JPH03205554A - Ae発生位置標定装置 - Google Patents

Ae発生位置標定装置

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JPH03205554A
JPH03205554A JP2284200A JP28420090A JPH03205554A JP H03205554 A JPH03205554 A JP H03205554A JP 2284200 A JP2284200 A JP 2284200A JP 28420090 A JP28420090 A JP 28420090A JP H03205554 A JPH03205554 A JP H03205554A
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輝雄 岸
Mitsuharu Shiba
光晴 志波
Shigemi Masuno
茂美 増野
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、AE(アコースティックエミツション)の発
生位置を標定する装置に関する。
〔従来の技術〕
従来、材料内部に存在する欠陥を非破壊で検査する方法
としてAE法か知られている。この検査法は、材料内に
割れが発生するとこの割れの近傍て生じる弾性ひずみに
よりAE信号か発生することを利用するものであり、被
検体に取り付けた複数のセンサへのA.E信号の到達時
刻の差とAE信号の伝播速度を用いて割れの位置を標定
することかできる。したがって、従来よりこの検査法を
利用してAE信号を計測し、設備機器の異常箇所の検出
、素材や部品の欠陥箇所の検出などが行われている。
従来より行われているAE位置標定の方法は、例えば1
次元の位置標定の場合、2個のセンサ(それぞれチャン
ネル1,チャンネル2とする)を被検体に取り付け、次
式(1)を用いてAE発生位置を計算により求めている
x−((x+ + X2) + v(t +  t2)
) / 2  −(1)なお、上記(1)式において、
XはAEの発生位置、■はAE信号の伝播速度、t+ 
 ,t2は、それぞれチャンネル1、チャンネル2の各
センサへのAE信号の到達時刻、X1tX2は、それぞ
れチャンネル1、チャンネル2の各センサの被検体への
取り付け位置てある。
したがって、上記(1)式からも明らかなとおり、セン
サへのAE信号の到達時刻のセンサ間の差(上記の1次
元の位置標定の例ではt+   t2)をいかに正確に
測定できるかが、位置標定の精度を決定する。
従来のAE発生位置標定装置では、センサから出力され
るAEアナログ信号、あるいは、このAEアナログ信号
を包路線検波した信号が、あらあしめ設定されたしきい
値を越える時刻を測定し、いずれかの値をセンサへのA
E到達時刻としていた。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしなから、上記従来の方法ては、例えば第5図(a
)のようにあるセンサてはAEアナログ信号の立ち上が
りの第1番目の山でしきい値を越えるか、同図(b)の
ように他のセンサでは2番目以降の山でしきい値を越え
るなど、AEアナログ信号の何番目の山がしきい値を越
えるかはセンサによってばらつきがあった。一般に、A
E信号の第1番目の山は割れによって発生した弾性波の
うち、エネルギの小さな縦波の到着に対応しており、そ
の振幅は小さいが、AE信号の第2番目以降の山はエネ
ルギの大きな横波の到着に対応しており、その振幅も大
きい。
したかって、従来の装置では、位置標定に使用する複数
のセンサからの出力レベルかセンサ間で異なると、出力
レベルの高いセンサからの信号は第1番目の山でしきい
値を越えるが、出力レベルの低いセンサからの信号は第
2番目以降の山でしきい値を越える現象が発生する。ま
た、第6図のように包絡線検波した信号で判定を行って
も、同図(a) , (b)にそれぞれ示したように、
AEアナログ信号の振幅の違いが、しきい値を越える点
の立ち上がりからのずれ量の違いとなって現れてしまう
このため、センサへのAE到達時刻の測定に大きな誤差
か発生していた。
なお、位置標定に使用する複数のセンサからの出力レベ
ルがセンサ間で異なるのは、主に以下の理由による。
(a)  センサ、アンプ系の検出特性が個々のセンサ
