JPH0324574Y2 - - Google Patents
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- JPH0324574Y2 JPH0324574Y2 JP1985062593U JP6259385U JPH0324574Y2 JP H0324574 Y2 JPH0324574 Y2 JP H0324574Y2 JP 1985062593 U JP1985062593 U JP 1985062593U JP 6259385 U JP6259385 U JP 6259385U JP H0324574 Y2 JPH0324574 Y2 JP H0324574Y2
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Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔考案の利用分野〕
本考案は石膏回収装置に係り、特にボイラ排ガ
スの熱を有効に利用し、連続的に石膏を回収する
装置に関する。
スの熱を有効に利用し、連続的に石膏を回収する
装置に関する。
現在、工業的には各種の排煙脱硫方法が行われ
ているが、特に石灰石（CaCO3）又は生石灰
（CaO）を吸収剤スラリとし、排ガス中のイオウ
酸化物（SO2等）を化学的に安定で再利用可能な
石膏（CaSO4・2H2O）スラリにして、ボイラ等
からの排ガスを無害化する方法が大容量排煙脱硫
装置を中心に広く採用されている。
ているが、特に石灰石（CaCO3）又は生石灰
（CaO）を吸収剤スラリとし、排ガス中のイオウ
酸化物（SO2等）を化学的に安定で再利用可能な
石膏（CaSO4・2H2O）スラリにして、ボイラ等
からの排ガスを無害化する方法が大容量排煙脱硫
装置を中心に広く採用されている。
吸収剤スラリにより排ガス仲のイオウ酸化物を
吸収装置で吸収して生成される石膏スラリの濃度
は、通常６〜12重量％であるため、セメント用又
はボード用として利用可能な石膏とするために
は、石膏の付着水を10重量％以下に脱水する必要
がある。連続処理の可能なデカンタ型又は回転円
筒型濾過器では回収石膏の付着水を15〜25重量％
にすることが限度であり、付着水10重量％以下の
石膏スラリを得るために、バツチ運転式の脱水機
である遠心分離機を用いている。このバツチ式遠
心分離機の通常の運転は、遠心分離機の起動、石
膏スラリの給液、給液停止、脱水、停止、石膏の
掻き取りの工程を１バツチとしておりバツチ運転
を繰り返すことにより、付着水10重量％以下の石
膏を回収している。
吸収装置で吸収して生成される石膏スラリの濃度
は、通常６〜12重量％であるため、セメント用又
はボード用として利用可能な石膏とするために
は、石膏の付着水を10重量％以下に脱水する必要
がある。連続処理の可能なデカンタ型又は回転円
筒型濾過器では回収石膏の付着水を15〜25重量％
にすることが限度であり、付着水10重量％以下の
石膏スラリを得るために、バツチ運転式の脱水機
である遠心分離機を用いている。このバツチ式遠
心分離機の通常の運転は、遠心分離機の起動、石
膏スラリの給液、給液停止、脱水、停止、石膏の
掻き取りの工程を１バツチとしておりバツチ運転
を繰り返すことにより、付着水10重量％以下の石
膏を回収している。
しかしながら、このような遠心分離機のバツチ
運転法による石膏の回収方法では次のような問題
点がある。
運転法による石膏の回収方法では次のような問題
点がある。
(1) 遠心分離機へ供給するスラリを一時貯めてお
くためのバツフアータンクが必要であること。
くためのバツフアータンクが必要であること。
(2) 遠心分離機に振動が発生することを防止する
ために遠心分離機に供給するスラリの濃度とし
て20〜30重量％が必要であり、吸収装置で生成
した６〜12重量％のスラリを所定濃度に濃縮す
るための石膏シツクナ等の前濃縮装置が必要で
あること。
ために遠心分離機に供給するスラリの濃度とし
て20〜30重量％が必要であり、吸収装置で生成
した６〜12重量％のスラリを所定濃度に濃縮す
