JPH03236016A - 光走査装置 - Google Patents
光走査装置Info
- Publication number
- JPH03236016A JPH03236016A JP2031371A JP3137190A JPH03236016A JP H03236016 A JPH03236016 A JP H03236016A JP 2031371 A JP2031371 A JP 2031371A JP 3137190 A JP3137190 A JP 3137190A JP H03236016 A JPH03236016 A JP H03236016A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reflecting mirror
- temperature
- reflecting
- optical scanning
- curvature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 26
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 1
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、光ビームを反射する走査集光レンズを用いる
光走査装置に関し、特に集光特性を容易に制御し得る光
走査装置を提供することを目的とする。
光走査装置に関し、特に集光特性を容易に制御し得る光
走査装置を提供することを目的とする。
[従来の技術]
従来のこの種の装置の一例を第7図に示す。
この装置では、所定の光源(図示せず)からのほぼ平行
な光ビーム7(11が反射鏡702に入射し、ここで反
射された反射ビーム707が集光レンズ708に入射し
て焦点位置709上に集光する。ここで、反射鏡702
は反射鏡支持部703を介して回転軸704に固定され
ており、反射鏡702の反射面は回転軸704の軸方向
と平行である。
な光ビーム7(11が反射鏡702に入射し、ここで反
射された反射ビーム707が集光レンズ708に入射し
て焦点位置709上に集光する。ここで、反射鏡702
は反射鏡支持部703を介して回転軸704に固定され
ており、反射鏡702の反射面は回転軸704の軸方向
と平行である。
回転軸704は、駆動部705により矢印706の方向
に所定の角度範囲内で振動し、これにより反射ビーム7
07が光軸AXを中心として焦点位置709上を位置7
10から位置711までの範囲て偏向走査する。
に所定の角度範囲内で振動し、これにより反射ビーム7
07が光軸AXを中心として焦点位置709上を位置7
10から位置711までの範囲て偏向走査する。
[発明が解決しようとする課題]
上記の如ぎ従来の技術においては、駆動部705で回転
@704を振動動作させる際に、例えば軸受部等から摩
擦熱が発生し、また駆動部705の内部にある駆動回路
等からその作動に伴う熱が発生する。
@704を振動動作させる際に、例えば軸受部等から摩
擦熱が発生し、また駆動部705の内部にある駆動回路
等からその作動に伴う熱が発生する。
これらの発生した熱は、回転軸7041反射鏡支持部7
031反射鏡702へと伝導し、反射鏡支持部703と
反射鏡702とで熱膨張係数が異なる材質を用いた場合
には、反射鏡702の反射面に歪が生じ、その歪量は時
間の経過につれて徐々に大きくなる。
031反射鏡702へと伝導し、反射鏡支持部703と
反射鏡702とで熱膨張係数が異なる材質を用いた場合
には、反射鏡702の反射面に歪が生じ、その歪量は時
間の経過につれて徐々に大きくなる。
このため、ここで反射偏向される反射ビーム707の拡
がり角(ないし平行度)が入射ビーム701に対して徐
々に変化し、焦点位置709自体、もしくは焦点位置7
09上の偏向走査範囲が変位するという問題点があった
。
がり角(ないし平行度)が入射ビーム701に対して徐
々に変化し、焦点位置709自体、もしくは焦点位置7
09上の偏向走査範囲が変位するという問題点があった
。
[課題を解決するための手段]
上記問題点の解決のために本発明に係る光走査装置では
、光ビームを反射する反射鏡を回動可能な軸部材に保持
し、前記軸部材を予め定めた角度範囲内で回転もしくは
振動させる駆動手段を備え、光ビームを前記反射鏡に照
射しながら前記駆動手段を作動させることにより前記光
ビームを前記角度範囲内で偏向走査する光走査装置にお
いて、前記反射鏡を反射面と平行な裏面部において前記
軸部材の反射鏡支持部に密着固定し、前記反射鏡と前記
反射鏡支持部とを互いに異なる熱膨張係数を有する材料
で構成し、前記反射鏡又は反射鏡支持部の温度を予め定
めた温度に保持する温度調整手段を設けている。
、光ビームを反射する反射鏡を回動可能な軸部材に保持
し、前記軸部材を予め定めた角度範囲内で回転もしくは
振動させる駆動手段を備え、光ビームを前記反射鏡に照
射しながら前記駆動手段を作動させることにより前記光
ビームを前記角度範囲内で偏向走査する光走査装置にお
いて、前記反射鏡を反射面と平行な裏面部において前記
軸部材の反射鏡支持部に密着固定し、前記反射鏡と前記
反射鏡支持部とを互いに異なる熱膨張係数を有する材料
