JPH03251574A

JPH03251574A - 新規なシクロブタン誘導体及びその製造法

Info

Publication number: JPH03251574A
Application number: JP4716890A
Authority: JP
Inventors: Koichi Narasaka; 奈良坂　紘一; Yujiro Hayashi; 雄二郎林
Original assignee: Nippon Kayaku Co Ltd
Current assignee: Nippon Kayaku Co Ltd
Priority date: 1990-03-01
Filing date: 1990-03-01
Publication date: 1991-11-11

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は、例えば抗ウィルス薬あるいは制癌剤等の医薬
として期待される核酸塩基を有するシクロブタン誘導体
の有用製造中間体及びそれらの製造法に関する。

［従来の技術］例えば、抗ウィルス薬として期待されているシクロブタ
ン語導体化合物（１ｖ）は、以下のように合成されてい
る。

（１１〉（ν）（Ｖｌ）（反応式１）［式中Ｒ１は炭素数１から５のアルキル基、アラルキル
基または二つのＲ１が結合して炭素数２から３の環状ア
ルキレン基を示し、Ｒ２は水素、炭素数１から５のアル
キル基、保護された炭素数１から５のヒドロキシアルキ
ル基または保護されたカルボキシル基を示し、Ｒ３は水
素、炭素数１から５のアルキル基、炭素数１から５のア
ルコキシ基、またはアラルキルオキシ基を示す。Ａはの
炭素数２から５の直鎖状または分枝状のアルキレン基を
、Ｙは酸素またはイオウ原子を、Ｚは置換または無置換
メチレン基または酸素才たはイオウ原子を示すコ［発明
が解決しようとする課題］しかしながら、−数式（１１）で表される化合物と一般
式（Ｖ）で表される化合物を反応させて数式（■１）で
表される化合物を得る上記反応は、般弐Ｘ　（Ｖ）で表
される化合物のＲ３が水素以外の場合は、円滑には反応
しない。また、得られる一般式（ｖｌ）で表される化合
物は、酸に対して比較的不安定であり取扱いに注意を要
する。

［課題を解決するための手段］本発明は、−数式（１）で表されるシクロブタン誘導体及び−数式（１）で表さ
れる化合物の一般式（１１）［式中８１は炭素数１から５のアルキル基、炭素数１か
ら５の、−アリル基置換アルコキシ基を示し、Ｒ２は水
素、炭素数１から５のアルキル基、保護された炭素数１
から５のヒドロキシアルキル基または保護されたカルボ
キシル基を示し、Ｒ３は水素、炭素数１から５のアルキ
ル基、保護された炭素数１から５のヒドロキシアルキル
基または、炭素数１から５のアルコキシ基、または炭素
数１から５の、アリル基置換アルコキシ基を示す。Ａｌ
；ｔ＠置換基有するまたは無置換の炭素数２から５のア
ルキレン基を、Ｙは酸素またはイオウ原子を、２は置換
または無置換メチレン基または酸素またはイオウ原子を
示す］［式中Ｒ２は水素、炭素数１から５のアルキル基、保護
きれた炭素数１から５のヒドロキシアルキル基または保
護されたカルボキシル基を示し、Ａは置換基を有するま
たは無置換の炭素数２から５のアルキレン基を、Ｙは酸
素またはイオウ原子を、Ｚは置換または無置換メチレン
基または酸素またはイオウ原子を示す］で表わされる化合物と一般式（ＩＩＩ　）Ｒ３（：、ヨ
ＣＳ　Ｒ１（ＩＩＩ　）［式中８１は炭素数１から５のアルキル基、アラルキル
基を示し、Ｒ３は水素、炭素数１から５のアルキル基、
保護された炭素数１から５のヒドロキシアルキル基また
は、炭素数１から５のアルコキシ基、または炭素数１か
ら５のアリル基置換アルコキシ基を示す］基、または炭素数１から５のアリル基置換アルコキシ基
を示す〕で表わされる化合物を縮合環化する事を特徴とする製造
法に関する。

本発明によれば、Ｒ３が水素以外の置換基の一般式（１
）で表される化合物が容易に製造することができる。従
って、抗ウィルス薬として有用なシクロブタン誘導体を
製造することができる。