るための石膏シツクナ等の前濃縮装置が必要で
あること。
(3) 吸収装置出口の副生石膏スラリ中に、一部未
反応の吸収剤（CaCO3）が含まれる場合は、
回収される石膏の純度が低下するため、吸収剤
の混入する石膏スラリ中に、硫酸を添加し吸収
剤（CaCO3）と反応させて石膏を生成させ、
副生石膏の純度を上げていたが、省資源の面か
ら硫酸の添加及び過剰な吸収剤の使用を改善す
る必要があつた。
反応の吸収剤（CaCO3）が含まれる場合は、
回収される石膏の純度が低下するため、吸収剤
の混入する石膏スラリ中に、硫酸を添加し吸収
剤（CaCO3）と反応させて石膏を生成させ、
副生石膏の純度を上げていたが、省資源の面か
ら硫酸の添加及び過剰な吸収剤の使用を改善す
る必要があつた。
本考案の目的は、上記した従来技術の問題点を
解消し、石膏スラリの脱水に石膏シツクナ及びバ
ツチ運転式の遠心分離機を用いることなく、石膏
スラリを連続的に脱水し、所定の含水率の石膏を
得ることができる石膏回収装置を提供することに
ある。
解消し、石膏スラリの脱水に石膏シツクナ及びバ
ツチ運転式の遠心分離機を用いることなく、石膏
スラリを連続的に脱水し、所定の含水率の石膏を
得ることができる石膏回収装置を提供することに
ある。
本考案は、石膏スラリをデカンタ型又は回転円
筒型濾過器からなる連続処理可能な脱水装置によ
り脱水後、付着水の割合が低下した石膏スラリを
更にボイラ排ガス等のイオウ酸化物（SO2）と酸
素（O2）とを含むガスの保有熱とイオウ酸化物
及び酸素を有効に利用して所定の含水率とすると
ともに石膏中に含まれる未反応の吸収剤
（CaCO3）を石膏に転換するようにしたものであ
る。
筒型濾過器からなる連続処理可能な脱水装置によ
り脱水後、付着水の割合が低下した石膏スラリを
更にボイラ排ガス等のイオウ酸化物（SO2）と酸
素（O2）とを含むガスの保有熱とイオウ酸化物
及び酸素を有効に利用して所定の含水率とすると
ともに石膏中に含まれる未反応の吸収剤
（CaCO3）を石膏に転換するようにしたものであ
る。
以下、本考案の実施例を図面に基づいて説明す
る。
る。
第１図は本考案にかかる石膏回収装置の一実施
例を示す概略的構成図である。第１図において、
ボイラ１の燃焼排ガスライン２の前流部に空気予
熱器３が設置され、空気予熱器３と脱硫吸収装置
５とは排ガスライン４によつて連結されている。
脱硫吸収装置５からの脱硫処理ガスライン６は煙
突７に連結され、また脱硫吸収装置５には吸収剤
スラリ供給ライン８が接続されている。これらの
装置構成は従来例に同じである。
例を示す概略的構成図である。第１図において、
ボイラ１の燃焼排ガスライン２の前流部に空気予
熱器３が設置され、空気予熱器３と脱硫吸収装置
５とは排ガスライン４によつて連結されている。
脱硫吸収装置５からの脱硫処理ガスライン６は煙
突７に連結され、また脱硫吸収装置５には吸収剤
スラリ供給ライン８が接続されている。これらの
装置構成は従来例に同じである。
本実施例において、脱硫吸収装置５からの石膏
スラリライン９の途中にデカンタ１０が設置さ
れ、デカンタ１０からの石膏ライン１１は乾燥機
１２に接続されている。排ガスライン４から分岐
された排ガス分岐ライン１３の前流部にスチーム
ガスヒータ１４が設置され、このスチームガスヒ
ータ１４からの乾燥ガスライン１５は乾燥機１２
における石膏ライン１１の接続部と対応する乾燥
機１２の端部側に接続されている。乾燥機１２か
らの乾燥排ガスライン１６の途中に通風機１７が
設置されるとともに乾燥排ガスライン１６は排ガ
スライン４に接続されている。
スラリライン９の途中にデカンタ１０が設置さ
れ、デカンタ１０からの石膏ライン１１は乾燥機
１２に接続されている。排ガスライン４から分岐
された排ガス分岐ライン１３の前流部にスチーム
ガスヒータ１４が設置され、このスチームガスヒ
ータ１４からの乾燥ガスライン１５は乾燥機１２
における石膏ライン１１の接続部と対応する乾燥
機１２の端部側に接続されている。乾燥機１２か
らの乾燥排ガスライン１６の途中に通風機１７が
設置されるとともに乾燥排ガスライン１６は排ガ
スライン４に接続されている。
