JPH03215735A - Automatic liquid controller - Google Patents

Automatic liquid controller

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JPH03215735A
JPH03215735A JP953990A JP953990A JPH03215735A JP H03215735 A JPH03215735 A JP H03215735A JP 953990 A JP953990 A JP 953990A JP 953990 A JP953990 A JP 953990A JP H03215735 A JPH03215735 A JP H03215735A
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JP
Japan
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sampling
processing liquid
amount
titration
control means
Prior art date
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Pending
Application number
JP953990A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Satoshi Takaiwa
聡 高岩
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Tokico Ltd
Original Assignee
Tokico Ltd
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Publication date
Application filed by Tokico Ltd filed Critical Tokico Ltd
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Publication of JPH03215735A publication Critical patent/JPH03215735A/en
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Abstract

PURPOSE:To analyze an extremely small amount of processing liquid by setting the number of times of sampling optionally and increasing/decreasing a sampling amount freely. CONSTITUTION:A control means 103 is provided with the number of times of setting function which can set the number of times of sampling of the processing liquid by a sampling means 100 optionally. The sampling amount of the processing liquid to be fed to reaction cells 25 and 26 can be increased/ decreased freely by increasing/decreasing the number of times of sampling and a fine amount of processing liquid can be analyzed by setting the sampling frequency large, as well. (A fine-amount analysis is available when the sampling amount, i.e. the number of times of sampling becomes large.) Further, a photocell 4 guides the processing liquid sent by a processing liquid supply path 1 into the cell and the processing liquid is irradiated with a light having constant wavelength to detect the degradation of the quality of the processing liquid with time from the measurement result of the absorbance of the processing liquid.

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 この発明は、処理液の成分量および劣化検知を自動的に
行うことができる自動液管理装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION "Field of Industrial Application" The present invention relates to an automatic liquid management device that can automatically detect the amount of components and deterioration of a processing liquid.

「従来の技術」 従来より、例えば半導体の製造工程等で用いられる剥離
液(処理液)は、種々な方法で分析、管理され、更に省
大化及び品質管理の向上を目的として、前記分析、管理
の自動化が行われてきた。
"Prior Art" Conventionally, stripping solutions (processing solutions) used, for example, in semiconductor manufacturing processes, have been analyzed and managed using various methods. Management has been automated.

例えば、この種の自動液管理装置では、硫酸と過酸化水
素とが混合された剥離液を,ボンブとバルブとにより間
欠的にサンプリングした後、分析機器内の反応セル内に
注入し、この反応セル内において滴定分析を行うように
している。
For example, in this type of automatic liquid management device, a stripping solution containing a mixture of sulfuric acid and hydrogen peroxide is sampled intermittently using a bomb and a valve, and then injected into a reaction cell in an analytical instrument, where the reaction takes place. Titration analysis is performed within the cell.

そして、このような分析では、制御部内に設けられたコ
ンビュータにより、ポンプ、.ハルブなどの機器の動作
を制御するとともに、前記反応セル内に滴定した試薬の
滴下量に基づき、処理液中の硫酸濃度、過酸化水素濃度
を算出し、その算出結果をCRTあるいはプリンタに出
力していた。
In such an analysis, a computer installed in the control unit analyzes the pump, . In addition to controlling the operation of equipment such as the hull, it calculates the sulfuric acid concentration and hydrogen peroxide concentration in the processing liquid based on the amount of the reagent titrated into the reaction cell, and outputs the calculation results to a CRT or printer. was.

「発明が解決しようとする課題」 ところで、上記のような自動液管理装置では、(1)サ
ンプリングされる処理液の量が一定に設定されているの
で、微量分析ができない、(2)現在の機器の動作や、
液の処理状況が判らない、 (3)滴定装置による1滴あたりの滴下量が一定である
ので、この滴下量を小さく設定した場合に滴下時間が長
くなり、また、大きく設定した場合に分析誤差か大きく
なるという問題がそれぞれあった。
``Problems to be Solved by the Invention'' By the way, the above-mentioned automatic liquid management device has two problems: (1) the amount of sampled processing liquid is set to a constant value, making it impossible to perform trace analysis; the operation of the equipment,
The processing status of the liquid cannot be determined. (3) The amount of each drop dropped by the titration device is constant, so if the amount is set small, the dripping time will be longer, and if it is set larger, analysis errors may occur. Each had the problem of growing larger.

この発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであって
、(−)サンプリング回数を自由に設定して、サンプリ
ング(全)量を自由に増減させることができ、かつ微量
分析も可能である、(二)装置の運転状態を直に把握す
ることができる、(三)滴定を効率良く行い滴下時間の
短縮化を図ることが可能であるという効果のいずれかを
満足する自動液管理装置の提供を目的とする。
This invention was made in view of the above-mentioned circumstances, and (-) the number of sampling times can be freely set, the sampling (total) amount can be freely increased or decreased, and trace analysis is also possible. (2) It is possible to directly grasp the operating status of the device, and (3) It is possible to perform titration efficiently and shorten the dripping time. For the purpose of providing.