、アンプにより異なる。
(b)  割れ発生位置からAE検出位置(すなわちセ
ンサの取り付け位置)までの間のAE信号の伝播特性(
減衰の程度、速度分布の程度、周波数成分)は、被検体
の形状および割れ発生位置とAE検出位置の位置関係に
強く依存する。したがって、同一の割れによって発生し
たAE信号でも、被検体内を伝播する過程で大きく変調
され、表面に到達するAE信号の電圧レベルが、検出位
置によって大きく異なることになる。
(C)  センサの被検体への取り付け状態がセンサ間
で微妙に異なるため、被検体表面とセンサの間のAE信
号の伝播特性がセンサ間で異なることによる。
上記の(a)〜(C)の誤差要因によって生ずるAE到
達時刻の差の測定の不正確さを回避するためには、理論
上はしきい値を極力ゼロに近い値に設定すれば良いこと
になる。しかし、しきい値を極力ゼロに近い値に設定し
た場合、実際にはAE計測中に環境ノイズが高頻度で混
入するため、ノイズをAE信号と誤って計測処理するこ
とになり、計測の精度、効率が極度に低下する。
すなわち、ここで掲げた誤差要因は、従来のAE発生位
置標定装置では避けることができないものであり、この
誤差要因により、従来の装置ではAE発生位置を正確に
標定することかできなかった。
本発明は、AE発生位置を正確に標定できるAE発生位
置標定装置を提供することを課題とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記の課題を解決するためになした本発明のAE発生位
置標定装置は、AE信号に感応して該AE信号に対応す
るアナログ信号を出力する複数のセンサと、上記センサ
からのアナログ信号の大きさが予め設定されたしきい値
以上のときに検出信号を出力するAE信号検出手段と、
上記センサから出力されるアナログ信号を一定周期でサ
ンプリングして該アナログ信号の波形を示す時系列のデ
ィジタル信号に変換する信号変換手段と、上記ディジタ
ル信号を順次遅延する信号遅延手段と、前記AE信号検
出手段から検出信号が出力されることにより上記信号遅
延手段で遅延された時系列のディジタル信号を所定の長
さたけ記憶するための記憶手段と、上記記憶手段に記憶
された各時系列のディジタル信号からAE信号の第1番
目の山の予め設定された同位相の点に対応する時刻情報
をそれぞれ求め、前記各センサに対応するAE信号につ
いての上記時刻情報から該AE信号の発生位置を演算す
る演算手段と、を備えたことを特徴とする。
〔作 用〕
本発明のAE発生位置標定装置は、AE信号に対応して
センサから出力されるアナログ信号を一定周期でサンプ
リングするとともにこのアナログ信号を信号の波形を示
す時系列のディジタル信号に変換し、このディジタル信
号を順次遅延することにより、AE信号の検出時にこの
AE信号に対応するディジタル信号を記憶し、このデイ
ジタル信号から演算手段によって、AE信号の第l番目
の山の予め設定された同位相の点に対応する時刻情報を
それぞれ求めるようにしたので、AE信号の到達時間差
にAE信号の振幅の違いによる影響が生じない。
〔実施例〕
第1図は本発明実施例のAE発生位置標定装・置を示す
ブロック図であり、被検体Wに装着される2個のセンサ
IA,IBは圧電素子からなる音響一電気変換素子であ
って、被検体Wにおける割れの発生および成長によって
生じるAE信号を、被検体Wの表面から検知して電圧信
号として出力する。これらのセンサからの出力信号は、
それぞれプリアンプ2A,2B,フィルタ3A,3B,
メインアンプ4A,4Bをそれぞれ経て、高速のA/D
変換器6A,6B(信号変換手段)に導入される。また
、メインアンプ4Aからの信号は、パルス発生回路5 
(AE信号検出手段)に導入される。
A/D変換器6A,6Bはそれぞれメインアンプ4A,
4Bから入力される信号を一定の周期(例えば50ns
)でサンプリングしてデイジタルデー夕に変換し、この
データは遅延回路7A,7Bにそれぞれ入力される。
パルス発生回路5は、電圧比較器等によりメインアンプ
4Aからの信号の大きさが予め設定されたしきい値以上
のときに所定の時間幅のパルス信号を発生するものであ
り、そのしきい値は電圧比較器の基準電圧を設定するこ
とにより予め設定されている。また、このパルス発生回
路5からのパルス信号は、遅延回路7A,7B(信号遅
