JPH03206058A - 水酸基含有化合物の製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 及里二韮逝世１ 本発明はシリルバーオキドを用いて水酸基含有化合物を
製造する新規な方法に関する。

只１レｉ遺（］４象意 従来から、水酸基含有化合物１人　各種の溶剋有機化合
物製造原料あるいは反応中間体として使用されている。

このような水酸基含有化合物は、通常は、微生物を用い
た発酵法、炭化水素化合物の酸素酸化法、オレフィンへ
の水付加法あるいはカルボニル化合物の還元法などを利
用して製造されている。

しかしながら、例え！戴　　発酵法で（Ｌ　用いる基質
の水類が限られることが多く、また、酸素酸化法で（九
　反応を行う際に高温高圧に反応条件を設定する必要が
ある。さら番；　水付加法で１転　濃硫酸のような危険
度の高い強酸触媒を使用する必要があり、また、カルボ
ニル酸化法で田　バナジウムのような高価な触媒を用い
る必要がある。

このように従来の水酸基含有化合物の製造方法は、それ
ぞれ課題を有しており、新たな方法の開発が望まれてい
九 及里立１１ 本発明＋４　　水酸基含有化合物を製造する新規な方法
を提供することを目的としている。

さらに詳しく番４　本発明は、極めて穏やかな条件で水
酸基含有化合物を効率よく製造することができる方法を
提供することを目的としている。

及里二旦１ 本発明の水酸基含有化合物の製造方法は、酸触媒の存在
下に、次式［■］で表されるシリルバーオキシド： ・・［１］ ［ただし、上記式［ｒ］において、ＲＩＳ　Ｒ２および
Ｒｌは、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル瓜　
シクロアルキル五　アリールアルキル忍アリール五　低
級アルコキシカルボニル忍　カルボニル基およびアミノ
カルバモイル基よりなる群から選ばれる原子もしくは基
を表し、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立に、水
素原子、低級アルキル五　シクロアルキル忍　アリール
アルキル忍アリール基および低級アルコキシ基よりなる
群から選ばれる原子もしくは基を表し、かつＲ４、Ｒ５
およびＲｅが、同時に水素原子になることない］と、水
および／または次式［ＩＩ］で表されるアルコール゛ Ｒ７−○Ｈ　　　　　　　　　　　・・・［ｎ］［ただ
し　上記式［ｎ］において、炭素原子数１〜１０の低級
アルキル五　アリールアルキル基およびアリール基より
なる群から選ばれる基を表す］とを接触させて次式［ｍ
］で表されるハイドロバーオキシド： Ｒ Ｒ ・・・［ｍ］ ［ただし、上記［ｍ］において、Ｒｌ、Ｒ２およびＲ３
は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル忍　シク
ロアルキル忍　アリールアルキル忍アリール振　低級ア
ルコキシカルボニル基　カルボニル基およびアミノカル
バモイル基よりなる群から選ばれる原子もしくは基を表
す］を生威させ、次いで該ハイドロバーオキサイドを還
元することを特徴としている。

上記の方法により製造される水酸基含有化合物は次式［
ｒｖ］で表すことができる。

Ｒ ａ ・・・［■］ ただし、上記［ｍ］において、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は
、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル忍　シクロ
アルキル基　アリールアルキル忍　アリール忍　低級ア
ルコキシカルボニル五　カルボニル基およびアミノカル
パモイル基よりなる群がら選ばれる原子もしくは基を表
す。

本発明の水酸基含有化合物の製法によれ１！、シリルバ
ーオキシドを原料として使用しているため、穏和な条件
で、安全にしかも効率よく水酸基含有化合物を製造する
ことができる。

日の　体的な説日 次に本発明の水酸基含有化合物の製法について具体的に
説明する。

本発明の製法において原料として使用されるシリルバー
オキシドは、次式［Ｉ］で表される化合物である。

・・・［ｒ］ ただし、上記式［ｒ］において、Ｒ１、Ｒ２およびＲ　
３　ｉ１　　それぞれ独立に　水素原子、低級アルキル
忍　シクロアルキル忍　アリールアルキル瓜アリール五
　低級アルコキシカルボニル五　カルボニル忍　アミノ
カルバモイル基よりなる群がら選ばれる原子もしくは基
を表す。