−数式（１）で示される化合物の具体例をつぎに示す。

なお本明細書においては化合物の相対立体配置を、シク
ロブタン環を平面として考えた時、平面の下方（一方）
に位置する置換基をａ、平面の上方（他方）に位置する
置換基をβで表している。

１゜２゜（３Ｒ，４Ｒ）−３−メトキシカルボニル−１−メチル
チオ−４−（オキサゾリジン−２−オン−３−イル）カ
ルボニル−１−シクロブテン（３Ｓ、４Ｓ）−３−メトキシカルボニル−１−メチル
チオ−４−（オキサゾリジン−２−オン−３−イル）カ
ルボニル−１−シクロブテン３、（±）−（３β、４ａ）−３−メトキシカルボニル
−１−メチルチオ−４−（オキサゾリジン−２−オン−
３−イル）カルボニル−１−シクロブテン４、　　（３Ｓ、４Ｒ）−２−ブチル−３−メトキシカ
ルボニル−１−メチルチオ−４−（オキサゾリジン−２
−オン−３−イル）カルボニル−１−シクロブテン５、　　（３Ｒ，４Ｓ）−２−ブチル−３−メトキシカ
ルボニル−１−メチルチオ−４−（オキサゾリジン−２
−オン−３−イル）カルボニル−１〜シクロブテン６、（±）−（３β、４Ｇ）−２−ブチル−３−メトキ
シカルボニル−１−メチルチオ４−（オキサゾリジン−
２−オン−３−イル）カルボニル−１−シクロブテン７、　　（３Ｓ、４Ｒ）−３−メトキシカルボニル−２
−メチル−１−メチルチオ−４−（オ８゜９゜１０゜１１゜１２゜１３゜キサゾリジン−２−オン−３−イル）カルボニル−１−
シクロブテン（３Ｒ，４Ｓ）−３−メトキシカルボニル−２−メチル
−１−メチルチオ−４−（オキサゾリジン−２−オン−
３−イル）カルボニル−１−シクロブテン（±）−（３β、４ａ）−３−メトキシカルボニル−２
−メチル−１−メチルチオ−４−（オキサゾリジン−２
−オン−３−イル）カルボニル−１−シクロブテン（４Ｒ）−２−ブチル−１−メチルチオ−４−（オキサ
ゾリジン−２−オン−３−イル）カルボニル−１−シク
ロブテン（４Ｓ）−２−ブチル−１−メチルチオ−４−（オキサ
ゾリジン−２−オン−３−イル）カルボニル−１−シク
ロブテン（±）−２−ブチル−１−メチルチオ−４−（オキサゾ
リジン−２−オン−３−イル）カルボニル−１−シクロ
ブテン（４Ｒ）−２−メチル−１−メチルチオ−４−（オキサ
ゾリジン−２−オン−３−イル）カルボニル−１−シク
ロブテン＋４．（４Ｓ）−２−メチル−１−メチルチオ−４−（
オキサゾリジン−２−オン−３−イル）カルボニル−１
−シクロブテン１５、（±）−２−メチル−１−メチルチオ−４−（オ
キサゾリジン−２−オン−３−イル）カルボニル−１−
シクロブテン１６．４−（４−イソプロピルオキサゾリジン−２−オ
ン−３−イル）カルボニル−３−メトキシカルボニル−
１−メチルチオ−１−シクロブテン１７、．４−（４−メチル−５−フェニルオキサゾリジ
ン−２−オン−３−イル）カルボニル−３−メトキシカ
ルボニル−１−メチルチオ−１−シクロブテン一般式（１１）で表される化合物と一般式（＋＋＋　）
で表される化合物を縮合触媒を用いて反応すると、触媒
の種類によりラセミ体のあるいは光学活性な一般式（１
）で表されるシクロブタン化合物が高収率で得られる。