延手段)および中央処理装置9(演算手段)に導入され
る。
遅延回路7A,7Bは、それぞれリングメモリ等によっ
てFIFOのバッファを構成し、この遅延回路7A,7
Bの出力はそれぞれメモリ8A,8B(記憶手段)に接
続されている。そして、A/D変換器6A,6Bからそ
れぞれ出力されるデータを順次記憶するとともに、パル
ス発生回路5からのパルス信号が入力されると、予め設
定された一定数のデータをメモリ8A,8Bに格納する
中央処理装置9はマイクロプロセッサにより構成されて
おり、パルス発生回路5からのパルス信号により割込み
が発生すると、遅延回路7A,7Bからのデータがメモ
リ8A,8Bに格納されたことを確認して、このメモリ
8A,8Bら、AE発生の1事象に対応して予め設定さ
れた数(長さ)のデータをそれそれ読み出し、後述説明
する演算処理を施す。そして、演算によって得られたA
E発生位置の標定結果を表示手段lOに表示する。
第2図は実施例における信号およびデータの流れを示す
タイムチャートであり、aはAE信号に対応してアンプ
4Aから出力されるAE出力信号、bはパルス発生回路
5の出力信号、CはA/D変換器6Aから出力される時
系列のディジタルデータ列、dは遅延回路7Aの出力ア
ドレスにおけるディジタルデー夕で、このディジタルデ
ータdがメモリ8Aに取り込まれる。
AE出力信号aが立ち上がるまでは、A/D変換器6A
はゼロのデータD,を順次出力しており、例えば時刻T
。てAE出力信号aが立ち上がると、A/D変換器6A
はAE出力信号aの振幅に相当するディジタルデータD
2を順次出力する。このA/D変換器6Aから出力され
るディジタルデータDI=D2は、所定データ数(所定
時間)遅延されて遅延回路7の出力アドレス内にディジ
タルデー夕として順次現れる。
そして、AE出力信号aが一定のしきい値H0を越える
と、パルス発生回路5からパルス信号Pが出力され、こ
のパルス信号Pにより遅延回路7Aのデータはメモリ8
Aに書き込まれる。
すなわち、メモリ8Aには、AE出力信号aの立ち上が
り前のデータD,と立ち上がり後のデータD2との所定
長のデータが順次書き込まれる。
向様にメモリ8BにもAE出力信号aの立ち上がり前の
データと立ち上がり後のデータとの所定長のデータが順
次書き込まれる。
なお、イニシャライズ時にメモリ8A,8Bの書込み開
始アドレスはそれぞれ決められており、さらに、1事象
のAE発生について上記のようにして書き込むデータ長
は予め設定されているので、例えば、l事象毎のメモリ
8A,8Bの書込み開始アドルスをそれぞれ基準にする
ことにより、各データの格納アドレスとA/D変換器6
A,6Bのサンプリング周期により各メモリ8A,8B
内の各データに時刻を対応付けることができる。
このようにしてメモリ8A,8Bに記憶されたディジタ
ルデータは、中央処理装置9に読み出され、中央処理装
置9は時刻を対応付けた時系列のディジタルデータに基
づいて、AE信号の第1の山の波形の特徴点(予め決め
られた同位相の点)を求め、この点に対応する時刻から
AE発生位置を演算する。
中央処理装置9においては、第4図にそのフローチャー
トを示すごときプログラムによってAE発生位置標定の
検査を行う。
第4図(a)に示したように、電源がONになるとイニ
シャライズを行い(ステップSl)、ノくルス発生回路
5からのパルス信号による割込みの発生の有無と、検査
終了か否かを監視する(ステップS2,ステップS4)
。なお、検査終了の条件としては、例えばメモリ8A,
8Bのデータ記憶容量が飽和すると終了する等の条件を
設定することができる。
パルス発生回路5からパルス信号が入力されて割込みが
発生すると(ステップS3)、第4図(b)に示したよ
うに、メモリ8A,8Bにデータが書き込まれたことを
確認し(ステップS5)、メモリ8A,8BからAE発
生のl事象に対応して予め設定された所定数のデータを
それぞれ読み出して内部のメモリに格納する(ステップ
S6)。
次に、格納したデータに演算処理を行って各センサIA
,IBへのAE到達時刻を求め(ステップS7)、例え
ばl次元のAE発生位置標定の場合、前掲の弐(1)等
によりAE発生位置の計算を行う(ステップS8)。そ
して、得られた結果を表示装置10に表示し(ステップ
S9)、第4図(a)のフローに復帰する。
次に、AE到達時刻の演算方法について説明する。
