JPH03269357A - Automatic solution management device - Google Patents

Automatic solution management device

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JPH03269357A
JPH03269357A JP7002690A JP7002690A JPH03269357A JP H03269357 A JPH03269357 A JP H03269357A JP 7002690 A JP7002690 A JP 7002690A JP 7002690 A JP7002690 A JP 7002690A JP H03269357 A JPH03269357 A JP H03269357A
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JP
Japan
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potential
oxidation
reagent
titration
reduction potential
Prior art date
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Pending
Application number
JP7002690A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Satoshi Takaiwa
聡 高岩
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Tokico Ltd
Original Assignee
Tokico Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To attain accurate concentration measurement by deciding whether the potential of an electrode exceeds a previously set reference value or not and continued for a period more than a previously set value or not. CONSTITUTION:The oxidation-reduction potential of a processing solution at the time of dropping reagent is detected by oxidation-reduction electrodes 30, 31. The jumped point of the oxidation-reduction potential is defined as the end point of reaction, data indicating the dropped quantity of the reagent at the end point of the reaction are outputted from titration pumps 27B to 29B to a control means 100 in a data processor M as detection data (a) and data indicating the oxidation-reduction potential are outputted from the electrodes 30, 31 to the means 100 as detection data (b). When a measured time exceeds the set time, the means 100 decides whether the measured oxidation-reduction potential exceeds the reference value or not based upon the detection data (b). When the decided result is YES, the means 100 calculates the effective component concentration of the processing solution from the dropped quantity of the reagent based upon the data (a) and outputs the calculated result to a display panel 102.

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 この発明は、処理液の管理を自動的に行うことができる
自動液管理装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION "Field of Industrial Application" The present invention relates to an automatic liquid management device that can automatically manage processing liquid.

「従来の技術」 従来より、例えば半導体の製造工程等で用いられる洗浄
液(処理液)は自動、手動を問わず様々な方法で分析、
管理されていた。
"Prior Art" Traditionally, cleaning solutions (processing solutions) used in semiconductor manufacturing processes, etc., have been analyzed and analyzed using various methods, both automatic and manual.
It was managed.

具体的には、半導体用シリコンウェハの製造工程で使用
されるレジスト剥離液(処理液)は、該レジスト剥離液
の有効成分である硫酸、過酸化水素を中和滴定、酸化還
元滴定する。また、前記レジスト剥離液の吸光度を測定
することにより、継続して使用可能か否かが分析されて
いた。
Specifically, the resist stripping solution (processing solution) used in the process of manufacturing silicon wafers for semiconductors undergoes neutralization titration and redox titration of sulfuric acid and hydrogen peroxide, which are the active ingredients of the resist stripping solution. Furthermore, by measuring the absorbance of the resist stripping solution, it has been analyzed whether it can be used continuously.

なお、前記有効成分である硫酸、過酸化水素の滴定は、
酸化還元電極を用い、該酸化還元電極により検出される
酸化還元電位が飛躍した点を反応の終点として、この反
応の終点における試薬の滴下量(この滴下量を示す検出
データは滴定ポンプから出力される)から、前記レジス
ト剥離液の有効成分の濃度がそれぞれ算出されるように
なっrいる。
In addition, the titration of sulfuric acid and hydrogen peroxide, which are the active ingredients, is as follows:
Using a redox electrode, the point at which the redox potential detected by the redox electrode jumps is the end point of the reaction, and the amount of reagent dripped at the end point of the reaction (detected data indicating this dripped amount is output from the titration pump). The concentrations of the active ingredients of the resist stripping solution are calculated from the following.

「発明が解決しようとする課題」 ところで、上記のようなレジスト剥離液の有効成分の測
定法では、滴下される試薬のレジスト剥離液への分散状
態により、次の滴下までの時間内に試薬がレジスト剥離
液に十分に拡散せず(試薬は一定の時間をおいて1滴(
あるいは一定量)ずつ滴下されている)、これによって
、酸化還元電位が定常状態になる前に、本来終点でない
ところで、終点に到達したと判定してしまい(例えば電
位が10100Oを越えた時点で終点と判定してしまう
)、正確な分析ができないという問題があった。
``Problem to be Solved by the Invention'' By the way, in the method for measuring the active ingredient of a resist stripping solution as described above, depending on the state of dispersion of the reagent being dropped into the resist stripping solution, the reagent may be removed within the time until the next drop. The reagent does not diffuse sufficiently into the resist stripping solution (one drop of the reagent is removed after a certain period of time).
As a result, before the redox potential reaches a steady state, it is determined that the end point has been reached when it is not originally the end point (for example, when the potential exceeds 10,100 O, the end point is reached). There was a problem that accurate analysis could not be performed.