「課題を解決するための手段」 上記の目的を達成するために、 第1の発明では、処理液をサンプリングするサンプリン
グ手段と、サンプリングされた処理液の有効成分量を電
位変化と滴定とから求める滴定手段と、前記各手段を制
御する制御手段と、この制御手段に対して各種指令を与
える入力手段とから構成された自動液管理装置であって
、.前記制御手段に、前記入力手段の指令に基づき、.
サンプリング手段による処理液のサンプリング回数を任
意に設定させる回数設定機能を設けるようにしている。
"Means for Solving the Problem" In order to achieve the above object, the first invention provides a sampling means for sampling a processing liquid, and determining the amount of active ingredient in the sampled processing liquid from a potential change and titration. An automatic liquid management device comprising a titration means, a control means for controlling each of the means, and an input means for giving various commands to the control means, the apparatus comprising: The control means, based on the command from the input means, .
A number setting function is provided for arbitrarily setting the number of times the processing liquid is sampled by the sampling means.

第2の発明では、処理液をサンプリングするサンプリン
グ手段と、サンプリングされた処理液の有効成分量を電
位変化と滴定とから求める滴定手段と、前記各手段を制
御する制御手段と、この制御手段による制御結果に基づ
き、装置の運転状況、処理状況を表示する出力手段とを
設けるようにしている。
In the second invention, there is provided a sampling means for sampling the treatment liquid, a titration means for determining the amount of active ingredient in the sampled treatment liquid from a potential change and titration, a control means for controlling each of the above-mentioned means, and a control means for controlling the respective means. An output means for displaying the operating status and processing status of the device based on the control results is provided.

第3の発明では、処理液をサンプリングするサンプリン
グ手段と、サンプリングされた処理液の有効成分量を電
位変化と滴定とから求める滴定手段と、前記各手段を制
御する制御手段と、この制御手段に対して各種指令を与
える入力手段とから構成された自動液管理装置であって
、前記制御手段には、前記入力手段の指令に基づき、滴
定手段による1滴あたりの滴下量を、電位変化に基づき
終点付近では小さ《なるように設定させる滴下量設定機
能を設けるようにしている。
In the third invention, there is provided a sampling means for sampling the treatment liquid, a titration means for determining the amount of active ingredient in the sampled treatment liquid from a potential change and titration, a control means for controlling each of the above-mentioned means, and a control means for controlling the above-mentioned means. An automatic liquid management device comprising an input means for giving various commands to the control means, the control means being configured to control the amount of drip per drop by the titration means based on the commands from the input means, based on potential changes. A dripping amount setting function is provided to set the dripping amount so that it becomes small near the end point.

「作用」 第1の発明によれば、制御手段に、サンプリング手段に
よる処理液のサンプリング回数を任意に設定させる回数
設定機能が設けられていることから、サンプリング(全
)量を自由に増減させることができる。
"Operation" According to the first invention, since the control means is provided with a number setting function for arbitrarily setting the number of sampling times of the processing liquid by the sampling means, the sampling (total) amount can be freely increased or decreased. I can do it.

第2の発明によれば、制御手段による制御結果に基づき
、装置の運転状況を表示する出力手段が設けられている
ことから、この出力手段を操作者が参照することによっ
て、装置の運転状態が直に把握される。
According to the second invention, since the output means is provided for displaying the operating status of the apparatus based on the control result by the control means, the operating status of the apparatus can be determined by the operator referring to the output means. be understood directly.

第3の発明によれば、制御手段に、入力手段の指令に基
づき、滴定手段による1滴あたりの滴下量を、電位変化
に基づき終点付近では小さくなるように設定させる滴下
量設定機能が設けられていることから、前記滴定手段に
よる滴定を短い時間行わせることができる。
According to the third invention, the control means is provided with a drip amount setting function for setting the drip amount per drop by the titration means to be smaller near the end point based on the potential change based on the command from the input means. Therefore, the titration by the titration means can be performed for a short period of time.

「実施例」 この発明の一実施例を第1図(A)〜第5図を参照して
説明する。
"Embodiment" An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1(A) to 5.

まず、第1図(A)により自動液管理装置全体の概略構
成を説明すると、図において符号lで示すものは、処理
液が供給される処理液供給経路である。
First, the general structure of the entire automatic liquid management apparatus will be explained with reference to FIG. 1(A). In the figure, what is indicated by the symbol l is a processing liquid supply path through which the processing liquid is supplied.

なお、前記処理液としては、半導体用シリコンウエハ上
のレンスト(ノポラノク樹脂等)ヲ剥離シて溶解する硫
酸、過酸化水素等の成分を含有してなるものか挙げられ
る。
The treatment liquid may include one containing components such as sulfuric acid and hydrogen peroxide that can be used to remove and dissolve the resin (such as Noporanok resin) on a silicon wafer for semiconductors.

前記処理液供給経路lの途中には処理液の流通方向Xに
沿って、処理液を冷却する冷却器2、未溶解物等の不純
物を除去するフィルタ3、フォトセル4、大方電磁弁5
が順次設けられている。
In the middle of the processing liquid supply path 1, along the flow direction X of the processing liquid, there are a cooler 2 for cooling the processing liquid, a filter 3 for removing impurities such as undissolved substances, a photocell 4, and a solenoid valve 5.
are set up in sequence.

前記フォトセル4は、前記処理液供給経路1によって送
られてきた処理液をセル(図示略)内に導き、該処理液
に一定波長の光線を照射することにより、当該処理液の
吸光度を測定し、その測定結果に基づき時間に対する処
理液の劣化の程度を検出するものである。
The photocell 4 guides the processing liquid sent through the processing liquid supply path 1 into a cell (not shown) and measures the absorbance of the processing liquid by irradiating the processing liquid with a light beam of a certain wavelength. Based on the measurement results, the degree of deterioration of the processing liquid over time is detected.

なお、前記フォトセル4を通過する処理液は、剥離され
たレジストが溶解することで着色されている。
Note that the processing liquid passing through the photocell 4 is colored by dissolving the peeled resist.

また、前記六方電磁弁5は、(一)通常は実線で示すよ
うに配置されており、前記処理液をループ10及び経路
6・7を通じて処理槽(図示略)に、経路6・8を通じ
てトレンタンク9にそれぞれ案内する、(二)処理液中
の硫酸、過酸化水素濃度を測定する際に、点線で示す位
置に切り換え、前記実線の位置に配置されている間にル
ープ10に一時貯留された処理液を、純水供給系11(
後述する)を通じて送られた純水により押し出し、反応
セル(後述する)に案内する。
Further, the six-way solenoid valve 5 is (1) usually arranged as shown by the solid line, and the processing liquid is transferred to a processing tank (not shown) through a loop 10 and paths 6 and 7, and to a train through paths 6 and 8. (2) When measuring the concentration of sulfuric acid and hydrogen peroxide in the processing liquid, the liquid is switched to the position shown by the dotted line, and while it is placed at the position shown by the solid line, it is temporarily stored in the loop 10. The treated solution is transferred to the pure water supply system 11 (
(to be described later) is pushed out by pure water sent through a reaction cell (to be described later).

なお、前記ルーブ10は、その内部に貯留される処理液
の量が予め設定されている、つまり定量のために用いる
ものである。
Note that the lube 10 has a preset amount of processing liquid stored therein, that is, is used for quantitative determination.

また、前記経路6〜8の分岐部に設けられたものは、特
に汚れた処理液をドレンタンク9に案内するための三方
電磁弁l2、前記経路6の途中に設けられたものはボン
ブ13、前記経路8の途中に設けられたものは、処理液
のPHを測定するPH電極14である。
Further, the one provided at the branching part of the paths 6 to 8 is a three-way solenoid valve 12 for guiding particularly dirty processing liquid to the drain tank 9, and the one provided in the middle of the path 6 is a bomb 13. A PH electrode 14 is provided in the middle of the path 8 to measure the PH of the processing liquid.

また、前記純水供給系1.1は、純水の供給経路I5に
沿って設けられた二方電磁弁I6、中間トラノプl7、
ボンブ18と、分岐した経路19に設けられて、該純水
の供給圧力を一定値以下に保持するリリーフ弁20とに
より構成されるものである。なお、このリリーフ弁20
により排出された純水は、前記ドレンタンク9に案内さ
れる。
Further, the pure water supply system 1.1 includes a two-way solenoid valve I6 provided along the pure water supply route I5, an intermediate toranop l7,
It is composed of a bomb 18 and a relief valve 20 provided in a branched path 19 to maintain the supply pressure of the pure water below a certain value. In addition, this relief valve 20
The pure water discharged is guided to the drain tank 9.

一方、前記ループ10に一時貯留された後、純水により
押し出された処理液は、経路21〜23と該経路21〜
23の分岐部に設けられた三方電磁弁24とにより、反
応セル25・26に選択的に案内される。
On the other hand, the processing liquid that is temporarily stored in the loop 10 and then pushed out by the pure water flows through the paths 21 to 23 and the paths 21 to 23.
A three-way solenoid valve 24 provided at a branch part of 23 selectively guides the reaction cells 25 and 26.

また、前記反応セル25・26には、前記経路22・2
3により供給された処理液に対して、試薬を供給する試
薬供給系27〜29と、前記反応セル25・26内の溶
液の酸化還元電位を測定する酸化還元電極30・3lと
が設けられている。
Further, the reaction cells 25 and 26 include the paths 22 and 2.
Reagent supply systems 27 to 29 that supply reagents to the processing liquid supplied by 3, and redox electrodes 30 and 3l that measure the redox potential of the solution in the reaction cells 25 and 26 are provided. There is.

前記試薬供給系27〜29は、フラスコ27A〜29A
に貯留された試薬を、滴定ポンプ27B〜29Bにより
経路27C〜29Cを経由させて、前記反応セル25・
26に少量ずつ供給するものであり、前記酸化還元電極
30・31は、試薬を滴下した場合における処理液の酸
化還元電位を検出するものであって、この酸化還元電位
の変化から処理液の硫酸、過酸化水素濃度が算出てきる
ようになっている。
The reagent supply systems 27 to 29 include flasks 27A to 29A.
The reagents stored in the reaction cells 25 and 25 are passed through routes 27C to 29C by titration pumps 27B to 29B.
The oxidation-reduction electrodes 30 and 31 detect the oxidation-reduction potential of the processing solution when the reagent is dropped, and detect the sulfuric acid of the processing solution based on the change in the oxidation-reduction potential. , the hydrogen peroxide concentration can be calculated.

つまり、酸化還元電位が飛躍した点を反応の終点として
、この反応の終点における試薬の滴下量(この滴下量を
示すデータは、滴定ポンプ27B〜29Bから後述する
制御手段103に出力されている)から、前記処理液の
硫酸、過酸化水素濃度がそれぞれ算出されるようになっ
ている。
In other words, the point at which the redox potential jumps is the end point of the reaction, and the amount of reagent dripped at the end point of this reaction (data indicating this amount of drip is output from the titration pumps 27B to 29B to the control means 103, which will be described later). From this, the sulfuric acid and hydrogen peroxide concentrations of the treatment liquid are calculated.

なお、前記フラスコ27A〜29Aに貯留される試薬と
しては、水酸化ナトリウム等のアルカリ標準液、過マン
ガン酸カリウム溶液等の酸化還元反応を起こす標t$液
、硫酸等の酸性標準液等が適当である。
As the reagents stored in the flasks 27A to 29A, suitable alkali standard solutions such as sodium hydroxide, standard solutions that cause redox reactions such as potassium permanganate solution, acidic standard solutions such as sulfuric acid, etc. It is.

一方、反応セル25・26の下部には、測定が終了する
毎に該反応セル25・26内の処理液を排出するための
経路32〜34が設けられ、これら経路32〜34の途
中には、フィルタ35・36、反応セル25・26から
の溶液の排出動作を行うための二方電磁弁37・38、
排液ボンブ39が順次設けられている。そして、前記経
路32〜34を通じて排出された溶液は、前述したドレ
ンタンク9内に送られるようになっている。
On the other hand, in the lower part of the reaction cells 25 and 26, paths 32 to 34 are provided for discharging the processing liquid in the reaction cells 25 and 26 each time a measurement is completed. , filters 35 and 36, two-way solenoid valves 37 and 38 for discharging the solution from the reaction cells 25 and 26,
Drainage bombs 39 are sequentially provided. The solution discharged through the paths 32 to 34 is sent into the drain tank 9 described above.

なお、上記構成において、第1図(A)に符号100で
示す範囲の構成をサンプリング手段とし、符号101で
示す範囲の構成を滴定手段とし、符号102で示す範囲
の構成を排出手段とする。
In the above configuration, the configuration in the range shown by the reference numeral 100 in FIG.

また、第1図(B)において符号103で示すものは制
御手段であって、この制御手段103には、キーボード
等の入力手段104と、装置の運転状況、処理状況をC
RT表示する表示パネルl05(例えば、第1図(A)
と同様の系統図が記され、各構成要素に対応する箇所に
ランプなどがある表示パネル)が設けられている。
Further, in FIG. 1(B), the reference numeral 103 is a control means, and this control means 103 includes an input means 104 such as a keyboard, and input means 104 for inputting the operating status and processing status of the apparatus.
Display panel l05 for RT display (for example, Fig. 1 (A)
A system diagram similar to that shown in the figure is shown, and a display panel (with lamps, etc.) is provided at locations corresponding to each component.

前記制御手段103は、入力手段1040入カデータに
基づき、以下の処理手段(A)を制御し、かつこの処理
手段(A)の制御結果に基づき、及びこの処理手段(A
)を制御することにより得られた検出手段(B)の検出
データに基づき、前記表示パネル105に運転状況及び
処理状況を表示させるようにしている。
The control means 103 controls the following processing means (A) based on the input data of the input means 1040, and also controls the processing means (A) based on the control result of this processing means (A).
) The operating status and processing status are displayed on the display panel 105 based on the detection data of the detection means (B) obtained by controlling the system.

