JPH03207794A - 流動床触媒反応器で計質オレフィン燃料ガスの品質を改良する方法および触媒の再生方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は軽質オレフィンガスを重質炭化水素へと改善す
る触媒方法と、触媒の再生に関するものである。特に本
発明は、゜プロベン、ブテン又はその他の低級アルケン
を任意に含むエデン含有オレフィン系軽質ガス供給原料
をオリゴマー化してオレフィン系液体燃料やイソブタン
の様なＣ４’炭化水素、芳香族炭化水素、及びその他の
有益な生成物を製造するための連続方法と、触媒の連続
再生のための効果的方法を提供する。

本発明は特に酸素含有ガスを、部分的に失活している触
媒と接触させて、低い炭素含有率を有する再生触媒と低
い一酸化炭素含有率及び低い含水率を有する再生域流出
ガスを得るために触媒再生域の温度を制御する改良方法
に関するものである．エテン（エチレンＣ　２　Ｈ　４
　）含有ガス、例えば石油分解排出ガスは、本発明にお
いて有効な供給原料である． 現代の製油所操業における炭化水素の液体接触分解は、
ガソリン製品価値が殆どないか、又は全くない大量のＣ
４燃料ガスを製造する．ゼオライト触媒と炭化水素転化
法の発展は、Ｃ４゛ガソリン、ディーゼル燃料などを製
造するためにオレフィン系供給原料を利用することに対
する関心を生んだ。ＺＳＭ−５型ゼオラ，．イト触媒に
よって促進される基本的な化学反応に加えて、多くの発
見が新しい商業的方法の発展に寄与して来た．それらの
方法は、低級オレフィン、特にＣ２Ｃ４アルケンを含む
供給原料を利用するための安全かつ環境基準を満たす方
法である。

Ｃ２−Ｃ．アルゲンとアルカンを転化して芳香族炭化水
素に富む液体炭化水素生戒物を製造する場合、ＺＳＭ−
５型ゼオライト触媒を用いる方法は、Ｃａｔｔａｎａｃ
ｈによる米国特許第３，７６０，０２４号とＹａｎ他ら
による米国特許第３，８４５，１５０号によって効果的
な方法であることが分かった。米国特許第３，９６０，
９７８号と第４　，０２１　，５０２号においてＰｌａ
ｎｋ，　Ｒｏｓｉｎｓｋｉ，及びＧｉｖｅｎｓは、制御
された酸性度を有する結晶質ゼオライトによって、Ｃ２
−Ｃ，オレフィンのみ、又はそれにバラフィン系成分を
添加した物を、高級炭化水素へ転化させることを記載し
ている６Ｇａｒｗｏｏｄ他らは又、米国特許第４，１５
０，０６２号、第４，２１１，６４０号、及び第４，２
２７，９９２号に記載されている様な技術を改善する触
媒オレフィン、及びゼオライト触媒を用いる改良方法に
関する理解に寄与した。上述した明細書は参考文献とし
て本明細書に取入れている。

ＨＺＳＭ−５による低級オレフィン、特にエテンとブロ
ベンの転化は適度な高温と高圧において有力となる。転
化生成物は液体燃料として、特にＣ，脂肪族炭化水素と
芳香族炭化水素として求められる．液体炭化水素に関す
る生成物分布は、作業条件、例えば温度、圧力、及び空
間速度を制御することによって変えることができる，ガ
ソリン（Ｃ５−Ｃ１。）は、高温（例えば最大約５１０
℃まで〉と周囲圧力〜約５５００キロパスカル（０〜７
　９　５ｐｓｉｇ）　、好ましくは約２５０〜２９００
キロパスカル（３６〜４　１　９　ｐｓｉｇ）の中全圧
において容易に形戒される。オレフィンの供給分圧は、
１０〜８０ｐｓｉｇであることが好ましい．オレフィン
系ガソリンを良好な収量で製造することができ、生成物
として回収することができる。あるいは又、より重質の
留出物範囲の生成物に更に転化するために低過酷性の高
圧反応器システムに供給することができる．留出物モー
ド運転を用ｂＸ．て、高圧と中温において低級の中間物
オレフィンを反応させ、Ｃ１。脂肪族炭化水素の生戒を
最小にすることができる。一般的なｒＭＯＧＤＪオリゴ
マー化ユニットに関する運転の詳細は、本明細書に参考
文献として取入れている米国特許第４，４５６，７７９
号（　Ｏｍｅｎ他ら）、及び第４，４３３，１８５号（
　Ｔａｂａｋ　）に記載されている。中温で比較的高圧
という転化条件は、少なくとも通常１６５℃（３３０”
Ｆ）の沸点を有する留出物範囲の生成物に有利である。

Ｃ２　Ｃｂアルケンを含む低級オレフィン系供給原料を
選択的に転化することができる；しかしながら低過酷性
の留出物モード条件ではエテンの主留分は転化しない。

ブロペン、ブテンー１、及びその他の物は、より低過酷
性の中温留出物モードにおいて、５０％〜９５％程度ま
で転化することができるのに、エテンの場合はエテン或
分のわずか約１０％〜３０％だけが、ＨＺＳｔ−５又は
同様の酸ゼオライトを用いることによって転化するのみ
である。

商業的に重要な多くの供給原料、例えばＦＣＣ軽質ガス
、脱水素生成物、エタン分解副生物などは、Ｈ　２　Ｓ
及び軽質脂肪族炭化水素と共にエタンと水素の両方を含
む． 本発明は、原油供給流をＣ，、軽質留出物、ナフサ、及
び常圧残油流に精留し；精留塔を含む流動触媒分解域（
ＦＣＣ）の中へ、常圧残油流又は減圧軽油流のような常
圧残油流の留分を通して、オーバーヘッドＣ，オレフィ
ン系炭化水素燃料ガス蒸気流を製造し；そしてＣ，オレ
フィン系炭化水素をオリゴマー化法条件の下でゼオライ
ト触媒と接触させ、Ｃ，炭化水素を形戒する工程がら戒
るガソリン領域で沸騰する炭化水素を製造するための製
油所プロセスに関するものである。該Ｃ，炭化水素は、
適当なガソリン配合原料である．本発明に従ってＣ２　
　Ｃ４オレフィン系軽質ガスを、オリゴマー化反応条件
下、単一バスで、又はガス生戒物の再循環と触媒の連続
再生と共に、ゼオライト固体酸触媒の流動層中で触媒転
化によって芳香族炭化水素、オレフィン系炭化水素、及
びパラフィン系炭化水素を含むガソリンに富む液体炭化
水素に改善することができること，，が見出された．該
技術は、重油などの分解時に製造されるエテン、ブロベ
ン、ＣＩ　　Ｃ３パラフィン系炭化水素、及び水素の有
意量を通常含むＦＣＣ軽質ガスを改善するのに特に有効
である。副生軽質ガスを改善することによって、ＦＣＣ
ユニットのガソリン収Ｉを有意に増加させることができ
る。

改良方法は、Ｃ２　　Ｃ４オレフィン含有供給原料を、
より高いオクタン価を有するより重質の炭化水素生成物
に連続転化するために見つけ出された。

該供給原料は、オリゴマー化転化条件下、高温でゼオラ
イト触媒の流動層と接触させる．該触媒は連続的に再生
される。該改良は、供給原料ガスを反応域の中を上方に
通り抜けさせることによって、垂直反応器塔中の流動触
媒層を維持し、反応域からコークス化触媒の一部を取出
し、不活性ガスで該触媒をストリップし、取出した該触
媒を酸化して再生し、触媒活性度を望ましい値で制御で
きる様な十分な速さで反応域に再生触媒を戻すことから
成る。

本発明は、エテン、エテンとプロベン、又はブロベンと
ブタンの有意量を通常含むＦＣＣ軽質ガスを改善するの
に特に有効である． 触媒再生域の運転は、本発明の重要な特徴である． 触媒を含むコークスを高温で再生ガスを含む酸素と接触
させ、コークス付着層を燃焼させて触媒からコークスを
除去する。該接触は、再生域の下部にある流動触媒稠密
相中で行われる．再生ガスを含む酸素を、十分な速度で
再生域の中を上方に通り抜けさせて触媒を流動化し、十
分な酸素を供給して該触媒からコークスを燃焼させて除
去する。

流動触媒稠密相の上部空間は、上方に流れる再生ガスに
よって連行された部分的に消費された再生ガスと触媒を
含む．再生域のこの部分は希釈触媒相と呼ばれる．希釈
触媒相中で連行されている触媒を、再生域の上部に配置
されているガス固体分離サイクロンによって回収し、該
触媒を再生器中の流動触媒稠密相に戻す。

水、二酸化炭素、一酸化炭素、及び窒素と未反応酸素の
様なその他のガスから戒る煙道ガスを、再生域の上部か
ら除去する．再生した触媒を再生器の下部から取出して
反応域に戻す． ゼオライト触媒の再生においては、再生触媒の残留炭素
含有率が触媒の総量を基準として０．２Ｏ重量％未満、
好ましくは０．０５重量％未満であるように，触媒から
相当量のコークスを燃焼させることが望ましい６反応域
に再循環させる時に相当量減少したコークス含有率を有
するゼオライト触媒は、望まれる生成物に対して高い活
性度と高い選択性を有する。ゼオライト触媒の再生時に
おいては、触媒微粉を取出した後、もし望むならば、追
加の処理なしで煙道ガスを雰囲気中に満たすことができ
るように、再生域を出る煙道ガスが５０ｐｐｍ又はそれ
未満の一酸化炭素濃度を有する条件下で再生域を運転す
ることが好ましい。又プラチナの様な金属触媒を少量、
再生域に加えることによってｃｏの減少を強めることが
できる。

再生触媒が０．２０重量％又はそれ未満の低い炭素含有
率を有し、煙道ガスが低い一酸化炭素含有率を有するた
めには、煙道ガスが約１〜１８モル％の十分過剰量の酸
素を含むように再生ガスを含む酸素を供給することが必
要である．触媒に対する物理的損傷と触媒の失活を防止
するためには、再生域の流動触媒稠密相を、温度１００
０’Ｆ未溝、最も好ましくは９３５゜Ｆ未満において運
転することが好ましい． 触媒の物理的損傷と失活は、コークス付着層を燃焼させ
る時に副生物として生じる水の存在下で、再生温度にお
いて起こり得る．触媒に対す物理的損傷を防止するには
、再生器中の水の分圧は、例えば９５０”Ｆの再生温度
において、約５　２　０　ｐｓｉｓ未満、好ましくは！
５ｐｓｉａ未満であるべきである。