この発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであって
、例えば、終点電位として定めた10100Oが一定の
時間継続した場合に、この1000m Vを越えた時点
の滴下量を当量点として、前記レジスト剥離液の有効成
分の濃度を算出し、正確な濃度測定を行うことができる
自動液管理装置の提供を目的とする。
This invention has been made in view of the above circumstances. For example, when the end point potential of 10100O continues for a certain period of time, the dropping amount at the time when this 1000mV is exceeded is taken as the equivalence point. The purpose of the present invention is to provide an automatic liquid management device that can calculate the concentration of active ingredients in a resist stripping liquid and accurately measure the concentration.

「課題を解決するための手段」 上記目的を達成するために、本発明では、処理槽内の処
理液を取り込むサンプリング手段と、該サンプリング手
段によりサンプリングされた処理液に対して試薬を滴下
し、かつ該処理液の電極の電位を検出する滴定手段と、
該滴定手段から出力された試薬の滴下量と電極の電位と
を示す検出データから、前記処理液の濃度を検出する制
御手段とを有し、更に、この制御手段に、前記電極の電
位が予め設定した基準値を越えて、かつ予め設定した設
定時間以上継続したか否かを判定する状態判定機能を設
けるようにしている。
"Means for Solving the Problems" In order to achieve the above object, the present invention includes a sampling means for taking in a processing liquid in a processing tank, a reagent being dropped onto the processing liquid sampled by the sampling means, and a titration means for detecting the potential of the electrode of the treatment liquid;
control means for detecting the concentration of the treatment liquid from detection data indicating the dripping amount of the reagent outputted from the titration means and the potential of the electrode; A state determination function is provided to determine whether or not the condition exceeds a set reference value and continues for a preset time period.

「作用」 この発明によれば、電極の電位が予め設定した基準値を
越えて、かつ予め設定した設定時間以上継続したか否か
を判定する機能が設けられているので、この機能により
判定された状態を滴定の当量点と設定することができる
、つまり、前記基準値を越えたところの滴下量を滴定の
当量点とすることができる。
"Operation" According to the present invention, a function is provided to determine whether or not the potential of the electrode exceeds a preset reference value and continues for a preset time. The state in which the titration is carried out can be set as the titration equivalence point, that is, the dropped amount exceeding the reference value can be set as the titration equivalence point.

また、前記設定時間を適宜窓めることにより、/ 処理液内において試薬を十分に拡散させ、かつ電位が十
分に安定した時点を滴定の当量点とすることができる。
Furthermore, by appropriately adjusting the set time, the equivalence point for titration can be set at the time when the reagent is sufficiently diffused in the treatment liquid and the potential is sufficiently stabilized.

3 「実施例」 この発明の一実施例を第1図(A)、第1図(B)〜第
2図を参照して説明する。
3 "Embodiment" An embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 1(A) and FIG. 1(B) to FIG. 2.

まず、第1図(A)により自動液管理装置全体の概略構
成を説明すると、図において符号lで示すものは、図示
しない処理槽から処理液が供給される処理液供給経路で
ある。
First, the general structure of the automatic liquid management apparatus will be explained with reference to FIG. 1(A). In the figure, what is indicated by the symbol l is a processing liquid supply path through which processing liquid is supplied from a processing tank (not shown).

なお、前記処理液には、半導体用シリコンウェハ上のレ
ジスト(ノボラック樹脂等)を剥離して溶解する硫酸、
過酸化水素等の有効成分が含有されている。
Note that the processing liquid includes sulfuric acid, which removes and dissolves resist (novolak resin, etc.) on semiconductor silicon wafers;
Contains active ingredients such as hydrogen peroxide.