なお、低級アルキル基は、通常ＩＬ　　炭素原子数がｌ
〜１α　好ましくは１〜６の範囲内にあるアルキル基を
意味する。また、低級アルコキシカルボニル基を形戒す
る低級アルコキシ基広　通常眠　炭素原子数が１〜ＩＱ
，　　好ましくは１〜４の範囲内にあるアルコキシ基を
意味する。これらのアルキル基あるいはアルコキシカル
ボニル基眠　直鎖状であっても、分岐状であっても良い
。

また、Ｒ４、ＲＳおよびＲ６広　それぞれ独立に、水素
原子、低級アルキル本　シクロアルキル忍アリールアル
キル五　アリール基および低級アルコキシ基よりなる群
から選ばれる原子もしくは基を表す。

なお、低級アルキル基鷹　通常＋１　　炭素原子数が１
〜１α　好ましくは１〜６の範囲内にあるアルキル基を
意味する。また、低級アルコキシ基４丸　通常１九　炭
素原子数が１〜ＩＱ．好ましくは１〜６の範囲内にある
アルコキシ基を意味する。これらのアルキル基あるいは
アルコキシ基６も　直鎖状であっても、分岐状であって
も良い。

上記式［ｒｌにおいて、ＲＪ、ＲＳおよびＲ●１転同時
に水素原子になることなく、本発明において原料として
ケイ素原子に三個の水素原子が直接結合している化合物
は使用することができない。

本発明において、反応に寄与するシリルパーオキシ基山
　式［Ｉ］で表されるように、化合物を構威する主鎖の
末珠　あるいは末端近傍に位置していてもよいし　また
末端以外の部分、例えば主鎖の中心近傍に位置していて
もよく、また側鎖にシリルバーオキシ基が位置していて
もよい。

また、上記式［Ｉ］において、Ｒ１〜Ｒ６で表される基
ｉＬ　　さらに置換基としてシリルバーオキシ基を有し
ていてもよく、従って、本発明において原料として使用
されるシリルパーオキシド（４　二個以上のシリルパー
オキシ基を有していてもよい。

この場合、同一分子内に含まれるシリルパーオキシ基眠
　同一の反応性を有している必要はない。

上記の式［Ｉ］で表されるシリルバーオキシドをＲｌ，
　　Ｒ２およびＲ３の種類によって分類すると、本発明
において原料として使用されるシリルバーオキシド山　
脂環族炭化水素系シリルバーオキシド、脂環族シリルパ
ーオキシド、芳香族シリルバーオキシド、カルボン酸誘
導体のシリルバーオキシドおよびカルボニル化合物のシ
リルパーオキシドに分類される。

本発明において原料として使用されるシリルパーオキシ
ドについて、上記分類に従って示すと、脂環族炭化水素
系シリルパーオキシドの具体的な例としては、 ２−トリメチルシリルパーオキシプロパン、２−１・リ
エチルシリルパーオキシプロパン、２−トリメチルシリ
ルパーオキシブタン、２−トリエチルシリルパーオキシ
ブタン、２−，メチル−２−トリメチルシリルパーオキ
シプロパ２−メチル−２−トリエチルシリルパーオキシ
プロパ２−トリメチルシリルパーオキシヘキサン、２−
トリエチルシリルパーオキシヘキサン、２−トリメチル
シリルパーオキシオクタン、２−トリエチルシリルパー
オキシオクタン、２−｝リメチルシリルバーオキシデカ
ン、２−トリエチルシリルバーオキシデカン、５−トリ
メチルシリルパーオキシデカン、５−トリエチルシリル
パーオキシデカン、２−フエニルシリルパーオキシプロ
パン、２−ジエチルフェニルシリルバーオキシプロパン
、２−ジエチルシリルバーオキシブタン、２−フエニル
シリルパーオキシブタン、２−メチル−２−ジメチルシ
リルパーオキシプロパン、２−メチル−２一ジエチルシ
リルパーオキシプロパン、２−フヱニルシリルバーオキ
シヘキサン、２−ジエチルシリルパーオキシヘキサン、
２−フェニルシリルパーオキシオクタン、２−ジエチル
シリルバーオキシオクタン、２−フェニルシリルパーオ
キシデカン、２−ジエチルシリルパーオキシデカン、５
−フェニルシリルバーオキシデカン、および ５−ジエチルシリルパーオキシデカンを挙げることがで
きる。