この反応に於ける縮合触媒としては、例えばルイス酸あ
るいはルイス酸と当量または過剰量のリガンドを組合わ
せたものが挙げられる。ルイス酸としては、例えば四塩
化チタン、ジクロロジイソプロポキシチタンなどのチタ
ン化合物、二塩化スズ、四塩化スズ、二価スズトリフラ
ート等のスズ化合物、塩化ジメチルアルミニウム、塩化
ジエチルアルミニウム等のアルミニウム化合物等が挙げ
られる。リガンドとしては立体的に込み合ったジオール
類が好ましく、例えば（２Ｓ、　　３Ｓ）　−２，３−
０（＋　−フェニルエ’ｆ−ｕテン）−１，１，４，４
−テトラフェニル−１゜２、　３．　４−ブタンテトラ
オール（化合物Ａ）、（２Ｒ，３Ｒ）−２，３−〇−（
１−フェニルエチリデン）−１，１，４，４−テトラフ
ェニル−１、２，３，４−ブタンテトラオール（化合物
Ｂ）、（２Ｓ、３Ｓ）−２，３−０−ベンジリデン−１
゜１、　４．　４−テトラフェニル−１，２，３，４−
ブタンテトラオール（化合物Ｃ）、（２Ｒ，３Ｒ）−２
，３−０−ベンジリデン−１，１，４，４−テトラフェ
ニル−１，２，３，４−ブタンテトラオール（化合物Ｄ
）、（２Ｓ、３Ｓ）−２，３−Ｏ−（１−フェニルエチ
リデン）　−１，＋、　　４゜４−テトラキス（４−メ
トキシフェニル）−１゜２、　３．　４−ブタンテトラ
オール（化合物Ｅ）、（２Ｒ，３Ｒ）−２，３−０−（
＋−フェニルエチリデン）　−１，１，４，４−テトラ
キス（４−メトキシフェニル）−１，２，３，・４−ブ
タンテトラオール（化合物Ｆ）或はこれらの化合物のラ
セミ体等の分子内に５員環以上の環、好ましくは５−８
員環を有し、その環をはさんで両側に水酸基の結合した
基を有するもの等が挙げられる。

数式（１１）で示される化合物と一般式（＋＋＋　＞で
示される化合物の使用割合は前者１当量に対し後者０．
１から５当量好ましくは、０．５から２当量である。縮
合触媒の使用量は一般式（１１）の化合物１当量に対し
０．００＋から２当量好ましくは０．０１当量から１．
２当量である。この反応に於て、反応系中にモレキュラ
ーシーブス４Ａなどの脱水剤を加えることにより反応が
より効率よく進行することがある。反応の溶媒としては
、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、石油エーテル
、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、トリメチルベ
ンゼン、トリイソブＯビルベンゼン等の炭化水素系溶媒
、フロン等のハロゲン化炭素系溶媒、エーテル、テトラ
ヒドロフラン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル等の
溶媒及びこれらの混合溶媒が挙げられ、反応温度は、反
応溶媒の凝固点から沸点程度がよく、好ましくは、−５
０℃から３０℃位がよい。例えば、Ｒ２がメトキシカル
ボニル基、ＡがＣＨ２ＣＨ２、Ｙが酸素、２が酸素であ
る一般式（１１）の化合物（１当量）及び、Ｒ１がメチ
ル基、Ｒ３が水素である一般式（Ｉｌｌ　）の化合物（
１゜２５当量）を、縮合触媒としてジクロロジイソプロ
ポキシチタン（０，１０当量）及び（２Ｓ、　　３Ｓ）
−２，３−Ｏ−（１−フェニルエチリデン）−１，１，
４，４−テトラフェニル−１，２，３゜４−ブタンテト
ラオール（化合物Ａ）　　（０，１１当量）を組み合わ
せた物を用い、モレキュラーシーブス４Ａを加え、石油
エーテル−トルエン混合溶媒中、０℃で反応させること
により（３Ｓ、　　４Ｓ）−３−メトキシカルボニル−
１−メチルチオ−４−（オキサゾリジン−２−オン−３
−イル）カルボニル−１−シクロブテンが葛化学収率、
高光学収率で得られる。また、上記反応において一般式
（Ｉｌｌ　）で表される化合物としてＲ１がメチル基、
Ｒ３がブチルである化合物を用いれば、（３Ｒ，４Ｓ）
−２−ブチル−３−メトキシカルボニル−１−メチルチ
オ−４−（オキサゾリジン−２−オン−３−イル）カル
ボニル−１−シクロブテンが高化学収率、高光学収率で
得られる。