第1の演算方法は、メモリ8A,8B毎にそれぞれ読み
取ったデータについて、AE出力信号aの振幅に相当す
るディジタルデータを上記のような時刻差について微分
演算を施し、この微係数の符号が正から負にあるいは負
から正に変わる点で、かつ、AE信号のディジタルデー
夕の絶対値がゼロ以外の値を有する点、すなわち、AE
信号の第1番目の山のピークの時刻に対応する点をAE
到達時刻として設定する。
また、第2の演算方法は、上記第lの演算方法で第1番
目の山のピークの時刻に対応する点を設定し、この点の
から時刻(アドレス)を遡って、ディジタルデー夕がゼ
ロになる点をAE到達時刻として設定する。
第3図は上記第1および第2の演算方法による各実施例
で求められるAE到達時刻と従来の方法を用いた場合に
求められるAE到達時刻の違いを比較する図である。
第3図において、aはセンサIAの出力、bは従来の方
法によるAE到達時間差,、Cは実施例の第1の演算方
法によるAE到達時間差、dは実施例の第2の演算方法
によるAE到達時間差、eはセンサIBの出力を示して
いる。
従来の方法によれば、センサIBの出力がセンサIAの
出力より小さいので、センサIAでは第1の山でしきい
値H。に達しているが、センサlBでは第2の山でしき
い値H0に達するようになる。このため、AE到達時間
差bは、AE信号の1周期程度になっている。
一方、実施例の第1の演算方法によれば、センサIA,
IBの各出力a + eにおける第lの山の各ピーク点
p,,P2に対応する時刻t3 ,t4のAE到達時間
差Cは、AE信号のl周期より小さくなっている。また
、同様に、実施例の第2の演算方法によれば、各第1の
山の立ち上がり点QjQ2に対応する時刻t,,t2の
AE到達時間差dは、AE信号の1周期より小さくなっ
ている。
ところが、AE信号がセンサIA,IBに到達した時点
とは、本来、センサIA,IBの各出力a,eにおける
第1の山の立ち上がり点Q.,Q2であるので、実施例
の第2演算方法によれば、本当のAE到達時間差が得ら
れる。また、各センサIA,IBの出力レベルは異なる
が、第lの山付近では、各波形の周期が略同じであるの
で、第1演算方法によっても本当のAE到達時間差に相
当する時間差を得ることができる。このことは、各セン
サIA,1Bの出力の各波形における位相が同じ点でA
E到達時刻を求めることに起因している。
なお、センサへのAE到達時刻を求める上記の各演算を
実行するに先立って、ノイズ除去のためのディジタルフ
ィルタリングを施してもよい。
また、上記の実施例では、AE発生毎にメモリ8A,8
Bに記憶されたAEのl事象に対応するデータ長のディ
ジタルデー夕を読み出して、AE発生位置標定を行うよ
うにしているが、別の例では、検査中の演算を行わない
で、1つの検査期間中に発生する全てのAE信号をメモ
リ8A,8Bに記録するだけにとどめておいて、検査終
了後に個々のAE事象について発生位置標定演算を行う
ようにしてもよい。
本発明によるAE発生位置標定の精度を従来装置と対比
した実施例を以下に説明する。
共鳴周波数五百kHzのセンサを使用してセラミックス
の4点曲げ破壊靭性試験を行い、試験片の破断に伴って
放出されるAE信号を従来装置および本発明による装置
を用いて同時に計測し、AE発生位置標定を実施した。
従来装置によるAE発生位置標定結果は、破断位置から
約1〜2cmの範囲にばらついており、AE信号のセン
サへの到達時刻が正確に測定できていないことが確認さ
れた。
これに対し、本発明によるAE発生位置標定結果は、破
断位置から約1〜2mmの範囲に集中しており、約l〜
2mmの精度でAE発生位置を標定できることを確認し
た。なお、上述の実験例において、本発明に用いたA/
D変換器のサンプリング周期は、50nsである。
上記の実施例では、1次元のAE発生位置標定の場合に
ついて説明したが、3個以上のセンサを用い、AE信号
による各センサからのアナログ信号に上記実施例と同様
の処理を施してAE到達時刻を求めることにより正確な
AE到達時刻を求めることができ、周知の演算方法によ
り高次のAE発生位置標定を行うことができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明のAE発生位置標定装置によ
れば、AE信号に対応してセンサから出力されるアナロ