で構成し、前記反射鏡又は反射鏡支持部の温度を予め定
めた温度に保持する温度調整手段を設けている。
ここで、前記温度調整手段は、前記駆動手段の軸受部も
しくはその近傍の温度を検出する温度検出手段と、軸受
部を介して温度制御を行う温度制御手段とからなるもの
でもよい。
しくはその近傍の温度を検出する温度検出手段と、軸受
部を介して温度制御を行う温度制御手段とからなるもの
でもよい。
さらに、前記反射鏡と反射鏡支持部との密着部が、前記
軸部材の軸方向とこれと直角な幅方向との寸法が異なる
ものとしてもよい。
軸部材の軸方向とこれと直角な幅方向との寸法が異なる
ものとしてもよい。
[作 用]
本発明に係る光走査装置は上記のように構成されている
ため、温度調整手段で反射鏡と反射鏡支持部との温度を
一定に保持することにより、反射面の平面度(若しくは
曲率)を一定に保つ。
ため、温度調整手段で反射鏡と反射鏡支持部との温度を
一定に保持することにより、反射面の平面度(若しくは
曲率)を一定に保つ。
また、温度調整手段の設定温度を変更すると、反射鏡と
反射鏡支持部との熱膨張係数の違いから同一の温度変化
に対する各部材が膨張ないし収縮するときの程度が異な
るため、いわゆるバイメタル効果により反射面の曲率等
が変化する。
反射鏡支持部との熱膨張係数の違いから同一の温度変化
に対する各部材が膨張ないし収縮するときの程度が異な
るため、いわゆるバイメタル効果により反射面の曲率等
が変化する。
ここで、相互の熱膨張係数の関係から、設定温度に対応
した曲率が定まるため、反射面の曲率の変動(及び、こ
れに伴う焦点位置若しくは偏向方向等の変動)を、温度
調整手段の設定温度の変更により制御する。
した曲率が定まるため、反射面の曲率の変動(及び、こ
れに伴う焦点位置若しくは偏向方向等の変動)を、温度
調整手段の設定温度の変更により制御する。
一方、温度調整手段が、前記駆動手段の軸受部もしくは
その近傍の温度を検出する温度検出手段と、軸受部を介
して温度制御を行う温度制御手段とからなるものとする
と、最も発熱し易い軸受部に直接的な温度制御を行い、
かつ同時に反射鏡等の温度調整を行う。
その近傍の温度を検出する温度検出手段と、軸受部を介
して温度制御を行う温度制御手段とからなるものとする
と、最も発熱し易い軸受部に直接的な温度制御を行い、
かつ同時に反射鏡等の温度調整を行う。
さらに、反射鏡と反射鏡支持部との密着部の接触面形状
を、例えば何れかの方向に細長いものとすれば、前記の
曲率変化に際し、密着部の長袖方向に対してのみの方向
性をもたせた変動動作となり、焦点位置等の制御に特定
の方向性を持たせることができる。
を、例えば何れかの方向に細長いものとすれば、前記の
曲率変化に際し、密着部の長袖方向に対してのみの方向
性をもたせた変動動作となり、焦点位置等の制御に特定
の方向性を持たせることができる。
[実施例]
本発明の実施例を図面を参照して説明する。
第1図に本発明の一実施例にかかる光走査装置の概要を
示す。
示す。
この図において、反射鏡2は反射鏡支持部3を介して回
転軸4に固定されている。回転軸4は駆動部5により矢
印6の方向に所定の角度範囲内で振動回動じ、この駆動
部5は内蔵された駆動回路(図示せず)により制御され
る。
転軸4に固定されている。回転軸4は駆動部5により矢
印6の方向に所定の角度範囲内で振動回動じ、この駆動
部5は内蔵された駆動回路(図示せず)により制御され
る。
この光走査装置における、偏向走査の動作は従来例とほ
ぼ同様であり、反射鏡2に入射する光ビーム1は、反射
鏡2の反射面により反射されて偏向光7となる。偏向光
7は、走査集光レンズ8を透過して焦点位置9上に集光
する。そして、駆動部5による反射鏡2の振動動作によ
り、偏向光7は焦点位置9上を光軸AXを中心として位
置10から位置11まで走査する。
ぼ同様であり、反射鏡2に入射する光ビーム1は、反射
鏡2の反射面により反射されて偏向光7となる。偏向光
7は、走査集光レンズ8を透過して焦点位置9上に集光
する。そして、駆動部5による反射鏡2の振動動作によ
り、偏向光7は焦点位置9上を光軸AXを中心として位
置10から位置11まで走査する。
この光走査装置の駆動部5には、回転軸4及びその軸受
部に隣接した位置に、回転軸4の近傍の温度をモニター
するための温度測定素子16が設けられている。さらに
、駆動部5には、駆動部5全体を加温、冷却可能な温度
制御装置17が設けられており、その熱交換部にはベル
チェ素子を用いている(ベルチェ素子は特定の方向に電
流を流した場合は加温し、逆方向に電流を流した場合は
冷却できる素子である)。温度調整装置22は、温度測
定素子16からの検知信号に基ぎ温度制御装置17の作
動を制御する。
部に隣接した位置に、回転軸4の近傍の温度をモニター
するための温度測定素子16が設けられている。さらに
、駆動部5には、駆動部5全体を加温、冷却可能な温度
制御装置17が設けられており、その熱交換部にはベル
チェ素子を用いている(ベルチェ素子は特定の方向に電
流を流した場合は加温し、逆方向に電流を流した場合は
冷却できる素子である)。温度調整装置22は、温度測
定素子16からの検知信号に基ぎ温度制御装置17の作
動を制御する。
