a predetermined flow rate through a supply path; In an automatic limb management device comprising a deterioration state detection means for detecting a deterioration state of a treatment liquid, the control means is provided with a flow rate setting function for appropriately setting the flow rate of the treatment liquid sampled by the liquid feeding pump. .
「作用」
この発明によれば、制御手段に、劣化検知手段の検知結
果に基づき、送液ポンプによりサンプリングされる処理
液の流速を適宜設定する流速設定機能が設けられている
ことから、
（−）処理液の劣化が進行している場合（つまり、処理
液の有効成分濃度か低い状態になりつつある場合）に、
サンプリングされる処理液の流速を小さく設定すること
ができる。"Operation" According to the present invention, since the control means is provided with a flow rate setting function for appropriately setting the flow rate of the processing liquid sampled by the liquid feeding pump based on the detection result of the deterioration detection means, (- ) If the processing liquid is deteriorating (that is, the concentration of the active ingredient in the processing liquid is becoming low),
The flow rate of the sampled processing liquid can be set low.
に）有効成分を投入した直後などに（つまり、処理液の
有効成分濃度が高い状態になりつつある場合）に、サン
プリングされる処理液の流速を大きく設定することがで
きる。2) Immediately after adding the active ingredient (that is, when the concentration of the active ingredient in the processing liquid is becoming high), the flow rate of the sampled processing liquid can be set to a high value.
「実施例」
この発明の一萱瘉湘、！；猿ｆ闇？に５゛猿ｆ？ＭＳ〜
第２図を参照して説明する。``Example'' This invention is one of the best! ;Monkey f darkness? 5゛monkey f? MS~
This will be explained with reference to FIG.
まず、第１図（Ａ）により自動液管理装置全体の概略構
成を説明すると、図において符号（で示すものは、図示
しない処理槽から処理液が供給される処理液供給経路で
ある。First, the general configuration of the entire automatic liquid management device will be explained with reference to FIG.
なお、前記処理液には、半導体用シリコンウェハ上のレ
ジスト（ノボラック樹脂等）を剥離して溶解する硫酸、
過酸化水素等の有効成分が含有されている。Note that the processing liquid includes sulfuric acid, which removes and dissolves resist (novolak resin, etc.) on semiconductor silicon wafers;
Contains active ingredients such as hydrogen peroxide.
前記処理液供給経路１の途中には処理液の流通方向Ｘに
沿って、処理液を冷却する冷却器２、未溶解物等の不純
物を除去するフィルタ３、フォトセル４、六方電磁弁５
が順次設けられている。In the middle of the processing liquid supply path 1, along the flow direction X of the processing liquid, there are a cooler 2 for cooling the processing liquid, a filter 3 for removing impurities such as undissolved substances, a photocell 4, and a six-way solenoid valve 5.
are set up in sequence.
前記フォトセル４は、前記経路１によって送られてきた
レジスト剥離液をセル（図示時）内に導き、該レジスト
剥離液に一定波長の光線を照射することにより、当該レ
ジスト剥離液の吸光度を測定するものであって、その判
定結果である吸光度は測定データ（イ）としてデータ処
理装置Ｍに供給されるようになっている。このデータ処
理装置Ｍは、第１図（Ｂ）に示すように制御手段１００
、人力手段１０１、出力手段である表示パネル１０２に
よって構成されるものである。The photocell 4 guides the resist stripping solution sent through the path 1 into the cell (as shown), and measures the absorbance of the resist stripping solution by irradiating the resist stripping solution with a light beam of a certain wavelength. The absorbance, which is the determination result, is supplied to the data processing device M as measurement data (a). This data processing device M includes a control means 100 as shown in FIG. 1(B).
, a human power means 101, and a display panel 102 which is an output means.
なお、データ処理装置Ｍの制御手段１ｏｏによる検出デ
ータ（イ）の処理内容については後述する第２図のフロ
ーチャートを参照して後で述べる。The details of the processing of the detected data (a) by the control means 1oo of the data processing device M will be described later with reference to the flowchart of FIG. 2, which will be described later.