本発明の態様においては再生域中の温度を、再生域の流
動触ｇ稠密相中の冷却コイルを用いて望ましい範囲に制
御することができる．機械的結着性を維持するために冷
却液、例えばボイラー給水を反応器流出液炭化水素ガス
生戒物と熱交換することによって予熱することができる
．小さなコークス処理量の間に、例えば再生器における
小さな触媒処理量の間に、ボイラー給水冷却．液を加熱
するのに利用可能な熱量を維持するために、再生器に供
給する再生ガスを加熟することができる．本発明のもう
一つ別の態様においては、触媒を再生域に供給する前に
ストリップされ部分的に奪活された触媒を冷却したり、
反応器に再生ガスを供給する前に再生ガスを冷却したり
することによって、再生域中の温度を制御することがで
きる．約１０００゜Ｆを超える再生温度や１５ρｓｉａ
を超える水の分圧による再生器中の触媒に対する物理的
損傷は、触媒の活性度を減少させ、触媒の寿命を短くす
るので、望ましい触媒活性度を維持するためにより大き
い速度で触媒を加えたり、取除いたりすることが必要と
なる。これは、該方法を行うためのコストを実質的に増
加させる結果となる． 再生域の流動触媒稠密相中の触媒の滞留時間は、残留炭
素が低レベルである再生触媒を供給するためには、６〜
７５分、好ましくは３０〜６０分である． オリゴマー化条件の下、中細孔モレキュラーシーブゼオ
ライト触媒と接触させて軽質オレフィン系炭化水素をよ
り重質の炭化水素に流動触媒転化すると、軽質オレフィ
ン系炭化水素からより重質の炭化水素生成物への転化、
触媒へのコークス副生物の付着、及び触媒への炭化水素
生成物の吸着が起こる．コークスの付着は、触媒の部分
的な失活を引き起こす。触媒の失活を克服するためには
、反応器から部分的に失活した触媒を除去したり、触媒
からコークス付着層を除去したりすることが必要である
。コークス付着層は、触媒毒として作用する高沸点窒素
化合物を含む．コークスを燃焼させコークスを除去する
ためのガスを含む酸素と触媒を接触させて、再生域にお
いてコークス付着層を除去する。

反応器処理量及び／又は反応域における触媒転化反応の
過酷性を、再生域温度と再生器の熱除去能力によって制
限する．なぜならより大きな反応器処理量及び／又は過
酷性は、触媒を再生するために再生器において燃やさな
ければならない触媒に付着するコークスの量を増加させ
る，からである。

より高い処理量、又は過酷性を得ようとして、より高い
温度において再生域を運転することは、触媒に対して過
度の物理的損傷を与えることになるので、望ましくない
６ 従って、触媒再生器の中の高温と再生器の高熱除去能力
に対する要求は、プラント設計の要素を制限し、コスト
と全プラントの操作を増加させる．１０００’Ｆを超え
る触媒再生温度においては、細孔モレキュラーシーブゼ
オライト触媒の構造は速い速度で物理変化し、該物理変
化は触媒表面積の減少として通常は観察可能であり、そ
してそれは触媒活性度の相当量の減少という結果を招く
．この活性度の減少は、再生器に水分がある時には特に
厳しい．従って急速な触媒の失活を避けるためには、再
生器中の温度を１０００゜Ｆ未満に維持し、再生器中の
水分を１５ｐｓｉａ未満の分圧に維持することが必要で
ある。

更なる問題は、環境基準を満たすために、再生器流出ガ
スの一酸化炭素含有率を５０ｐｐ一未満に維持する問題
である。

触媒上に多量のコークス付着層と多量の吸着炭化水素生
威物がある場合、燃焼熱を除去するために、触媒再生器
に多皿の熱を除去する能力が必要である．熱除去能力に
対する要求は、触媒の再生前にストリッピング域におい
て、吸着した炭化水素を効果的に触媒から除去したり、
コークス付着層が過剰にならない様な方法で反応プロセ
スを行ったりすることによって少なくすることができる
．本発明の態様においては、触媒再生器からの熱流出ガ
スをタービンエキスパンダー、又は熱交換器に通して、
触媒再生器へ再生空気を供給する圧縮機を運転するため
の動力を発生させる．ストリッピング域において触媒か
ら炭化水素生戒物を効果的にストリップするので、本発
明方法は触媒再生時の熱除去能力に対する要求を実質的
に減少させる．炭化水素生戒物のストリッピングは又、
水を形威して再生器中の水の分圧を下げる反応器から再
生域への水素の持越も減少させる。

ストリップした炭化水素は回収することができ．その回
収により生戒物の収量が増加す，る．比較的低温、低い
水の分圧、流出ガスの中の水分含有率が低いという状態
において触媒再生を行うと、触媒の寿命と再生される触
媒活性度が増加する．触媒再生域において再生ガスとし
て一度通した空気を利用することは、再生域温度を制御
する助けとなり、再生域の中で水の様な望ましくない燃
焼生戒物が付着するのを防ぎ、再生域へ流出再生器ガス
を再利用する方法と比べて再生域のデザイン、コスト、
運転コストを簡素化する。

部分失活した触媒から吸着炭化水素を除去するためにス
トリッパー域を用いると、再生域に対する熱除去要求を
一般的に２０〜４０％だけ減少させ、炭化水素生戒物の
収量を増加させることができる。再生器での触媒滞留時
間を、その他の方法で用いる滞留時間と比べて実質的に
減少させることができることは、本発明方法の更なる利
点である．従って、再生器の中の触媒残留量を減少させ
、実質的に水と高温に対する暴露時間を減少させた状態
において本発明方法を運転することが可能である．これ
により触媒失活速度は最小となる．触媒再生器は、一般
的に１　０　０〜２　５　０ｐｓｉｇ、好ましくは１５
０〜２００ｐｓｉ８において運転する。

従って流出ガスの水分濃度が比較的低くても再生域にお
いては比較的高い水の分圧に相当するので、再生域にお
ける水の分圧を必要な低い値に制御することが特に難し
くなる．再生域における水の分圧を減少させるために、
加圧後の再生空気を再生域に供給する前に冷却して水を
除去することができる。

触媒再生器からの流出ガスをエキスパンダー又は熱交換
機に供給し、再生器の作業圧力まで再生空気の圧力を増
加させる圧縮機を動作させる電力を提供する電気を発生
させるための動力を生じさせることができる。本発明方
法と装置の更なる利点は、再生空気としてＦＣＣ再生器
に対して再生空気供給原料を用いること、本発明方法か
らの通剰の酸素を含む再生流出ガスをＦＣＣ再生器に供
給すること、そしてＦＣＣ再生器微粉回収システムによ
って、本発明方法からの再生器ガス流出触媒微粉を回収
することにある． 更に、再生器に対して高い流出速度を有する再生空気を
用いることによって再生域温度が突然上昇するのを防止
する。その結果、再生器の運転がより安定する． 図面の第１図は、改良触媒ストリッパー器とストリッピ
ング法、及び再生ガスのための冷却コイルと予熱器から
戒る流動層再生域を用いている触媒再生器を含む装置と
流動層触媒反応域法の概略図である。

図面の第２図は、第１図の装置と同様に改良触媒ストリ
ッパー器、ストリッピング法、及び触媒再生器を含む装
置と流動層触媒反応域法の概略図である，ストリップし
た触媒を再生器に投入する前に該触媒を冷却する。更に
、再生ガスを再生器に投入する前に再生ガスを冷却して
再生温度を制御し水を除去する． 図面の第３図は、改良触媒ストリッパー器とストリッピ
ング法、及び再生ガスのための冷却コイルと予熱器から
成る流動層再生域を用いている触媒再生器を含む装置と
上昇管反応器触媒反応域法の概略図である． 本発明の目的は、オリゴマー化条件の下、流動層反応域
の中で軽質オレフィン供給原料を中細孔モレキュラーシ
ーブゼオライト触媒と接触させて、軽質オレフィン供給
原料をＣ，重質炭化水素へと転化することによって重質
炭化水素を製造するために、軽質オレフィン系炭化水素
、例えばエテン、ブロベン、及びブテンを含む炭化水素
供給原料を触媒転化する新しい経済的な方法と、流動層
触媒再生域の中で触媒を効率的かつ経済的に再生する方
法を提供するごとにある。

本発明のもう一つの別の目的は、触媒の再生の前に、部
分失活した触媒から炭化水素をストリップする改良方法
を提供することにある。本発明のもう一つの別の目的は
、比較的低温で水の分圧が低い状態において、触媒を高
圧再生する改良方法を提供することにある。

本発明の更に別の目的は、再生流出ガスが低一酸化炭素
濃度を有するように、触媒上のコークスが燃焼する条件
下、触媒再生域中において、触媒を再生する効率的かつ
経済的方法を提供することにある． 本発明の更に別の目的は、再生触媒の有効寿命と活性度
が増加するように、再生域が比較的低温で水の分圧が低
く、かつ再生域流出ガスの水分含有率が低い条件下、流
動触媒層再生域中において、コークス付着層を含む部分
的に失活した中細孔モレキュラーシーブゼオライト触媒
を再生させる効率的かつ経済的方法を提供することにあ
る。

本発明は分溜、コーキングおよび流動接触分解を含む従
来の石油精製工程を含み、しかも新規なゼオライト触媒
オリゴマー化工程を利用してオレフィン系Ｃ，工程流の
品質改善を図る。ガソリン沸点範囲の脂肪族炭化水素生
級物流を流動接触分解工程でオレフィン系Ｃ，工程流か
ら製造する。

本発明によれば原油供給原料を蒸留にかけて、軽質ガス
、ガソリン沸点範囲の軽質留出ナフサ、中間留出液、真
空ガス油および残油または粗製原油を含む幾つかの炭化
水素流に分離する。

ナフサを水添処理して硫黄化合物と窒素化合物を除き、
次いで接触改質帯域に供給し、ここでオクタン価を高め
、芳香族炭化水素の濃度を高めそして、水素を副生物と
して作る。