そして、この温度制御装置17により回転軸4及びその
軸受部等で発生する摩擦熱等の影響で、反射鏡支持部3
及び反射鏡2の温度が上昇するのを防止する。
軸受部等で発生する摩擦熱等の影響で、反射鏡支持部3
及び反射鏡2の温度が上昇するのを防止する。
即ち、光走査装置の通常使用状態においては、原則とし
て振動動作開始前に定めた設定温度状態を維持するため
に温度制御装置17により駆動部5を冷却する。
て振動動作開始前に定めた設定温度状態を維持するため
に温度制御装置17により駆動部5を冷却する。
この冷却動作により、回転軸4及びその軸受部等が冷却
されるため、反射鏡支持部3ならびに反射鏡2への熱伝
導による温度上昇を抑えることができる。
されるため、反射鏡支持部3ならびに反射鏡2への熱伝
導による温度上昇を抑えることができる。
ここで、温度制御装置17は、例えば本実施例のように
熱交換素子としてベルチェ素子を用いた場合などは、ベ
ルチェ素子の駆動部側の面19は冷却動作し、それと逆
の面20は温度上昇する。
熱交換素子としてベルチェ素子を用いた場合などは、ベ
ルチェ素子の駆動部側の面19は冷却動作し、それと逆
の面20は温度上昇する。
このため温度制御装置17の面20に放熱板18を設置
して放熱させている。
して放熱させている。
また、温度制御の伝達を早めるために温度制御装置17
の熱交換部は、反射鏡2に近い駆動部5の上面で、かつ
軸受部等に近い回転軸4の近傍に設置するのが好ましい
方法である。
の熱交換部は、反射鏡2に近い駆動部5の上面で、かつ
軸受部等に近い回転軸4の近傍に設置するのが好ましい
方法である。
第2図は、本実施例における反射面の光走査時における
変動を防止し、かつ反射面の曲率の変動による焦点位置
制御動作を行なう温度調整装置22の回路を示す。
変動を防止し、かつ反射面の曲率の変動による焦点位置
制御動作を行なう温度調整装置22の回路を示す。
駆動部5に設置された温度測定素子16は、近傍の温度
をモニターし、検知温度に比例した電気信号40を発生
する。この電気信号40は、増幅器41に人力されて増
幅され、温度信号43となって差動増幅器42に入力さ
れる。差動増幅器42では、温度信号43が設定電圧4
4(予め設定した温度に対応する電圧)より高いか低い
か、すなわち駆動部5の温度測定素子16が設置された
場所の温度が設定温度より高いか低いかにより所定の制
御信号45を出力する。この制御信号45は、例えば温
度信号43が設定電圧44より高い場合は正の電圧を、
低い場合には負の電圧を、それぞれ設定電圧44との差
に比例して出力される。そして、この制御信号45は温
度制御装置17を制御する温度制御回路部46に人力さ
れる。
をモニターし、検知温度に比例した電気信号40を発生
する。この電気信号40は、増幅器41に人力されて増
幅され、温度信号43となって差動増幅器42に入力さ
れる。差動増幅器42では、温度信号43が設定電圧4
4(予め設定した温度に対応する電圧)より高いか低い
か、すなわち駆動部5の温度測定素子16が設置された
場所の温度が設定温度より高いか低いかにより所定の制
御信号45を出力する。この制御信号45は、例えば温
度信号43が設定電圧44より高い場合は正の電圧を、
低い場合には負の電圧を、それぞれ設定電圧44との差
に比例して出力される。そして、この制御信号45は温
度制御装置17を制御する温度制御回路部46に人力さ
れる。
温度制御回路部46では、人力される制御信号45に応
じて順方向電流、逆方向電流を、規定温度との温度差に
応じて出力し、温度制御装置17に電流を供給する。そ
して、この電流に対応した冷却若しくは加熱動作を温度
制御装置17が行う。
じて順方向電流、逆方向電流を、規定温度との温度差に
応じて出力し、温度制御装置17に電流を供給する。そ
して、この電流に対応した冷却若しくは加熱動作を温度
制御装置17が行う。
以上のように、温度制御手段により駆動部5の温度が予
め設定した温度に保たれるので、反射鏡2の振動回転動
作中も反射面21の曲率(平面)が一定に保たれるため
、焦点位置9の変動を抑えることが可能となる。
め設定した温度に保たれるので、反射鏡2の振動回転動
作中も反射面21の曲率(平面)が一定に保たれるため
、焦点位置9の変動を抑えることが可能となる。
次に、反射鏡2及び反射鏡支持部3等の構成を第3図を
用いて説明する。
用いて説明する。
第3図は、反射鏡2と反射鏡支持部3及び回転@4によ
って構成される部分を示す。
って構成される部分を示す。
反射鏡2と反射鏡支持部3とは、互いに異なる熱膨張係
数を有する素材でできており、この実施例では反射鏡支
持部3は反射鏡2の反射面25の裏面部のほぼ全面に接
着層30を介して接合されている。
数を有する素材でできており、この実施例では反射鏡支
持部3は反射鏡2の反射面25の裏面部のほぼ全面に接
着層30を介して接合されている。
ここで、反射鏡2の反射面32の曲率変化の様子を第4
図(a) 、 (b)を用いて説明する。
図(a) 、 (b)を用いて説明する。
第4図は、第3図に示す反射鏡等を上部方向より見たも
のであり、温度T。での反射鏡2、反射鏡支持部3の上
面から見たときの状態を破線で示す。この図において、