また、前記六方電磁弁５は、（−）通常は実線で示すよ
うに配置されており、前記処理液をループ１０及び経路
６・７を通じて処理槽（図示時）に、経路６・８を通し
てドレンタンク９にそれぞれ案内する、に）処理液中の
硫酸、過酸化水素濃度を測定する際に、点線で示す位置
に切り換え、前記実線の位置に配置されている間にルー
プ１ｏに一時貯留された処理液を、純水供給系１１（後
述する）を通じて送られた純水により押し出し、反応セ
ル（後述する）に案内する。Further, the six-way solenoid valve 5 is (-) normally arranged as shown by a solid line, and the processing liquid is passed through a loop 10 and routes 6 and 7 to a processing tank (as shown) and to a drain through routes 6 and 8. 2) When measuring the concentration of sulfuric acid and hydrogen peroxide in the processing liquid, the liquid was switched to the position shown by the dotted line, and while it was placed at the position shown by the solid line, it was temporarily stored in the loop 1o. The processing liquid is pushed out by pure water sent through a pure water supply system 11 (described later) and guided to a reaction cell (described later).
なお、前記ループ■０は、その内部に貯留される処理液
の量か予め設定されている、つまり定量のために用いる
ものである。Note that the loop (2) 0 has a predetermined amount of processing liquid stored therein, that is, it is used for quantitative determination.
また、前記経路６〜８の分岐部に設けられたものは、特
に汚れた処理液をドレンタンク９に案内するための三方
電磁弁１２、前記経路６の途中に設けられたものはポン
プ１３、前記経路８の途中に設けられたものは、処理液
のＰＨを測定するＰＨ電極１４である。Further, those provided at the branching portions of the paths 6 to 8 are three-way solenoid valves 12 for guiding particularly dirty processing liquid to the drain tank 9, and those provided in the middle of the path 6 are pumps 13, A PH electrode 14 is provided in the middle of the path 8 to measure the PH of the processing liquid.
また、前記純水供給系１１は、純水の供給経路↓５に沿
って設けられた三方電磁弁■６、中間トラップ１７、ポ
ンプ１８と、分岐した経路１９に設けられて、該純水の
供給圧力を一定値以下に保持するリリーフ弁２０とによ
り構成されるものである。なお、このリリーフ弁２０に
より排出された純水は、前記ドレンタンク９に案内され
る。Further, the pure water supply system 11 includes a three-way solenoid valve 6, an intermediate trap 17, a pump 18 provided along the pure water supply route ↓5, and a branched route 19. It is comprised of a relief valve 20 that maintains the supply pressure below a certain value. Note that the pure water discharged by the relief valve 20 is guided to the drain tank 9.
一方、前記ループ１０に一時貯留された後、純水により
押し出された処理液は、経路２１〜２３と該経路２１〜
２３の分岐部に設けられた三方電磁弁２４とにより、反
応セル２５・２６に選択的に案内される。On the other hand, the processing liquid that is temporarily stored in the loop 10 and then pushed out by the pure water flows through the paths 21 to 23 and the paths 21 to 23.
A three-way solenoid valve 24 provided at a branch part of 23 selectively guides the reaction cells 25 and 26.
また、前記反応セル２５・２６には、前記経路２２・２
３により供給された処理’ｔ（ｌｔに対して、試薬を供
給する試薬供給系２７〜２９と、前記反応セル２５・２
６内の溶液の酸化還元電位を測定する酸化還元電極３０
・３１とが設けられている。Further, the reaction cells 25 and 26 include the paths 22 and 2.
3, the reagent supply systems 27 to 29 supplying reagents and the reaction cells 25 and 2
Redox electrode 30 for measuring the redox potential of the solution in 6
・31 is provided.
前記試薬供給系２７〜２９は、フラスコ２７Ａ〜２９Ａ
に貯留された試薬を、滴定ポンプ２７Ｂ〜２９Ｂにより
経路２７Ｃ〜２９Ｃを経由させて、前記反応セル２５・
２６に少量ずつ供給するものであり、前記酸化還元電極
３０・３１は、試薬を滴下した場合における処理液の酸
化還元電位を検出するものであって、この酸化還元電位
の変化から処理液の硫酸、過酸化水素濃度が算出できる
ようになっている。The reagent supply systems 27 to 29 include flasks 27A to 29A.
The reagents stored in the reaction cells 25 and 25 are passed through routes 27C to 29C by titration pumps 27B to 29B.