中間留出流を水添処理してケロセンやジエ，ト燃料等の
製品を作る。

真空ガス油を流動接触分解帯域（ＦＣＣ）に送り、ここ
で軽質ガソリン沸点範囲の留出液、Ｃ１ないしＣ，のオ
レフィンおよびバラフィンを含むオレフィン系Ｃ４流、
および重質留出液が作られる。ＦＣＣ装置は流動床モレ
キュラーシーブ接触分解器および触媒再生器を含む。モ
レキュラーシーブ触媒は、コークスを空気の再生ガスに
より燃焼させることにより触媒からコークス沈着物を酸
化により除去することにより連続的に再生される。

粗製原浦をコークス化装置に送り、ここでさらに軽質オ
レフィンを作ってもよい。粗製原油はまたプロパン脱瀝
、水添分解等の処理にかけてもよい。

例えば接触分解器および／またはコークス化装置で作ら
れるオレフィン系Ｃ４流またはＣＩＣ４オレフィンを含
む留分は、本発明の方法によれば、流動床反応器の流動
化ゼオライト触媒反応帯域に供給される。ゼオライト触
媒を含む流動床反応器をオリゴマー化工程条件下で操作
してＣ４オレフィン炭化水素をＣ，脂肪族炭化水素に転
換する。

流動床反応器の触媒を連続的に取り出しそして触媒再生
帯域で再生させる。再生工程を実施する前に、好ましく
は触媒をストリッピング帯域で不活性ストリッピングガ
スと接触させて、触媒に吸収された炭化水素を除去する
。

本発明はより詳細には、エデン、プロペンおよび／また
はブテンを含む軽質オレフィンガス供給原料を流動床反
応帯域でオリゴマー化条件下で中孔質モレキュラーシー
ブゼオライト触媒と接触させて軽質オレフィン供給原料
を重質炭化水素に転化することにより、軽質オレフィン
ガス供給原料を連続的に転化して重質炭化水素を作る方
法に関する。

触媒の一部を反応帯域から連続的に取り出して触媒スト
リッピング帯域に送って触媒から吸収炭化水素を除去す
る。

沈着コークスを含むストリツピングした触媒をストリソ
ビング帯域から取り出し、そして触媒再生帯域に送りそ
して酸素含有ガスと接触させて、コークスの燃焼こ触媒
からのコークスの除去と触媒の再生を行う。再生触媒を
再生帯域から引き抜きそして反応帯域に入れて新たな軽
質オレフィン供給原料と接触させる。

好ましい軽質オレフィン供給原料はＣ２　　Ｃ４アルケ
ン（モノオレフィン）を含み、総ｃ２−ｃ．アルケンは
１ロないし４０重量％の範囲である。メタン、Ｃ３−Ｃ
４パラフィンおよび不活性ガス等の無害成分を含んでも
よい。反応条件および使用する触媒にもよるが、パラフ
ィンのいくらかはＣ４＋炭化水素に転化するかもしれな
い。特に有用な供給原料はＦＣＣガス油分解装置の軽質
ガス副生物であり、これは代表的には１０−４０モルの
０２−Ｃ４オレフィン、５−３５モルのＨ２および種々
の量のＣＩ　　Ｃ３パラフィンおよびＮ２等の不活性ガ
スを含む。供給原料は主としてエデン、エデンとプロベ
ン、またはブロペンとブテンを含むものであることがで
きる。

ブロベンの添加によりオレフィン系供給原料流の品質を
向上させてＣ４製品の生産を高めてもよい。ブロベンま
たはブテン含有流、例えばＣ３Ｃ．ＬＰＧおよび種々の
精製留分をオレフィン系供給原料として使用できる。メ
チル第三ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）製造工程等からの
メタノール等のアルコール含有エーテル化脱ブタン塔頂
留分は望ましい供給原料である。ＭＴＢＥ塔頂留分は低
級オレフィンとメタノールとを含む。

流動床の分解装置およびオリゴマー化装置でバラフィン
の添加によりオレフィンを品質改良することはオエンら
の米国特許第４，０９０，９４９号に教示されている。

この方法は、燃料ガス限定石油精製所で液体製品の総括
生産率を高めるために、流動床接触分解（ＦＣＣ）装置
で操作するのに特に有用である。軽質オレフィンおよび
軽質パラフィンのいくらか、例えばＦＣＣ燃料ガス中の
ものなどは、ゼオライト触媒を含む流動床反応器中で重
要なＣ４＋炭化水素製品に転化できる。燃料ガスの品質
改良に加えて、燃料ガス精製プラントへの供給がかなり
減少する。これにより、燃料ガス制限精製所において高
い処理量および／または高い苛酷度でＦＣＣ装置の運転
が可能になる。

軽質オレフィン供給原料ガスの詳細を以下の第１表に記
載する。

第１表 モル％　　　ラ範担一　　　　中間　　　　　好ましい
範囲Ｈ２　　　　　　　０−５０　　　　０−３０　　
　　　　０−１０エテン　　　　０−９０　　　　０−
４０　　　　　　０−２０プロペン　　　１−９９　　
　　１−８０　　　　　　３−４０ブテン　　　　０−
９９　　　　０−８０　　　　　　１−４０メタノール
　　０−２０　　　　０−１０　　　　　　０−３最近
のゼオライト技術の発展により、細孔形状が類似する一
群の中孔質ケイ素材料が提供されている。これら中孔質
ゼオライトの中で最も有名なものはＺＳＭ−５であり、
これはＡＩ，Ｇａ，ＢまたはＦｅ等の四面体配列の金属
をゼオライト骨格に含めることによりブロンステッド酸
活性部位で通常は合成される。これらの中孔質ゼオライ
トは酸触媒に向いている。しかしながら、種々の酸性度
を有する一種類あるいはそれ以上の四面体種を有する高
度にケイ素質の材料または結晶性金屑珪酸塩を使用する
ことにより、ＺＳＭ−５構造体の利点を利用できる。Ｚ
ＳＭ−５の結晶構造はＸ線回折パターンにより容易に知
ることができ、これはアーガウアーらの米国特許第３，
７０２，８６６号に記載されており、これを本明細書に
文献として含める。

本発明での使用に好ましいオリゴマー化用触媒はアルミ
ナに対するシリカの比が少なくとも１２であり、拘束指
数が約１ないし１２であり、酸分解活性度が約１−２０
０である中孔質（すなわち約５−７Ａ）の形状選択性結
晶性アルミノシリケートゼオライトを包含する。流動床
反応器中でコークス付き触媒は、所望の反応苛酷度を達
成する工程条件下で約１ないし８０の見かけ密度を有す
るものであることができる。ＺＳＭ−５型ゼオライトの
代表的なものはｚＳＭ−５、ＺＳＭ−１１、ＺＳＭ−１
２、ＺＳＭ−２２、ＺＳＭ−２３、２８Ｍ−３５および
ＺＳＭ−３８ｒある。ＺＳＭ−５は米国特許第３，７０
２，８８６号および米国再発行特許第２９，９４８号に
開示されている。ＺＳＭ−５およびＺＳＭ−１２触媒が
好ましい。他の適当なゼオライトは米国特許第３，７０
９．９７９号、米国特許第３，．８３２，４４９号，米
国特許第４，０７６，９７９号、米国特許第３．８３２
，４４９号、米国特許第４．０７６．８４２号、米国特
許第４．０１６，２４５号、米国特許第４．　０　４　
６．８３９号，米国特許第４．４１４．４２３号、米国
特許第４．４１７．０８６号、米国特許第４，５１７，
３９６号および米国特許第４−．５４２，２５１号に開
示されている。これら特許の開示を本明細書に含める。

配位金属酸化物とシリカとのモル比が２０：１ないし２
００　：　１またはそれ以上の適当なゼオライトを使用
できるが、シリカとアルミナとのモル比が約２５　１な
いし７０：１で適当に変成された標準的なＺＳＭ−５を
使用することが有利である。ブロンステッド酸部位を有
する代表的なゼオライト触媒成分は、５ないし９５重量
％のシリカおよび／またはアルミナ結合剤を含むアルミ
ノシリケー｝ＺＳＭ−５ゼオライトのみからなるもので
あってもよい。

ＺＳＭ−５型中孔質形状選択性触媒のある種のものは時
にはぺ冫タシルとしても知られている。

好ましいアルミノシリケートに加えて、硼珪酸塩、フエ
ロシリケートおよび“シリカライト“材料も使用できる
。シリカ：アルミナのモル比が２５・１ないし７０：１
で見かけアルファ値が１−８０の標準的なＺＳＭ−５を
使用して、供給原料中のオレフィンの６０ないし１００
％、好ましくは少なくとも７０％を転化するのが有利で
ある。

ＺＳＭ−５型ぺ冫タシルゼオライトは、極度の条件下で
の再生性、長寿命および安定性のために、本方法で特に
有用である。通常はゼオライト触媒は約０　０１ないし
２ミクロンの結晶寸法を有するが、０．０２−１ミクロ
ンが好ましい。流動化用に所望の粒子径を得るために、
ゼオライト触媒の結晶をシリカ、アルミナ等の適当な無
機酸化物で拘束して、約５ないし９５重量％のゼオライ
ト濃度を得る。好ましい触媒は、シリカーアルミナマト
リックス結合剤中に含まれそして８０以下の新たなアル
ファ値を有するＨ−ＺＳＭ−５触媒２５ないし３５％か
らなる。

流動床中で全体的な均一性を得るためには、粒径分布は
重要な要素である。床全体に十分に混合する粒子で本方
法を実施することが望ましい。粒径が２５０ミクロン以
上である大粒子は避けるべきである。１ないし１５０ミ
クロンからなる粒径範囲を使用することが有利である。

平均粒径は通常は約２０ないし１００ミクロンであり、
好ましくは４０ないし８０ミクロンである。操作範囲内
で大小の粒子を取り混ぜることにより粒度分布を高めて
もよく、かなりの量の微粒子を使用することが特に望ま
しい。粒度分布を正確に制御して反応帯域での触媒の約
１０ないし２５重量％を３２ミクロン以下に範囲に保持
することができる。このような流動性粒子はゲルダート
グループＡと分類される。