反射鏡2と反射鏡支持部3とは、温度T。の環境条件の
もとて接着等により接合されたものとする。この温度T
0は、光走査装置の通常使用状態における環境温度であ
ることが望ましい。
のであり、温度T。での反射鏡2、反射鏡支持部3の上
面から見たときの状態を破線で示す。この図において、
反射鏡2と反射鏡支持部3とは、温度T。の環境条件の
もとて接着等により接合されたものとする。この温度T
0は、光走査装置の通常使用状態における環境温度であ
ることが望ましい。
また、反射鏡2の熱膨張係数をα22反射鏡支持部3の
熱膨張係数をα3とし、反射鏡2の方が反射鏡支持部3
より熱膨張係数が小さい(α2くα3)ものとする。
熱膨張係数をα3とし、反射鏡2の方が反射鏡支持部3
より熱膨張係数が小さい(α2くα3)ものとする。
反射鏡2及び反射鏡支持部3(回転軸12及び駆動部5
も同様)が温度T。であるとぎは、反射鏡2の反射面3
2の曲率は反射鏡2と反射鏡支持部3とを接合したとき
と同しであり、仮に、反射鏡2が平面鏡(点線で示した
状態)であったとすれば、反射面32は平面のままであ
る。
も同様)が温度T。であるとぎは、反射鏡2の反射面3
2の曲率は反射鏡2と反射鏡支持部3とを接合したとき
と同しであり、仮に、反射鏡2が平面鏡(点線で示した
状態)であったとすれば、反射面32は平面のままであ
る。
次に、反射鏡2、反射鏡支持部3の温度をT。
より高い温度T、(T、、>T、)にしたときの様子を
第4図(a)に示す。温度T1の状態では、反射鏡2及
び反射鏡支持部3が共に(温度T。の状態に比べて)熱
膨張する。
第4図(a)に示す。温度T1の状態では、反射鏡2及
び反射鏡支持部3が共に(温度T。の状態に比べて)熱
膨張する。
しかし、反射鏡2の方が反射鏡支持部3より熱膨張係数
が小さい(α2くα3)ため、各々の熱膨張量△x2.
△x3の関係は、△x2<△x3である。
が小さい(α2くα3)ため、各々の熱膨張量△x2.
△x3の関係は、△x2<△x3である。
従って、いわゆるバイメタル効果により反射鏡2の反射
面32は、実線で示したような凹面になる。
面32は、実線で示したような凹面になる。
逆に、第4図(b)には、温度Toより低い温度T b
(T b < T o )にしたときの様子を示し
ている。温度Tbの状態では、反射鏡2°の収縮量△x
2“の方が反射鏡支持部3°の収縮量△X3°より小さ
いため(△x2°く△x、’)、反射鏡2゛の反射面3
2゛は凸面になる。
(T b < T o )にしたときの様子を示し
ている。温度Tbの状態では、反射鏡2°の収縮量△x
2“の方が反射鏡支持部3°の収縮量△X3°より小さ
いため(△x2°く△x、’)、反射鏡2゛の反射面3
2゛は凸面になる。
従って、本実施例では温度調整手段の設定温度を変化さ
せることにより反射鏡2の反射面の曲率を制御できる。
せることにより反射鏡2の反射面の曲率を制御できる。
即ち、反射鏡と反射鏡支持部との熱膨張係数の相違から
、基準温度(例えば平面状態、製作時の温度等)からの
温度変化に伴う曲率の変化量が定まるため、設定温度に
対応する曲率(この曲率は計算等により求めてもよいが
、実際の設定温度における測定値等でもよい。)が求め
られる。このため、希望する曲率に応じた温度を設定す
ればよい。
、基準温度(例えば平面状態、製作時の温度等)からの
温度変化に伴う曲率の変化量が定まるため、設定温度に
対応する曲率(この曲率は計算等により求めてもよいが
、実際の設定温度における測定値等でもよい。)が求め
られる。このため、希望する曲率に応じた温度を設定す
ればよい。
さらに、本発明ではこのような反射鏡と走査集光レンズ
とを組み合わせているために、走査集光レンズ透過後の
光束の焦点位置を制御できる。これは、例えば第4図(
a)の反射面32のように反射光7が集束する凹面反射
鏡とした場合には、焦点位置9が集光レンズ8側に近づ
き、逆に第4図(b)の反射面32°のように反射光7
が発散する凸面反射鏡とした場合には、焦点位置9が集
光レンズ8側から遠ざかる為である。そして、前述した
ような光走査中に回転軸4を伝わってくる熱その他振動
等の要因により、焦点位置9のズレ等の問題が生じた場
合にも、回転軸4等の駆動部5の温度を制御することに
より解決される。
とを組み合わせているために、走査集光レンズ透過後の
光束の焦点位置を制御できる。これは、例えば第4図(
a)の反射面32のように反射光7が集束する凹面反射
鏡とした場合には、焦点位置9が集光レンズ8側に近づ
き、逆に第4図(b)の反射面32°のように反射光7
が発散する凸面反射鏡とした場合には、焦点位置9が集
光レンズ8側から遠ざかる為である。そして、前述した
ような光走査中に回転軸4を伝わってくる熱その他振動
等の要因により、焦点位置9のズレ等の問題が生じた場
合にも、回転軸4等の駆動部5の温度を制御することに
より解決される。
ここで、前記の駆動部5の温度制御に関し、上記の焦点
位置9の変動を検知してフィードバックさせることによ
り制御してもよい。
位置9の変動を検知してフィードバックさせることによ
り制御してもよい。
このように、通常の使用状態において光走査装置から生
じる熱によって反射鏡2は第4図(a)のように凹面鏡