このような構成からなる石膏回収装置におい
て、ボイラ１からの300〜500℃の燃焼排ガスは、
燃焼排ガスライン２を経て空気予熱機３に導か
れ、ここで熱交換されて約120〜170℃の排ガスと
なつて排ガスライン４を介して脱硫吸収装置５に
供給される。脱硫吸収装置５において、排ガス中
のイオウ酸化物は脱硫吸収装置５に供給される石
灰石からなる吸収剤スラリにより吸収される。脱
硫吸収装置５で生成された石膏スラリ（濃度６〜
12重量％）は石膏スラリライン９を経て連続的に
デカンタ１０に供給される。デカンタ１０では石
膏スラリが連続的に脱水処理され、付着水15〜25
重量の石膏が得られる。この脱水石膏は石膏ライ
ン１１を経て乾燥機１２に供給される。
て、ボイラ１からの300〜500℃の燃焼排ガスは、
燃焼排ガスライン２を経て空気予熱機３に導か
れ、ここで熱交換されて約120〜170℃の排ガスと
なつて排ガスライン４を介して脱硫吸収装置５に
供給される。脱硫吸収装置５において、排ガス中
のイオウ酸化物は脱硫吸収装置５に供給される石
灰石からなる吸収剤スラリにより吸収される。脱
硫吸収装置５で生成された石膏スラリ（濃度６〜
12重量％）は石膏スラリライン９を経て連続的に
デカンタ１０に供給される。デカンタ１０では石
膏スラリが連続的に脱水処理され、付着水15〜25
重量の石膏が得られる。この脱水石膏は石膏ライ
ン１１を経て乾燥機１２に供給される。
乾燥機１２には、空気予熱器３からの排ガスが
排ガスライン４を経てスチームガスヒータ１４で
所定の温度に昇温され、乾燥ガスとして乾燥ガス
ライン１５を介して導入される。この乾燥ガスに
よつて乾燥機１２に供給された脱水石膏の付着水
の一部が蒸発し、約10重量％以下の付着水を有す
る回収石膏１８として連続的に回収される。一
方、乾燥機１２に供給された乾燥ガスは、乾燥排
ガスとして乾燥排ガスライン１６から通風機１７
を経て脱硫吸収装置５の入口側に戻される。
排ガスライン４を経てスチームガスヒータ１４で
所定の温度に昇温され、乾燥ガスとして乾燥ガス
ライン１５を介して導入される。この乾燥ガスに
よつて乾燥機１２に供給された脱水石膏の付着水
の一部が蒸発し、約10重量％以下の付着水を有す
る回収石膏１８として連続的に回収される。一
方、乾燥機１２に供給された乾燥ガスは、乾燥排
ガスとして乾燥排ガスライン１６から通風機１７
を経て脱硫吸収装置５の入口側に戻される。
本実施例において、乾燥機１２にはボイラ排ガ
ス（乾燥ガス）が供給され、この乾燥ガスによつ
て脱水石膏を乾燥している。乾燥ガス中にはイオ
ウ酸化物（SO2）と酸素（O2）が含まれており、
これらのイオウ酸化物及び酸素は石膏中に含まれ
る未反応の吸収剤（CaCO3）と反応し、石膏
（CaSO4・2H2O）となる。このため、回収され
る石膏又は半水石膏（CaSO4・1/2H2O）の純度
を高めるために新たに硫酸（H2SO4）を添加し、
未反応の吸収剤を石膏（CaCO3）とするような
処理手段を要しないので省資源の面で有効であ
る。
ス（乾燥ガス）が供給され、この乾燥ガスによつ
て脱水石膏を乾燥している。乾燥ガス中にはイオ
ウ酸化物（SO2）と酸素（O2）が含まれており、
これらのイオウ酸化物及び酸素は石膏中に含まれ
る未反応の吸収剤（CaCO3）と反応し、石膏
（CaSO4・2H2O）となる。このため、回収され
る石膏又は半水石膏（CaSO4・1/2H2O）の純度
を高めるために新たに硫酸（H2SO4）を添加し、
未反応の吸収剤を石膏（CaCO3）とするような
処理手段を要しないので省資源の面で有効であ
る。
第２図は本考案の他の実施例を示す概略的構成
図である。
図である。
第２図において、ボイラ１の燃焼排ガスライン
２から焼成用ガスライン１９が分岐され、この焼
成用ガスライン１９は乾燥機１２における脱水石
膏供給前流部側に接続されている。また乾燥機１
２には焼成排ガスライン２０が接続され、この焼
成排ガスライン２０は乾燥排ガスライン１６の途
中に接続されている。焼成用ガスライン１９の接
続部と燃成排ガスライン２０の接続部との間に位
置する乾燥機１２内部は焼成部２１を構成してい