本方法は濃厚流動床、乱流流動域がある流動床、および
ライザー反応器中で実施できる。

本発明の方法において軽質オレフィン供給原料をゼオラ
イト触媒と接触させると、以下に示す生成物が生じる。

望ましい生成物はＣ４ないしＣＩＳ炭化水素であり、代
表的にはＣ５ないしＣａ炭化水素であり、これは回収さ
れた生成物の少なくとも５０重量％、好ましくは７０％
あるいはそれ以上を占めるであろう。オレフィンが０４
反応流出物の主たる成分であることができ、９９％以下
のブテン、ペンテン、ヘキセン、ヘプテン、オクテン、
ノネン、Ｃ，。

オレフィンおよびシクロオレフィンおよびこれらの異性
体などであるが、芳香族を好ましくは少なくとも１０重
量％含む高オクタン価ガソリンに供給原料を改良するこ
とが望ましい。

反応で形成される未反応のエデン、ブロペンおよびブテ
ンをゼオライト触媒反応器に再循環してもよい。

軽質オレフィン供給原料中のエデン、ブロベンおよびブ
テンは２０ないし１００％、好ましくは６０ないし１０
０％、さらに好ましくは８０ないし１００％が転化され
る。

反応帯域で触媒は炭化水素を吸収する。吸収された炭化
水素は反応用原料、反応生成物および炭化水素中間生成
物の混合物からなる。これらの炭化水素は、触媒再生の
前にストリソビング容器中で触媒から追い出す。

触媒反応の望ましくない副生物はコークスの形成であり
、これは触媒に沈着しそしてその後に堆積して触媒を部
分的に失活させる。本明細書で使用する用語“コークス
”は、触媒に沈着しそして堆積する副生物であって、高
沸点窒素化合物と高縮合芳香族炭化水素とからなり代表
的には４ないし１０重量％の水素を含む不揮発性炭素質
物質を意味する。触媒再生帯域でのコークスの燃焼で再
生済触媒に少量の残留炭素が残る。

反応器 流動床反応器 ＺＳＭ−５型ゼオライト触媒を使用する本発明の方法は
約２０４−５１０℃、好ましくは２６〇一３９９℃、さ
らに好ましくは３１６−３９９℃の温度で実施される。

反応を実施する圧力は本発明の重要な要素である。本方
法は５０−５００ｐ　ｓ　ｉ　ｇ　（４４５−３５５０
ｋｐａ）　、好ましくは１００−４００ｐｓｉｇ　（７
９０−２８６０ｋｐａ）　、さらに好マシくは１００−
２５０ｐｓ　ｉｇ　（７９０−８２５ｋｐａ）で実施で
きる。軽質オレフィン供給原料の重量時間空間速度（Ｗ
Ｈ　Ｓ　Ｖ）は本方法の重要な要素である。主たる反応
体は軽質オレフィンガス供給原料のエデン、エデンとブ
ロベンまたはプロペンとブテン或分であり、これらのオ
レフィン成分に関してＷＨＳＶを付与する。原料中の軽
質オレフィンのＷＨＳＶは０．１ないし５０，好ましく
は０．１ないし５、さらに好ましくは０．５ないし１．
５である。

触媒床を通る流動化ガスの速度はＯ、０９ないし０．９
１ｍ／秒、好ましくは０．１５ないし０６１ｍ／秒、さ
らに好ましくは０．２１ないし０．４０ｍ／秒である。

流動化ガスは軽質オレフィン供給原料と形成されたまま
の炭化水素生成物とからなる。

触ＷＮ子は反応箒城の頂部希薄相内の１つあるいはそれ
以上の気体一固体分離ザイクロンで炭化水素ガス生成物
から分離され、分離された触媒を触媒床に戻す。炭化水
素ガス生成物を反応帯域の温度とほぼ同じ温度で反応器
の頂部から取り出し、そしてさらに処理しおよび／また
はプロセス流との熱交換に供する。

オリゴマー化転化反応は炭化水素供給原料の一部を望ま
しくないコークス副生物に転化し、このコークスは触媒
に沈着しそしてコークス沈着物は触媒に堆積して触媒を
部分的に失活させる。また、反応中に炭化水素生底物は
触媒に吸収され、回収されなかったものは製品収率の損
失となりそして触媒再生器の熱除去容量の必要性を高め
る。

工程条件を制御してＣｓ一Ｃｅ詣肪族炭化水素の収率を
最適化する。高濃度のブロンステッド酸部位を有するゼ
オライト触媒により芳香族および軽質バラフィンの生産
を促進する。したがって、重要なことは、酸活性度を有
する新しい触媒を提供しまたは触媒の失活速度と再生速
度を制御することにより見かけ平均アルファ値１−８０
となるように在庫の触媒を選定しそして維持することで
ある。

反応器の流動床の直径は代表的には０．９１ないし４．
５７ｍ，典型的には１．２２ないし３．０５ｍであり、
高さは１．５２ないし１５．２４ｍ，典型的には４．５
７ないし９．１４ｍである。

流動床反応帯域でのオレフィン供給原料の平均滞留時間
は３ないし８０秒、代表的には約ｌ５ないし２５秒であ
ることができる。

流動床触媒工程の使用により、反応器を少ない圧力降下
で操作できる。本方法の重要な利点は、流動床の運転に
より可能となる厳密な温度制御と反応器安定性であり、
転化温度の均一性は狭い誤差範囲内で維持できる。

代表的な方法においては、プロペンとプテンに富むＣ２
−Ｃ，オレフィン供給原料を触媒反応器中で２６０−３
９９℃の温度のオリゴマー化条件下で１００−２５０ｐ
ｓ　ｉｇ　（７９０−８２５ｋｐａ）の適度の圧力で転
化して、Ｃ４脂肪族炭化水素に富むガソリン範囲のオレ
フィンからなる主として液体生成物を得る。

ライザー反応器中で実施される炭化水素転化反応は、流
動床反応器で実施されるものと同じである。本方法はＺ
ＳＭ−５型ゼオライト触媒を利用し、そして転化反応は
主として反応器のライザー域で実施される。反応器のラ
イザー域の上に小さい流動床を使用することは任意であ
り、用いると、何らかの転化反応がこの床で起こる。

反応器のライザー域での反応温度は２０４℃ないし５１
０℃、好ましくは２６０ないし３９９℃、より好ましく
は３１６ないし３９９℃である。反応器のライザー域で
の反応圧力は５０ないし５００ｐｓ　ｉｇ　（４４５な
いし３５５０ｋｐａ）　、好ましくは１００ないし４０
０ｐｓ　ｉｇ　（７９０ないし２８６０ｋｐａ）　、よ
り好ましくは１００ないし２５０ｐｓ　ｉｇ　（７９０
ないし８２５ｋｐａ）である。供給原料中の軽質オレフ
ィンの重量時間空間速度（ＷＨ　Ｓ　Ｖ）は０．５ない
し１００、好ましくは２ないし１０そしてより好ましく
は４ないし６であることができる。

反応器のライザー域での移送ガス速度は１．５ないし３
０ｍ／秒、好ましくは１，５ないし９，１ｍ／秒、より
好ましくは３ないし６．１ｍ／秒である。

上部流動床を使用することは本発明の任意の態様である
。ライザー反応器は上部流動床付きでまたは上部流動床
なしで運転できる。

反応器の上部流動床域での流動化ガス速度は、上部流動
床を使用するときには、０．１ないし１．２ｍ／秒、好
ましくは０．３ないし０．９ｍ／秒、より好ましくは０
．３ないし０．５ｍ／秒である。

反応器の上部流動床域は好ましくは乱流域流動床として
操作する。

反応器のライザー域の高さは３ないし３０ｍ、好ましく
は６ないし１８ｍであることができる。

ライザー域の直径は０．０３ないし０．３ｍ，代表的に
は０．０３ないし０．１５ｍであることができる。反応
器のライザー域の上の流動床は、使用するときには、高
さは１．５ないし９，１ｍ、代表的には１，５ないし６
．１ｍであり、直径は０．３ないし９．１ｍ，代表的に
は０．６ないし１．８ｍであることができる。上部流動
床の触媒の一部を触媒再循環ラインに再循環して、供給
原料とともにライザー域の底部に入れることができる。

ライザー反応器中でのオレフィン供給原料の滞留時間は
代表的には１ないし２０秒、好ましくは３ないし１０秒
である。

ライザー反応器の操作は流動床反応器とほぼ類似してお
り、例えばほぼ同じ温度および圧力で実施でき、触媒へ
のコークス沈着速度および炭化水素生成物吸収速度は、
本発明の流動床反応器の具体例で記載したものとほぼ同
じである。

ストリッピング帯域 触媒を再生しそして吸収された炭化水素生底物を除去す
るために、沈着コークスと吸収炭化水素生成物を含む部
分的に失活した触媒の一部を、例えば反応器の流動床か
ら連続的に取り出し、触媒ストリッピング帯域に移す。

反応器中の触媒の約５ないし５０％／時間、好ましくは
７ないし２０Ｑ４／Ｒｌ！ｔ聞　　：ｋ　　Ｑ！−．ｈ
Ｚ　幸　１　　（　　１＋　　Ｉ　　ｎ？−ｉＬ１ｌ　
　１　　’：＝Ｑｌ　　／時間をストリッピングと再生
のために取り出す。

触媒を反応帯域の温度と圧力付近で取り出す。触媒取り
出し速度はオレフィン供給速度に依存する。

１０，０００ボンド／時間のオレフィン供給速度では代
表的には触媒を３０００ボンド／時間の速度で引き抜く
。

部分的に失活した触媒は０．２ないし５重量％の沈看コ
ークスを、代表的には１ないし４重量％のコークスを、
より代表的には１ないし３重量％のコークスを含む。部
分的に失活した触媒はまた、０．１ないし２重量％の、
例えば０．１ないし１５重量％および０．１ないし１．
０重量％の炭化水素中間体および炭化水素生成物を触媒
に吸収して含む。