The oxidation-reduction electrodes 30 and 31 detect the oxidation-reduction potential of the processing solution when the reagent is dropped, and detect the sulfuric acid of the processing solution based on the change in the oxidation-reduction potential. , hydrogen peroxide concentration can be calculated.
つまり、酸化還元電位が飛躍した点を反応の終点として
、この反応の終点における試薬の滴下量（この滴下量を
示すテークは、検出データ（ロ）として滴定ポンプ２７
Ｂ〜２９Ｂから後述する制御手段１００に出力されてい
る）から、前記処理液の有効成分である硫酸、過酸化水
素濃度がそれぞれ算出されるようになっている。In other words, the point at which the oxidation-reduction potential jumps is the end point of the reaction, and the amount of reagent dropped at the end point of the reaction (the take indicating this amount of dropping is the detected data (b) of the titration pump 27.
The concentrations of sulfuric acid and hydrogen peroxide, which are the effective components of the processing liquid, are calculated from the signals B to 29B (outputted to the control means 100, which will be described later).
なお、制御手段１００による検出データ（イ）と検出デ
ータ（ロ）との処理内容については第２図のフローチャ
ートを参照して後で述べる。The details of processing of the detection data (a) and detection data (b) by the control means 100 will be described later with reference to the flowchart of FIG.
また、前記フラスコ２７Ａ〜２９Ａに貯留される試薬と
しては、水酸化すトリウム等のアルカリ標準液、過マン
ガン酸カリウム溶液等の酸化還元反応を起こす標準液、
硫酸等の酸性標準液等か適当である。Further, the reagents stored in the flasks 27A to 29A include an alkaline standard solution such as thorium hydroxide, a standard solution that causes a redox reaction such as a potassium permanganate solution,
An acidic standard solution such as sulfuric acid is suitable.
一方、反応セル２５・２６の下部には、測定が終了する
毎に該反応セル２５・２６内の処理液を排出するための
経路３２〜３４が設けられ、これら経路３２〜３４の途
中には、フィルタ３５・３６、反応セル２５・２６から
の溶液の排出動作を行うための三方電磁弁３７・３８、
排液ポンプ３９が順次設けられている。そして、前記経
路３２〜３４を通じて排出された溶液は、前述したドレ
ンタンク９内に送られるようになっている。On the other hand, in the lower part of the reaction cells 25 and 26, paths 32 to 34 are provided for discharging the processing liquid in the reaction cells 25 and 26 each time a measurement is completed. , filters 35 and 36, three-way solenoid valves 37 and 38 for discharging the solution from the reaction cells 25 and 26,
A drain pump 39 is sequentially provided. The solution discharged through the paths 32 to 34 is sent into the drain tank 9 described above.
なお、上記系統図において、第１図（Ａ）に示す処理液
供給経路１、六方電磁弁５、経路６、ループ１０．ポン
プ１３（送液ポンプ）によりサンプリング手段が構成さ
れ、フォトセル４及び符号１゜３で示す範囲の滴定手段
により劣化検知手段が構成される。In the above system diagram, the processing liquid supply route 1, the six-way solenoid valve 5, the route 6, the loop 10. The pump 13 (liquid feeding pump) constitutes a sampling means, and the photocell 4 and the titration means in the range indicated by 1°3 constitute a deterioration detecting means.
次に、第■図（Ｂ）に符号１００で示す制御手段の制御
内容について、第２図のフローチャートを参照して説明
する。Next, the control contents of the control means indicated by the reference numeral 100 in FIG. 2(B) will be explained with reference to the flowchart of FIG.
なお、このフローチャートは、処理液の有効成分量から
該処理液の劣化状態を検出し、該処理液の劣化程度に対
応してポンプ１３による処理液のサンプリング量を調整
する、つまり、処理液供給経路］を流通する処理液の流
速を低くしてゆく制御を示すものである。Note that this flowchart detects the deterioration state of the treatment liquid from the amount of active ingredients in the treatment liquid, and adjusts the sampling amount of the treatment liquid by the pump 13 in accordance with the degree of deterioration of the treatment liquid. This shows control to lower the flow rate of the processing liquid flowing through the flow path.
また、このフローチャートに基づく制御は制御手段１０
０の有する流速設定機能によるものである。Further, control based on this flowchart is performed by the control means 10.