(熱膨張率の関係によっては凸面鏡にもなる。)になる
場合があるが、回転軸4等の駆動部5を冷却することに
より平面若しくは凸面になるような変化を生じさせるこ
とが可能であり、かつその温度を一定に保つことで、反
射面の曲率並びに焦点位置を一定に保つことができる。
じる熱によって反射鏡2は第4図(a)のように凹面鏡
(熱膨張率の関係によっては凸面鏡にもなる。)になる
場合があるが、回転軸4等の駆動部5を冷却することに
より平面若しくは凸面になるような変化を生じさせるこ
とが可能であり、かつその温度を一定に保つことで、反
射面の曲率並びに焦点位置を一定に保つことができる。
さらには、設定温度を変更することにより反射面の曲率
及び焦点位置を任意に変更できるため、正確な偏向走査
がおこなえる。
及び焦点位置を任意に変更できるため、正確な偏向走査
がおこなえる。
次に、第5図、第6図を用い本発明の他の実施例を説明
する。
する。
第5図は本発明に係る第2の実施例を示すものであり、
反射鏡502は反射鏡支持部503にその裏面を支持固
定されている。ここで、回転軸504の軸方向をX方向
、回転軸と垂直で反射鏡502に沿った方向をX方向と
するとき、反射鏡支持部503はX方向に細長い部材か
ら成り、反射鏡502との接合部530も同様にX方向
に細長くなっている。
反射鏡502は反射鏡支持部503にその裏面を支持固
定されている。ここで、回転軸504の軸方向をX方向
、回転軸と垂直で反射鏡502に沿った方向をX方向と
するとき、反射鏡支持部503はX方向に細長い部材か
ら成り、反射鏡502との接合部530も同様にX方向
に細長くなっている。
このため、回転軸504以下を前述した第1実施例を示
す第1図、第2図と同様な構成をとることにより、反射
鏡502と反射鏡支持部503との間にX方向のみの収
縮・膨張効果を現出させることができるため、反射面5
32の曲率をX方向にのみ変化させることが可能となる
。
す第1図、第2図と同様な構成をとることにより、反射
鏡502と反射鏡支持部503との間にX方向のみの収
縮・膨張効果を現出させることができるため、反射面5
32の曲率をX方向にのみ変化させることが可能となる
。
これを、第1図の走査集光レンズ8と組み合わせたとき
は、例えば反射鏡502のX方向、X方向に対応したX
方向焦点位置9(x)とX方向焦点位置9(Y)とで光
軸上のずれが生じていた場合に対して、上記のように反
射面532の曲率をX方向にのみ変化させ、X方向焦点
位置9(Y)のみを光軸AX上で前後させることによっ
て、X方向。
は、例えば反射鏡502のX方向、X方向に対応したX
方向焦点位置9(x)とX方向焦点位置9(Y)とで光
軸上のずれが生じていた場合に対して、上記のように反
射面532の曲率をX方向にのみ変化させ、X方向焦点
位置9(Y)のみを光軸AX上で前後させることによっ
て、X方向。
X方向両方の焦点位置9 (X) (Y)を一致させ
ることが可能となる。
ることが可能となる。
これとは逆に、反射鏡支持部をX方向に細長い部材で構
成し、反射鏡との接合部も同様にX方向に細長く構成し
たものを用いれば、反射面のX方向のみの曲率を制御す
ることが可能である。
成し、反射鏡との接合部も同様にX方向に細長く構成し
たものを用いれば、反射面のX方向のみの曲率を制御す
ることが可能である。
また、この場合に本実施例においては、偏向方向とX方
向とが平行であるため、反射面のX方向のみの曲率を変
化させることにより、偏向角度範囲の制御を行うことも
可能である。
向とが平行であるため、反射面のX方向のみの曲率を変
化させることにより、偏向角度範囲の制御を行うことも
可能である。
さらに、第6図に示す第3の実施例のように、反射鏡支
持部を603aと603b、b’ とで構成し、反射鏡
支持部603aにより保持した反射鏡支持部603b、
b’を反射鏡に密着させる構成とすることも考えられる
。
持部を603aと603b、b’ とで構成し、反射鏡
支持部603aにより保持した反射鏡支持部603b、
b’を反射鏡に密着させる構成とすることも考えられる
。
この実施例においては、反射鏡支持部603aと反射鏡
602との熱膨張係数を同じくすればX方向にのみに、
また反射鏡支持部603b、b’と反射鏡602との熱
膨張係数を同じくすればX方向にのみに方向性を持たせ
た曲率変化を生じさせることが可能であり、それぞれ異
なる熱膨張係数とすれば、X方向とX方向とで異なる変
化率を持たせることができる。
602との熱膨張係数を同じくすればX方向にのみに、
また反射鏡支持部603b、b’と反射鏡602との熱
膨張係数を同じくすればX方向にのみに方向性を持たせ
た曲率変化を生じさせることが可能であり、それぞれ異
なる熱膨張係数とすれば、X方向とX方向とで異なる変
化率を持たせることができる。
ここで、本発明における密着部は原則として上記のよう
な接合部を言い、反射鏡支持部材の形状とは異なる。従
って、第1の実施例において接合部のみを縦長あるいは
横長にしたものも同様の効果を奏するものである。
な接合部を言い、反射鏡支持部材の形状とは異なる。従
って、第1の実施例において接合部のみを縦長あるいは
横長にしたものも同様の効果を奏するものである。
