JPH03228890A - チタン酸バリウム単結晶の育成装置 - Google Patents

チタン酸バリウム単結晶の育成装置

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JPH03228890A
JPH03228890A JP2281790A JP2281790A JPH03228890A JP H03228890 A JPH03228890 A JP H03228890A JP 2281790 A JP2281790 A JP 2281790A JP 2281790 A JP2281790 A JP 2281790A JP H03228890 A JPH03228890 A JP H03228890A
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JP
Japan
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crucible
single crystal
barium titanate
muffle
raw material
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Pending
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JP2281790A
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English (en)
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Shoji Mimura
彰治 味村
Akito Kurosaka
昭人 黒坂
Haruo Tominaga
晴夫 冨永
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Fujikura Ltd
Original Assignee
Fujikura Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は位相共役鏡、レーザ共振器及び光学像解析機器
等の光学応用機器に使用されるチタン酸バリウム単結晶
の製造に使用するチタン酸バリウム単結晶の育成装置に
関する。
[従来の技術] 従来、チタン酸バリウム単結晶は、フッ化カリウム(K
F)及び塩化バリウム(BaC12)をフラックスとし
て育成されていた(P、Remeika等、J 、Am
 、Chem 、Soc 、  第76巻 1954年
発行 第940頁)。しかし、このフラックス法により
得られるチタン酸バリウム単結晶は、その厚さが0.5
mm以下の薄片であり、しかもフラ・νクスに汚染され
たものであるために、満足できる光学的特性を得ること
ができなかった。
その後、二酸化チタン(TiO2)及び酸化バリウム(
Bad)の混合物を原料とし二酸化チタン高濃度側の融
液からチタン酸バリウム単結晶を引き上げる溶融引き上
げ法(TSSG法; TopSeeded 5olut
ion Growth法)が開発されたCV。
Be1russ、 J、Kalnajs and A、
LinzlTOP−SEEDEDSOLUTION G
ROWTHOF 0XIDE CRYSTALS FR
OM N0N−3TOIC旧OMETRICMELTS
、 Mat、 Res、 Bull、第6巻1971年
発行 第899−90Ei頁)。
この方法により製造されたチタン酸バリウム単結晶は、
その形状を所望のバルク状にすることが可能であると共
に、フラックス等からの不純物の汚染も少ないため、比
較的良好な光学的特性を有している。このために、チタ
ン酸バリウム単結晶が光学応用機器に利用されるように
なった。
第2図は上述した従来のチタン酸バリウム単結晶の育成
装置を示す断面図である。
断熱材3にはその上面中央から下面に鉛直に貫通した加
熱空間が設けられており、この加熱空間の周囲にはヒー
タ2が断熱材3に埋め込まれて配設されている。また、
断熱材3にはその上面の周縁部から前記加熱空間の上下
方向略中夫に到達する観察用窓5が設けられており、こ
の窓5を介して単結晶育成状況を観察できるようになっ
ている。
断熱材3の加熱空間の下端近傍には、この空間内に挿入
されたステージ12が配置されており、このステージ1
2上に原料融液6が貯留されるるつぼ1が載置されるよ
うになっている。また、加熱空間の上端部には蓋4が嵌
合されて設けられており、この蓋4及びステージ12に
より加熱空間を外部雰囲気から熱的に遮断するようにな
っている。
蓋4の中央には種棒8が挿通する穴が設けられている。
種棒8は内管及び外管からなる2重管であり、その上端
部は上昇・下降ヘッド9に固定されている。そして、こ
の種棒8は駆動装置(図示せず)により上昇Φ下降ヘッ
ド9が上下動すると、それに伴って上昇又は下降移動す
るようになっている。また、種棒8の下端部には種結晶
取付は部が設けられており、この取付は部に種結晶7を
白金線等により縛って取付けるようになっている。
断熱材3及び蓋4は約1500℃の温度における耐熱性
を有していると共に、断熱性を有している必要がある。
このため、断熱材3及び蓋4は、例えばアルミナ及びジ
ルコニア等のセラミックス粉を焼結した多孔質セラミッ
クスにより形成されている。また、ヒータ2は、炭化ケ
イ素(SiC)、2ケイ化モリブデン(MoSi2)又