本発明化合物に於て８１、Ｒ２、Ｒ３によって示される
炭素数１から５のアルキル基としては、例えばメチル基
、エチル基、ブチル基等のアルキル基が挙げられ、炭素
数１から５の、アリル基置換アルコキシ基としては、例
えばベンジル基、４−メトキシベンジル基等の芳香族環
で置換された炭素数１から５のアルキル基が挙げられる
。また、保護された炭素数１から５のヒトＯキシアルキ
ル基としては、例えばベンジルオキシメチル基、アセチ
ルオキシメチル基、ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ
メチル基等が挙げられる。保護されたカルボキシル基と
しては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボ
ニル基等のようなアルコキシカルボニル基や、ベンジル
オキシカルボニル基のアラルキルオキシカルボニル基等
が挙げられる。

炭素数１から５のアルコキシ基としては、例えばメトキ
シ基、アリルオキシ基等が挙げられ、炭素数１から５の
、アリル基置換アルコキシ基としては、例えばベンジル
オキシ基、４−メトキシベンジルオキシ基、ｔ−ブチル
ジフェニルシリルオキシ基等が挙げられる。

一般式（１）で表される化合物は、反応式（２）（Ｖｌ
ａ）（■）＋ＩＸ）（ｖｌ）（反応式２）［式中、Ｒは保護基または水素を示すコに示す反応経路
により、−数式（Ｖｌｌ　）で表される化合物へ変換す
ることができる。化合物（■１）は反応式（１）で示し
たように、抗ウィルス作用を持つ化合物を製造する中間
体である。

［実施例コ次に、実施例を挙げて本発明化合物の製造について具体
的に説明する。

実施例１゜（−）−（３Ｒ，４Ｒ）−３−メトキシカルボニル−１
−メチルチオ−４−（オキサゾリジン−２−オン−３−
イル）カルボニル−１−シクロブテンの製造アルゴン雰囲気中、ジクロロジイソプロポキシチタン（
１４３ｍｇ、０．６０５ｍｍｏ　ｌ）及び（２Ｒ，３Ｒ
）　−２，３−０−（１−）ｘニルエチリデン）　−１
，Ｌ　　４．　４−テトラフェニル−１、２，３，４−
ブタンテトラオール（化合物Ｂ）（３５２ｍｇ、０．６
６ｍｍｏ　ｌ）にトルエン（１５ｍ１）を加え、室温で
１時間攪拌する。

アルゴン雰囲気中、加熱乾燥した粉末モレキュラーシー
ブス４Ａ　（２００ｍｇ）に、上記トルエン溶液（０，
４＋ｍｌ、０．０５０ｍｍｏ　ｌ）及びトルエン（１，
５ｍ１）及び石油エーテル（沸点〜８０℃、２ｍ１）を
加える。更に、３−［（Ｅ）−３−（メトキシカルボニ
ル）プロペノイル〕−オキサゾリジン−２−オン（＋０
０．１５ｍｇ、０．５０２ｍｍｏ　ｌ）を加え０℃に冷
却する。この懸濁液に１−メチルチオアセチレン（＋３
５ｍｇ、１．８８ｍｍｏ　ｌ）の石油エーテル溶液（１
，５ｍ１）を加えた後、同温で２４時間攪拌する。反応
液に０．２Ｍ−リン酸緩衝液（ｐＨ７，０）を加え反応
を停止し、無機物をセライトを用いて濾去した後、有機
物を酢酸エチルで抽出する。抽呂液は飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下７溶媒を
溜去する。残渣は、薄層クロマトグラフィー（酢酸エチ
ル：ヘキサン＝１：＋、ｖ／ｖ）で精製しく−）−（３
Ｒ，４Ｒ）−３−メトキシカルボニル−１−メチルチオ
−４−（オキサゾリジン−２−オン−３−イル）カルボ
ニル−１−シクロブテン（１１３ｍｇ、８３％）を得る
。本化合物の光学純度は９８％ｅｅ以上（実施例４に示
した方法により決定）。

’Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚＦＴ、　ＣＤＣ１３）　　
５　：２、２８　（３Ｈ，ｓ）。