部分的に失活した触媒をストリッピング容器に移し、そ
してストリッピング帯域で流動床として９３ないし５１
０℃、好ましくは１５０ないし４００℃、さらに好まし
くは２６０ないし３７０℃の温度で維持する。ストリッ
ピング容器の圧力を反応器圧力の±２０ｐｓｉ付近に維
持する。部分的に失活した触媒を流動床としてストリッ
ピング帯域で窒素等の不活性ストリノピングガスと接触
して維持し、このガスはストリッピング容器の底部で−
１２ないし４８０℃、好ましくは１０ないし９４℃、さ
らに好ましくは１０ないし３８℃の温度で導入される。

ストリッピングガスを流動床を維持するのに十分な速度
でストリッパーに導入する。床を通るストリッピングガ
スの見かけ速度は０，０１ないしｌｍ／秒、好ましくは
０．０３ないし０．４５ｍ／秒、さらに好ましくは０．
１５ないし０．４５ｍ／秒である。ストリッパー内の触
媒滞留時間は５ないし５００秒、代表的には６０ないし
１５０秒であることができる。

ストリッピングガスは窒素、再生器流出ガスまたは水蒸
気からなることができる。しかしながら窒素ガスが好ま
しい。

ストリッピング帯域では部分的に失活した触媒から実質
的に全ての炭化水素生成物が除去され、触媒には沈着コ
ークスのみが残る。除去された炭化水素生成物は回収の
ために反応容器および／または反応工程に戻すことがで
きる。

ストリッピング帯域からの流出ガスを別に処理して除去
された炭化水素生成物から窒素等のストリッピングガス
を分離する。分離された窒素をストリッピング帯域に再
循環してもよい。分離された炭化水素を反応器に戻して
さらに処理するか、または反応器からの流出炭化水素生
成物流に加えてもよい。

ストリッピング容器は好都合の大きさであることができ
、直径は０．０６ないし０．６１ｍ，代表的には０．１
ないし０．３ｍであり、高さは１．８ないし９．　１　
ｍ，代表的には４．６ないし７．６ｍであることができ
る。

ストリッピング帯域は反応器内の流動床と別である。ス
トリッピング容器を反応容器の外に配置しても、または
反応器の流動床内に配置してもよい。

再生器 沈着コークスを含むストリッピング済み触媒をストリッ
ピング帯域から取り出して触媒再生帯域に移し、ここで
触媒を流動床に維持する。部分的に失活した触媒を流動
床内で酸素含有再生ガス、例えば空気、と接触させて触
媒に沈着したコークスの燃焼と触媒からのコークスの除
去と触媒の再生を行う。

入手容易であり費用がかからないため、適当な再生ガス
は約２１％の酸素と７９％の窒素を含む空気である。し
かしながら好ましい再生ガスはＦＣＣ触媒再生器への空
気供給ガスである。

十分な量の酸素含有再生ガスを分散板を経て再生器の底
部へそして再生帯域へと送り、再生帯域で温度を３７１
ないし５３８℃、好ましくは４５４ないし５１０℃に、
さらに好ましくは４８２ないし５１０℃に維持し、そし
て十分な流動化ガスを与えて流動床の触媒を維持する。

再生器の圧力を５０ないし３００ｐｓ　ｉｇ　（４４０
ないし２１５０ｋｐａ），好ましくは１００ないし２５
０ｐｓｉｇ（７８０ないし１８００ｋｐａ）　、より好
ましくは１５０ないし２００ｐｓ　ｉｇ　（１１３０な
いし１４４０ｋｐａ）に、再生器への導入前に再生ガス
を加圧することによって維持する。好ましくは再生器内
の圧力を反応器内の圧力の約２０ｐｓｉ以内、より好ま
しくは反応器内の圧力の１Ｑｐｓｉ以内、例えば反応器
内の圧力の約ＯないしＳｐｓｉ以内に維持する。流動床
内での流動化ガス見かけ速度は０．０３ないし０．９１
ｍ／秒、好ましくは０，０３ないし０．３ｍ／秒、より
好ましくは０．０９ないし０．２ｍ／秒である。再生帯
域の頂部希薄相中で一個またはそれ以上のガスー固体分
離サイクロンにより、コークスの燃焼生成物および酸化
用ガスを含む流動化ガスから触媒粒子を除去し、分離さ
れた触媒を再生帯域の流動触媒床に戻す。再生ガス中の
余剰酸素および一酸化炭素、二酸化炭素および水分を含
む燃焼生成物を再生器から流出ガスとして除去する。流
出ガスは、０ないし２重量％、好ましくはＯないし５０
０ｐｐｍ、さらに好ましくはＯないし５０ｐｐｍの一酸
化酸素１１ないし２０モル％の酸素、さらに好ましくは
１ないし１０モル％の酸素、より好ましくは５ないし１
０モル％酸素を含む。再生器内の水分の分圧は１ないし
２０ｐＳ　ｉ　ａ、好ましくは１ないし１５ｐｓｉａ，
より好ましくはエないし５ｐｓｉａである。流出ガスは
また、少量の触媒微粒子を流出ガスの０ないし５重量％
、代表的には０．０５ないし２重量％、より好ましくは
０．１ないし１．５重量％、例えば０．０５ないし１重
量％含む。

再生器の触媒量は反応器の触媒量の約５−３０重量％、
代表的には１０ないし１５重量％である。

流出ガスをＦＣＣ触媒再生器に好都合に導入でき、この
再生器内で一酸化炭素は二酸化炭素に転化され、過剰の
酸素は燃え、そして触媒粒子とこの熱量はＦＣＣ触媒再
生器煙道ガス熱回収装置で回収される。回収された触媒
をＦＣＣプロセスに加えてＦＣＣ反応工程のオクタン価
を高めることもできる。

触媒に沈着した実質的に全てのコークスの燃焼と除去に
より、中孔質モレキュラーシーブゼオライト触媒を再生
帯域で再生する。再生帯域での触媒の平均滞留時間は６
ないし７５分間、代表的には３０ないし６０分間、より
代表的には５０ないし６０分間である。再生された触媒
は再生帯域から連続的に取り出され、そして反応帯域に
入って新たなオレフィン供給原料と接触する。再生され
た触媒はほんの僅かの量の炭素を触媒重量に基づき０．
０１ないし０．５重量％、好ましくは０，０１ないし０
．２重量％、さらに好ましくは０．０１ないし０．０５
重量％含む。

好ましい具体例 第１図を参照すると、Ｃ２　　Ｃ４オレフィンに富む加
圧供給ガスをライン１に供給し、主たる流れは反応容器
３の底部導入口２に入りグリッド４を通って流動帯域５
に分散する。ここでオレフィン原料は微細分割触媒粒子
の流動床と接触する。加熱されたオレフィン供給ガスの
残りはライン６を通って触媒返送用ライザー導管７に入
り、ここでは再生された触媒のリフトガスとして機能す
る。

常温のあるいは部分的に予備加熱されたオレフィン供給
ガスを使用することにより、反応熱を流動床反応帯域か
ら部分的にあるいは完全に除去することができる。邪魔
板を反応容器に加えて半径方向および軸方向の混合を制
御してもよい。既知の方法で温度を調整することにより
、反応により生じる熱を制御できる。オリゴマー化反応
は、流動床反応帯域中で３１６ないし３９９℃の温度で
１００ないし２５０ｐｓ　ｉｇ　（７９０ないし８２５
ｋｐａ）の圧力で実施される。軽質炭化水素供給原料の
Ｃ２Ｃ４オレフィン含量に基づき０．５ないし１．５Ｗ
ＨＳＶで供給原料を反応器に供給する。

触媒床を通る流動化ガス速度は０．７ないし１．３フィ
ート／秒であり、そしてこのガスは軽質オレフィン供給
原料と炭化水素転化生成物とからなる。反応帯域の希薄
相中の固体分離サイクロン８と９で触媒粒子を炭化水素
ガス生成物から分離し、そして触媒を浸漬脚８Ａと９Ａ
を通って流動床反応帯域に戻す。更に処理するために、
炭化水素ガス生成物を出口ライン１０を通って反応器の
頂部から取り出す。

重量時間空間速度と反応器流動床反応帯域５での均一接
触により、蒸気または蒸気と液体と固相との接触時間を
約３−２５秒に厳密に制御できる。

接触オリゴマー化転化反応は少量の軽質オレフィン炭化
水素供給原料をコークス副生物に転化し、このコークス
は触媒に沈着し、そしてコークス沈着物が堆積するにつ
れて触媒を部分的に失活させる。また、反応中に炭化水
素生成物は触媒に吸収され、これは除去しないと生成物
の収率の損失になる。

触媒を再生しそして吸収された炭化水素生成物を回収す
るために、沈着コークスと吸収された炭化水素生成物と
を含む部分的に失活した触媒の一部を反応器の流動床部
分から連続的に引き抜き、そして触媒流出手段１１によ
りバルブ制御手段１１Ａを通って触媒ストリッピング容
器１２へ移送する。反応器にある触媒量の約１０ないし
１５重量％／時間をストリッピングと再生のために取り
出す。触媒を反応器から反応帯域の温度および圧力付近
で取り出し、そしてストリッピング容器に供給する。部
分的に失活した触媒は、触媒重量に基づき１ないし３重
量％のコークスと０．１ないし１　０重量％の吸収炭化
水素生成物と含む。

ストリッピング帯域１３で２６０ないし３７０℃の温度
で反応器とほぼ同じ圧力で部分的に失活した触媒を流動
床として引き抜き、そしてストリッピング帯域１３で窒
素等の不活性ストリッピングガスと接触させる。１０な
いし３８℃の温度でそしてストリッピング帯域１３で流
動床を維持するのに十分な速度でかつ流動床を通るスト
リツビングガス速度を０．１５ないし０．４５ｍ／秒に
維持するのに十分な速度で、ストリッピング用窒素ガス
をライン１４を通ってストリッピング帯域の底部へそし
て分散板１５へと送る。ストリツビング帯域では部分的
に失活した触媒から実質的に全ての炭化水素生成物が除
去され、触媒には沈着コークスのみが残る。沈着コーク
スは触媒の約１ないし３重量％を占める。ストリッピン
グ処理を受けた触媒は炭化水素回収のために流出ライン
１６を通って反応器に戻る。

沈着コークスを含むストリソビング処理を受けた触媒を
ストリッピング帯域から取り出し、ストリッピング処理
された触媒流出ライン１７およびバルブ制御手段１７Ａ
に２６（｝−ないし３７０℃の温度で送られる。ストリ
ッピング処理された触媒はライン１８をへて再生用空気
に同伴しそしてライザー１９を経て再生容器２０の頂部
に送られる。