はクロム酸ランタン(L a Cr O3)等により形
成されたものが使用されている。
次に、この従来のチタン酸バリウム単結晶育成装置の動
作について説明する。
先ず、るつぼ1に炭酸バリウム(B a C03)及び
酸化チタン(Ti02)の混合原料粉を装入し、るつぼ
1を断熱材3内のステージ12上に設置し、蓋4を断熱
材3に嵌入する。そして、この混合原料粉をヒータ2に
より加熱して溶融させて、原料融液6とする。
次に、その下端部に種結晶7が取付けられた種棒8を下
降させて、種結晶7を融液6に接触させる。このとき、
種棒8の内部に冷却用ガスを通流させて、種結晶7を冷
却する。
次いで、ヒータ2の通電電流を低下させて融液6の温度
を下降させる。これにより、種結晶7の周囲にチタン酸
バリウムの結晶が晶出する。その後、種棒8を所定の速
度で上昇させる。そうすると、種結晶7の下方にチタン
酸バリウムの単結晶が育成される。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上述した従来の単結晶育成装置において
は、断熱材3及び蓋4の材質としてセラミックスを使用
しているため、断熱材3及び蓋4から発生したセラミッ
クスの粉塵がるつぼ1内に入ることがあり、これにより
原料融液8が汚染されてしまう。また、断熱材3及び蓋
4並びにヒータ2等から気化しやすい成分がガス化し、
更にこの成分が融液6に溶は込むこともある。
このようなセラミックス粉又はガス化成分等の不純物元
素により原料融液6が汚染されると、例えばその汚染量
がppmオーダーの極めて少ない汚染であっても、汚染
された融液から育成された単結晶は純粋な融液から育成
された単結晶に比して色等の外観に顕著な差異が発生し
、所定の光学的特性を得ることができなくなる。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、
原料融液の汚染が回避され、所定の光学的特性のチタン
酸バリウム単結晶を育成することができるチタン酸バリ
ウム単結晶の育成装置を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段] 本発明に係るチタン酸バリウム単結晶の育成装置は、石
英ガラス製マツフルと、このマツフル内に配置されるる
つぼと、下端部に種結晶が取付けられ前記マツフル内に
挿入されて前記るつぼの直上域に前記種結晶を位置させ
る種棒と、前記マツフルの外側から前記るつぼ内の原料
融液を所定の温度に加熱保持する加熱手段とを有するこ
とを特徴とする。
[作用] 本発明においては、石英ガラス製マツフル内にるつぼを
配置し、このマツフル内において原料融液からチタン酸
バリウム単結晶を育成する。従って、断熱材及びヒータ
等からるつぼが隔離された杖態で単結晶を育成すること
ができるために、断熱材及びヒータ等からの粉塵及びガ
ス化成分等による原料融液の汚染が回避され、所望の光
学特性のチタン酸バリウム単結晶を育成することができ
る。
石英ガラスには、不透明石英ガラス、透明石英ガラス及
び合成石英ガラス等の種類がある。この場合に、チタン
酸バリウム単結晶育成に使用するマツフルの材質として
は、高純度で軟化温度が高い透明石英ガラス又は合成石
英ガラスを使用することが好ましい。
なお、石英ガラスは高温において軟化するために、通常
、その最高使用温度は1200乃至1300℃とされて
いる。チタン酸バリウムの単結晶育成時には原料融液を
1400乃至1500℃の高温に加熱する必要があり、
−見すると、石英ガラスはチタン酸バリウム単結晶の育
成装置には使用できないものと考えられる。しかしなが
ら、マツフル内外の気体圧力を調整することにより、単
結晶育成時のような高温下においても石英ガラスを使用
することが可能である。また、このような高温下におい
ても、石英ガラスからは気化ガスの発生はない。
[実施例] 次に、本発明の実施例について添付の図面を参照して説
明する。
第1図は本発明の実施例に係るチタン酸バリウム単結晶
の育成装置を示す断面図である。
本実施例装置が従来装置と異なる点は断熱材3の内側に
石英ガラス製のマツフル10が設けられていることにあ
り、その他の構成は基本的には従来と同様であるので、
第1図において第2図と同一物には同一符号を付してそ
の詳しい説明は省略する。
本実施例装置においては、断熱材3内の加熱空間に石英
ガラス製マツフル10が配置されている。
このマツフル10は有底筒状の容器であり、上端は石英
ガラス製蓋11により閉塞されている。そして、このマ
ツフル10はステージ12上に載置され、マツフル10
内にはテーブル18が載置され、このテーブル13上に
るっぽ1が載置される。
また、蓋11の中央には種棒8が挿通する孔が設けられ
ており、種棒8の下半部はこの蓋11に設けられた孔を
介してマツフル10内のるっぽ1の直上域に位置される
。このマツフル1o及び蓋11により、るつぼ1及び種
棒8の周辺の単結晶育成を行う雰囲気が外部から遮断さ
れて清浄に保たれる。なお、マツフル10の側壁を介し
て、観察用窓5から単結晶引き上げ状況を観察できるよ
うになっている。
本実施例装置においては、上述の如くマツフル10内に
おいて単結晶育成を行うために、断熱材3からの粉塵並
びにヒータ2及び断熱材3からのガス成分等はマツフル
10により遮断され、融液6への混入が回避される。ま
た、マツフル10は石英ガラス製であるので、単結晶育
成時に1400乃至1500℃の高温域に加熱されても