This is due to the flow rate setting function of 0.
また、以下の説明において示すステップＮは、第３図の
ｒｓＰｎＪに対応する。Further, step N shown in the following explanation corresponds to rsPnJ in FIG.
くステップ１〉 開始。Step 1> start.
〈ステップ２〉
入力手段１０１により劣化状態にあるか否かを判定する
基準となる有効成分濃度（ａ。）を設定し、ポンプ１３
により処理液供給経路１を通じてサンプリングされる処
理液の流速（ｂＱ）を設定する。<Step 2> The active ingredient concentration (a.), which is a standard for determining whether or not the product is in a deteriorated state, is set using the input means 101, and the pump 13
The flow rate (bQ) of the processing liquid sampled through the processing liquid supply path 1 is set by .
〈ステップ３〉
滴定手段１０３から出力された検出データ（ロ）に基づ
き、処理液の有効成分濃度（ａ、）を検出する。<Step 3> Based on the detection data (b) output from the titration means 103, the active ingredient concentration (a,) of the treatment liquid is detected.
くステップ４〉
処理液の有効成分濃度（ａｌ）が基準濃度（ａｏ）より
大きいか否かを判断し、ＮＯの場合にステップ５に進み
、ＹＥＳの場合にステップ６に進む。Step 4> It is determined whether the active ingredient concentration (al) of the treatment liquid is greater than the reference concentration (ao). If NO, proceed to step 5; if YES, proceed to step 6.
つまり、処理液が劣化状態にあると判断した場合（ＮＯ
の場合）にステップ５に進み、また、処理液が未だ活性
な状態にあると判断した場合（ＹＥＳの場合）にステッ
プ６に進む。In other words, if it is determined that the processing liquid is in a deteriorated state (NO
If it is determined that the processing liquid is still in an active state (in the case of YES), the process proceeds to step 6.
〈ステップ５〉
ポンプ１３により処理液供給経路１を通してサンプリン
グされる処理液の流速を、ステップで設定した流速（ｂ
ｏ）より低い流速（ｂｌ）に設定する。<Step 5> The flow rate of the processing liquid sampled through the processing liquid supply path 1 by the pump 13 is adjusted to the flow rate set in step (b
o) Set to a lower flow rate (bl).
くステップ６〉
ステップ３で分析した有効成分濃度（ａ 、）と、ステ
ップ４での判断結果とを表示パネル１０２に出力して、
次のステップ７に進む。Step 6> Output the active ingredient concentration (a,) analyzed in Step 3 and the judgment result in Step 4 to the display panel 102,
Proceed to the next step 7.
〈ステップ７〉
フォトセル４において検出された吸光度を示す検出デー
タ（イ）を取り込む。<Step 7> Detection data (a) indicating the absorbance detected by the photocell 4 is taken in.
〈ステップ８〉
前記ステップ７で検出した吸光度の時間に対する変化量
を求め、前記処理液か劣化状態にあるか否かを、吸光度
の観点から判定する。<Step 8> The amount of change over time in the absorbance detected in step 7 is determined, and whether or not the processing liquid is in a deteriorated state is determined from the viewpoint of absorbance.
〈ステップ９〉
前記ステップ８の判定結果とを表示パネル１゜２に出力
して元のステップ３に進む。<Step 9> The determination result of step 8 is output to the display panel 1.degree. 2, and the process returns to step 3.
なお、上記のフローチャートでは有効成分濃度分析の観
点から、処理液の劣化が進行しているか１（
否かを判断したが、これに限定されず、ステップ４の処
理と同様に、吸光度が予め設定した基準となる吸光度よ
り小さい状態にあるか否かを判断し、ＮＯとなった場合
（吸光度が大きくなって劣化していると判断された場合
）に、ステップ５で示すように流速を低下させるように
しても良い。In addition, in the above flowchart, from the viewpoint of active ingredient concentration analysis, it was determined whether deterioration of the processing liquid has progressed (1), but this is not limited to this, and as in the process in step 4, the absorbance is preset. It is determined whether the absorbance is lower than the reference absorbance determined, and if the result is NO (the absorbance is determined to have increased and deteriorated), the flow rate is reduced as shown in step 5. You can do it like this.