３、７２　（３Ｈ，ｓ）。

３．１１８（Ｉ）Ｉ、ｔ、Ｊ＝１．６Ｈ１）。

４、　Ｏ５（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝５．５Ｈｚ）　。

４、４７　（２）１．　ｔ、　Ｊ＝５．６Ｈ２）　。

４、８８　（＋Ｈ，ｄ、　Ｊ＝Ｌ　６Ｈ２）５．９２（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１．５）１ｚ）。

”Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚＦＴ、ＣＤＣ１５）　　６
　：＋３．６．　４２Ｊ、　　４５．７．　５０．６．
　５２．０．　６２．５．　　＋２３．９゜＋４４１．
　１５３．２．　　＋６９．４．　１７１７゜Ｒ（ｎｅ
ａｔ）　　ｃｏ＋−’：１７７９．　１７３Ｌ　　１６
９３゜ＨＲＭＳ　ＣＩＩＨ＋３ＮＯ５Ｓ　　Ｃａ１ｃｄ
、　２７ＬＯ５１５゜Ｆｏｕｎｄ　　　２７１．０４９
Ｌ［Ｑ　］　Ｄ　　Ｊ９２．５°（ＣＬ　０２．　　ＣＨ
２Ｃｌ２）。

実施例２゜（−）−（３Ｓ、４Ｒ）−３−メトキシカルボニル−２
−メチル−１−メチルチオ−４−（オキサゾリジン−２
−オン−３−イル）カルボニル−１−シクロブテンの製
造１−メチルチオアセチレンの替わりに、１−メチルチオ
−１−プロビンを用い、ジクロロジイソプロポキシチタ
ン及び（２Ｒ，３Ｒ）−２，３−Ｏ−（１−フェニルエ
チリデン）−１，１，４゜４−テトラフェニル−１，２
，３，４−ブタンテトラオール（化合物Ｂ）を当モル用
いる以外は、実施例１と同じ操作を行い、　（−）　−
（３Ｓ、　　４日）−３−メトキシカルボニル−２−メ
チル−１−メチルチオ−４−（オキサゾリジン−２−オ
ン−３−イル）カルボニル−１−シクロブテン（７２％
）を得る。本化合物の光学純度は９８％ｅｅ以上（実施
例４に示した方法と同様の方法により決定）。

’）ｌ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚＦＴ、　ＣＤＣｌ５）　
　５　：１、１１３　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝Ｌ　７Ｈ２）
　。

２、３０　（３１ｓ）。

３、６３　（ＩＨ，ｑｕｉｎｔ、　Ｊ＝１．７Ｈｚ）。

３、７３　（３Ｈ，ｓ）。

４、０５　（２）１．　ｔ、　Ｊ＝７．７Ｈｚ）　。

４、４５　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．７Ｈｚ）　。

４．１１８（＋）Ｉ、ｄ、Ｊ：１．７Ｈｚ）。

ＨＲＭＳ　Ｃ＋２１（１５ＮＯ５Ｓ　　Ｃａ１ｃｄ、　
２１１５．０６７２゜Ｆｏｕｎｄ　　　２８５．０６７
６゜［ａ］　Ｄ　　−１４３，１＠（Ｃ１，０３、ＣＨ２Ｃ
ｌ２）。

実施例３゜以下の表に本発明化合物の製造例を示す（実施例１及び
実施例２の化合物も含む）。記載以外の条件、処理方法
は実施例１と同じである。光学純度は、実施例４と同様
に決定した。

ＭｅＯＯＣＢｕ　　　　Ｅｔ　　　　Ｃｏ　　　　　　
６１　　　　　＞９８実施例４゜（−）−（３Ｒ，４Ｒ）−３，４−ビス（ヒドロキシメ
チル）−１−メチルチオ−１−シクロブテンの製造アルゴン雰囲気中、氷冷下実施例１で製造した（−）−
（３Ｒ，４Ｒ）−３−メトキシカルボニル−１−メチル
チオ−４−（オキサゾリジン−２−オン−３−イル）カ
ルボニル−１−シクロブテンのメタノール溶液を過剰の
ジメトキシマグネシウム／メタノール溶液に加え、０℃
で１５分間攪拌する。反応液に飽和塩化アンモニウム水
溶液を加え、エーテルで抽呂する。エーテル抽呂液は飽
和食塩水で洗浄した後、減圧下溶媒を溜去する。

アルゴン雰囲気中、当モルの水素化アルミニウムリチウ
ムエーテル懸濁液に、０℃で残渣のエーテル溶液を徐々
に加え０℃で２時間攪拌する。反応液に飽和硫酸ナトリ
ウム水溶液を加え過剰の還元剤を分解した後、無水硫酸
ナトリウムを加えしばらく攪拌する。無機物を濾去し、
更に熱イソプロピルアルコールで洗浄した後、濾液及び
洗液を合わせて減圧下溶媒を溜去する。残渣は、薄層ク
ロマトグラフィーで精製しく−）−（３Ｒ，４Ｒ）−３
，４−ビス（ヒドロキシメチル）−１−メチルチオ−１
−シクロブテン（６７％）を得る。

’Ｈ−ＮＭＲ（５００Ｍ）ｌｚＦＴ、ＣＤＣｌ５）　　
５：２、２８３Ｈ，ｓ）。

２、７２１Ｈ，ｄｄ、　Ｊ＝４．９Ｈ２，８，３Ｈｚ）
。

２、７９　＋Ｈ，ｄｄ、　Ｊ＝４．９８Ｚ、　７．９）
＋２）。

２、９０２Ｈ，ｂｒｓ）。

３、５６１）！、　ｄｄ、　Ｊ＝１１．２Ｈｚ、　１０
．７Ｈｚ）。

３、６７　＋Ｈ，ｄｄ、　Ｊ＝１１．２Ｈ２，Ｎ、　０
Ｈｚ）。

３、７６１Ｈ，ｄｄ、　Ｊ＝４．９８Ｚ、　１０．７Ｈ
ｚ）。

３、８５　ＩＮ、　ｄｄ、　Ｊ＝４．９Ｈ１，Ｎ、　０
Ｈ１）。

５、７８１Ｈ，ｓ）。

［Ｃコ　ｎ　　　Ｊ５．　　Ｎ”　　（Ｇ　　Ｏ，６８
５，Ｃ）＋２ＣＩ２１゜本化合物の一部を取り常法（（
Ｒ）　−Ｇ−メトキシ−ａ−ｆ−リフルオロメチル−フ
ェニルアセチルクロリド（（Ｒ）−ＭＴＰＡＣｌ）、　
　ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）／ピリジン（ｐ
ｙｒ））に従いビス（Ｒ）−ＭＴＰＡエステルに導いた
。

５００ＭＨｚＮＭＲにおいて、ラセミ休由来のこの化合
物のメチル基のシグナルは２．　１７．　２゜１８ｐｐ
ｍの計２本観察されるが、本物質のメチル基のシグナル
は２．１７ｐｐｍのシグナルのみが観察された。

この事より、光学純度は〉９８％ｅｅである。

実施例５゜（−）　−（２Ｒ，３Ｒ）−２，３−ビス（１−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル）−１−シクロブタノン
の製造工程１（−）−（３Ｒ，４Ｒ）−３，４−ビス（ヒドロキシメ
チル）−１−メチルチオ−１−シクロブテン（６８，５
５ｍｇ、０．３６ｍｍｏ　ｌ）、イミダゾール（８９，
８０ｍｇ、１．３２ｍｍｏ　Ｉ）、４−ジメチルアミノ
メチルビリジン（触媒量）をＤＭＦ（３ｍｌ）に溶解し
た溶液に、ｔ−ブチルジフェニルシリルクロリド（２６
７ｍｇ、０．９７ｍｍｏｌ）を加え室温で６時間攪拌す
る。反応液に、リン酸緩衝液（ｐＨ７，０）を加えた後
、エーテルで抽出する。エーテル抽出液は水洗後、飽和
食塩水で洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧
下溶媒を溜去する。残渣は、薄層クロマトグラフィーで
精製し、　Ｃ−）−（３Ｒ，４Ｒ）−３，４−ビス（ｔ
−ブチルジフェニルシリルオキシメチル）−１−メチル
チオ−１−シクロブテン（定量的）を得る。

