JPH03267072A - 誘導加熱装置 - Google Patents
誘導加熱装置Info
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- JPH03267072A JPH03267072A JP40392790A JP40392790A JPH03267072A JP H03267072 A JPH03267072 A JP H03267072A JP 40392790 A JP40392790 A JP 40392790A JP 40392790 A JP40392790 A JP 40392790A JP H03267072 A JPH03267072 A JP H03267072A
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- heated
- heating device
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
[0001]
本発明は、誘導加熱により被加熱体に流れる渦電流分布
を制御し、また吸収する構造の誘導加熱装置に関する。 [0002]
を制御し、また吸収する構造の誘導加熱装置に関する。 [0002]
公知の誘導加熱装置として、ソレノイドをアプリケータ
とする装置、フェライトコアをアプリケータとする装置
(実願昭63−112609)などがある。例えばフェ
ライトコアのアプリケータを用いて癌の温熱療法を行う
場合、フェライトコア(磁極)間に被加熱体(人体)を
設置し、被発熱体の発熱させようとして43− さらに、導体板22を用いず、渦電流吸収体5を導体板
22の代わりに用いても良い。 図13は、図10の誘導加熱装置の発熱パターン(斜線
部分)を示す。この図から中央部分が最も発熱している
ことが分かる。 [0030] 図14は、本発明に係るインブラント加熱装置の一例を
示す。インブラント材40を埋め込んだ被加熱体2の両
側にフェライトコア30とコイル3とからなる磁極1の
両端を配置し、かつ被加熱体2の周囲を渦電流吸収体5
で囲んでいる。 なお、磁極、渦電流吸収体の形状、寸法、配置等につい
てはすでに詳細に述べているので、ここでは省略する。 [0031] 図15は、図14の加熱装置の一点鎖線で示した断面に
おける発熱状況を示す。(a)は、渦電流吸収体を使用
しない場合で、インブラント材は発熱するものの、被加
熱体2の外側面が加熱されてしまう。これに対して渦電
流吸収体5を使用する本発明装置では、(b)に示すよ
うにインブラント材のみが発熱し、被加熱体2の外側面
は加熱されない。 請求項2を有している。 さらに、渦電流吸収体として、コイルや導体などを単独
に使用するか、または渦電流吸収体中に埋設することに
より渦電流を請求項2的に制御することができる[00
37] 以上のように、本発明は、渦電流分布の制御が困難であ
った従来の誘導加熱装置の欠点を改善し、渦電流を自由
に制御できる構造の誘導加熱装置を提供するもので、癌
の温熱治療、特に深部加熱などに適用してきわめて顕著
な請求項2を有している。
とする装置、フェライトコアをアプリケータとする装置
(実願昭63−112609)などがある。例えばフェ
ライトコアのアプリケータを用いて癌の温熱療法を行う
場合、フェライトコア(磁極)間に被加熱体(人体)を
設置し、被発熱体の発熱させようとして43− さらに、導体板22を用いず、渦電流吸収体5を導体板
22の代わりに用いても良い。 図13は、図10の誘導加熱装置の発熱パターン(斜線
部分)を示す。この図から中央部分が最も発熱している
ことが分かる。 [0030] 図14は、本発明に係るインブラント加熱装置の一例を
示す。インブラント材40を埋め込んだ被加熱体2の両
側にフェライトコア30とコイル3とからなる磁極1の
両端を配置し、かつ被加熱体2の周囲を渦電流吸収体5
で囲んでいる。 なお、磁極、渦電流吸収体の形状、寸法、配置等につい
てはすでに詳細に述べているので、ここでは省略する。 [0031] 図15は、図14の加熱装置の一点鎖線で示した断面に
おける発熱状況を示す。(a)は、渦電流吸収体を使用
しない場合で、インブラント材は発熱するものの、被加
熱体2の外側面が加熱されてしまう。これに対して渦電
流吸収体5を使用する本発明装置では、(b)に示すよ
うにインブラント材のみが発熱し、被加熱体2の外側面
は加熱されない。 請求項2を有している。 さらに、渦電流吸収体として、コイルや導体などを単独
に使用するか、または渦電流吸収体中に埋設することに
より渦電流を請求項2的に制御することができる[00
37] 以上のように、本発明は、渦電流分布の制御が困難であ
った従来の誘導加熱装置の欠点を改善し、渦電流を自由
に制御できる構造の誘導加熱装置を提供するもので、癌
の温熱治療、特に深部加熱などに適用してきわめて顕著
な請求項2を有している。
【図1】
渦電流分布を示す断面図。
【図2】
本発明の一実施例を示す断面図。
【図3】
本発明の他の実施例を示す断面図。
【図4】
本発明の変形磁極の一実施例の斜視図。
【図5】
本発明の変形磁極の他の実施例の斜視図。
【図6】
本発明の変形磁極の他の実施例の斜視図。
【図7】
本発明の変形磁極の他の実施例の斜視図。
【図8】
本発明の変形磁極の一実施例で、誘電体と磁性体を組み
合わせて構成した多媒質構造の磁極の斜視図。
合わせて構成した多媒質構造の磁極の斜視図。
【図9】
近接した磁極間の磁界結合を利用し、渦電流を合成する
ことを特徴とする本発明の誘導加熱装置の一実施例の断
面図。
ことを特徴とする本発明の誘導加熱装置の一実施例の断
面図。
【図103