なお、前記処理手段(A)としては、冷却器2、六方電
磁弁5、三方電磁弁12、ポンプ13、二方電磁弁16
、三方電磁弁24、滴定ポンプ27B〜29B、二方電
磁弁37・38、排液ボンブ39などがあり、また、前
記検出手段(B)としては、フォトセル4、PH’l極
14、滴定ボンブ27B〜29B、酸化還元電極30・
31などがある。
The processing means (A) includes a cooler 2, a six-way solenoid valve 5, a three-way solenoid valve 12, a pump 13, and a two-way solenoid valve 16.
, a three-way solenoid valve 24, titration pumps 27B to 29B, two-way solenoid valves 37 and 38, and a drain bomb 39, and the detection means (B) includes a photocell 4, a PH'l pole 14, a titration pump Bombs 27B to 29B, redox electrode 30.
There are 31 etc.

次に、制御手段103に記憶されている自動液管理装置
の制御内容について第2図〜第5図を参照して説明する
Next, the control contents of the automatic liquid management device stored in the control means 103 will be explained with reference to FIGS. 2 to 5.

第2図は滴定に関して各種の測定条件が設定されている
かを判別するためのフローチャートである。なお、明細
書の「ステップnJは図中の[SP n lに対応する
FIG. 2 is a flowchart for determining whether various measurement conditions regarding titration are set. Note that "Step nJ" in the specification corresponds to [SP n l in the figure.

〈ステップl〉 入力手段により、反応セル25・26に供給する処理液
のサンプリング量(つまりサンプリング回数)、滴下ポ
ンプ27B〜29Bにより滴下する試薬の1滴あたりの
滴下量(一a,;微小な数値とする)、自動運転か手動
運転かを設定する。
<Step l> Using the input means, the sampling amount (that is, the number of sampling times) of the processing liquid to be supplied to the reaction cells 25 and 26, the dripping amount per drop of the reagent dripped by the dripping pumps 27B to 29B (1a,; minute (as a numerical value), and set automatic or manual operation.

くステノブ2〉 ステノブ1により条件が設定された否かを判断し、YE
Sの場合にステップ3に進む。
Step Knob 2> Determine whether the condition is set by Step Knob 1, and select YES.
If S, proceed to step 3.

くステ,プ3〉 自動分析運転か手動分析運転かを判定し、自動分析運転
の場合にステップ4に進み、手動分析運転の場合にステ
ノプ5に進む。
Step 3> Determine whether it is an automatic analysis operation or a manual analysis operation, and proceed to Step 4 if it is an automatic analysis operation, and proceed to Step 5 if it is a manual analysis operation.

くステップ4〉 自動分析を行う(第3図を参照) くステ,ブ5〉 手動分析を行う。Step 4> Perform automatic analysis (see Figure 3) Kuste, Bu 5〉 Perform manual analysis.

次に、第3図を参照して、ステップ4に示した「自動分
析」の制御内容について説明する。
Next, with reference to FIG. 3, the control details of the "automatic analysis" shown in step 4 will be explained.

〈ステップ6〉 六方電磁弁5を実線で示す位置に設定、三方電磁弁24
、二方電磁弁16を適宜設定し、かつボンブl8を駆動
させて、純水供給系11から送られて純水を例えば反応
セル25内に供給し、その内部を洗浄する。
<Step 6> Set the six-way solenoid valve 5 to the position shown by the solid line, and set the three-way solenoid valve 24
, the two-way solenoid valve 16 is set appropriately, and the bomb 18 is driven to supply pure water sent from the pure water supply system 11 into, for example, the reaction cell 25 to clean the inside thereof.

なお、前記反応セル26の洗浄も同時に行われるが、こ
のとき三方電磁弁24が切り換わる。
Note that the reaction cell 26 is also washed at the same time, and at this time the three-way solenoid valve 24 is switched.

また、この間、処理液供給経路1を通じて供給された処
理液は、ボンプ13の駆動によりルーブ10を経由して
経路6側に案内させている。
During this period, the processing liquid supplied through the processing liquid supply path 1 is guided to the path 6 side via the lube 10 by driving the pump 13.

〈ステノプ7〉 二方電磁弁37を開状態に設定し、かつ排液ボンブ39
を駆動して、前記反応セル25内の洗浄液をドレインタ
ンク9に排出する。また、同様に反応セル26内の洗浄
も行う。
<Stenop 7> Set the two-way solenoid valve 37 to open state, and drain liquid bomb 39
is driven to discharge the cleaning liquid in the reaction cell 25 to the drain tank 9. Further, the inside of the reaction cell 26 is also cleaned in the same manner.

くステップ8〉 サンプリング(第4図のフローチャトを参照して後述す
る)。
Step 8> Sampling (described later with reference to the flowchart in FIG. 4).

〈ステノブ9〉 処理液中に含有される、有効成分である硫酸、過酸化水
素濃度の滴定分析(第5図のフローチャトを参照して後
述する)。
<Stenob 9> Titration analysis of the concentrations of sulfuric acid and hydrogen peroxide, which are active ingredients, contained in the treatment liquid (described later with reference to the flowchart in FIG. 5).

〈ステ,ブ10> 上記ステノブ7で示す排出と同様の排出動作を行う。<Step 10> The same evacuation operation as shown in the steno knob 7 above is performed.