る。第２図において、上記した構成部以外は実質
的に第１図に示す実施例と同一であるので第１図
と同一符号で示している。
２から焼成用ガスライン１９が分岐され、この焼
成用ガスライン１９は乾燥機１２における脱水石
膏供給前流部側に接続されている。また乾燥機１
２には焼成排ガスライン２０が接続され、この焼
成排ガスライン２０は乾燥排ガスライン１６の途
中に接続されている。焼成用ガスライン１９の接
続部と燃成排ガスライン２０の接続部との間に位
置する乾燥機１２内部は焼成部２１を構成してい
る。第２図において、上記した構成部以外は実質
的に第１図に示す実施例と同一であるので第１図
と同一符号で示している。
上記のような構成からなる石膏回収装置におい
て、乾燥機１２に供給された脱水石膏は乾燥ガス
ライン１５からの乾燥ガスにより付着水の一部が
蒸発し、約10重量％以下の付着水を有する石膏
（CaSO4・2H2O）が得られる。次いでこの石膏
は乾燥機１２内の焼成部２１に供給される。
て、乾燥機１２に供給された脱水石膏は乾燥ガス
ライン１５からの乾燥ガスにより付着水の一部が
蒸発し、約10重量％以下の付着水を有する石膏
（CaSO4・2H2O）が得られる。次いでこの石膏
は乾燥機１２内の焼成部２１に供給される。
焼成部２１で石膏（CaSO4・2H2O）を半水石
膏（CaSO4・1/2H2O）に転移させるためには石
膏を130℃以上に保つ必要がある。焼成用ガスラ
イン１９から焼成部に導入されるボイラ燃焼排ガ
スは300〜400℃であつて石膏を半水石膏に転移さ
せるのに十分な温度であり、また焼成部２１の容
積等を適宜選定することによつて乾燥機１２の焼
成部２１から排出される焼成排ガスを150〜250℃
に保つことができる。この結果、乾燥機１２の焼
成部２１から半水石膏２２を連続的に回収するこ
とができる。焼成部２１から排出される焼成排ガ
スは焼成排ガスライン２０から乾燥排ガスライン
１６の乾燥排ガスと合流し、通風機１７を経て脱
硫吸収装置５の入口側に戻される。
膏（CaSO4・1/2H2O）に転移させるためには石
膏を130℃以上に保つ必要がある。焼成用ガスラ
イン１９から焼成部に導入されるボイラ燃焼排ガ
スは300〜400℃であつて石膏を半水石膏に転移さ
せるのに十分な温度であり、また焼成部２１の容
積等を適宜選定することによつて乾燥機１２の焼
成部２１から排出される焼成排ガスを150〜250℃
に保つことができる。この結果、乾燥機１２の焼
成部２１から半水石膏２２を連続的に回収するこ
とができる。焼成部２１から排出される焼成排ガ
スは焼成排ガスライン２０から乾燥排ガスライン
１６の乾燥排ガスと合流し、通風機１７を経て脱
硫吸収装置５の入口側に戻される。
このように本実施例によれば、第１図に示す実
施例による効果の他に石膏を高強度石膏軟化体を
製造するに必要な半水石膏の形で連続的に回収で
きる効果を有する。
施例による効果の他に石膏を高強度石膏軟化体を
製造するに必要な半水石膏の形で連続的に回収で
きる効果を有する。
なお、上記実施例では脱硫吸収装置５で副生す
る石膏スラリをデカンタ１０で脱水処理する例を
示しているが、デカンタ１０の代わりに連続的に
脱水処理するのに好適な回転円筒型濾過器を用い
ることもできる。また本考案において、乾燥機１
２に供給される脱水石膏は付着水15〜25重量％を
有する程度でよい。したがつて、石膏スラリの脱
水処理機として遠心分離機を用い、バツチ運転方
式によることなく石膏スラリを連続的に脱水処理
してもよい、 乾燥機１２に供給される乾燥用ガスとしてはボ
イラ１からの排ガスに限らず、イオウ酸化物と酸
素とを含み脱水石膏を乾燥するのに足りる温度を
有するガスであればよい。また乾燥用の分岐排ガ
スの昇温装置としてスチームガスヒータ１４を例
に説明したが、その方法及び装置は特に限定され
ない。更に乾燥機１２は、第１図の場合には、脱
水石膏を乾燥できる温度領域を形成する区分があ
ればよく、第２図の場合、脱水石膏を乾燥できる
温度領域を形成する区分と乾燥した石膏を焼成で
きる温度領域を形成できる区分とを有するもので
あればよく、したがつて乾燥機の形式は特に限定