また、上記のフローチャートは、劣化が進行したか否か
の判断するものであるが、例えば処理液に有効成分を途
中で追加投入した場合には、ステップ４〜５の処理を以
下の通りに変更して、ポンプ１３により処理液供給経路
１を通じてサンプリングされる処理液の流速を高めるよ
うにしても良い。つまり、
〈ステップ４〉
処理液の有効成分濃度（ａ、）が基準濃度（ａ、）より
大きくなったか否かを判断し、その結果、前記濃度（ａ
＋）が基準濃度（ａ、）より大きくなって処理液の劣
化状態が解消された場合に（これはＹＥＳの場合である
）、ステップ５に進み、また、前記２
濃度（ａｌ）が基準濃度（ａ、）より小さいままであっ
て処理液が未だ劣化状態にある場合に（これはＮＯの場
合である）、ステップ６に進む。In addition, the above flowchart is for determining whether or not deterioration has progressed, but for example, if an active ingredient is added to the treatment liquid midway through, the processes in steps 4 and 5 will be changed as follows. In this way, the flow rate of the processing liquid sampled through the processing liquid supply path 1 by the pump 13 may be increased. In other words, <Step 4> It is determined whether the active ingredient concentration (a,) of the treatment liquid has become greater than the reference concentration (a,), and as a result, the concentration (a,) is determined to be greater than the reference concentration (a,).
+) becomes larger than the reference concentration (a,) and the deterioration state of the processing liquid is resolved (this is the case of YES), proceed to step 5, and the above 2 concentration (al) becomes the reference concentration. If it remains smaller than (a,) and the processing liquid is still in a degraded state (this is the case of NO), proceed to step 6.
くステップ５〉
ポンプ１３により処理液供給経路１を通じてサンプリン
グされる処理液の流速を、ステップで設定した流速（ｂ
ｏ）より高い流速（ｂ、）に設定する。Step 5> The flow rate of the processing liquid sampled through the processing liquid supply path 1 by the pump 13 is adjusted to the flow rate set in step (b).
o) Set to a higher flow rate (b,).
なお、このようなステップ４〜５に示すフローチャート
は、有効成分濃度値に基づき処理液の劣化状態が解消し
たか否かを示すものであるが、これに限定されず、もう
一つの検出手段であるフォトセル４の検出データ（ロ）
に基づき、処理液の劣化状態が解消したか否かを判断し
ても良い。Note that the flowchart shown in steps 4 to 5 indicates whether or not the deterioration state of the processing liquid has been resolved based on the active ingredient concentration value, but the present invention is not limited to this, and another detection means may be used. Detection data of a certain photocell 4 (b)
Based on this, it may be determined whether the deterioration state of the processing liquid has been resolved.
そして、この場合には、吸光度が予め設定した基準とな
る吸光度より大きい状態であるか否かを判断し、ＮＯと
なった場合に（つまり、吸光度が低下した場合に）、劣
化状態は解消し処理液が活性な状態に戻ったものとして
、流速を高めるようにすると良い。In this case, it is determined whether the absorbance is greater than a preset reference absorbance, and if NO (that is, the absorbance decreases), the deterioration state is resolved. Assuming that the treatment liquid has returned to an active state, it is preferable to increase the flow rate.
また、前記実施例及び変形実施例■ては、フォトセル４
から出力される検出データ（イ）、滴定手段１０３から
出力される検出データ（ロ）に基づき、劣化が進行して
いるか否かを単に判断したものであるが、この判断に加
えて、処理槽にレジストをどの程度投入したかにより劣
化状態を判断しても良い。In addition, in the above embodiment and modified embodiment 4, the photocell 4
Based on the detection data (a) output from the titration means 103 and the detection data (b) output from the titration means 103, it is simply determined whether or not deterioration is progressing. The state of deterioration may be determined based on how much resist is applied to the substrate.