前記処理液供給経路1の途中には処理液の流通方向Xに
沿って、処理液を冷却する冷却器2、未溶解物等の不純
物を除去するフィルタ3、フォトセル4、六方電磁弁5
が順次設けられている。
In the middle of the processing liquid supply path 1, along the flow direction X of the processing liquid, there are a cooler 2 for cooling the processing liquid, a filter 3 for removing impurities such as undissolved substances, a photocell 4, and a six-way solenoid valve 5.
are set up in sequence.

前記フォトセル4は、前記経路lによって送られてきた
レジスト剥離液をセル(図示路)内に導き、該レジスト
剥離液に一定波長の光線を照射することにより、当該レ
ジスト剥離液の吸光度を測定するものである。
The photocell 4 guides the resist stripping solution sent through the path 1 into the cell (path shown), and measures the absorbance of the resist stripping solution by irradiating the resist stripping solution with a light beam of a certain wavelength. It is something to do.

なお、前記六方電磁弁5は、(−)通常は実線で示すよ
うに配置されており、前記処理液をループ10及び経路
6・7を通じて処理槽(図示路)に、経路6・8を通じ
てドレンタンク9にそれぞれ案内する、に)処理液中の
硫酸、過酸化水素濃度を測定する際に、点線で示す位置
に切り換え、前記実線の位置に配置されている間にルー
プ10に一時貯留された処理液を、純水供給系11 (
後述する)を通じて送られた純水により押し出し、反応
セル(後述する)に案内する。
The six-way solenoid valve 5 (-) is normally arranged as shown by the solid line, and directs the processing liquid to the processing tank (path shown) through the loop 10 and paths 6 and 7, and to the drain through paths 6 and 8. 2) When measuring the concentration of sulfuric acid and hydrogen peroxide in the processing liquid, the liquid was switched to the position shown by the dotted line, and while it was placed at the position shown by the solid line, it was temporarily stored in the loop 10. The processing liquid is transferred to the pure water supply system 11 (
(to be described later) is pushed out by pure water sent through a reaction cell (to be described later).

なお、前記ループ10は、その内部に貯留される処理液
の量が予め設定されている、つまり定量のtこめに用い
るものである。
The loop 10 has a predetermined amount of processing liquid stored therein, that is, it is used for quantitative determination.

また、前記経路6〜8の分岐部に設けられたものは、特
に汚れた処理液をドレンタンク9に案内するための三方
電磁弁12、前記経路6の途中にH電極14である。
Further, provided at the branching portions of the paths 6 to 8 are a three-way solenoid valve 12 for guiding particularly dirty processing liquid to the drain tank 9, and an H electrode 14 in the middle of the path 6.

また、前記純水供給系11は、純水の供給経路15に沿
って設けられた三方電磁弁16、中間トラップ17、ポ
ンプ18と、分岐した経路19に設けられて、該純水の
供給圧力を一定値以下に保持するリリーフ弁20とによ
り構成されるものである。なお、このリリーフ弁20に
より排出された純水は、前記ドレンタンク9に案内され
る。
Further, the pure water supply system 11 includes a three-way solenoid valve 16, an intermediate trap 17, a pump 18, which are provided along the pure water supply route 15, and a branched route 19, so that the supply pressure of the pure water is and a relief valve 20 that maintains the pressure below a certain value. Note that the pure water discharged by the relief valve 20 is guided to the drain tank 9.

一方、前記ループ10に一時貯留された後、純水により
押し出された処理液は、経路21〜23と該経路21〜
23の分岐部に設けられた三方電磁弁24とにより、反
応セル25・26に選択的に案内される。
On the other hand, the processing liquid that is temporarily stored in the loop 10 and then pushed out by the pure water flows through the paths 21 to 23 and the paths 21 to 23.
A three-way solenoid valve 24 provided at a branch part of 23 selectively guides the reaction cells 25 and 26.