再生用ガスの多くはライン２］と分散板２２を経て再生
器２０い導入され、再生帯域の流動床２３で触媒の流動
化を行う。

部分的に失活した触媒を再生器２０の流動床で空気など
の酸素含有再生ガスと接触させて、コークスの燃焼と触
媒からコークスの除去と触媒の再生とを行う。十分な量
の酸素含有再生ガスをライン２１と分散板２２を経て再
生帯域に供給して触媒を流動床に維持する。再生帯域に
導入される酸素含有ガスの量を制御することによりそし
て冷却コイル３ｌに供給する飽和水蒸気の冷媒の量と温
度を制御することにより、流動床の温度を４８０ないし
５１０℃に維持する。再生器内の水蒸気分圧を５ないし
１０ｐｓｉＢに維持する。再生器の圧力は、例えば約１
５０ないし２００ｐｓｉｇ（１１３０ないし１．　４　
７　０　ｋ　ｐ　ａ　）であって反応器とほぼ同じであ
り、そして再生ガスを再生器に導入する前にライン２４
から供給される再生ガスを圧縮機２５で加圧することに
より、再生器の圧力を維持する。加圧された再生ガスの
空気を熱交換器６０で冷却してもよく、凝縮水はノック
アウトドラム６２から除く。次いで乾燥再生ガスを炉２
６で加熱して、特に触媒処理量が少ない期間中に再生帯
域で温度の厳密な制御を行う。

流動床再生帯域２３での流動化ガス速度は０５ないし１
．５フィート／秒である。再生器の頂部希薄相２７内の
サイクロン分離器２８で、コークスの燃焼生成物と酸化
用ガスを含む流動化ガスから触媒粒子を分離する。分離
された触媒を浸漬脚２８Ａを通って再生帯域に戻す。０
ないし５０ｐｐｍの一酸化炭素、５ないし１０モル％の
酸素および０．１ないし入．５重量％の触媒微粒子を含
む流出ガスを再生器から流出ガス出口ライン２９を通っ
て取り出す。

再生帯域流動床を所望の温度範囲に維持するために、ボ
イラー供給水（ＢＦＷ）冷媒をライン３０から熱交換器
３３ａに供給し、ここでライン１０を通って熱交換器３
３ａに供給される熱炭化水素生成物流出ガスにより冷媒
は加熱される。飽和水蒸気の水冷媒を熱交換器３３ａで
２３６ないし２６０℃に加熱し、次いで流動床再生帯域
２３の触媒再生器冷却コイル３１に冷媒を入れる。ＢＦ
Ｗ水冷媒は触媒再生帯域を冷却しながら冷却コイル３１
で加熱され、次いで冷却コイル３１からライン３２を通
って水蒸気飽和温度で取り出される。

冷却コイル３１を出る水蒸気一水混合流は、熱交換器３
３ｂでライン１０の熱炭化水素生成物流出ガスとの熱交
換によりさらに加熱される。高圧水蒸気をライン３５を
経て熱交換器３３ｂから取り出し、この水蒸気を精製所
あるいは系外での使用に供される。ライン３５の高圧水
蒸気流は、別の熱交換器（図示せず）を使用して反応器
流出物により過熱してもよい。４２０ないし７２００Ｆ
の温度で生成物流出流をライン３４を経て熱交換器３３
ａから引き抜き、さらに別途処理する。熱交換器３３ｂ
の高圧未蒸発ボイラー給水（ＢＦＷ）をボンブ３５ｂと
ライン３５ａとを経てＢＦＷ供給ライン３０に再循環で
きる。

触媒再生器からライン２９を通って流出するガスは再生
ガスとしてＦＣＣ触媒再生器に好都合に供給することが
でき、ここで一酸化炭素は二酸化炭素に転化され、余剰
の酸素は燃えそして触媒粒子はＦＣＣ工程に入ってＦＣ
Ｃ反応を促進する。

触媒に沈着した実質的にすべてのコークスの燃焼および
除去により触媒を再生帯域２３で再生する。再生帯域で
の触媒の滞留時間は３０−６０分間である。触媒重量に
基づき０．０１ないし０．１０重量％の量で炭素のみを
含む再生済み触媒は、触媒取り出しライン３６を通って
バルブ制御手段３６Ａを経て再生器から連続的に取り出
され、そしてライン６を通って触媒返送ライザー７へと
送られる加圧オレフィン供給原料とともに返送ライザー
導管７を通って触媒床へ入り、そして流動床反応帯域５
で新たなオレフィン供給原料と接触する。

反応器に返送される再生済み触媒の量は比較的少ないの
で、再生済み触媒の温度は反応器の温度状態にあまり影
響を与えない。

ライン３４からの回収された炭化水素生成物はＣ５ガソ
リン範囲炭化水素と中間留出油範囲炭化水素とからなり
、そしてその後必要により処理して所望のガソリン範囲
の生成物または高沸点留出油生成物となる。

乱流流動床操作条件で触媒反応を実施するための本発明
の方法の使用はアビダンらの米国特許第４．５４７．６
１６号に記載されており、この文献を本明細書に含める
。炭化水素留出生成物に使用できる代表的な分溜装置が
米国特許第４．４５６，７９９号および米国特許第４．
５０４，６９３号（オーエン等）に記載されている。

流動床中で冷却コイル（図示せず）の間接熱交換により
および／またはオレフィン原料を加熱または冷却するこ
とにより、流動床反応器内で温度を制御できる。常温原
料を使用することにより、反応熱の一部または全部を反
応器から除去でき、これにより原料の温度を調整するこ
とにより反応器温度を制御できる。反応生成物に含まれ
ている熱は前に述べたように、高圧水蒸気を作るボイラ
ー給水等の飽和水蒸気冷媒水との熱交換にょり熱交換器
３３ａおよび３３ｂで回収される。ストリッピング容器
１２内の温度は、窒素ストリッピングガスの温度を制御
することにより部分的に制御できる。

本発明の別の具体例が第２図に示されており、ここで第
１図と同じ参照番号は同じ部材を示す。

第２図において、ストリッピング容器１２から取り出さ
れた触媒を冷却することによりおよび再生器への導入前
に酸素含有再生ガスを冷却することにより、再生帯域２
０の温度を制御する。反応器からの熱留出ガスをボイラ
ー給水（ＢＦＷ）冷媒と熱交換して高圧水蒸気を作る。

第２図を参照すると、オリゴマー反応は、流動床反応帯
域で３１６ないし３９９℃の温度で１００ないし２５０
ｐｓ　ｉｇ　（７９０ないし８２５ｐｋａ）の圧力で実
施される。軽質炭化水素供給原料を、供給原料中のエデ
ン、プロペンおよびブテン含量に基づき０．５ないし１
．５ＷＨＳＶで反応器に供給する。

触媒床を通る流動化ガス速度は０　２ないし０４ｍ／秒
であり、そして軽質オレフィン原料と炭化水素生成物と
を含む。

接触オリゴマ一転化反応は軽質オレフィン炭化水素供給
原料の一部をコークス副生物に転化し、このコークスは
触媒に沈着し、コークス沈着物が堆積するにつれて触媒
を部分的に失活させる。

触媒を再生しそして吸収された炭化水素生成物を回収す
るために、部分的に失活した触媒の一部を反応藩の流動
床部から連続的に取り出し、触媒流出手段１１によりバ
ルブ手段１１Ａを通って触媒ストリッピング容器１２へ
と送る。反応器内の触媒量の約１０ないし１５重量％を
ストリノビングと再生のために取り出す。３１６ないし
３９９℃の温度および１００ないし２５０ｐｓｉｇ（７
９０ないし８２５ｋｐａ）の圧力で触媒を反応器から取
り出す。部分的に失活した触媒はエないし３重量％のコ
ークスと０．１ないし１重量％の吸収された炭化水素生
成物とを含む。

沈着コークスを含むストリッピング済み触媒を出口ライ
ン１７から２６０ないし３７０℃の温度で取り出し、そ
して水蒸気等の冷却用流体との間接接触により熱交換器
５０で冷却される。

３８ないし９３℃の温度で冷却触媒をバルブ制御手段１
７Ａを通って触媒再生容器２０へ送る。

流動床触媒反応器およびストリッピング容器はその他の
点では第１図のように操作される。

空気等の酸素含有再生ガスは、再生容器２０に導入する
前に、ライン２４を通って圧縮器２５に送られ、そして
１５０ないし２００ｐｓｉｇ（１１３０ないし１４７０
ｋｐａ）の圧力に加圧され、そして熱交換器６０で水蒸
気等の冷媒と接触して冷却されて再生ガスの温度を２７
ないし４９℃に下げる。加圧冷却再生ガスをノソクアウ
トドラム６２に送り、ここで凝縮した湿分（水分）をラ
イン６２Ａから除去する。伶却、乾燥および加圧された
再生ガスはライン２４、１８および２１を通って再生容
器２０に入る。冷却およびストリッピング処理された触
媒は３８ないし９３℃の温度でライン１８を経て再生ガ
スに同伴し、そしてライザー１９を経て再生容器２０の
頂部に輸送される。

再生ガスの大部分はライン２１と分散板２２とを経て再
生器２０に導入されて、再生帯域２３の流動床でストリ
ッピング処理された触媒を流動させる。

部分的に失活した触媒は再生器２０の流動床で冷却空気
の再生ガスと接触してコークスの燃焼と触媒からのコー
クスの除去と触媒の再生とを行う。

十分な量の冷却空気再生ガスをライン２１と分散板２２
とを経て再生帯域に送られて触媒を流動させる。再生空
気を熱交換で冷却する温度を制御して、再生帯域２３で
の温度を４５４ないし５１０℃に維持する。再生ガスを
圧縮器２５で圧縮することにより再生帯域の圧力を１５
０ないし２００ｐｓｉｇ（１１３０ないし１４７０ｋｐ
ａ）に維持する。再生帯域２３での流動化ガス速度はＯ
１５ないし０．４６ｍ／秒である。再生器の頂部希薄相
２７のサイクロン分離器２８でコークスと酸化ガスの燃
焼生成物を含む流動化ガスから触媒粒子を分離する。分
離された触媒を浸漬脚２８Ａをとおって再生帯域に戻す
。再生帯域での水分の分圧は５ないし１０ｐｓｉａであ
る。０ないし５０ｐｐｍの一酸化炭素、５ないし２０モ
ル％の酸素および０．１ないし１．５１ｔ量％触媒微粒
子を含む流出ガスを再生器２ｏから流出ガス出口ライン
２９を通って取り出す。

