JPH03259924A - ポリマーの製造方法 - Google Patents

ポリマーの製造方法

Info

Publication number
JPH03259924A
JPH03259924A JP5798690A JP5798690A JPH03259924A JP H03259924 A JPH03259924 A JP H03259924A JP 5798690 A JP5798690 A JP 5798690A JP 5798690 A JP5798690 A JP 5798690A JP H03259924 A JPH03259924 A JP H03259924A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polymer
film
metal alkoxide
product
component
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP5798690A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0689148B2 (ja
Inventor
Takao Kimura
隆男 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP5798690A priority Critical patent/JPH0689148B2/ja
Publication of JPH03259924A publication Critical patent/JPH03259924A/ja
Publication of JPH0689148B2 publication Critical patent/JPH0689148B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、感光性樹脂、光導波膜、表面保護膜、多層配
線の絶縁膜などの電子材料、光学材料に適用可能なゲル
マン含有ポリマーの製造方法に関する。
〔従来の技術〕
近年、有機及び無機の厚膜や薄膜が、その機械的特性、
化学的安定性、光学特性、電磁気特性、触媒特性などを
生かし、電子材料や光学材料として各種の分野で用いら
れるようになってきている。膜として用いるための基本
的な特性は、成形性、透明性、耐熱性、屈折率分布制御
等である。無機材料から威る膜は、機械強度、耐熱性、
透明性などに優れている特徴を持ち、S10.膜やZr
0aが機械的・化学的保護膜として、また、5iOzに
TlO2等をドープした膜が光吸収膜や反射防止膜等と
して用いられている。しかるに、これらの無機膜は一般
に厚膜化が困難であり、最も厚膜化に適しているゾルゲ
ル法を用いても、1回の塗布で得られる膜厚はせいぜい
0.3μm程度であるといわれている。これに対し、有
機材料から戒る膜は、一般に有機溶媒可溶性であるため
スピンコードが可能であり、また、無機材料に比べて可
とう性に優れているため厚膜化が可能であるなどの利点
があり、ポリメチルメタクリレート(PMMA) 、ポ
リイミド、ポリシロキサン等がこの分野で用いられてい
る。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかるに、PMMAやポリイミドは無機の膜に比べて光
透過性に劣り、また一般に有機の膜は耐熱性に乏しい欠
点がある。これらのうちで、梯子形構造を持つポリシロ
キサンは、有機材料としては光透過性、耐熱性に優れて
いるが、ポリシロキサンは骨格が5i−0結合から威る
ため、屈折率が低い問題がある。
本発明の目的は成形性、屈折率制御性、耐熱性、機械特
性に優れた膜形成用のポリマーの製造方法を提供するこ
とにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明を概説すれば、本発明はポリマーの製造方法に関
する発明であって、一種以上の多官能金属アルコキシド
を加水分解・縮合するポリマーの製造方法において、該
多官能金属アルコキシドの一部あるいは全部が有機基を
有するアルコキシゲルマンであることを特徴とする。
この製造方法において所望とするポリマーは、特定の金
属アルコキシドを適当な触媒によって加水分解・縮合す
ることによって得られる。また、このようにして得られ
たポリマーは有機溶媒に可溶であるので、必要に応じて
は前記の方法で得られたポリマーを適当な溶媒中で適当
な触媒によって更に縮合を進めるか、あるいは得られた
ポリマーを加熱することによって高重合体を得ることも
可能である。
本発明において用いられる有機基を有するアルコキシゲ
ルマンは特に限定するものではなく、分子中に1つある
いは2つの有機基を持つ3官能あるいは2官能のアルコ
キシゲルマンである。
具体的には、フェニルトリメトキシゲルマン、フェニル
トリエトキシゲルマン、フェニルトリプロポキンゲルマ
ン、フェニルトリブトキシゲルマン、エチルトリメトキ
シゲルマン、エチルトリエトキシゲルマン、エチルトリ
プロポキシゲルマン、エチルトリブトキシゲルマン、メ
チルトリメトキシゲルマン、メチルトリエトキシゲルマ
ン、メチルトリプロポキシゲルマン、メチルトリブトキ
シゲルマン、プロピルトリメトキシゲルマン、ビニルト
リブトキシゲルマン、ジメチルジメトキシゲルマン、ジ
メチルジェトキシゲルマン、ジメチルジブトキシゲルマ
ン、ジフェニルジブトキシゲルマン等が例示される。
本発明には有機基を有するアルコキシゲルマンと汎用の
金属アルコキシドの共重合によって得られるポリマーも
含まれる。この種の汎用の金属アルコキシドは特に限定
するものではないが、次のようなものが例示される。
メチルトリメトキシシラン、二チルトリメトキシシラン
、プロピルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシ
ラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキ
シシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエ
トキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルト
リエトキシシラン、ブトキシトリエトキシシラン、ヘキ
シルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、
フェニルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシ
ラン、4−トリメトキシシリルテトラヒドロフタル酸無
水物、3,3゜3−トリフルオロプロピルトリメトキシ
シラン、3− (N−メチルアミノ)プロピルトリメト
キシシラン、メチルトリス(2−アミンエトキシ)シラ
ン、トリアセトキシビニルシラン、2−メルカプトエチ
ルトリメトキシシラン、3−(2アミノエチルアミノ)
プロピルトリメトキシシラン、2−シアノエチルトリエ
トキシシラン、アリルトリエトキシシラン、3″′グリ
シドキシプロビルトリメトキシシラン、3−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプ
ロピルトリメトキシシラン、3−[:Nアリル−N(2
−アミンエチル)]アミノプロピルトリメトキシシラン
、3−(N−アリルN−グリシジル)アミノプロピルト
リメトキシシラン、3−(N、N−ジグリシジル)アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシチ
タン、エチルトリットキシチタン、プロピルトリメトキ
シチタン、ブチルトリメトキシチタン、ビニルトリメト
キシチタン、フェニルトリメトキシチタン、メチルトリ
エトキシチタン、二チルトリエトキシチタン、プロピル
トリエトキシチタン、ブチルトリエトキシチタン、ビニ
ルトリエトキシチタン、フェニルトリエトキシチタン、
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ
ブトキシシラン、テトラエトキシジルコン、テトラブト
キシジルコン、テトライソプロポキシジルコン、テトラ
メトキシゲルマン、テトラエトキシチタン、テトラブト
キシチタン、テトラブトキシスズ、ペンタブトキシニオ
ブ、ペンタブトキシタリウム、トリエトキシボロン、ト
リブトキシガリウム、ジブトキシ鉛、トリブトキシネオ
ジム、トリブトキシエルビウム。また、前駆物質や酸化
物の膜の可とう性を増すために、アルコキシル基の2つ
を置換した置換アルコキシド、例えば、ジメチルジェト
キシシラン、ジフェニルジェトキシシランなどを用いる
ことも場合によっては有効である。
本発明において用いられる触媒は特に限定するものでは
なく、酸触媒及びアルカリ触媒が用いられる。酸触媒と
しては、塩酸、フッ化水素酸、硝酸、硫酸、ギ酸、酢酸
等が例示される。
また、アルカリ触媒としては、アンモニア、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化カル
シウム等が例示される。
本発明のポリマーの合成法の一例を述べると、まず、ア
ルコキシゲルマンを含む金属アルコキシドをエタノール
などの溶媒に溶解し、これに水と塩酸などの触媒を加え
る。この触媒は場合によっては除いてもよい。この反応
は常温で進行するが、必要に応じて加熱してもよい。所
定時間経過後反応溶液を水などの溶媒中に投入し、沈殿
した生成物をろ別した後乾燥する。特に高重合体を所望
する場合には、まず塩酸などの酸触媒により加水分解し
、所定時間反応後アンモニアなどの塩基性触媒により縮
合を進める方法や、あるいはギ酸などの酸触媒により高
温で反応する方法が採用される。生成物は有機溶媒に可
溶であるから適当な溶媒に溶解して用いることができる
。あるいは反応溶液をそのまま用いることも可能である
。このようにして得られたポリマーは分子末端にシラノ
ール基のような反応性の基を有しているため、このポリ
マーで膜を形成した後加熱することにより更に縮合が進
み、化学的、機械的に安定な膜となる。また、この反応
性の基は必要に応じて、適当なシリル化剤、例えば、ト
リメチルクロロシラン、ジメチル了ミノトリメチルシラ
ンなどにより置換することができる。
本発明の最も有用なポリマーはアルコキシゲルマンとア
ルコキシシランの共重合によって得られる。すなわち、
アルコキシゲルマンとアルコキシシランのモル比を調節
することにより広い範■において屈折率を制御したポリ
マーが得られる。
また、本発明の別の有用なポリマーはアルコキシゲルマ
ンとカルボン酸基あるいはカルボン酸無水物基を有する
金属アルコキシドとの縮合によって得られるポリマーで
ある。すなわち、得られたポリマーは親水性のカルボキ
シル含有するため、イオン交換樹脂やフォトレジストな
どへの応用が可能である。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例1 メチルトリブトキシゲルマン3. 6 8 g (0.
012モル)をエタノールに溶解し、かくはんしながら
これに塩酸水溶液を添加した。常温で2時間、次いで6
0℃で96時間反応させ生成物を得た。
第1図は生成物の窒素中での熱重量分析と示差熱分析(
TG/DTA)の結果を温度(℃、横軸)と重量残率〔
%(熱重量分析、TG、破線)、発熱/吸熱(示差熱分
析、DTA、実線)、縦軸〕の関係において示した図で
ある。350℃付近まで重量減少が見られず、優れた耐
熱性が認められた。
実施例2 メチルトリブトキシゲルマン3. 0 6 g (0.
01モル)とフェニルトリエトキシシラン2 2. 3
 2g(0.09モル)をエタノールに溶解し、かくは