脂環式炭化水素系シリルパーオキシドの具体的な例とし
ては、 トリメチルシリルパーオキシシクロペンタン、トリエチ
ルシリルパーオキシシクロペンタン、トリメチルシリル
バーオキシシクロヘキサン、トリエチルシリルパーオキ
シシク口ヘキサン、メチル−２−トリメチルシリルパー
オキシシクロベンタン、 メチル−２−トリエチルシリルパーオキシシクロベンク
ン、 １・リメチルシリルパーオキシシクロオクタン、トリエ
チルシリルパーオキシシクロオクタン、１−メチル−１
−トリメチルシリルパーオキシシクロへブタン、 １−メチル−１−トリエチルシリルバーオキシシク口へ
ブタン、 トリメチルシリルパーオキシシクロデカン、１−トリエ
チルシリルバーオキシシクロデカン、ジエチルフェニル
シリルパーオキシシク口プロパン、 ジエチルシリルパーオキシシク口ペンタン、フエニルシ
リルバーオキシシクロベンタン、１−メチル−１−ジメ
チルシリルパーオキシシクロオキサン、 １−メチル−１−ジエチルシリルパーオキシシク口オキ
サン、 フエニルシリルパーオキシシクロヘキサン、フエニルシ
リルパーオキシシクロオクタンおよび フェニルシリルパーオキシシクロデカンを挙げることが
できる。

芳香族炭化水素系シリルパーオキシドの具体的な例とし
ては、 １−フェニル−１−トリメチルシリルパーオキシエタン
、 １−フェニル−１−トリエチルシリルパーオキシエタン
、 １−フェニル−１−ジエチルシリルバーオキシエタン、
１−フェニルー１−フエニルシリルバーオキシエタン、
１−ナフチル−２−トリメチルシリルパーオキシプロパ
ン、 ■−フエニル−１−トリエチルシリルバーオキシプロパ
ン、 および １−フェニル−１−フェニルシリルバーオキシプロバン
を挙げることができる。

カルボン酸誘導体のシリルパーオキシドの具体的な例と
しては、 ２−トリエチルシリルバーオキシプロピオン酸メチルエ
ステル、 ２−トリジエチルシリルバーオキシプロビオン酸エチル
エステル、 ２−ジエチルシリルバーオキシプロピオン酸プロビルエ
ステル、 ２−ジエチルシリルパーオキシプロピオン酸フエニルエ
ステル、 ２−ジエチルシリルバーオキシプロビオン酸ナフチルエ
ステル、 ２−ジエチルシリルパーオキシプロビオン酸ジメチルア
ミド、 ２−ジエチルシリルバーオキシプロピオン酸ジエチルア
ミド、 ２−ジエチルシリルパーオキシプロビオン酸メチルフエ
ニルアミド、 ２−ジエチルシリルパーオキシプロビオン酸メチルアミ
ド、 ２−ジエチルシリルパーオキシプロピオン酸エチルアミ
ド、 ２−ジエチルシリルパーオキシ酪酸メチルエステル、 ２−ジエチルシリルバーオキシ酪酸エチルエステル、 ２−ジエチルシリルバーオキシ酪酸プロビルエステル、 ２−ジエチルシリルバーオキシ酪酸フェニルエステル、 ２−ジエチルシリルバーオキシ酪酸ナフチルエステル、 ２−ジエチルシリルバーオキシ酪酸ジメチルアミド、 ２−ジエチルシリルパーオキシ酪酸ジエチルアミド、 ２−ジエチルシリルバーオキシ酪酸メチルフエニルアミ
ド、 ２−ジエチルシリルパーオキシ酪酸メチルアミド、２−
ジエチルシリルバーオキシ酪酸エチルアミド、３−ジエ
チルシリルパーオキシ酪酸メチルエステル、 ３−ジエチルシリルパーオキシ酪酸エチルエステル、 ３−ジエチルシリルバーオキシ酪酸プロビルエステル、 ３−ジエチルシリルパーオキシ酪酸フエニルエステル、 ３−ジエチルシリルバーオキシ酪酸ナフチルエステル、 ３−ジエチルシリルバーオキシ酪酸ジメチルアミド、 ３−ジエチルシリルバーオキシ酪酸ジエチルアミド ３−ジエチルシリルバーオキシ酪酸メチルフエニルアミ
ド、 ３−ジエチルシリルバーオキシ酪酸メチルアミド、３−
ジエチルシリルパーオキシ酪酸エチルアミド、２−トリ
エチルシリルパーオキシヘキサン酸メチルエステル、 ３−トリエチルシリルパーオキシヘキサン酸メチルエス
テル、 ２−トリエチルシリルバーオキシノナン酸メチルエステ
ル、 ３−トリエチルシリルパーオキシオクタン酸メチルエス
テル、 および ３−トリエチルシリルパーオキシ−３−フェニルプロピ
オン酸エチルエステルを挙げることができる。