されない。
る石膏スラリをデカンタ１０で脱水処理する例を
示しているが、デカンタ１０の代わりに連続的に
脱水処理するのに好適な回転円筒型濾過器を用い
ることもできる。また本考案において、乾燥機１
２に供給される脱水石膏は付着水15〜25重量％を
有する程度でよい。したがつて、石膏スラリの脱
水処理機として遠心分離機を用い、バツチ運転方
式によることなく石膏スラリを連続的に脱水処理
してもよい、 乾燥機１２に供給される乾燥用ガスとしてはボ
イラ１からの排ガスに限らず、イオウ酸化物と酸
素とを含み脱水石膏を乾燥するのに足りる温度を
有するガスであればよい。また乾燥用の分岐排ガ
スの昇温装置としてスチームガスヒータ１４を例
に説明したが、その方法及び装置は特に限定され
ない。更に乾燥機１２は、第１図の場合には、脱
水石膏を乾燥できる温度領域を形成する区分があ
ればよく、第２図の場合、脱水石膏を乾燥できる
温度領域を形成する区分と乾燥した石膏を焼成で
きる温度領域を形成できる区分とを有するもので
あればよく、したがつて乾燥機の形式は特に限定
されない。
以上のように本考案によれば、石膏スラリの脱
水機では石膏スラリの付着水を大幅に低減させる
必要がないので連続式脱水機を用いることがで
き、このため脱水機入口の石膏スラリの濃度を石
膏スツクナを用いて調整し、流量調整のためのバ
ツフアタンクを用いることなく石膏スラリを連続
的に脱水処理でき、従来のバツチ運転式の遠心分
離機に比べて運転・操作が容易である。
水機では石膏スラリの付着水を大幅に低減させる
必要がないので連続式脱水機を用いることがで
き、このため脱水機入口の石膏スラリの濃度を石
膏スツクナを用いて調整し、流量調整のためのバ
ツフアタンクを用いることなく石膏スラリを連続
的に脱水処理でき、従来のバツチ運転式の遠心分
離機に比べて運転・操作が容易である。
また乾燥機において、乾燥用ガスの保有熱を有
効に利用して脱水石膏の付着水を低減できるとと
もに乾燥用ガス中に含有されるイオウ酸化物及び
酸素を脱水石膏中に存在する未反応吸収剤と反応
させて石膏とすることができるため、回収される
石膏又は半水石膏の純度を高くでき、過剰な吸収
剤の使用や硫酸の添加等を回避しつつ品質のよい
副生石膏を得ることができる。
効に利用して脱水石膏の付着水を低減できるとと
もに乾燥用ガス中に含有されるイオウ酸化物及び
酸素を脱水石膏中に存在する未反応吸収剤と反応
させて石膏とすることができるため、回収される
石膏又は半水石膏の純度を高くでき、過剰な吸収
剤の使用や硫酸の添加等を回避しつつ品質のよい
副生石膏を得ることができる。
第１図は本考案にかかる石膏回収装置の一実施
例を示す概略的構成図、第２図は本考案にかかる
石膏回収装置の他の実施例を示す概略的構成図で
ある。 １……ボイラ、３……空気予熱器、５……脱硫
吸収装置、７……煙突、１０……デカンタ、１２
……乾燥機、１４……スチームガスヒータ、１７
……通風機。
例を示す概略的構成図、第２図は本考案にかかる
石膏回収装置の他の実施例を示す概略的構成図で
ある。 １……ボイラ、３……空気予熱器、５……脱硫
吸収装置、７……煙突、１０……デカンタ、１２
……乾燥機、１４……スチームガスヒータ、１７
……通風機。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 排煙脱硫装置で副生する石膏スラリをデカン
タ又は回転円筒型濾過器からなる連続的に脱水
処理可能な脱水機と、該脱水機から得られる脱
水石膏をイオウ酸化物及び酸素を含有する高温
ガスの保有熱により乾燥させる乾燥部を有する
乾燥機と、を備えたことを特徴とする石膏回収
装置。 (2) 前記乾燥機が、前記乾燥部とともに乾燥され
た石膏を半水石膏に転換させるに必要な温度以
上のイオウ酸化物及び酸素を含有する高温ガス
が導入される焼成部を有する実用新案登録請求
の範囲第１項記載の石膏回収装置。 (3) 前記乾燥機の乾燥部に、ボイラ燃焼排ガスを
空気予熱器で熱交換した後のガスを加熱器によ
り所定の温度に加熱した乾燥用ガスを導入する
ラインを設けた実用新案登録請求の範囲第１項