ライン１０にある反応器３から流出した熱炭化水素生成
ガスの熱を、熱交換器３３でボイラー給水ＣＢＦＷ）等
の飽和水蒸気との間接熱交換により回収して、高圧水蒸
気をつくりそして生成ガスを冷却する。

再生帯域での触媒の滞留時間は３ｏないし６０分間であ
る。触媒重量に基づき０．０１ないし００５重量％とい
うほんの僅かの炭素を含有する再生済み触媒を、触媒取
り出しライン３６を通ってバルブ制御手段３６Ａを経て
再生器から連続的に取り出し、そしてライン６を通って
触媒返送ライザー７へ送られる加圧オレフィン原料とと
もに返送ライザー導管７を通って触媒床に入れ、そして
流動床反応帯域５で新たなオレフィン原料と接触する。

本発明の別の具体例では、本方法は第３図に示すように
ライザー反応器中で実施される。

第３図を参照すると、Ｃ．−Ｃ．オレフィンに富む加圧
供給ガスはライン１０１を通ってライザー域１０７の底
部に送られ、ここで触媒返送ライン３６を通り流量制御
弁３６Ａを経てライザー反応器に送られる再生済み触媒
と供給ガスとが接触する。再生済み触媒はライザー域１
０７を上昇して流動触媒床域１０５に入る。オリゴマ一
転化反応はライザー域１［）７で主として起こり、この
域は３１６ないし３９９℃の温度および１００ないし２
５０ｐｓ　ｉｇ　（７９０ないし８２５ｋｐａ）の圧力
に維持されている。Ｃ２−Ｃ．オレフィン主体の軽質炭
化水素供給原料は２ないし８のＷ　Ｈ　Ｓ　Ｖでライザ
ー反応器に送られる。ライザー域での移送用ガスの速度
は３ないし６．１ｍ／秒に維持され、このガスは軽質オ
レフィンと炭化水素生成物とを含む。

流動触媒床１０５での触媒の一部を触媒循環ライン１１
２を通って流量制御弁１１３を経て再循環してライザー
反応器１０７の底部に入れてもよく、この触媒の一部を
ライン１０１を通って入る原料と混合してもよい。

ライザー反応器の触媒滞留時間は３ないし１０秒である
。触媒粒子を反応器の頂部希薄相の固体分離用サイクロ
ン１０８と１０９で炭化水素生成ガスから分離し、触媒
は浸漬脚１０８Ａ、１０９Ａを通って流動床反応帯域に
戻す。

部分的に失活した触媒をほぼ反応温度および反応圧力で
反応器から取り出し、そして触媒ストリソビング容器１
２に供給する。部分的に失活した触媒は１ないし３重量
％のコークスと０　１ないし１重量％の吸収炭化水素生
成物とを含む。

取り出した触媒を第１図で述べた手法に従ってストリッ
ピングしそして再生する。

再生器内にある触媒量の約５０ないし５００重量％を再
循環する。

第３図に示すように、再生帯域２０の冷却は第１図を変
形したものであり、過熱ＨＰＳを作っている。ライン１
０を通って熱交換器３３ａに送られる熱流出炭化水素生
成ガスによりボイラー給水（ＢＦＷ）冷媒を加熱する熱
交換器３３ａへとライン３０を通って冷媒を供給するこ
とにより、再生帯域流動床温度を所望の温度範囲内に維
持する。

加熱された冷媒を次いでライン３０ａを経て熱交換器３
３ｂに供給し、ここでライン１０を通って熱交換器３３
ｂに送られる熱流出炭化水素生成ガスによりさらに加熱
される。次いで加熱された冷媒をライン１３５を通って
流動床再生帯域２３の触媒再生器冷却コイル３１に送る
。触媒再生帯域を冷却しながら、ＢＦＷ水冷媒を冷却コ
イル３１でさらに加熱し、そしてこの冷媒をライン１３
２を経て冷却コイル３１から過熱ＨＰＳとして取り出す
。ライン１３２の過熱ＨＰＳは精製所または系外で別途
用途に供される。生成物流出流をライ冫３４を経て熱交
換器３３ａから取り出し、そして別の処理にかける。

本発明を以下の実施例でさらに説明する。

裏爽興よ 触媒とシリカ，アルミナ結合剤との重量比が２５／７５
であるＨＺＳＭ−５触媒を使用して、本方法を実施した
。

ＦＣＣ　　Ｃ２−Ｃ，軽質オレフィン供給ガスを使用し
て本方法を実施した。軽質オレフィン供給原料の組成は
以下のとおりである。

供給ガス　　　　　　　　　モル％ 水素　　　　　　　　　　　１９，１ 不活性ガス　　　　　　　　１１．７ メタンおよびエタン　　　　３２．０ エデン　　　　　　　　　　１０．０ ブロペン　　　　　　　　　■６．０ プロパン　　　　　　　　　　６．０ ブテン　　　　　　　　　　　　１．８ブタン　　　　
　　　　　　　１．４ ｃ５．　　　　　　　　　　　　２．０本方法は第１図
に示す具体例を使用して実施した。オレフィンに関して
約０．８ＷＨＳＶで原料を供給し、約４５４℃の温度お
よび約１７５ｐｓｉｇ　（１３００ｋｐａ）ｃＤ圧力ノ
オリコマー化条件下で反応器の流動床中でＨＺＳＭ−５
触媒と接触させた。原料中のエデンおよびブロペンの一
回通過の転化率はそれぞれ９４および９５％であった。

反応器内の触媒滞留時間は８時間であった。

１時間あたり反応器内の触媒量の約１２．５％をストリ
ッピングと再生のために取り出した。

約２．４重量％のコークスと０．２重量％の吸収炭化水
素生成物を含む部分的に失活した触媒を反応器から連続
的に取り出した。取り出した触媒を触媒ストリソパーに
導入し、そして約４２５℃の温度および約１７５ｐｓ　
ｉｇ　（１３００ｋｐａ）の圧力で流動床ストリッピン
グ帯域の触媒ストリッパーで窒素ストリッピングガスと
接触させた。ストリッパー内での触媒滞留時間は約１０
０秒であった。実質的にすべての炭化水素生成物が除去
されそして２　４重量％のコークスを含むストリノビン
グ処理した触媒をストリッピング帯域から連続的に取り
出しそして触媒再生器に送った。

約１７５ｐｓ　ｉｇ　（１３００ｋｐａ）の圧力および
約９３℃の温度で圧縮空気の再生ガスを導入することに
より、ストリノビング処理された触媒を再生器内で流動
床として維持した。

再生ガスを再生帯域に導入する前に再生ガスを加圧する
ことにより、再生帯域の圧力を維持した。

再生帯域内の水分圧は約１０−１５ｐｓｉａであった。

触媒から実質的にすべてのコークスを燃焼させるのに十
分な割合の再生ガスを導入した。再生帯域の流動床にあ
る冷却コイルから再生帯域の熱を除くことにより、再生
帯域の温度を５００℃の所望の水準に維持した。ボイラ
ー給水ＣＢＦＷ）等の冷媒を約２３２℃の温度で冷却コ
イルに送り、そして約３４３℃の温度で取り出した。

第１図に示すように、反応器流出物との熱交換によりボ
イラー給水冷媒を予備加熱した。冷媒を例えば４５０°
Ｆの温度に予備加熱した。予備加熱した触媒は約０．０
５重量％の残留炭素を含み、これを新たなオレフィン原
料とともに反応器に送った。

再生器からの留出ガスは最大５０ｐｐｍのＣＯ、約１２
　４モル％の酸素（１３．７重量％の酸素）、約５ない
し９モル％の水分（３．７重量％の水分）を含んでいた
。

この実施例は、本発明が実施できたことおよび、９３５
°Ｆの温度、１７５ｐｓｉｇの圧力、および１０−１５
ｐｓｉａの水分圧で触媒は再生器中で効果的に再生され
たことを示している。触媒を再生するうえで、並びに触
媒の残留炭素量を触媒への損傷なしに約０．０５重量％
に低下させるうえで、再生工程は有効である。

本実施例はさらに、不活性がスストリ・ンビンク゛の利
用および触媒再生器での冷却コイノレの使用！ま、再生
帯域で低温および低水分圧で触媒を再生する効率的かつ
効果的方法をもたらし、そのため触媒活性と触媒寿命が
延びることを示して（１る。

実施例２ 実施例１の手法および条件に従って実施したが、触媒再
生器内で冷却コイルを使用しなかった。

冷却コイルの冷却効果がないと、触媒再生温度は約６４
０℃に上昇し、これは触媒の損傷と触媒有効寿命のかな
りの低下をもたらした。

実施例３ 実施例１の手法および条件に従って実施したが、触媒ス
トリッピング工程を省略した。触媒ストリツピング工程
の省略により、オリゴマー反応期間中に触媒に吸収され
た炭化水素が触媒再生器に流入した。これらの条件下で
再生温度を所望の５００℃の再生温度に維持するために
は、冷却コイルの熱除去容量を２０−４０％高める必要
があることが分かった。