んしながらこれに塩酸水溶液を添加した。常温で2時間
、次いで60℃で96時間反応させた。反応溶液を蒸留
水中に投入し、生成した沈殿物をろ別し白色ポリマーを
得た。生成物をテトラヒドロフラン(THF)に溶解し
た溶液から透明で均一な膜が得られた。第2図は生成物
フィルムの赤外スペクトルを波数(C「1、横軸)と透
過率(%、縦軸)の関係で示した図である。
1430.1135c+n−’付近にSi−φ、110
0cl’付近に5i−0,980cm−’付近にGe−
0の特性吸収が認められる。第3図は生成物フィルムの
透過特性を波長(nm、横軸)と透過率(%、縦軸)と
の関係で示す図である。0.3μmより低い波長領域で
フェニル基の吸収がみられるほかには、広い波長領域に
おいて優れた透過率を示すことが判る。
実施例3 メチルトリブトキシゲルマン3.06 g (0,01
モル)とメチルトリエトキシシラン1.60 g(0,
09モル)をエタノールに溶解し、かくはんしながらこ
れに塩酸水溶液を添加した。常温で2時間、次いで60
℃で96時間反応させた。
反応溶液を蒸留水中に投入し、生成した沈殿物をろ別し
白色ポリマーを得た。生成物をN−メチル−2−ピロリ
ドン(NMP)に溶解した溶液から透明で均一な膜が得
られた。この膜を200℃で120分加熱し有機溶媒不
溶の膜を得た。第4図は加熱する前の赤外スペクトルを
波数(CO+−’、横軸)と透過率(%、縦軸)との関
係で示す図である。980 C[11−’にGe−0,
1120cm””にS i−0の吸収が認められる。第
5図は200℃で加熱後の生成物の窒素中でのTGDT
A曲線であり、横軸は温度(℃)、縦軸は重量残率(%
)を示す。400℃以上までほとんど重量減少が認めら
れず、優れた耐熱性を持つことが判る。
実施例4 ジメチルジブトキシゲルマン4.97 g (0,02
モル)とメチルトリエトキシシラン14.3 g(0,
08モル)をエタノールに溶解し、かくはんしながらこ
れに塩酸水溶液を添加した。常温で2時間、次いで60
℃で96時間反応させた。
反応溶液を蒸留水中に投入し、生成した沈殿物をろ別し
白色ポリマーを得た。生成物をTHFに溶解した溶液か
ら透明で均一な膜が得られた。
第6図は生成物フィルムの透過特性を波長(nm、横軸
)と透過率(%、縦軸)の関係で示す図である。広い波
長領域において優れた透過率を示すことが判る。
実施例5 メチルトリブトキシゲルマン6、13 g (0,02
モル)と4−トリメトキシシリルテトラヒドロフタル酸
無水物21.8g(0,08モル)をエタノールに溶解
し、かくはんしながらこれに塩酸水溶液を添加した。常
温で2時間、次いで60℃で96時間反応させ生成物を
得た。反応溶液を蒸留水中に投入し、生成した沈殿物を
ろ別し白色ポリマーを得た。生成物はメチルイソブチル
ケトン、THF、エチルセロソルブ等の有機溶媒に可溶
であり、これらの溶液からは透明で均一な膜が得られた
。生成物の赤外スペクトルには980 cm−’にGe
−0,112QC(D−’に5i−0の吸収が、また1
 700〜1750cm−’付近にC口 (カルボン酸
)の伸縮に基づく吸収が認められた。
実施例6 ジメチルジブトキシゲルマン0.1モル、メチルトリエ
トキシシラン0.3モル及びテトラエトキシシラン0.
6モルをエタノールに溶解し、これに塩酸水溶液を添加
し3時間反応させた。更にアンモニアを加え3時間反応
させた。反応溶液をシリコン基板に塗布し風乾後、21
0℃で3時間加熱し透明で均一な膜を得た。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によって得られるゲルマン
を有するポリマーは耐熱性、光透過性、屈折率制御、成
形加工性等に優れているため、膜として光学材料、電子
材料として用いられる可能性があると共に、親水性を利
用して感光性樹脂やイオン交換樹脂として応用できる可
能性がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例1において得られた生成物の窒素中での
熱重量分析(TG)と示差熱分析(DTA)の結果を示
す図、第2図は実施例2において得られた生成物の赤外
スペクトルを示す図、第3図は実施例2において得られ
た生成物の透過特性を示す図、第4図は実施例3におい
て得られた生成物の赤外スペクトルを示す図、第5図は
実施例3において得られた生成物の窒素中でのTGとD
TAの結果を示す図、第6図は実施例4において得られ
た生成物の透過特性を示す図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、一種以上の多官能金属アルコキシドを加水分解・縮
    合するポリマーの製造方法において、該多官能金属アル
    コキシドの一部あるいは全部が有機基を有するアルコキ
    シゲルマンであることを特徴とするポリマーの製造方法
JP5798690A 1990-03-12 1990-03-12 ポリマーの製造方法 Expired - Lifetime JPH0689148B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5798690A JPH0689148B2 (ja) 1990-03-12 1990-03-12 ポリマーの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5798690A JPH0689148B2 (ja) 1990-03-12 1990-03-12 ポリマーの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03259924A true JPH03259924A (ja) 1991-11-20
JPH0689148B2 JPH0689148B2 (ja) 1994-11-09