カルボニル化合物のシリルバーオキシドの具体的な例と
しては、 １−トリエチルシリルバーオキシ−１．３−ジフエニル
−３−プロバノン、 １−トリエチルシリルパーオキシ−１−フェニルー３一
ブタノン、 １−トリエチルシリルバーオキシー１−フェニル−３−
ペンタノン、 ｌ一トリエチルシリルバーオキシー１−フェニル−１−
メチル−３−プロパノン、 １−ジエチルシリルバーオキシー１．３−ジフェニル−
３−ブロパノン、 １−ジエチルシリルバーオキシ−１−フエニル−３−ブ
タノン、 １−トリエチルシリルパーオキシ−１−フェニルー３ー
ペンタノン、 １−ジエチルシリルバーオキシー１，３−ジフェニル−
３−プロパノン、 および １−ジエチルシリルバーオキシー１−フェニルー１−メ
チル−３−プロパノンを挙げることができる。

本発明の方法においては、上記のようなシリルバーオキ
シドを酸触媒の存在下に、水および／または特定のアル
コールと反応させる。

ここで使用される酸触媒に特に制限はなく、種々の酸性
戒分を使用することができる。このような酸触媒の例と
して屯　硫酸、塩酸および硝酸のような鉱酸筑　酢酸お
よびトリクロロ酢酸のような有機酸ａ　　並びに　アン
バーリストおよびヘテロポリリン酸のような固体酸を挙
げることができる。これらの酸触媒は単独で使用するこ
ともできる獣　組み合わせて使用することもできる。

このような酸触媒（ム　シリルパーオキシド１モルに対
して、通常ＩＬ　　０．０１〜１０モル、好ましくは０
．１〜１．０モルの割合で使用される。

上記のような酸触媒の存在下＆共　シリルパーオキシド
と、水あるいはアルコールとを反応させる。

ここで使用されるアルコールは、次式［ｎ］で表される
化合物である。

Ｒ？−ＯＨ　　　　　　　・・・［■コ上記式［ｎ］に
おいて、Ｒ７は、炭素原子数１〜１０のアルキル基　シ
クロアルキル忍　アリールアルキル基およびアリール基
の内から選ばれる基を表す。なお、これらの基はさらに
置換基を有していてもよい。

本発明において使用することができるアルコールの具体
的な例として｛戴 メタノール、エタノール、ｎ−プロバノール、２−プロ
バノール、２−ブタノール、　ｔ−プタノール、ペンタ
ノール、ｎ−ヘキサノールおよびデカノールのような低
級炭化水素系アルコール、 シクロベンタノール、シクロヘキサノールおよびシクロ
オクタノールのようなシクロアルカノール、 ベンジルアルコールおよびナフチルアルコールのような
アリールアルキルアルコール、並びに フェノール、メチルフェノールおよびレゾルシンのよう
な芳香族アルコールを挙げることができる。

これらのアルコールは単独で使用することもできるし、
組み合わせて使用することもできる。

さらに　本発明においては、上記のようなアルコールの
他に　あるいはアルコールととも↓；　水を使用するこ
ともできる。

従って、上記のようなアルコール１４　　水を含んでい
てもよい。

上記のようなアルコールあるいは水は、シリルバーオキ
シド１モルに対して、通常は１モル以上の割合で使用さ
札　さらに過剰に使用することもできる。例えばシリル
バーオキシドとアルコールとの反応に際して、上記アル
コールを過剰に添加してこのアルコールを反応溶媒とし
ても利用することができる。さら磯　シリルバーオキシ
ドと反応するアルコールあるいは水（む　他の成分ある
いは触媒と別個に反応系に添加することもできるレ他の
威分中に含有されているものであってもよい。

例えばシリルパーオキサイドと反応する水１も　酸触媒
として反応系に触媒威分とともに反応系に添加された水
であってもよい。

また、このシリルパーオキシドとアルコールと鷹　反応
溶媒を使用せずに反応させることもできるし、反応溶媒
を使用して反応させることもできる。反応溶媒を使用す
る場合には、上記反応の進行を阻害することがない溶媒
であれば特に制限なく使用することができる。このよう
な溶媒の例として＋ｔ　　ジメチノレフエニノレアミド
およびジメチＪレスルフオオキシドのような極性溶菰　
テトラヒドロフラン、エーテルおよびジオキサンのよう
なエーテル系溶孤　酢酸エチルおよび酢酸メチルのよう
なエステル系溶孤　並び＆へ　ジクロロメタンおよびク
ロロホルムのようなハロゲン化炭化水素系溶媒を挙げる
ことがことができる。これらの溶媒は単独で使用するこ
ともできるし　組み合わせて使用することもできる。さ
ら＆へ　反応溶媒としてアルコールあるいは水を用いる
場合、アルコールあるいは水と上記のような溶媒とを組
み合わせて使用することもできる。

上記のようなシリルパーオキサイドとアルコールあるい
は水との反応＆九　通常は−３０〜１００℃、好ましく
はＯ〜５０℃の範囲内の温度で行われる。このような温
度条件において、上記の反応は、通常は１分〜２０時間
、好ましくは３０分〜ＩＯ時間で終了する。なお、この
反応１本　減圧、常圧及び加圧のいずれの圧力条件でも
行うことができる。

上記のようにしてシリルバーオキサイドと、アルコール
および／または水とを酸触媒の存在下に接触させること
により次式［ｍ］で表されるハイドロバーオキサイドが
生威する。

Ｒ Ｒ ・・・［ｍ］ ただし、上記式［ｍ］において、Ｒ１、Ｒ２およびＲ　
３　＋Ｌ　　それぞれ独立＆共　水素原子、低級アルキ
ル五　シクロアルキル忍　アリールアルキル基アリール
基　低級アルコキシカルボニル本　カルボニル基および
アミノカルバモイル基よりなる群から選ばれる原子もし
くは基を表す。

本発明の製法においては、上記のようにして生成したハ
イドロパーオキサイドを還元することにより、本発明に
おける目的生戒物である水酸基含有化合物を得ることが
できる。ここでハイドロバ一オキサイドは、上記反応に
まり生威したハイドロバーオキサイドを反応液から分離
して用いることもできるカ＼　通常眠　上記の反応液を
そのまま使用する。すなわち、上記の反応で使用した酸
触ｔ　ｙＫ料であるシリルパーオキサイドおよびアルコ
ール等が反応液中に残存しても、還元反応１転これらの
存在によって影響を受けにくい。

本発明において、上記のようにして生戒したハイドロバ
ーオキサイドｊＬ　　バーオキサイド化合物の還元法と
して一般に採用されている方法を利用して還元すること
ができる。すなわち、本発明において１転　還元剤を用
いる還元方法および水素ガスを用いる還元方法等を採用
することができる。

還元剤を用いる還元方法を採用する場合、使用すること
ができる還元剤の例として（４　チオ硫酸ソーダ、亜硫
酸ソーダ、重亜硫酸ソーダおよびジメチルスルフイドの
ような低原子価イオウ化合叡亜リン酸ソーダ、重亜リン
酸ソーダ、亜リン酸、トリメチルホスファイト、　トリ
エチルホスファイトおよびトリフエニルホスファイトの
ような低原予価リン化合轍　ナトリウムボロンヒドリド
およびボロンのような還元性ホウ素化合叡　亜鉛、スズ
およびアルミニウムのような金属を挙げることができる
。

このような還元剤６転　ハイドロバーオキサイド１モル
に対して、通常ＩＬ　　１当量以ム　好ましくは１．２
当量以上の量で使用される。

また、水素ガスを使用する還元方法を採用する場合、上
記のようなハイドロバーオキサイドと水素とを水素添加
触媒の存在下に接触させる。ここで水素添加触媒として
（丸　ラネ一ニッケルおよび白金系水添触媒など通常の
水添触媒を使用することができる。

上記のような還元の際の温度条件ｉＬ　　採用する還元
方法および使用する還元剤あるいは水添触媒の種類等を
考慮して適基設定されることができるカー　通常は−３
０〜１００℃、好ましくはＯ〜５０℃の範囲内の温度に
設定される。

上記のようにして反応させることにより、式［ｍ］で表
されるハイドロバーオキサイド＋４　　還元されて次式
［■］で表される水酸基含有ｆヒ合物が生或する。

λ Ｒ ・・［■］ ただし、］二記式［ｒｖ］において、Ｒｌ，　　Ｒ２お
よびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル
忍　シクロアルキル五　アリールアルキル忍γリール忍
　低級アルコキシカルボニル五　カルボニル基ｊ３よび
アミノカルバモイル基よりなる群から選ばれる原子もし
くは基を表す。

こうして生戒した水酸基含有化合物は、濾過、抽出など
公知の分離方法を利用して反応液から分離することがで
きる。

本発明の方法により製造された水酸基含有化合物は、溶
剤、有機化合物製造原料あるいは反応中間体として使用
されている。

発明の効果 本発明の水酸基含有化合物の製法によれば、シノルパー
オキシドを原料として使用することにより、穏和な条件
で、安全にしかも効率よく水酸基含有化合物を製造する
ことができる。

次に本発明の実施例を示して本発明を説明するが、本発
明はこれら実施例によって限定的に解釈されるべきでは
ない。

実施例１ フエネチルアルコールの合或 １−トリエチルシリルバーオキシ−１−フェニルエタン
２５２ｇ（１ミリモル）を１０ｍｌのメタノールに溶解
しらこのメタノール溶液に、１０％塩酸水溶液１ｍｌを
加え２０℃で３０分間攪拌し九 次いで、この反応溶液Ｅ，　　激しく攪拌しながら１０
％チオ硫酸ソーダ水溶液５０ｍｌを加えて１時間攪拌を
続けｔら １時間経過後、反応液に酢酸エチルを加えて反応生或物
を抽出し、さらに薄層クロマトグラフィで精製すること
により、１００ｍｇのフェネチルアルコールを得ｔユ　
収率　８２％ 実施例２〜１５ 実施例１において、１−｝リエチルシリルパーオキシー
１−フェニルエタン（１ミリモル）の代わりに、表１に
示すシリルパーオキシド（１ミリモル）を使用した以外
は同様に操作して対応する水酸基含有化合物を合或し九 得られた水酸基含有化合物及び収率を表ｌに記載する。

失議０４上』 ２−ヒドロキシブタン酸エチルエステルおよび３一ヒド
ロキシブタン酸エチルエステルの合或（１）　　シルロ
バーオキシドの合或 クロトン酸エチル（１１４ｍ　　１ミリモル）、トリエ
チルシラン（２２８嘔２ミリモル）、ｔ−　Ｂ　ｕ　Ｏ
　Ｏ　Ｈ　（４．５ｎａ　　Ｏ．０５ミリモル）および
ビス（アセチルアセトナト）コバルト［ｎｌ錯体（１３
喝　０．０５ミリモル）を１．２−ジクロロエタン５ｍ
ｌに溶解し、　１気圧の酸素雰囲気下、室温で２１時間
攪拌しｔら ２１時間経過後、減圧下に揮発或分を留去し　シリルバ
ーオキシドを含む混合物を得九 （２）上記のようにして得られたシリルバーオキシドを
含む混合物を１０ｍｌのエタノールに溶解しこの溶液に
濃硫酸１００ｍｇを加えて２０℃で１時間攪拌しあ 次いで、この溶液に１０％チオ硫酸ソーダ水溶液５０ｍ
ｌを加え、さらに１時間攪拌を続＆フ九１時間経過後、
上記のエタノール溶液に酢酸エチルを添加して抽出操作
を行い、抽出物についてガスクロマトグラフィーを用い
て分析したところ、２−ヒドロキシブタン酸エチルエス
テルおよび３−ヒドロキシブタン酸エチルエステルがそ
れぞれ５８％および６％の収率で生或していた 例１７〜２１ 実施例１１において、クロトン酸エチルの代わり＆へ　
表２に記載するカルボン酸を用いた以外は同様に操作し
て水酸基含有化合物を合或し丸得られた水酸基含有化合
物およびその収率を表２に併せて記載する。

去１ｕ生ｌ』二−２５ 実施例１ｌにおいて、　トリエチルシランの代わり＆ス
　フェニルシランを用いた以外は同様に操作して水酸基
含有化合物を合成しん 得られた水酸基含有化合物およびその収率を表３に記載
する。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）酸触媒の存在下に、次式［ I ］で表されるシリ
   ルバーオキシド； ▲数式、化学式、表等があります▼ ・・・［ I ］ ［ただし、上記式［ I ］において、Ｒ＾１、Ｒ＾２お
   よびＲ＾３は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキ
   ル基、シクロアルキル基、アリールアルキル基、アリー
   ル基、低級アルコキシカルボニル基、カルボニル基およ
   びアミノカルバモイル基よりなる群から選ばれる原子も
   しくは基を表し、Ｒ＾４、Ｒ＾５およびＲ＾６は、それ
   ぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、シクロアルキ
   ル基、アリールアルキル基、アリール基および低級アル
   コキシ基よりなる群から選ばれる原子もしくは基を表し
   、かつＲ＾４、Ｒ＾５およびＲ＾６が、同時に水素原子
   になることない］と、水および／または次式［II］で表
   されるアルコール； ▲数式、化学式、表等があります▼・・・［II］ ［ただし、上記式［II］において、炭素原子数１〜１０
   の低級アルキル基、アリールアルキル基およびアリール
   基よりなる群から選ばれる基を表す］とを接触させて次
   式［III］で表されるハイドロバーオキシド； ▲数式、化学式、表等があります▼ ・・・［III］ ［ただし、上記［III］において、Ｒ＾１、Ｒ＾２およ
   びＲ＾３は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル
   基、シクロアルキル基、アリールアルキル基、アリール
   基、低級アルコキシカルボニル基、カルボニル基および
   アミノカルバモイル基よりなる群から選ばれる原子もし
   くは基を表す］を生成させ、次いで該ハイドロバーオキ
   サイドを還元することを特徴とする次式［IV］で表され
   る水酸基含有化合物の製法； ▲数式、化学式、表等があります▼ ・・・［IV］ ［ただし、上記［III］において、Ｒ＾１、Ｒ＾２およ
   びＲ＾３は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル
   基、シクロアルキル基、アリールアルキル基、アリール
   基、低級アルコキシカルボニル基、カルボニル基および
   アミノカルバモイル基よりなる群から選ばれる原子もし
   くは基を表す］。