また、前記反応セル25・26には、前記経路22・2
3により供給された処理液に対して、試薬を供給する試
薬供給系27〜29と、前記反応セル25・26内の溶
液の酸化還元電位を測定する酸化還元電極30・31と
が設けられている。
Further, the reaction cells 25 and 26 include the paths 22 and 2.
Reagent supply systems 27 to 29 that supply reagents to the processing liquid supplied by 3, and redox electrodes 30 and 31 that measure the redox potential of the solution in the reaction cells 25 and 26 are provided. There is.

前記試薬供給系27〜29は、フラスコ27A〜29A
に貯留された試薬を、滴定ポンプ27B〜29Bにより
経路27C〜29Cを経由させて、前記反応セル25・
26に少量ずつ供給するものであり、前記酸化還元電極
30・31は、試薬を滴下した場合における処理液の酸
化還元電位を検出するものであって、この酸化還元電位
の変化から処理液の硫酸、過酸化水素濃度が算出できる
ようになっている。
The reagent supply systems 27 to 29 include flasks 27A to 29A.
The reagents stored in the reaction cells 25 and 25 are passed through routes 27C to 29C by titration pumps 27B to 29B.
The oxidation-reduction electrodes 30 and 31 detect the oxidation-reduction potential of the processing solution when the reagent is dropped, and detect the sulfuric acid of the processing solution based on the change in the oxidation-reduction potential. , hydrogen peroxide concentration can be calculated.

つまり、酸化還元電位が飛躍した点を反応の終点として
、この反応の終点における試薬の滴下量(この滴下量を
示すデータは検出データ(イ)として滴定ポンプ27B
〜29Bから、また、酸化還元電位を示すデータは検出
データ(ロ)として酸化還元電極30・31から後述す
るデータ処理装置Mの制御手段100にそれぞれ出力さ
れている)から、前記処理液の有効成分である硫酸、過
酸化水素濃度がそれぞれ算出されるようになっている。
In other words, the point at which the redox potential jumps is taken as the end point of the reaction, and the amount of reagent dripped at the end point of the reaction (data indicating this amount of dripping is detected data (a) by the titration pump 27B.
~29B, and data indicating the redox potential are output as detection data (b) from the redox electrodes 30 and 31 to the control means 100 of the data processing device M, which will be described later). The concentrations of the components sulfuric acid and hydrogen peroxide are calculated separately.

なお、制御手段100による検出データ(イ)及び(ロ
)の処理内容については第2図のフローチャートを参照
して後で述べる。
The details of the processing of the detection data (a) and (b) by the control means 100 will be described later with reference to the flowchart in FIG.

また、前記フラスコ27A〜29Aに貯留される試薬と
しては、水酸化ナトリウム等のアルカリ標準液、過マン
ガン酸カリウム溶液等の酸化還元反応を起こす標準液、
硫酸等の酸性標準液等が適当である。
In addition, the reagents stored in the flasks 27A to 29A include an alkaline standard solution such as sodium hydroxide, a standard solution that causes a redox reaction such as potassium permanganate solution,
An acidic standard solution such as sulfuric acid is suitable.

一方、反応セル25・26の下部には、測定が終了する
毎に該反応セル25・26内の処理液を排出するための
経路32〜34が設けられ、これら経路32〜34の途
中には、フィルタ35・36、反応セル25・26から
の溶液の排出動作を行うための三方電磁弁37・38、
排液ポンプ39が順次設けられている。そして、前記経
路32〜34を通じて排出された溶液は、前述したドレ
ンタンク9内に送られるようになっている。
On the other hand, in the lower part of the reaction cells 25 and 26, paths 32 to 34 are provided for discharging the processing liquid in the reaction cells 25 and 26 each time a measurement is completed. , filters 35 and 36, three-way solenoid valves 37 and 38 for discharging the solution from the reaction cells 25 and 26,
A drain pump 39 is sequentially provided. The solution discharged through the paths 32 to 34 is sent into the drain tank 9 described above.

なお、第1図(A)に示す系統図において、−点鎖線て
示す範囲のものは滴定手段103である。
In the system diagram shown in FIG. 1(A), the range indicated by the - dotted chain line is the titration means 103.

次に、第1図(B)に示すデータ処理装置Mについて説
明すると、このデータ処理装置Mは、制御手段100、
入力手段101、出力手段である表示パネル102によ
って構成されるものである。
Next, the data processing device M shown in FIG. 1(B) will be explained. This data processing device M includes a control means 100,
It is composed of an input means 101 and a display panel 102 which is an output means.