近接した磁極間の磁界結合を利用し、渦電流を合成する
ことを特徴とする本発明の誘導加熱装置の一実施例の斜
視図。 【図11】 図9の誘導加熱装置の渦電流吸収体を用いない場合(a
)と、用いた場合(b)の発熱パターンを比較して示す
図。
ことを特徴とする本発明の誘導加熱装置の一実施例の斜
視図。 【図11】 図9の誘導加熱装置の渦電流吸収体を用いない場合(a
)と、用いた場合(b)の発熱パターンを比較して示す
図。
【図12】
本発明の一実施例で、被加熱体を部分的に取り囲む導体
板により、その開放端間に渦電流が流れるような制御し
た構造のアプリケータシステムの原理図。
板により、その開放端間に渦電流が流れるような制御し
た構造のアプリケータシステムの原理図。
【図13】
図12の誘導加熱装置の渦電流吸収体を用いた場合の発
熱パターンを示す図。 0 10
熱パターンを示す図。 0 10
【図9】
【図15】
40
(b)
Claims (17)
- 【請求項1】被加熱体に磁界を照射する手段と、この被
加熱体の発熱制御箇所に接して配置される渦電流吸収体
とを具備した誘導加熱装置。 - 【請求項2】被加熱体に磁界を照射する一対の磁極から
なる照射手段と、この被加熱体の発熱制御箇所に接して
配置される渦電流吸収体からなる補助電極とを具備し、
前記一対の磁極は、その極性を互いに逆にして隣接して
配置されて、渦電流を合成するようになし、かつ前記磁
極による渦電流と補助電極を流れる電流とで電流回路を
構成してなる誘導加熱装置。 - 【請求項3】渦電流吸収体は、導電性材料を備えている
請求項1または2に記載の誘導加熱装置。 - 【請求項4】渦電流吸収体は、磁性材料を備えている請
求項1または2に記載の誘導加熱装置。 - 【請求項5】渦電流吸収体は、導電性容器の内部に、濃
度を調整して渦電流分布を制御可能な導電性溶液を入れ
ている請求項1ないし4のいずれか1に記載の誘導加熱
装置。 - 【請求項6】渦電流吸収体は、反磁性材料を付加してい
る請求項1ないし5のいずれか1に記載の誘導加熱装置
。 - 【請求項7】渦電流吸収体は、渦電流を吸収減衰可能な
導電率を持つ請求項1ないし6のいずれか1に記載の誘
導加熱装置。 - 【請求項8】渦電流吸収体は、その内部にコイルまたは
導体を埋設している請求項1ないし7のいずれか1に記
載の誘導加熱装置。 - 【請求項9】渦電流吸収体は、冷却手段を備えている請
求項1ないし8のいずれか1に記載の誘導加熱装置。 - 【請求項10】照射手段は、磁界照射角度を可変可能と
している請求項1または2に記載の誘導加熱装置。 - 【請求項11】照射手段は磁極であって、少なくとも先
端部の形状を変形して渦電流分布を制御するようにして
いる請求項1、2または10に記載の誘導加熱装置。 - 【請求項12】照射手段である隣接する磁極間に反磁性
的に振舞う材料を介在させて、渦電流分布を制御するよ
うにしている請求項1、2、10または11に記載の誘
導加熱装置。 - 【請求項13】照射手段は、特性の異なる少なくとも2
種類の材料を組合わせて一体化した不均一磁束分布を発
生する複合材で構成して、渦電流分布を制御するように
している請求項1、2、10、11又は12に記載の誘
導加熱装置。 - 【請求項14】照射手段は、内部に空洞部を設けた磁性
材である請求項1、2、10、11、12または13に
記載の誘導加熱装置。 - 【請求項15】照射手段は、磁極を複数対配置してなる
請求項1、2、10、11、12、13または14に記
載の誘導加熱装置。 - 【請求項16】照射手段は隣接配置した磁極であって、
その間隔を可変として、渦電流分布を制御するようにし
ている請求項1、2、10、11、12、13、14、
15又は16に記載の誘導加熱装置。 - 【請求項17】照射手段は被加熱体との間隔を調節可能
に配置されて、渦電流分布を制御するようにしている請
求項1、2、10、11、12、13、14、15、ま
たは16に記載の誘導加熱装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/716,806 US5232433A (en) | 1990-09-10 | 1991-06-19 | Hyperthermia device |
EP19910110083 EP0474984A3 (en) | 1990-09-10 | 1991-06-19 | Hyperthermia device |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1-146429 | 1989-12-19 | ||
JP14642989 | 1989-12-19 | ||
JP2-95023 | 1990-09-10 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03267072A true JPH03267072A (ja) | 1991-11-27 |
Family
ID=15407476
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP40392790A Pending JPH03267072A (ja) | 1989-12-19 | 1990-12-19 | 誘導加熱装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03267072A (ja) |
-
1990
- 1990-12-19 JP JP40392790A patent/JPH03267072A/ja active Pending
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