グ信号を一定周期でサンプリングするとともにこのアナ
ログ信号を信号の波形を示す時系列のディジタル信号に
変換し、このディジタル信号を順次遅延することにより
、AE信号の検出時にこのAE信号に対応するディジタ
ル信号を記憶し、このディジタル信号から演算手段によ
って、AE信号の第1番目の山の予め設定された同位相
の点に対応する時刻情報をそれぞれ求めるようにしたの
で、AE信号の到達時間差にAE信号の振幅の違いによ
る影響が生じなくなり、AE発生位置を正確に標定する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明実施例のAE発生位置標定装置を示すブ
ロック図、 第2図は実施例における信号およびデータの流れを示す
タイムチャート、 第3図は実施例におけるAE到達時刻と従来の方法を用
いた場合のAE到達時刻との違いを比較して示す図、 第4図は実施例に係わるフローチャート、第5図はAE
信号としきい値とを比較するだけでAE到達時刻を求め
る従来の方法の問題点を説明する図、 第6図はAE信号の包絡線検波した信号としきい値とを
比較するだけでAE到達時刻を求める従来の方法の問題
点を説明する図である。 IA,IB・・・センサ、5・・・パルス発生回路、6
A,6B・・・A/D変換器、7A,7B・・・遅延回
路、8A,8B・・・メモリ、9・・・中央処理装置。 第 1 図 (a) (b) 第 5 図 (a) (b) 第 6 図 To 第 2 図 (b) 第4 図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)AE信号に感応して該AE信号に対応するアナロ
    グ信号を出力する複数のセンサと、 上記センサからのアナログ信号の大きさが予め設定され
    たしきい値以上のときに検出信号を出力するAE信号検
    出手段と、 上記各センサに対応して該センサから出力されるアナロ
    グ信号を一定周期でサンプリングして該アナログ信号の
    波形を示す時系列のディジタル信号に変換する複数の信
    号変換手段と、上記各センサに対応して上記ディジタル
    信号を順次遅延する複数の信号遅延手段と、 前記AE信号検出手段から検出信号が出力されることに
    より上記信号遅延手段で遅延された各センサに対応する
    時系列のディジタル信号をそれぞれ所定の長さだけ記憶
    するための記憶手段と、 上記記憶手段に記憶された各時系列のディジタル信号か
    らAE信号の第1番目の山の予め設定された同位相の点
    に対応する時刻情報をそれぞれ求め、前記各センサに対
    応するAE信号にっいての上記時刻情報から該AE信号
    の発生位置を演算する演算手段と、 を備えたことを特徴とするAE発生位置標定装置。
  2. (2)前記予め設定された同位相の点が第1番目の山の
    ピークの点であることを特徴とする請求項1記載のAE
    発生位置標定装置。
  3. (3)前記予め設定された同位相の点が第1番目の山の
    立ち上がり点であることを特徴とする請求項1記載のA
    E発生位置標定装置。
JP2284200A 1989-10-25 1990-10-24 Ae発生位置標定装置 Expired - Lifetime JP2891767B2 (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06235720A (ja) * 1993-02-10 1994-08-23 Koyo Seiko Co Ltd Ae発生箇所標定装置
JP2004053385A (ja) * 2002-07-19 2004-02-19 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 気体濃度計測装置および気体濃度計測方法
JP2013070137A (ja) * 2011-09-21 2013-04-18 Jvc Kenwood Corp 携帯型電子機器を保持する電子機器
JP2018194553A (ja) * 2016-05-17 2018-12-06 株式会社東芝 構造物評価システム、構造物評価装置及び構造物評価方法

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