Family

ID=13071333

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5798690A Expired - Lifetime JPH0689148B2 (ja) 1990-03-12 1990-03-12 ポリマーの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0689148B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007525999A (ja) * 2004-03-03 2007-09-13 ダウ・コーニング・コーポレイション 構造的に規定される有機分子の形成方法
JP2009126940A (ja) * 2007-11-22 2009-06-11 Shin Etsu Chem Co Ltd 金属酸化物含有膜形成用組成物、金属酸化物含有膜、金属酸化物含有膜形成基板及びこれを用いたパターン形成方法
JP2010518234A (ja) * 2007-02-08 2010-05-27 ダウ・コーニング・コーポレイション ヘテロ元素を含むシロキサン化合物およびポリマー

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007525999A (ja) * 2004-03-03 2007-09-13 ダウ・コーニング・コーポレイション 構造的に規定される有機分子の形成方法
JP2011172589A (ja) * 2004-03-03 2011-09-08 Dow Corning Corp 構造的に規定される有機分子の形成方法
JP2010518234A (ja) * 2007-02-08 2010-05-27 ダウ・コーニング・コーポレイション ヘテロ元素を含むシロキサン化合物およびポリマー
US9187602B2 (en) 2007-02-08 2015-11-17 Dow Corning Corporation Heteroelement siloxane compounds and polymers
JP2009126940A (ja) * 2007-11-22 2009-06-11 Shin Etsu Chem Co Ltd 金属酸化物含有膜形成用組成物、金属酸化物含有膜、金属酸化物含有膜形成基板及びこれを用いたパターン形成方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0689148B2 (ja) 1994-11-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Innocenzi et al. Hybrid organic-inorganic sol-gel materials based on epoxy-amine systems
EP0263428B1 (en) Organosiloxane/metal oxide coatings
JP4233456B2 (ja) 低屈折率薄膜形成用塗布組成物
EP0486469B1 (en) Organic-inorganic hybrid polymer
US6177131B1 (en) Method of making an anti-reflection coating
EP1174258B1 (en) Article having predetermined surface shape and method for production thereof
TWI607066B (zh) 包含矽氧烷化合物的抗反射塗佈組合物以及利用該抗反射塗佈組合物調節表面能的抗反射膜
TWI613264B (zh) 包含矽氧烷化合物之抗反射塗敷組合物及使用其之抗反射膜
JPH07331173A (ja) 光学材料形成用塗液組成物および光学材料
CN114292485B (zh) 一种抗细菌粘附的疏水增透材料及其制备方法和应用
WO2002068183A1 (fr) Article presentant une forme de surface predefinie et son procede de preparation
TW201418385A (zh) 包含矽氧烷化合物的超親水性抗反射塗佈組合物、超親水性抗反射膜及其製備方法
JP3696311B2 (ja) ポリシラザン組成物、ポリシラザン溶液の調製方法、該組成物を用いたコーティング用組成物及び該コーティング用組成物を用いて得られるセラミックス被膜付プラスチック
JPWO2003035788A1 (ja) 光学素子の製造方法
JPH03259924A (ja) ポリマーの製造方法
JPH03287627A (ja) ポリシロキサン
JP4996832B2 (ja) シリカ系コーティング剤、それを用いたシリカ系薄膜および構造体
KR101772549B1 (ko) 고투명성 유기-무기 복합 코팅제 제조방법
JP3317716B2 (ja) フッ素含有ポリオルガノシルセスキオキサンを含む離型剤およびこの製造方法
WO1997024223A2 (en) Methods and compositions for forming silica, germanosilicate and metal silicate films, patterns and multilayers
TWI642541B (zh) Glass substrate with protective film
JPH03100021A (ja) ポリシロキサン
JPS6086018A (ja) シリコ−ン樹脂
JPH0470662A (ja) シロキサンポリマー及びレジスト組成物
JPS60235711A (ja) SiO2膜の形成方法

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees