JPH03245869A - 薬液塗布装置の吐出薬液劣化防止機構 - Google Patents
薬液塗布装置の吐出薬液劣化防止機構Info
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- JPH03245869A JPH03245869A JP3974290A JP3974290A JPH03245869A JP H03245869 A JPH03245869 A JP H03245869A JP 3974290 A JP3974290 A JP 3974290A JP 3974290 A JP3974290 A JP 3974290A JP H03245869 A JPH03245869 A JP H03245869A
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- chemical
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/02—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
- B05C11/08—Spreading liquid or other fluent material by manipulating the work, e.g. tilting
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
薬液塗布装置の吐出薬液劣化防止機構に関し、吐出薬液
の吐出端において、周囲の雰囲気による薬液の劣化を防
止することを目的とし、薬液塗布装置において、薬液吐
出ノズルの先端を密閉、開放するパッドを上下可動なカ
ップの中に設け、さらに薬液吐出ノズルの先端を開放中
のパッドを洗浄するための溶媒を噴出する洗浄ノズルを
設けて成るように構成する。
の吐出端において、周囲の雰囲気による薬液の劣化を防
止することを目的とし、薬液塗布装置において、薬液吐
出ノズルの先端を密閉、開放するパッドを上下可動なカ
ップの中に設け、さらに薬液吐出ノズルの先端を開放中
のパッドを洗浄するための溶媒を噴出する洗浄ノズルを
設けて成るように構成する。
本発胡は薬液塗布装置の吐出薬液劣化防止機構に関する
。
。
半導体装置の製造にはホトリソグラフィ技術が用いられ
ているが、その−環としてウェハにホトレジスト等の薬
液を塗布する薬液塗布装置が用いられている。この薬液
塗布装置においては半導体の高集積化が進むにつれホト
レジスト等の塗布膜厚の均一性の要求がきびしくなって
来ている。ところが薬液塗布装置は周囲の雰囲気による
薬液の劣化があり、前記要求を実現させるためには薬液
の劣化を抑えることが重要な課題となっている。
ているが、その−環としてウェハにホトレジスト等の薬
液を塗布する薬液塗布装置が用いられている。この薬液
塗布装置においては半導体の高集積化が進むにつれホト
レジスト等の塗布膜厚の均一性の要求がきびしくなって
来ている。ところが薬液塗布装置は周囲の雰囲気による
薬液の劣化があり、前記要求を実現させるためには薬液
の劣化を抑えることが重要な課題となっている。
従来ホトレジスト等を塗布する装置は第３図に示すよう
にカップ１内にモータ２で回転駆動される真空チャック
３と、該チャック３に吸着保持されたウェハ４にレジス
ト溶液を滴下するノズル５を備え、レジスト溶液６を滴
下されたウェハ４を高速回転してレジスト溶液６を遠心
力によりウェハ全面に広げて所要の塗布膜を得るように
なっていた。ところがこのような塗布装置ではノズル５
が大気中にさらされているため、長時間レジストの滴下
がなされずに放置されると、ノズル内のレジスト中の溶
媒が気化してレジスト溶液の粘度が変化し、次の塗布時
に膜厚の異常を生ずるという問題があった。この溶媒の
気化を防ぐために第４図に示すようにレジストの滴下が
なされないときはノズル５の先端を溶媒７を入れた溶媒
槽８の中の溶媒蒸気９中に挿入しておく方法が提案され
ている。
にカップ１内にモータ２で回転駆動される真空チャック
３と、該チャック３に吸着保持されたウェハ４にレジス
ト溶液を滴下するノズル５を備え、レジスト溶液６を滴
下されたウェハ４を高速回転してレジスト溶液６を遠心
力によりウェハ全面に広げて所要の塗布膜を得るように
なっていた。ところがこのような塗布装置ではノズル５
が大気中にさらされているため、長時間レジストの滴下
がなされずに放置されると、ノズル内のレジスト中の溶
媒が気化してレジスト溶液の粘度が変化し、次の塗布時
に膜厚の異常を生ずるという問題があった。この溶媒の
気化を防ぐために第４図に示すようにレジストの滴下が
なされないときはノズル５の先端を溶媒７を入れた溶媒
槽８の中の溶媒蒸気９中に挿入しておく方法が提案され
ている。
上記従来の溶媒の気化を防ぐ方法では、溶媒の気化によ
るレジストの劣化は防止できるが、逆にレジストが溶媒
蒸気により希釈されるという問題が生ずる。これはレジ
ストの粘度が変るため当然塗布膜厚に対しての影響が出
てくる。
るレジストの劣化は防止できるが、逆にレジストが溶媒
蒸気により希釈されるという問題が生ずる。これはレジ
ストの粘度が変るため当然塗布膜厚に対しての影響が出
てくる。
本発明は上記従来の問題点に鑑み、吐出薬液の吐出端に
おいて、周囲の雰囲気による薬液の劣化を防止可能とし
た薬液塗布装置の吐出薬液劣化防止機構を提供すること
を目的とする。
おいて、周囲の雰囲気による薬液の劣化を防止可能とし
た薬液塗布装置の吐出薬液劣化防止機構を提供すること
を目的とする。
上記目的を達成するために本発明の薬液塗布装置の吐出
薬液劣化防止機構では、薬液塗布装置において、薬液吐
出ノズル１３の先端を密閉、開放するパッド１４を上下
可動なカップ１５の中に設け、さらに薬液吐出ノズル１
３の先端を開放中のパッド１４を洗浄するための溶媒を
噴出する洗浄ノズル１６を設けて成ることを特徴とする
。
薬液劣化防止機構では、薬液塗布装置において、薬液吐
出ノズル１３の先端を密閉、開放するパッド１４を上下
可動なカップ１５の中に設け、さらに薬液吐出ノズル１
３の先端を開放中のパッド１４を洗浄するための溶媒を
噴出する洗浄ノズル１６を設けて成ることを特徴とする
。
薬液塗布を行なわないときは、カップ１５が上昇し、そ
の中のパッド１４が薬液吐出ノズル１３の先端開口部を
閉鎮することにより薬液溶媒の気化を防ぐことができる
。また塗布を行なっている際にはパッド１４が下降し、
洗浄ノズル１６から溶媒を噴射してパッド１４の接触面
を洗浄し付着物を除去し清浄を保つことができる。
の中のパッド１４が薬液吐出ノズル１３の先端開口部を
閉鎮することにより薬液溶媒の気化を防ぐことができる
。また塗布を行なっている際にはパッド１４が下降し、
洗浄ノズル１６から溶媒を噴射してパッド１４の接触面
を洗浄し付着物を除去し清浄を保つことができる。
第１図は本発明の実施例を示す図である。
同図において、１０はカップであり、該カップの中には
モータ１１で回転駆動される図示なき真空チャック１２
が設けられている。また１３は薬液塗布用の薬液吐出ノ
ズルであり、該薬液吐出ノズル１３は二点鎖線で示す薬
液塗布位置Ａと、待機位置Ｂとの間を移動することがで
きるようになっている。
モータ１１で回転駆動される図示なき真空チャック１２
が設けられている。また１３は薬液塗布用の薬液吐出ノ
ズルであり、該薬液吐出ノズル１３は二点鎖線で示す薬
液塗布位置Ａと、待機位置Ｂとの間を移動することがで
きるようになっている。
また薬液吐出ノズル１３が待機位置にあるときに、その
先端開口部を閉鎖及び開放することができるパッド１４
が上下可動なカップ１５の底部に設けられ、さらにその
近傍に該パッド１４及び薬液吐出ノズル１３の先端を洗
浄する溶媒を噴射する洗浄ノズル１６が設けられている
。なおり・ツブ１５は排液機構付としても良い。
先端開口部を閉鎖及び開放することができるパッド１４
が上下可動なカップ１５の底部に設けられ、さらにその
近傍に該パッド１４及び薬液吐出ノズル１３の先端を洗
浄する溶媒を噴射する洗浄ノズル１６が設けられている
。なおり・ツブ１５は排液機構付としても良い。
このように構成された本実施例の作用を第−図及び第２
図により説明する。
図により説明する。
先ずカップ１０内の真空チャック１２にウェハ１７がセ
ットされると、第２図（ａ）の如く待機中の薬液吐出ノ
ズル１３の先端開口を閉鎖しているパッド１４がカップ
１５と共に第２図（ｂ）の如く下降し、次いで第２図（
Ｃ）の如く薬液吐出ノズル１３がウェハ１７のセンター
上方に移動する。薬液吐出ノズル１３が移動すると洗浄
ノズル１６からパッド１４に向けて溶媒１８が適宜の時
間噴射され、該パッド１４を洗浄する。次いで薬液吐出
ノズル１３が薬液の吐出を終わると該薬液吐出ノズル１
３は第２図（ｂ）に示す元の待機位置に戻る。次いでカ
ップ１５が第２図（ａ）に示す元の位置に上昇して薬液
吐出ノズル１３の先端開口を閉鎮し、全べてか元の状態
に戻る。
ットされると、第２図（ａ）の如く待機中の薬液吐出ノ
ズル１３の先端開口を閉鎖しているパッド１４がカップ
１５と共に第２図（ｂ）の如く下降し、次いで第２図（
Ｃ）の如く薬液吐出ノズル１３がウェハ１７のセンター
上方に移動する。薬液吐出ノズル１３が移動すると洗浄
ノズル１６からパッド１４に向けて溶媒１８が適宜の時
間噴射され、該パッド１４を洗浄する。次いで薬液吐出
ノズル１３が薬液の吐出を終わると該薬液吐出ノズル１
３は第２図（ｂ）に示す元の待機位置に戻る。次いでカ
ップ１５が第２図（ａ）に示す元の位置に上昇して薬液
吐出ノズル１３の先端開口を閉鎮し、全べてか元の状態
に戻る。
このように本実施例によれば、待機状態にある薬液吐出
ノズル１３の先端開口をパッド１４で閉鎖して薬液中の
溶媒の気化を防止することができる。
ノズル１３の先端開口をパッド１４で閉鎖して薬液中の
溶媒の気化を防止することができる。
またパッド１４及び必要ならばノズル１３の外壁を溶媒
で洗浄することができ、これらを常に清潔に保つことが
できる。
で洗浄することができ、これらを常に清潔に保つことが
できる。
以上説明した様に、本発明によれば、待機状態では薬液
吐出ノズルをパッドで閉鎖し外気と遮断するたｔ薬液の
劣化は防止される。このためレジスト塗布においては塗
布膜厚の均一性が向上し、歩留り及び、品質の向上に寄
与することができる。
吐出ノズルをパッドで閉鎖し外気と遮断するたｔ薬液の
劣化は防止される。このためレジスト塗布においては塗
布膜厚の均一性が向上し、歩留り及び、品質の向上に寄
与することができる。
また従来のいわゆる空出しくノズル内の乾燥又は希釈さ
れた薬液を捨てること）を必要としない。
れた薬液を捨てること）を必要としない。
第１図は本発明の実施例を示す図、
第２図は本発明の実施例の作用を説明するたｔの図、
第３図は従来の薬液塗布装置を示す図、第４図は従来の
薬液塗布装置の薬液劣化防止手段を示す図である。 図において、 １０．１５はカップ、 １１はモータ、 １２は真空チャック、 １３は薬液吐出ノズル、 １４はパッド、 １６は洗浄ノズル、 １７はウェハ、 １８は溶媒 を示す。
薬液塗布装置の薬液劣化防止手段を示す図である。 図において、 １０．１５はカップ、 １１はモータ、 １２は真空チャック、 １３は薬液吐出ノズル、 １４はパッド、 １６は洗浄ノズル、 １７はウェハ、 １８は溶媒 を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、薬液塗布装置において、 薬液吐出ノズル（１３）の先端を密閉、開放するパッド
（１４）を上下可動なカップ（１５）の中に設け、さら
に薬液吐出ノズル（１３）の先端を開放中のパッド（１
４）を洗浄するための溶媒（１６）を噴出する洗浄ノズ
ル（１６）を設けて成ることを特徴とする薬液塗布装置
の吐出薬液劣化防止機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3974290A JPH03245869A (ja) | 1990-02-22 | 1990-02-22 | 薬液塗布装置の吐出薬液劣化防止機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3974290A JPH03245869A (ja) | 1990-02-22 | 1990-02-22 | 薬液塗布装置の吐出薬液劣化防止機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03245869A true JPH03245869A (ja) | 1991-11-01 |
Family
ID=12561418
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3974290A Pending JPH03245869A (ja) | 1990-02-22 | 1990-02-22 | 薬液塗布装置の吐出薬液劣化防止機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03245869A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0456327U (ja) * | 1990-09-25 | 1992-05-14 | ||
| JP2006102715A (ja) * | 2004-10-08 | 2006-04-20 | Toppan Forms Co Ltd | 液体塗布装置 |
-
1990
- 1990-02-22 JP JP3974290A patent/JPH03245869A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0456327U (ja) * | 1990-09-25 | 1992-05-14 | ||
| JP2006102715A (ja) * | 2004-10-08 | 2006-04-20 | Toppan Forms Co Ltd | 液体塗布装置 |
| JP4528085B2 (ja) * | 2004-10-08 | 2010-08-18 | トッパン・フォームズ株式会社 | 液体塗布装置 |
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