〈ステノプ11〉〜〈ステップ12〉 上記〈ステップ6〉〜〈ステップ7〉と同じに付き省略
する。
<Stenop 11> to <Step 12> These steps are the same as the above <Step 6> to <Step 7> and will therefore be omitted.

次に、ステップ8で示した「サンプリング」について第
4図のフローチャートを参照して説明する。なお、この
第4図に示す「サンプリング」は制御手段103の回数
設定機能による。
Next, the "sampling" shown in step 8 will be explained with reference to the flowchart of FIG. The "sampling" shown in FIG. 4 is based on the number setting function of the control means 103.

〈ステノブ8A> ルーブ10内に処理液を流通させる(六方電磁弁5は実
線の位置;ステノプ6の説明を参照)。
<Stenop 8A> Processing liquid is made to flow in the lube 10 (the six-way solenoid valve 5 is in the position indicated by the solid line; see the description of the steno knob 6).

〈ステップ8B〉 前記六方電磁弁5を点線で示す位置に切り換える。<Step 8B> The six-way solenoid valve 5 is switched to the position shown by the dotted line.

〈ステップ8C〉 前記ループ10内に満たされた処理液を経路21・23
を通じて反応セル25に案内する。
<Step 8C> The processing liquid filled in the loop 10 is passed through the paths 21 and 23.
through the reaction cell 25.

〈ステップ8D〉 前記ステノブlにおいて設定したサンプリング回数に、
前記ステ,プ8A〜8Cで示すサンプリングの回数が達
したか否かを検出し、回数が設定回数に満たない場合に
ステップ8Eに進み、達した場合にステップ8Fに進む
<Step 8D> The number of samplings set in the steno knob I is
It is detected whether or not the number of samplings shown in steps 8A to 8C has been reached. If the number of samplings is less than the set number, the process proceeds to step 8E, and if it has been reached, the process proceeds to step 8F.

〈ステップgE> 六方電磁弁5を実線で示す位置に切り換え、上記ステ,
ブ8八〜8Cの処理を繰り返す。
<Step gE> Switch the six-way solenoid valve 5 to the position shown by the solid line, and
Repeat steps 88-8C.

くステップ8F> 予め設定したサンプリング回数に、前記ステノプ8A〜
8Cで示すサンプリング回数か達した場合に、反応セル
25内に処理液に続いて純水を供給し、酸化還元電極3
0の先端部分が液面下に位置するように調整する。
Step 8F> The stenops 8A~
When the sampling number indicated by 8C is reached, pure water is supplied into the reaction cell 25 following the processing liquid, and the redox electrode 3
Adjust so that the tip of 0 is located below the liquid level.

なお、反応セル26内に処理液を供給する場合も前記操
作と同様であり、このとき、三方電磁弁24は切り換え
られ、経路21・22を通じて該処理液は反応セル26
内に案内される。
Note that the operation is similar to that described above when supplying the processing liquid into the reaction cell 26. At this time, the three-way solenoid valve 24 is switched, and the processing liquid is supplied to the reaction cell 26 through the paths 21 and 22.
You will be guided inside.

次に、第5図を参照してステップ9に示す「分析」につ
いて説明する。なお、この第5図に示す「分析」は制御
手段103の滴下量設定機能による。
Next, the "analysis" shown in step 9 will be explained with reference to FIG. The "analysis" shown in FIG. 5 is based on the dropping amount setting function of the control means 103.

くステノプ9A> 酸化還元電極30により反応セル25内の酸化還元電位
を測定し、その測定値をV。とする。
Kustenop 9A> The redox potential inside the reaction cell 25 is measured by the redox electrode 30, and the measured value is V. shall be.

くステノブ9B> 滴定ボンブ28B・29Bを駆動して、反応セル25内
に試薬を滴下する。
Knob 9B> Titration bombs 28B and 29B are driven to drip the reagent into the reaction cell 25.

なお、前記試薬を一定量供給する場合には、例えば滴定
ポンプ28Bを一定時間運転する。
In addition, when supplying a fixed amount of the reagent, for example, the titration pump 28B is operated for a fixed period of time.

また、滴定ポンプ29Bは電位変化により滴定量を制御
するものであり、このときの1aあたりの滴下jl(=
a。)は標準のもので行い、滴定が終点に近付いた時点
で、当該滴下量を小さ< (一a .)させるようにし
ている(ステソブ1の説明を参照)。くステ,ブ9C> 酸化還元電極30により反応セル25内の酸化還元電位
を測定し、その測定値を■1とする。
In addition, the titration pump 29B controls the titration amount by changing the potential, and at this time, the amount of dripping jl per 1a (=
a. ) is performed using a standard one, and when the titration approaches the end point, the amount of the drop is reduced to a small amount (see the explanation of Stesob 1). Step 9C> The redox potential inside the reaction cell 25 is measured by the redox electrode 30, and the measured value is defined as 1.

くステノプ9D> ステノプ9Cで検出した酸化還元電位V,が1o00〔
■〕以上か否かを判断し、YESの場合にステノブ9J
に進み、また、Noの場合にステップ9Eに進む。
Kustenop 9D> The redox potential V, detected by Kustenop 9C is 1o00 [
■] Determine whether or not the above is true, and if YES, Stenobu 9J
If the answer is No, the process proceeds to step 9E.

くステソブ9E> 酸化還元電位の差1v,−v。lが10[:V )以上
であり、変化量が大きくなったと判断された場合に、ス
テップ9Fに進み、また、10[V)以下であり、変化
量が小さいままであると判断された場合にステップ9■
に進む。
Difference in redox potential 1v, -v. If l is 10[:V) or more and it is determined that the amount of change has become large, proceed to step 9F, and if l is less than 10[V) and it is determined that the amount of change remains small. Step 9■
Proceed to.

〈ステップ9F> 滴定ポンプ28B・29Bを駆動して、反応セル25内
に試薬を滴下する。
<Step 9F> The titration pumps 28B and 29B are driven to drip the reagent into the reaction cell 25.

なお、このときの1滴あたりの滴下量(一a,)は、滴
定の終点が近いことから、ステップ9Aて説明した滴下
量より小さ《設定される。
Note that the dropping amount (1a,) per drop at this time is set to be smaller than the dropping amount described in step 9A since the end point of titration is near.

〈ステップ9G> 酸化還元電極30により反応セル25内の酸化還元電位
を測定し、その測定値をV,とする。
<Step 9G> The redox potential inside the reaction cell 25 is measured by the redox electrode 30, and the measured value is set as V.

〈ステップ9H> ステップ9Gで検出した酸化還元電位V,が1000〔
■〕以上か否かを判断し、YESの場合にステップ9J
に進み、また、Noの場合にステップ9Fに戻る。
<Step 9H> The redox potential V detected in step 9G is 1000 [
■] Determine whether or not the above is true, and if YES, step 9J
If the answer is No, the process returns to step 9F.

〈ステップ91> ステノブ9Cて検出した酸化還元電位■1を■。<Step 91> The redox potential ■1 detected using Stenobu 9C is ■.

とする。shall be.

〈ステノブ9J> ステップ9D,ステップ9Hに示すように、酸化還元電
位V1・V,が1000[V )以上となったときの滴
定ポンプ27B〜29Bの出力データに基づき、試薬の
滴下量を計算し、これによって処理液中の硫酸濃度、過
酸化水素濃度を計算する。
<Stenob 9J> As shown in Steps 9D and 9H, the amount of reagent dripped is calculated based on the output data of the titration pumps 27B to 29B when the redox potential V1.V is 1000 [V] or more. , From this, the sulfuric acid concentration and hydrogen peroxide concentration in the treatment liquid are calculated.

ここで、前記■1、■,及び1v,−vgは分析条件に
より任意に設定を変えても良い。
Here, the settings of (1), (2), and (1v, -vg) may be arbitrarily changed depending on the analysis conditions.

くステノプ9K> ステップ9Jで求めた計算値を表示バネル105に出力
して表示させる。
Kustenop 9K> The calculated value obtained in step 9J is output to the display panel 105 and displayed.

以上詳細に説明したように本実施例に示す自動液管理装
置によれば、 (一)制御手段103に、サンプリング手段100によ
る処理液のサンプリング回数を任意に設定できる回数設
定機能が設けられていることから、サンプリング回数の
増減により、反応セル25・26にに投入する処理液の
サンプリング(全)Mを自由に増減させることができ、
また、前記サンプリング回数を大に設定することによっ
て微量な処理液の分析も可能である(サンプリング量、
すなわち回数が多くなれば微量分析が可能となるため)
As explained in detail above, according to the automatic liquid management device shown in this embodiment, (1) the control means 103 is provided with a number setting function that can arbitrarily set the number of times the processing liquid is sampled by the sampling means 100; Therefore, by increasing or decreasing the number of samplings, the sampling (total) M of the processing liquid introduced into the reaction cells 25 and 26 can be freely increased or decreased.
In addition, by setting the sampling frequency to a large value, it is possible to analyze a small amount of processing liquid (sampling amount,
In other words, if the number of times is large, trace analysis becomes possible)
.

(二)制御手段103による制御結果に基づき、装置の
運転状況を表示する表示パネル105が設けられている
ことから、この表示パネル105を操作者が参照するこ
とによって、装置の運転状態を直に把握することが可能
である。。
(2) Since a display panel 105 is provided that displays the operating status of the device based on the control results by the control means 103, the operator can directly check the operating status of the device by referring to the display panel 105. It is possible to understand. .

(三)制御手段103に、滴定手段101による1滴あ
たりの滴下量を、電位変化に基づき終点付近では小さく
なるように設定させる滴下量設定機能が設けられている
ことから、前記滴定を短い時間で効率良く行うことが可
能である。
(3) Since the control means 103 is provided with a drip amount setting function that sets the amount of each drop by the titration means 101 to be smaller near the end point based on the potential change, the titration can be performed for a short time. It is possible to do this efficiently.

なお、本実施例では、第4図に示す「サンプリングー1
、第5図に示す「分析」を共に行わせるようにしたが、
いずれか一方でも良い。
In addition, in this example, "sampling 1" shown in FIG.
, I made them perform the "analysis" shown in Figure 5 together, but
Either one is fine.

「発明の効果」 以上詳細に説明したように、 第1の発明によれば、サンプリング回数を任意に設定し
サンプリング(全)量を自由に増減させることができ、
かつ前記サンプリング回数を大に設定することかてき、
これによって微量な処理液の分析も可能となる。
"Effects of the Invention" As explained in detail above, according to the first invention, the number of sampling times can be arbitrarily set and the (total) amount of sampling can be freely increased or decreased.
and setting the sampling number to a large value,
This makes it possible to analyze minute amounts of processing liquid.

第2の発明によれば、装置の運転状況を表示する出力手
段を操作者が参照することによって、装置の運転状態を
直に把握することができる。
According to the second invention, the operator can directly grasp the operating status of the apparatus by referring to the output means that displays the operating status of the apparatus.

第3の発明によれば、滴定手段による1滴あたりの滴下
量を、電位変化に基づき終点付近では小さくなるように
設定でき、これによって滴定を短い時間で効率良く行う
ことができる。
According to the third invention, the amount of each drop dropped by the titration means can be set to be small near the end point based on the potential change, and titration can thereby be performed efficiently in a short time.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図(A)〜第5図は本発明の一実施例を示すもので
あって、第1図(A)は全体概略構成図、第1図(B)
は制御装置を示す図、第2図〜第5図は、制御装置の制
御内容を示すフローチャートである。 100・・・・サンプリング手段 101・・・・滴定手段 102・・・・排出手段 103・・・・・・制御手段 104・・・・・・入力手段
1(A) to 5 show an embodiment of the present invention, FIG. 1(A) is an overall schematic configuration diagram, and FIG. 1(B) is an overall schematic configuration diagram.
1 is a diagram showing a control device, and FIGS. 2 to 5 are flowcharts showing control contents of the control device. 100... Sampling means 101... Titration means 102... Discharge means 103... Control means 104... Input means

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)処理液をサンプリングするサンプリング手段と、
サンプリングされた処理液の有効成分量を電位変化と滴
定とから求める滴定手段と、前記各手段を制御する制御
手段と、この制御手段に対して各種指令を与える入力手
段とから構成された自動液管理装置であって、 前記制御手段には、前記入力手段の指令に基づき、サン
プリング手段による処理液のサンプリング回数を任意に
設定させる回数設定機能が設けられていることを特徴と
する自動液管理装置。
(1) Sampling means for sampling the processing liquid;
An automatic liquid solution comprising a titration means for determining the amount of active ingredient in a sampled treatment liquid from a potential change and titration, a control means for controlling each of the above-mentioned means, and an input means for giving various commands to the control means. The automatic liquid management device, wherein the control means is provided with a number setting function that allows the sampling means to arbitrarily set the number of times the processing liquid is sampled based on a command from the input means. .
(2)処理液をサンプリングするサンプリング手段と、
サンプリングされた処理液の有効成分量を電位変化と滴
定とから求める滴定手段と、前記各手段を制御する制御
手段と、この制御手段による制御結果に基づき、装置の
運転状況、処理状況を表示する出力手段とが具備されて
いることを特徴とする自動液管理装置。
(2) sampling means for sampling the processing liquid;
Titration means for determining the amount of active ingredient in the sampled treatment liquid from potential changes and titration; Control means for controlling each of the means; and Displaying the operating status of the device and the treatment status based on the control results of the control means. An automatic liquid management device characterized in that it is equipped with an output means.
(3)処理液をサンプリングするサンプリング手段と、
サンプリングされた処理液の有効成分量を電位変化と滴
定とから求める滴定手段と、前記各手段を制御する制御
手段と、この制御手段に対して各種指令を与える入力手
段とから構成された自動液管理装置であって、 前記制御手段には、前記入力手段の指令に基づき、滴定
手段による1滴あたりの滴下量を、電位変化に基づき終
点付近では小さくなるように設定させる滴下量設定機能
が設けられていることを特徴とする自動液管理装置。
(3) sampling means for sampling the processing liquid;
An automatic liquid solution comprising a titration means for determining the amount of active ingredient in a sampled treatment liquid from a potential change and titration, a control means for controlling each of the above-mentioned means, and an input means for giving various commands to the control means. In the control device, the control means is provided with a drip amount setting function for setting the drip amount per drop by the titration means to be smaller near an end point based on a potential change based on a command from the input means. An automatic liquid management device characterized by:
JP953990A 1990-01-19 1990-01-19 Automatic liquid controller Pending JPH03215735A (en)

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