記載の石膏回収装置。 (4) 前記乾燥器の焼成部にボイラから排出される
燃焼排ガスを導入するラインを設けた実用新案
登録請求の範囲第１項記載の石膏回収装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985062593U JPH0324574Y2 (ja) | 1985-04-25 | 1985-04-25 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985062593U JPH0324574Y2 (ja) | 1985-04-25 | 1985-04-25 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61180134U JPS61180134U (ja) | 1986-11-10 |
| JPH0324574Y2 true JPH0324574Y2 (ja) | 1991-05-29 |
Family
ID=30591953
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985062593U Expired JPH0324574Y2 (ja) | 1985-04-25 | 1985-04-25 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0324574Y2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS526370A (en) * | 1975-07-04 | 1977-01-18 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | Exhaust gas desulfurization process |
| JPS5314693A (en) * | 1976-07-28 | 1978-02-09 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | Treating method for slurry in flue gas desulfurization process producing by-product gypsum |
| JPS5632253A (en) * | 1979-06-11 | 1981-04-01 | Illinois Tool Works | Bottle packing body and its packing device |
-
1985
- 1985-04-25 JP JP1985062593U patent/JPH0324574Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS526370A (en) * | 1975-07-04 | 1977-01-18 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | Exhaust gas desulfurization process |
| JPS5314693A (en) * | 1976-07-28 | 1978-02-09 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | Treating method for slurry in flue gas desulfurization process producing by-product gypsum |
| JPS5632253A (en) * | 1979-06-11 | 1981-04-01 | Illinois Tool Works | Bottle packing body and its packing device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61180134U (ja) | 1986-11-10 |
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