本発明およびその具体例を記述してきたが、特許請求の
範囲の記載を除いていかなる不当な制限を課すべきでは
ない。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第３図は本発明の一例を示す概略系統図で
ある。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、軽質オレフィンを重質炭化水素に転化する方法であ
   つて、 流動床触媒反応帯域内でオリゴマー化条件下で軽質オレ
   フィンを中孔質モレキュラーシーブゼオライト５触媒と
   接触させて、軽質オレフィン供給原料を重質炭化水素と
   副生物のコークスに転化し、コークス状副生物は触媒に
   沈着して触媒を部分的に失活させ、炭化水素生成物の一
   部は触媒に吸収され；反応帯域から炭化水素生成物を取
   り出して回収し； 部分的に失活したコークス含有触媒と吸収された炭化水
   素生成物とを反応帯域から取り出し；取り出した触媒を
   触媒ストリッピング帯域に移し； ストリッピング帯域にて部分的に失活した触媒を不活性
   のストリッピングガスと接触させて吸収された炭化水素
   生成物のほとんど全てを触媒から除去し； ストリッピング帯域から沈着コークス含有ストリッピン
   グ済み触媒を取り出し； 触媒流動床を維持している触媒再生帯域に取り出した触
   媒を移し； 流動床内で触媒を酸素含有ガスと接触させてコークスを
   燃焼させ、実質的割合のコークスを触媒から除去しそし
   て触媒の再生を行い、この再生触媒は少量の残留炭素を
   含み； 熱い流出ガスを再生帯域から取り出し； 再生触媒を再生帯域から取り出し； この取り出した再生触媒を反応帯域に導入し；そして 反応帯域内で再生触媒を新たな軽質オレフィン供給原料
   と接触させる； 上記各工程からなる方法。 ２、５００ないし９５０°Ｆの温度の反応器中で実施す
   る、請求項１記載の方法。 ３、４００ｐｓｉｇ以下の圧力で反応器中で実施する、
   請求項１記載の方法。 ４、ストリッピング帯域の温度は３００ないし７５０°
   Ｆである、請求項１、２または３記載の方法。 ５、ストリッピング帯域の圧力は反応器の圧力とほぼ同
   じである、前記請求項の何れかに記載の方法。 ６、触媒再生温度は７００ないし１０００°Ｆである、
   前記請求項の何れかに記載の方法。 ７、再生圧力は反応器圧力から２０ｐｓｉ以内である、
   前記請求項の何れかに記載の方法。 ８、再生帯域での水蒸気分圧は５−１５ｐｓｉａである
   、前記請求項の何れかに記載の方法。 ９、再生帯域からの熱流出ガスは触媒微粒子、ＣＯおよ
   び余分の酸素を含む、前記請求項の何れかに記載の方法
   。 １０、反応帯域に導入する再生触媒は０．０１ないし０
   ．２重量％の残留炭素を含む、前記請求項の何れかに記
   載の方法。 １１、酸素含有再生ガスを再生帯域に供給する前に圧縮
   器に送ってガスの圧力を高め、再生器からの熱流出ガス
   を膨張タービンに送って圧縮器を操作する動力を作る、
   前記請求項の何れかに記載の方法。 １２、再生帯域からの熱流出ガスは触媒微粒子、ＣＯお
   よび余剰酸素を含みそして、流出ガスをＦＣＣ触媒再生
   帯域に送る、前記請求項の何れかに記載の方法。 １３、再生帯域に送られる酸素含有再生ガスを、ＦＣＣ
   触媒再生器に供給される再生ガス供給原料から得る、前
   記請求項の何れかに記載の方法。 １４、再生帯域は冷却コイルを含み、そして十分な量の
   冷媒を冷却コイルに送って所望の温度を再生帯域で維持
   する、前記請求項の何れかに記載の方法。 １５、再生帯域は冷却コイルを含み、そして十分な量の
   ボイラー供給用水冷媒を冷却コイルに送って所望の温度
   を再生帯域で維持する、請求項１ないし１３の何れかに
   記載の方法。 １６、冷却コイルに導入する前にボイラー供給用水冷媒
   を第一熱交換器で反応器からの熱炭化水素生成流出ガス
   と熱交換し、冷却コイル中のボイラー供給用水冷媒を少
   なくとも部分的に高圧水蒸気に変え、そしてこの少なく
   とも部分的に変わったボイラー供給用水を第二熱交換器
   で反応器からの熱炭化水素生成流出ガスと熱交換しそし
   て前記高圧水蒸気を別途使用のため除去する、請求項１
   ５記載の方法。 １７、再生帯域は冷却コイルを含み、反応器流出物との
   間接熱交換で生じた十分な量の高圧飽和水蒸気を、冷却
   コイルに通すことによって過熱して再生帯域で所望の温
   度を維持する、請求項１ないし１３の何れかに記載の方
   法。 １８、酸素含有再生ガスを、所望の温度を再生帯域で維
   持するために再生器に供給する前に、十分冷却しそして
   その遊離水分を除去する、前記請求項の何れかに記載の
   方法。 １９、１ないし２０％過剰の酸素を含む再生ガスで触媒
   の再生を行う、前記請求項の何れかに記載の方法。 ２０、酸素含有再生ガスを、再生帯域に供給する前に予
   備加熱して再生帯域の温度を所望の範囲内に制御する、
   前記請求項の何れかに記載の方法。 ２１、反応器は流動床反応器またはライザー反応器であ
   る、前記請求項の何れかに記載の方法。 ２２、反応器の圧力と再生帯域の圧力はほぼ同じである
   、前記請求項の何れかに記載の方法。 ２３、反応器の圧力と再生帯域の圧力はほぼ同じであり
   そして１００ないし２５０ｐｓｉｇの範囲内である、前
   記請求項の何れかに記載の方法。 ２４、反応器の圧力、ストリッパー帯域の圧力および再
   生帯域の圧力はほぼ同じである、前記請求項の何れかに
   記載の方法。 ２５、軽質オレフィンを重質炭化水素に転化するための
   装置であって、 流動化ゼオライト触媒、反応器の底部にある軽質オレフ
   ィン供給原料用の導入口、反応器の頂部にある熱炭化水
   素流出ガス生成物の流出口を備えた垂直型反応器； 反応器から触媒を取り出す手段； 前記取り出し手段に接続されておりそして取り出した触
   媒を触媒ストリッパー容器に送る移送手段； 不活性ストリッピングガスを前記ストリッパー容器に導
   入して前記触媒およびこの触媒からのストリップ炭化水
   素に接触させる手段； 前記ストリッパー容器からストリップした触媒を取り出
   す手段； 前記取り出し手段に接続されておりそして前記ストリッ
   プされた触媒を触媒再生器に送る手段；酸素含有再生ガ
   スを前記触媒再生器に導入するための触媒再生器の下方
   部の導入手段、 再生触媒を取り出すための前記再生器内の触媒流出手段
   ； 前記反応器に再生触媒を送るための前記流出手段に接続
   した移送手段；および 前記再生器から熱流出ガスを除去するための前記再生器
   の上部にあるガス流出手段； からなる装置。 ２６、酸素含有再生ガスを前記再生器に導入するための
   手段は再生ガスの圧力を再生器内の圧力付近まで高める
   圧縮器からなる、請求項２５記載の装置。 ２７、再生器のガス流出移送手段は、再生器から取り出
   されたガスを膨張させそして動力を発生させるための膨
   張タービンからなる、請求項２５または２６記載の装置
   。 ２８、酸素含有再生ガスを前記再生器に導入するための
   手段は、このガスを再生器内の圧力付近まで高める圧縮
   器からなり、再生器ガス流出移送手段は、再生器から除
   去されたガスを膨張させそして圧縮器を操作するための
   動力を発生させるための膨張タービンと、膨張タービン
   で発生した動力を圧縮器に伝達する動力伝達手段とから
   なる、請求項２５、２６又は２７記載の装置。 ２９、再生ガスをＦＣＣ触媒再生器に供給するための酸
   素含有再生ガス供給手段、およびＦＣＣ再生ガス供給原
   料の一部を前記触媒再生器導入手段に送る手段を含む、
   請求項２５ないし２８の何れかに記載の装置。 ３０、前記触媒再生器から熱流出ガスの除去のためのガ
   ス流出手段を、前記熱流出ガスを供給原料あるいはＦＣ
   Ｃ触媒再生器ガス供給手段に移送する移送手段に接続す
   る、請求項２５ないし２９の何れかに記載の装置。 ３１、再生容器は触媒の流動床からなり、この触媒床は
   内部に配置された冷却コイルを含み、前記冷却コイルは
   前記再生器に取り付けられており、そしてこの冷却コイ
   ルは流体冷却用の冷媒導入手段と流体冷却用の冷媒流出
   手段とを有する、請求項２５ないし３０の何れかに記載
   の装置。 ３２、再生容器は触媒流動床を含み、この触媒床は内部
   に配置された冷却コイルを含み、この冷却コイルは前記
   再生容器に取り付けられており、前記冷却コイルは流体
   冷却用の冷媒導入手段と流体冷却用の冷媒流出手段とを
   有し、前記冷媒導入手段は冷媒供給ラインにより流体冷
   却源に接続されており、冷媒供給ラインは冷却用流体が
   冷却コイルに入る前に冷却用流体を予備加熱する第一熱
   交換器に使用可能に接続されており、前記流出手段は流
   出ラインに接続されており、前記冷媒流出ラインは前記
   冷媒をさらに加熱する第二熱交換器に接続されており、
   反応器からの熱炭化水素流出ガスのための流出手段は生
   成ガス流出ラインに接続されており、このラインは、冷
   媒が冷却コイルを通った後には第二熱交換手段に、そし
   て冷媒が冷却コイルに入る前には第一熱交換手段に接続
   されている、請求項２５ないし３１の何れかに記載の装
   置。 ３３、冷媒導入ラインと冷媒流出ラインとを有する冷媒
   加熱用の熱交換器を含み、熱炭化水素ガス流出生成物の
   ための前記反応器流出手段は、前記熱交換器に使用可能
   に接続された生成ガス流出ラインに接続されており、こ
   れにより前記熱交換器に入る冷媒を加熱しそして反応器
   からの熱炭化水素生成物流出ガスを冷却する、請求項２
   ５ないし３２の何れかに記載の装置。 ３４、酸素含有再生ガスを冷却しそしてこのガス中の水
   分を凝縮させる冷却手段、再生ガスを再生器に供給する
   前に凝縮水を除去する水除去手段、および冷却した再生
   ガスを再生ガス導入手段に供給する移送ライン手段を含
   む、請求項２５ないし３３の何れかに記載の装置。 ３５、再生帯域に供給する前に酸素含有再生ガスを加熱
   して再生帯域の温度を所望の範囲内に制御する加熱手段
   を含む、請求項２５ないし３４の何れかに記載の装置。 ３６、触媒反応器は流動床反応器またはライザー反応器
   である、請求項２５ないし３４の何れかに記載の装置。