［ａ　］　、）−５３，４７°（ｃ　ＬＯＯ，Ｃ）Ｉ２
Ｃ１２）。

工程２゜酸化第２銅（Ｃｕｂ）（２９，ＯＯｍｇ）及び塩化第２
銅（ＣｕＣ１２）（４２，６５ｍｇ）にアセトン（５ｍ
　ｌ　）、蒸留水（１滴）及びＤＭＦ（２滴）を加えた
懸濁液に、（−）　−（３Ｒ，４Ｒ）−３，４−ビス（
ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシメチル）−１−メチ
ルチオ−１−シクロブテン（４４ｍｇ）を加え、３０〜
４０℃で６時間攪拌する。更に、酸化第２銅（Ｃｕｂ）
（２４゜２５ｍｇ）及び塩化第２銅（Ｃｕ　Ｃｌ　２）
　　（８８゜７５ｍｇ）を加え、３０〜４０℃で５時間
攪拌する。反応液にリン酸緩衝液を加えセライトで濾過
した後、水を加えエーテルで抽出する。エーテル抽出液
は、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た後、減圧下溶媒を溜去する。残渣は、薄層クロマトグ
ラフィーで精製し、（−）−（２Ｒ，３Ｒ）−２，３−
ビス（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシメチル）−１
−シクロブタノン（３０，４０ｍ９）を得る。

［ａ］ＤＪ３．ｌｌｏ（ＣＯ，６Ｑ１１．Ｃ）１２Ｃ１
２）。

本化合物の物理データは、反応式１に従って製本発明に
より、Ｒ３が水素以外の一般式（１）で表される化合物
も容易に合成できる。また２、本反応により酸に安定な
一般式（１）で表される化合物が製造できる。さらに、
−数式（１）で表される化合物は、化合物（１ｖ）の製
造中間体として有用である。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）［式中Ｒ＾１は炭素数１から５のアルキル基、炭素数１
から５の、アリル基置換アルコキシ基を示し、Ｒ＾２は
水素、炭素数１から５のアルキル基、保護された炭素数
１から５のヒドロキシアルキル基または保護されたカル
ボキシル基を示し、Ｒ＾３は水素、炭素数１から５のア
ルキル基、保護された炭素数１から５のヒドロキシアル
キル基または、炭素数１から５のアルコキシ基、または
炭素数１から５の、アリル基置換アルコキシ基を示す。Ａは置換基を有するまたは無置換の炭素数２から５のア
ルキレン基を、Ｙは酸素またはイオウ原子を、Ｚは置換
または無置換メチレン基または酸素またはイオウ原子を
示す］で表されるシクロブタン誘導体
（２）一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II）［式中Ｒ＾２は水素、炭素数１から５のアルキル基、保
護された炭素数１から５のヒドロキシアルキル基または
保護されたカルボキシル基を示し、Ａは置換基を有する
または無置換の炭素数２から５のアルキレン基を、Ｙは
酸素またはイオウ原子を、Ｚは置換または無置換メチレ
ン基または酸素またはイオウ原子を示す］で表わされる化合物と一般式（III）Ｒ＾３Ｃ≡ＣＳＲ＾１（III）［式中Ｒ＾１は炭素数１から５のアルキル基、アラルキ
ル基を示し、Ｒ＾３は水素、炭素数１から５のアルキル
基、保護された炭素数１から５のヒドロキシアルキル基
または、炭素数１から５のアルコキシ基、または炭素数
１から５のアリル基置換アルコキシ基を示す］で表わされる化合物を縮合環化する事を特徴とする一般
式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）［式中Ｒ＾１は炭素数１から５のアルキル基、炭素数１
から５の、アリル基置換アルコキシ基を示し、Ｒ＾２は
水素、炭素数１から５のアルキル基、保護された炭素数
１から５のヒドロキシアルキル基または保護されたカル
ボキシル基を示し、Ｒ＾３は水素、炭素数１から５のア
ルキル基、保護された炭素数１から５のヒドロキシアル
キル基または、炭素数１から５のアルコキシ基、または
炭素数１から５の、アリル基置換アルコキシ基を示す。Ａは置換基を有するまたは無置換の炭素数２から５のア
ルキレン基を、Ｙは酸素またはイオウ原子を、Ｚは置換
または無置換メチレン基または酸素またはイオウ原子を
示す］で表されるシクロブタン誘導体の製造法