「発明の効果」
以上詳細に説明したように、本発明によれば、制御手段
に、劣化検知手段の検知結果に基づき、送液ポンプによ
りサンプリングされる処理液の流速を適宜設定する流速
設定機能が設けられていることから、
（−）処理液の劣化が進行している場合（つまり、処理
液の有効成分濃度が低い状態になりつつある場合）に、
サンプリングされる処理液の流速を小さく設定すること
かでき、これによって、レジストを投入した後の吸光度
の変化する度合、有効成分濃度変化の度合を考慮して（
つまり、変化する度合が微小であるので時間をかけて）
、該処理液を劣化検知手段に導くことができ、処理液の
正確な状況判断することができる、
に）有効成分を投入した直後なとに（つまり、処理ｌ夜
の有効成分濃度が高い状態になりつつある場合）に、サ
ンプリングされる処理液の流速を大きく設定することか
でき、これによって、レジストを投入した後の吸光度の
変化する度合、有効成分濃度変化の度合を考慮して（つ
まり、変化する度合が大きいので短い時間で）、該処理
液を劣化検知手段に導くことができ、処理液の正確な状
況判断と測定時間の短縮化を図ることかできる効果が得
られる。"Effects of the Invention" As described in detail above, according to the present invention, the control means has a flow rate setting function that appropriately sets the flow rate of the processing liquid sampled by the liquid feeding pump based on the detection result of the deterioration detection means. (-) When the processing liquid is deteriorating (in other words, when the concentration of the active ingredient in the processing liquid is becoming low),
The flow rate of the sampled processing solution can be set to a low value, taking into account the degree of change in absorbance and the degree of change in active ingredient concentration after the resist is introduced (
In other words, the degree of change is minute, so over time)
, the processing solution can be guided to a deterioration detection means, and the accurate status of the processing solution can be determined; The flow rate of the sampled processing solution can be set high, taking into account the degree of change in absorbance and the degree of change in active ingredient concentration after the resist is introduced (in other words, , in a short period of time since the degree of change is large), the processing liquid can be guided to the deterioration detection means, and the effect of accurately determining the status of the processing liquid and shortening the measurement time can be obtained.
第１図（Ａ）〜第２図は本発明の一実施例を示すもので
あって、第１図（Ａ）は自動液管理装置の全体概略構成
図、第１図（Ｂ）は自動液管理装置の制御装置を示す図
、第２図は制御装置の制御内容を示すフローチャートで
ある。
サンプリング手段・・・〔処理液供給経路１、六方電磁
弁５、経路６、ルー
プ１０５ポンプ１３（送
液ポンプ）〕、
劣化検知手段・・・・ ［フォトセル４、滴定手段１０
３］、
制御手段１０００1(A) to 2 show one embodiment of the present invention, in which FIG. 1(A) is an overall schematic configuration diagram of an automatic liquid management device, and FIG. 1(B) is an automatic liquid management device. FIG. 2 is a diagram showing the control device of the management device, and is a flowchart showing the control contents of the control device. Sampling means... [processing liquid supply route 1, hexagonal solenoid valve 5, route 6, loop 105 pump 13 (liquid feeding pump)], deterioration detection means... [photocell 4, titration means 10
3], control means 1000
Claims (1)
プリング手段に取り込む送液ポンプを制御する制御手段
と、前記処理液の劣化状態を検知する劣化状態検知手段
とからなる自動液管理装置において、 前記送液ポンプによりサンプリングされる処理液の流速
を適宜設定する流速設定機能を前記制御手段に設けたこ
とを特徴とする自動液管理装置。[Scope of Claims] Consisting of a control means for controlling a liquid feeding pump that takes the processing liquid in the processing tank into the sampling means at a predetermined flow rate through a supply path, and a deterioration state detection means for detecting the deterioration state of the processing liquid. An automatic liquid management device, characterized in that the control means is provided with a flow rate setting function for appropriately setting the flow rate of the processing liquid sampled by the liquid feeding pump.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7002490A JPH03269349A (en) | 1990-03-20 | 1990-03-20 | Automatic solution management device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7002490A JPH03269349A (en) | 1990-03-20 | 1990-03-20 | Automatic solution management device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03269349A true JPH03269349A (en) | 1991-11-29 |
Family
ID=13419620
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7002490A Pending JPH03269349A (en) | 1990-03-20 | 1990-03-20 | Automatic solution management device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03269349A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5411708A (en) * | 1991-08-06 | 1995-05-02 | Moscetta; Pompeo | Apparatus for the determination of analytes in liquid samples |
-
1990
- 1990-03-20 JP JP7002490A patent/JPH03269349A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5411708A (en) * | 1991-08-06 | 1995-05-02 | Moscetta; Pompeo | Apparatus for the determination of analytes in liquid samples |
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