、粉塵又は気化ガスが発生し難い。このため、チタン酸
バリウム融液への不純物元素の汚染が著しく低減され、
所定の光学的特性を有するチタン酸バリウム単結晶を育
成することができる。
次に、上述の装置を使用してチタン酸バリウムの単結晶
を実際に育成した結果について説明する。
先ず、出発原料きして、純度が139.99重量%以上
の炭酸バリウム(BaCO3)及び純度が99.99重
量%以上の酸化チタン(TiOz)を用意した。そして
、この炭酸バリウムと酸化チタンとを3515のモル比
に秤量して混合した。その後、この混合試料を1000
℃の温度で5時間仮焼成した後、粉砕して混合原料粉と
した。
次に、この原料粉300gを口径がeOmm、深さが6
0mm1肉厚が1mmの白金製るつぼ1内に装入し、こ
のるつぼ1を本実施例装置のマツフル10内に載置した
。そして、ヒータ(SiC製)2により加熱して原料粉
を溶融させた。この原料融液6はヒータ2により加熱し
て、1410°Cの温度に維持した。
次に、種棒8の下端部にB aT i 03の種結晶7
を白金線で取付けた。この種結晶7は縦が31Tlrr
11横が3mm、長さ力月Ommであり、長手方向が(
100)面になるように切り出したものである。
次いで、上昇・下降ヘッド9を下降駆動することにより
、種結晶7を融液6に接触させた。そして、融液6の温
度を5℃/時で降下させ、種結晶7に結晶が晶出してく
るのを確認した後、融液6の温度降下速度を0.5℃/
時に変更し、種棒8をo、amm/時の速度で上昇させ
た。
このようにして約50時間結晶を育成した後、この結晶
を100℃/時の温度降下速度で冷却した。
その結果、直径り月5mm、長さが15mmのB a 
T i O3単結晶を得た。
このBaTiO3単結晶は不純物による着色がなく、透
明度が高いものであった。また、本実施例においては、
AI。03系の断熱材とSiCのヒータとを装備した装
置を使用しているので、汚染の可能性があるのはAI酸
成分びSi成分であるから、作成した単結晶についてA
I及びSiの質量分析を行ってその汚染の有無を調べた
。その結果、Ai及びSiの含有量はいずれも検出限界
(lppm)以下であった。
一方、比較のために、石英ガラス製マツフルを設けず、
その他の構成は本実施例と同様の装置によりB a T
 i O3の単結晶を育成した。その結果、得られた単
結晶は上記実施例により得られた単結晶に比して著しく
透明度が劣るものであった。また、この単結晶を質量分
析したところ、A7及びStが夫々3乃至4ppm及び
l乃至2ppm含有されていた。
[発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、石英ガラス製マツ
フル内にるつぼを載置し、このマツフルの外側からるつ
ぼ内の原料融液を加熱しつつチタン酸バリウムの単結晶
育成を行うから、単結晶育成中の融液の雰囲気が清浄に
保たれ、原料融液が不純物元素に汚染されることを回避
できる。このため、光学的特性が優れたチタン酸バリウ
ム単結晶を育成することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例に係るチタン酸バリウム単結晶
の育成装置を示す断面図、第2図は従来のチタン酸バリ
ウム単結晶の育成装置を示す断面図である。 1:るつぼ、2;ヒータ、3;断熱材、4,11;蓋、
5;観察用窓、6;融液、7;種結晶、8;種棒、9;
上昇・下降ヘッド、10;マツフル、12;ステージ、
13;テーブル

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)石英ガラス製マッフルと、このマッフル内に配置
    されるるつぼと、下端部に種結晶が取付けられ前記マッ
    フル内に挿入されて前記るつぼの直上域に前記種結晶を
    位置させる種棒と、前記マッフルの外側から前記るつぼ
    内の原料融液を所定の温度に加熱保持する加熱手段とを
    有することを特徴とするチタン酸バリウム単結晶の育成
    装置。
JP2281790A 1990-02-01 1990-02-01 チタン酸バリウム単結晶の育成装置 Pending JPH03228890A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010084863A1 (ja) * 2009-01-23 2010-07-29 住友電気工業株式会社 窒化物半導体結晶の製造装置、窒化物半導体結晶の製造方法および窒化物半導体結晶

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010084863A1 (ja) * 2009-01-23 2010-07-29 住友電気工業株式会社 窒化物半導体結晶の製造装置、窒化物半導体結晶の製造方法および窒化物半導体結晶
US8613802B2 (en) 2009-01-23 2013-12-24 Sumitomo Electric Industies, Ltd. Nitride semiconductor crystal manufacturing apparatus, nitride semiconductor crystal manufacturing method, and nitride semiconductor crystal

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