さらに、例えば上下に分割されたに二点部において接合
されている場合にも同様な効果が期待できるため、その
接合部及びそれらの間の部分も密着部に該当するものと
する。
されている場合にも同様な効果が期待できるため、その
接合部及びそれらの間の部分も密着部に該当するものと
する。
なお、上記の各実施例では、反射鏡2に石英ガラス(熱
膨張係数α、 =0.4 x 10−’m/l )、反
射鏡支持部3にはステンレス鋼(α、 =16X10−
’m/’e)を用い、エポキシ系の接着剤により接合さ
れているが、この材質はこれらものに限定されるものて
はない。
膨張係数α、 =0.4 x 10−’m/l )、反
射鏡支持部3にはステンレス鋼(α、 =16X10−
’m/’e)を用い、エポキシ系の接着剤により接合さ
れているが、この材質はこれらものに限定されるものて
はない。
ここで、反射鏡2と反射鏡支持部3とを接着する場合に
は、接着層30の厚さは薄い方(例えば、本実施例では
10μm程度)が好ましい。これは、接着層30が厚い
といわゆるバイメタル効果が、接着層30により吸収さ
れて緩和されるため、本発明の効果が減ぜられるからで
ある。ただし、この接着層30の厚さは上記に限定され
るものではなく、接着剤の材質、特性等により、さらに
は相互の接着部の面積等により最適な厚さが定まるもの
である。
は、接着層30の厚さは薄い方(例えば、本実施例では
10μm程度)が好ましい。これは、接着層30が厚い
といわゆるバイメタル効果が、接着層30により吸収さ
れて緩和されるため、本発明の効果が減ぜられるからで
ある。ただし、この接着層30の厚さは上記に限定され
るものではなく、接着剤の材質、特性等により、さらに
は相互の接着部の面積等により最適な厚さが定まるもの
である。
一方、反射鏡2の厚さは、駆動部5による振動回転動作
時に発生する矢印6方向のトルクによって弾性変形しな
い程度の厚さが必要であるが、バイメタル効果を受けや
すくするためにはあまり厚くし過ぎない方が好ましく、
反射鏡の材質、大ぎさ等から適時窓める必要がある。
時に発生する矢印6方向のトルクによって弾性変形しな
い程度の厚さが必要であるが、バイメタル効果を受けや
すくするためにはあまり厚くし過ぎない方が好ましく、
反射鏡の材質、大ぎさ等から適時窓める必要がある。
また、上記の実施例では、回転軸4と反射鏡支持部3と
は、接着ないしビスにより支持固定されているが一体に
構成されたものでもよい。
は、接着ないしビスにより支持固定されているが一体に
構成されたものでもよい。
さらに、温度制御装置は光走査装置本体と別体にし、熱
交換部を例えばヒートバイブ等を延設することにより、
反射鏡、反射鏡支持部、若しくは回転軸にあるいはその
軸受部の近傍まで配設してもよい。これは、温度検知手
段の検知部についても同様であるが、反射鏡及び反射鏡
支持部の温度を直接検知しさらに温度制御を行うことが
、曲率並びに焦点位置を検知し制御する観点から見れば
好ましい。
交換部を例えばヒートバイブ等を延設することにより、
反射鏡、反射鏡支持部、若しくは回転軸にあるいはその
軸受部の近傍まで配設してもよい。これは、温度検知手
段の検知部についても同様であるが、反射鏡及び反射鏡
支持部の温度を直接検知しさらに温度制御を行うことが
、曲率並びに焦点位置を検知し制御する観点から見れば
好ましい。
このため、非接触型の例えば赤外線等を用いた温度検知
手段(サーモカメラ)等を用いることも考えられる。
手段(サーモカメラ)等を用いることも考えられる。
しかしながら、これらの装置は高個であること、装置が
大型化すること等の難点がある。
大型化すること等の難点がある。
本実施例のように、実際に熱が発生する部分の温度を検
知し、その部分に対して直接温度制御を行うことにより
、間接的に反射鏡及び反射鏡支持部の温度を検知並びに
温度制御を行う装置とすれば、小型で、製作が容易であ
り、しかも製作コストを抑えることができる利点がある
。
知し、その部分に対して直接温度制御を行うことにより
、間接的に反射鏡及び反射鏡支持部の温度を検知並びに
温度制御を行う装置とすれば、小型で、製作が容易であ
り、しかも製作コストを抑えることができる利点がある
。
加えて、軸受部等から熱が発生した場合、その熱が回転
軸を伝導して反射鏡支持部、さらには反射鏡へと伝導す
るにはかなりの時間がかかるものであり、実際に反射鏡
等の温度変化を検知した場合にそれを戻すにも、上記の
各部材を全て冷却する必要があるのでかなりの時間を要
する。
軸を伝導して反射鏡支持部、さらには反射鏡へと伝導す
るにはかなりの時間がかかるものであり、実際に反射鏡
等の温度変化を検知した場合にそれを戻すにも、上記の
各部材を全て冷却する必要があるのでかなりの時間を要
する。
従って、直接温度検知等を行う場合には、検知手段の精
度及び冷却手段等のレスポンス性能等が要求される。
度及び冷却手段等のレスポンス性能等が要求される。
本実施例では、熱源の近くで温度検知及び制御を行って
いるため、熱の発生に対しての反応が早く、しかも上述
した反射鏡へ熱が伝導する迄の時間内で冷却等を完了す
るため温度変動自体が生じにくく、かつレスポンス性能
に優れた装置となる利点があり、さらに上記の直接検知
に要求される程の精度等が問題と成らない利点もある。
いるため、熱の発生に対しての反応が早く、しかも上述
した反射鏡へ熱が伝導する迄の時間内で冷却等を完了す
るため温度変動自体が生じにくく、かつレスポンス性能
に優れた装置となる利点があり、さらに上記の直接検知
に要求される程の精度等が問題と成らない利点もある。
[発明の効果]
以上のように、本発明に係る光走査装置によれば、反射
鏡と反射鏡支持部との温度を一定に保つことができるの
で、安定した偏向走査を行うことができる。
鏡と反射鏡支持部との温度を一定に保つことができるの
で、安定した偏向走査を行うことができる。
また、温度調整手段の設定温度を調整することにより、
反射鏡の曲率を変化させることができるので、走査集光
レンズと組み合わせたときに得られる収束走査ビームの
焦点位置を制御することができる。
反射鏡の曲率を変化させることができるので、走査集光
レンズと組み合わせたときに得られる収束走査ビームの
焦点位置を制御することができる。
さらに、反射鏡の振動回転動作時に回転軸等で発生した
摩擦熱等により反射鏡の曲率が経時的に変化するの抑え
ることができるとともに、仮に曲率又は焦点位置が変化
した場合にも、その修正が容易に行うことができる利点
がある。
摩擦熱等により反射鏡の曲率が経時的に変化するの抑え
ることができるとともに、仮に曲率又は焦点位置が変化
した場合にも、その修正が容易に行うことができる利点
がある。
また、請求項(2)に記載の発明によれば、簡単でかつ
安価な装置で温度制御並びに、曲率、焦点位置の制御が
行える効果があり、かつ、熱発生源に直接的に温度調整
を行うため、効率的な制御動作を行える利点を有する。
安価な装置で温度制御並びに、曲率、焦点位置の制御が
行える効果があり、かつ、熱発生源に直接的に温度調整
を行うため、効率的な制御動作を行える利点を有する。
加えて、請求項(3)に記載の発明によれば、反射鏡と
反射鏡支持部との密着部の形状を考慮することにより、
反射鏡の曲率変化の制御に方向性を持たせることができ
るので、特に収束走査ビームの焦点位置がズしていると
きなどは、その補正を容易に行なえる利点がある。
反射鏡支持部との密着部の形状を考慮することにより、
反射鏡の曲率変化の制御に方向性を持たせることができ
るので、特に収束走査ビームの焦点位置がズしていると
きなどは、その補正を容易に行なえる利点がある。
第1図は本発明の一実施例にかかる光偏向装置の概要を
示す説明図、第2図は上記の実施例における温度制御装
置の電気制御回路を示す回路図、第3図は反射鏡部分を
示す説明図、第4図(^)(B)は反射鏡の曲率変化の
動作状態を示す説明図、第5図、第6図は本発明の他の
実施例にかかる反射鏡部分を示す説明図、第7図は従来
の光走査装置を示す説明図、 [主要部分の符号の説明] 2・・・反射鏡、3・・・反射鏡支持部、4・・・回転
軸、30・・・接合部、32・・・反射面、16・・・
温度測定素子、17・・・温度制御装置、8・・・走査
集光レンズ。
示す説明図、第2図は上記の実施例における温度制御装
置の電気制御回路を示す回路図、第3図は反射鏡部分を
示す説明図、第4図(^)(B)は反射鏡の曲率変化の
動作状態を示す説明図、第5図、第6図は本発明の他の
実施例にかかる反射鏡部分を示す説明図、第7図は従来
の光走査装置を示す説明図、 [主要部分の符号の説明] 2・・・反射鏡、3・・・反射鏡支持部、4・・・回転
軸、30・・・接合部、32・・・反射面、16・・・
温度測定素子、17・・・温度制御装置、8・・・走査
集光レンズ。
Claims (3)
- (1)光ビームを反射する反射鏡を回動可能な軸部材に
保持し、前記軸部材を予め定めた角度範囲内で回転もし
くは振動させる駆動手段を備え、光ビームを前記反射鏡
に照射しながら前記駆動手段を作動させることにより前
記光ビームを前記角度範囲内で偏向走査する光走査装置
において、前記反射鏡は、反射面と平行な裏面部におい
て前記軸部材の反射鏡支持部に密着固定されており、 前記反射鏡と前記反射鏡支持部とは互いに異なる熱膨張
係数を有する材料からなり、 前記反射鏡又は反射鏡支持部の温度を予め定めた温度に
保持する温度調整手段を設けたことを特徴とする光走査
装置。 - (2)前記温度調整手段が、前記駆動手段の軸受部もし
くはその近傍の温度を検出する温度検出手段と、軸受部
を介して温度制御を行う温度制御手段とからなることを
特徴とする請求項(1)記載の光走査装置。 - (3)前記反射鏡と反射鏡支持部との密着部が、前記軸
部材の軸方向とこれと直角な幅方向との寸法が異なるこ
とを特徴とする請求項(1)又は(2)に記載の光走査
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2031371A JPH03236016A (ja) | 1990-02-14 | 1990-02-14 | 光走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2031371A JPH03236016A (ja) | 1990-02-14 | 1990-02-14 | 光走査装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03236016A true JPH03236016A (ja) | 1991-10-22 |
Family
ID=12329401
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2031371A Pending JPH03236016A (ja) | 1990-02-14 | 1990-02-14 | 光走査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03236016A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100350979B1 (ko) * | 1999-07-28 | 2002-08-28 | 삼성전자 주식회사 | 광주사 유닛의 미러 지지 구조체 |
JP2006162949A (ja) * | 2004-12-07 | 2006-06-22 | Nippon Signal Co Ltd:The | プレーナ型アクチュエータ |
JP2014172082A (ja) * | 2013-03-12 | 2014-09-22 | Advanced Materials Processing Institute Kinki Japan | 高出力レーザ加工機 |
JP2016121905A (ja) * | 2014-12-24 | 2016-07-07 | 大陽日酸株式会社 | 多重反射容器 |
-
1990
- 1990-02-14 JP JP2031371A patent/JPH03236016A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100350979B1 (ko) * | 1999-07-28 | 2002-08-28 | 삼성전자 주식회사 | 광주사 유닛의 미러 지지 구조체 |
JP2006162949A (ja) * | 2004-12-07 | 2006-06-22 | Nippon Signal Co Ltd:The | プレーナ型アクチュエータ |
JP2014172082A (ja) * | 2013-03-12 | 2014-09-22 | Advanced Materials Processing Institute Kinki Japan | 高出力レーザ加工機 |
JP2016121905A (ja) * | 2014-12-24 | 2016-07-07 | 大陽日酸株式会社 | 多重反射容器 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH03154019A (ja) | 共振周波数安定化方法および共振型光偏向器 | |
EP2343586A1 (en) | Shape stabilized mirror module and method to stabilize a reflective element. | |
US7855819B2 (en) | Swing member device, and optical deflector and image-forming apparatus employing the swing member device | |
JPH03236016A (ja) | 光走査装置 | |
JP5120685B2 (ja) | レーザアニール方法及びレーザアニール装置 | |
JPH03179420A (ja) | 光学装置 | |
JP6593547B1 (ja) | 光モジュール | |
JP4476080B2 (ja) | 可変焦点型光学装置 | |
JPH09146032A (ja) | ガルバノミラーおよびこれを用いた光ディスク装置 | |
JP2016114715A (ja) | 振動素子、光走査装置、画像形成装置、画像投影装置および画像読み取り装置 | |
JPH08211320A (ja) | ガルバノミラー及びそれを用いた光ディスク装置 | |
JP2007171930A (ja) | 揺動体装置、光偏向器、及びその制御方法 | |
JP2986242B2 (ja) | 温度制御装置付き半導体レーザ | |
JPS62250466A (ja) | 光書込み装置 | |
JPH07120650A (ja) | 光学装置 | |
JP2939765B2 (ja) | レーザー走査系のスポット径調整装置 | |
JP2006267716A (ja) | 光ビーム偏向器 | |
JPH082813Y2 (ja) | 光学式ピツクアツプ装置 | |
JP2007234069A (ja) | 光ピックアップ装置および光ディスク装置 | |
JP2006113449A (ja) | レーザビーム走査装置 | |
JPH10253909A (ja) | 光走査装置及びその組立装置 | |
JP2005251352A (ja) | 光ピックアップ | |
US20070280084A1 (en) | Optical pickup | |
JPS6113759A (ja) | 情報記録装置 | |
JP2002312968A (ja) | 光ディスク装置 |