前記制御手段100は処理液の状態判定機能を有するも
のであって、第2図に示すフローチャートに示すように
、滴定手段103から取り込んた滴下量を示す検出デー
タ(イ)、酸化還元電位を示す検出データ(ロ)をそれ
ぞれ処理し、これら検出データ(イ)(ロ)に基づき、
処理液が劣化した状態にあるか否かを判定するものであ
る。
The control means 100 has a function of determining the state of the treatment liquid, and as shown in the flowchart shown in FIG. Process the detection data (b) respectively, and based on these detection data (a) and (b),
This is to determine whether the processing liquid is in a deteriorated state.

また、前記制御手段100の図示しない記憶部には、基
準となる酸化還元電位(aA)、この基準値を越えた状
態がどれ程継続しているかを示す設定時間(C)がそれ
ぞれ記憶されている。
Further, a storage unit (not shown) of the control means 100 stores a reference oxidation-reduction potential (aA) and a set time (C) indicating how long the state exceeding this reference value continues. There is.

次に、第2図のフローチャートを参照して、前記制御手
段100の制御内容について説明する。
Next, the control contents of the control means 100 will be explained with reference to the flowchart shown in FIG.

なお、以下の説明において示すステップNは、第3図の
rsPnJに対応する。
Note that step N shown in the following explanation corresponds to rsPnJ in FIG.

くステップ1〉 開始 〈ステップ2〉 検出データ(ロ)により酸化還元電位(ao)を測定す
る。
Step 1> Start <Step 2> Measure the oxidation-reduction potential (ao) based on the detection data (b).

〈ステップ3〉 前記ステップ2で測定した酸化還元電位(a、)が基準
となる酸化還元電位(aA)以上となったか否かを判断
し、YESの場合にステップ4に進み、また、Noの場
合にステップ9に進む。
<Step 3> It is determined whether the redox potential (a,) measured in step 2 is equal to or higher than the reference redox potential (aA), and if YES, proceed to step 4; If so, proceed to step 9.

〈ステップ4〉 滴定ポンプ27B〜29Bに対して、−回あたりの滴下
量が最小となる滴下量(bo)を設定する。
<Step 4> For the titration pumps 27B to 29B, set the dropping amount (bo) at which the dropping amount per - time is the minimum.

〈ステップ5〉〜くステップ6〉 時間を計測し、計測した時間が設定時間(C)を経過し
た場合に次のステップ7に進む。
<Step 5> to Step 6> The time is measured, and when the measured time has passed the set time (C), proceed to the next step 7.

くステップ7〉 検出データ(ロ)により酸化還元電位(al)を測定す
る。
Step 7> Measure the redox potential (al) based on the detection data (b).

〈ステップ8〉 前記ステップ7で測定した酸化還元電位(a 、)が基
準となる酸化還元電位(aA)以上となったか否かを判
断し、YESの場合にステップ17に進み、また、NO
の場合にステップ9に進む。
<Step 8> It is determined whether the oxidation-reduction potential (a,) measured in step 7 is equal to or higher than the reference oxidation-reduction potential (aA), and if YES, proceed to step 17;
In this case, proceed to step 9.

〈ステップ9〉 滴定ポンプ27B〜29Bに対して一回あたりの滴下量
(bl)を設定する。
<Step 9> The dripping amount (bl) per time is set for the titration pumps 27B to 29B.

くステップ10> 検出データ(ロ)により酸化還元電位(a、)を測定す
る。
Step 10> Measure the redox potential (a,) based on the detection data (b).

〈ステップ11〉 前記ステップ10で測定した酸化還元電位(a2)が基
準となる酸化還元電位(aA)以上となったか否かを判
断し、YESの場合にステップ12に進み、また、No
の場合に元のステップ9に戻る。
<Step 11> It is determined whether the oxidation-reduction potential (a2) measured in step 10 is equal to or higher than the reference oxidation-reduction potential (aA), and if YES, proceed to step 12;
In this case, return to the original step 9.

〈ステップ12〉 滴定ポンプ27B〜29Bに対して、−回あたりの滴下
量が最小となる滴下量(bo)を設定する。
<Step 12> For the titration pumps 27B to 29B, set the dripping amount (bo) at which the dripping amount per - time is the minimum.

〈ステップ13〉〜〈ステップ14〉 時間を計測し、計測した時間が設定時間(C)を経過し
た場合に次のステップ15に進む。
<Step 13> to <Step 14> Time is measured, and when the measured time has passed the set time (C), the process proceeds to the next step 15.

くステップ15〉 検出データ(ロ)により酸化還元電位(a3)を測定す
る。
Step 15> Measure the redox potential (a3) based on the detection data (b).

〈ステップ16〉 前記ステップ10で測定した酸化還元電位(a3)が基
準となる酸化還元電位(aA)以上となったか否かを判
断し、YESの場合にステップ17に進1 み、また、NOの場合に元のステップ9に戻る。
<Step 16> It is determined whether the oxidation-reduction potential (a3) measured in step 10 is equal to or higher than the reference oxidation-reduction potential (aA), and if YES, proceed to step 17; In this case, return to the original step 9.

くステップ17> 前記基準となる酸化還元電位を越えたところの滴下量、
つまり前記ステップ4・12においてす。
Step 17> Dropped amount beyond the reference oxidation-reduction potential,
That is, in step 4.12 above.

の量の試薬を滴下した時点(第3図に矢印で示す点)を
滴定の当量点し、この当量点における試薬の滴下量(検
出データ(イ)に基づく)から、処理液の有効成分濃度
を計算し、この計算結果を表示パネル102に出力する
The point at which the amount of reagent is dropped (the point indicated by the arrow in Figure 3) is the titration equivalence point, and from the amount of reagent dropped at this equivalence point (based on the detection data (a)), the concentration of the active ingredient in the treated liquid is determined. is calculated, and the calculation result is output to the display panel 102.

〈ステップ18〉 終了 以上説明したように、本実施例に示す自動液管理装置に
よれば、酸化還元電極30・31の電位が予め設定した
基準となる酸化還元電位(aA)を越えた場合であり、
かつこの酸化還元電位(aA)を越えた状態が予め設定
した設定時間(c)以上継続した場合に滴定の終点と判
定し、前記酸化還元電位(aA)を越えたところの滴下
量を滴定の当量点とする機能が設けられているので、前
記設定時間(C)を予め適宜定めておくことにより、処
理液2 内において試薬を十分に拡散させ、かつ酸化還元電位が
十分に安定したところを滴定の終点とすることができる
<Step 18> End As explained above, according to the automatic liquid management device shown in this embodiment, when the potential of the redox electrodes 30 and 31 exceeds the preset reference redox potential (aA), can be,
In addition, when the state in which the redox potential (aA) is exceeded continues for a preset time (c) or more, it is determined that the titration is at the end point, and the amount of the titration exceeds the redox potential (aA). Since the equivalence point function is provided, by appropriately determining the set time (C) in advance, the reagent is sufficiently diffused in the processing liquid 2 and the redox potential is sufficiently stabilized. It can be the end point of the titration.

これによって、第3図に点線で示すように、例えば酸化
還元電極30・31の電位が予め設定した基準となる酸
化還元電位(aA)を越えた後、すぐに該酸化還元電位
(aA)を下回った場合などに、当量点となったと判断
せず、かつ処理液内において試薬を十分に拡散していな
かったものと判断して、再度、試薬を滴下させるように
している。
As a result, as shown by the dotted line in FIG. 3, for example, after the potential of the redox electrodes 30 and 31 exceeds the preset reference redox potential (aA), the redox potential (aA) is immediately changed. If it is below the equivalence point, it is not determined that the equivalence point has been reached, and the reagent is determined to have not been sufficiently diffused in the processing liquid, and the reagent is dripped again.

なお、上記フローチャートでは、ステップ4・12に示
すように、酸化還元電極30・31の電位が予め設定し
た基準となる酸化還元電位(aA)を越えた場合に、更
に微小な量(−す。)を滴下させるようにしたが、これ
は、酸化還元電極30・31の電位が基準となる酸化還
元電位(aA)を越えた状態が確かなものか否かを確認
)るためのもので、前記試薬の滴下量(bo)は、当量
点を算出するために滴下した試薬の全量に対して微小な
量である。また、これに限定されず前記滴下量(bo)
をステップ9で示した滴下量(b、)と同じに設定して
も良い。
In the above flowchart, as shown in steps 4 and 12, when the potentials of the redox electrodes 30 and 31 exceed the preset reference redox potential (aA), an even smaller amount (-) is applied. ) was dropped, but this was done to confirm whether or not the potential of the redox electrodes 30 and 31 exceeded the reference redox potential (aA). The amount of the reagent dropped (bo) is a very small amount with respect to the total amount of the reagent dropped to calculate the equivalence point. In addition, the above-mentioned dropping amount (bo) is not limited to this.
may be set to be the same as the dropping amount (b,) shown in step 9.

「発明の効果」 以上詳細に説明したように、本発明によれば、電極の電
位が予め設定した基準値を越えて、かつ予め設定した設
定時間以上継続したか否かを判定する機能が設けられて
いるので、この機能により判定された状態を滴定の当量
点と設定することができる、つまり、前記基準値を越え
たところの滴下量を滴定の当量点とすることができる。
"Effects of the Invention" As explained in detail above, according to the present invention, a function is provided for determining whether the potential of the electrode exceeds a preset reference value and continues for a preset time period. Therefore, the state determined by this function can be set as the titration equivalence point, that is, the drip amount exceeding the reference value can be set as the titration equivalence point.

また、前記設定時間を適宜窓めることにより、処理液内
において試薬を十分に拡散させ、かつ電位が十分に安定
した時点を滴定の当量点とすることができ、これによっ
て精度の高い分析を行うことができる効果が得られる。
In addition, by adjusting the set time as appropriate, the equivalence point for titration can be set at the time when the reagent is sufficiently diffused in the treatment liquid and the potential is sufficiently stable.This allows highly accurate analysis. You can get the effect you want.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図(A)〜第3図は本発明の一実施例を示すもので
あって、第1図(A)は自動液管理装置の全体概略構成
図、第1図(B)は自動液管理装置の制御装置を示す図
、第2図は制御装置の制御内容を示すフローチャート、
第3図は酸化還元電位の変化を示すグラフである。 サンプリング手段・・・〔処理液供給経路1、六方電磁
弁5、経路6、ルー プ10.ポンプ13(送 液ポンプ)〕、 100・・・制御手段、103・・・滴定手段。
1(A) to 3 show one embodiment of the present invention, FIG. 1(A) is an overall schematic configuration diagram of an automatic liquid management device, and FIG. 1(B) is an automatic liquid management device. A diagram showing the control device of the management device, FIG. 2 is a flowchart showing the control contents of the control device,
FIG. 3 is a graph showing changes in redox potential. Sampling means... [processing liquid supply route 1, six-way solenoid valve 5, route 6, loop 10. Pump 13 (liquid feeding pump)], 100...control means, 103...titration means.

Claims (1)

【特許請求の範囲】  処理槽内の処理液を取り込むサンプリング手段と、該
サンプリング手段によりサンプリングされた処理液に対
して試薬を滴下し、かつ該処理液の電極の電位を検出す
る滴定手段と、該滴定手段から出力された試薬の滴下量
と電極の電位とを示す検出データから、前記処理液の濃
度を検出する制御手段とを有し、 前記制御手段には、前記電極の電位が予め設定した基準
値を越えて、かつ予め設定した設定時間以上継続したか
否かを判定する状態判定機能が設けられていることを特
徴とする自動液管理装置。
[Scope of Claims] Sampling means for taking in a processing liquid in a processing tank; titration means for dropping a reagent onto the processing liquid sampled by the sampling means and detecting the potential of an electrode of the processing liquid; control means for detecting the concentration of the treatment liquid from detection data indicating the dripping amount of the reagent outputted from the titration means and the potential of the electrode; the control means has a potential of the electrode set in advance; An automatic liquid management device characterized by being provided with a state determination function for determining whether or not a reference value has been exceeded and continued for a preset time or more.
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