JPH03197334A - シロキサノール処理コロイドシリカからオキシ炭化ケイ素ガラスを製造する方法 - Google Patents
シロキサノール処理コロイドシリカからオキシ炭化ケイ素ガラスを製造する方法Info
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 103
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 56
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 50
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 177
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 title claims description 51
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims description 44
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 38
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 20
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims abstract description 20
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 claims abstract description 16
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 10
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims abstract description 7
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 19
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 18
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 claims description 18
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 claims description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 9
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 8
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 7
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 claims description 7
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000004819 silanols Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 abstract description 41
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 28
- 239000002131 composite material Substances 0.000 abstract description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 55
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 20
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 16
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZJBHFQKJEBGFNL-UHFFFAOYSA-N methylsilanetriol Chemical compound C[Si](O)(O)O ZJBHFQKJEBGFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 6
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 6
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 6
- -1 aliphatic alcohols Chemical class 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000005587 carbonate group Chemical group 0.000 description 4
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- 229940089952 silanetriol Drugs 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000013590 bulk material Substances 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- ADKPKEZZYOUGBZ-UHFFFAOYSA-N [C].[O].[Si] Chemical compound [C].[O].[Si] ADKPKEZZYOUGBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000006172 buffering agent Substances 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 229910002090 carbon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000005056 compaction Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- KEYRRLATNFZVGW-UHFFFAOYSA-N ethyl(trihydroxy)silane Chemical compound CC[Si](O)(O)O KEYRRLATNFZVGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 230000009970 fire resistant effect Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008131 herbal destillate Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 230000000116 mitigating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012783 reinforcing fiber Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000000279 solid-state nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004781 supercooling Methods 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012932 thermodynamic analysis Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- VYAMDNCPNLFEFT-UHFFFAOYSA-N trihydroxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](O)(O)O VYAMDNCPNLFEFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001845 vibrational spectrum Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C14/00—Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix
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- C03C3/00—Glass compositions
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- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2214/00—Nature of the non-vitreous component
- C03C2214/02—Fibres; Filaments; Yarns; Felts; Woven material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2214/00—Nature of the non-vitreous component
- C03C2214/04—Particles; Flakes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
関連出願の説明
本願は、同時係属米国特許出願第359619.386
327および428711号に関連するものである。
327および428711号に関連するものである。
発明の背景
本発明はガラス組成物に関するものであって、更に詳し
く言えば、シロキサノール処理コロイドシリカから製造
された、ケイ素、酸素および炭素から成るガラス組成物
に関する。
く言えば、シロキサノール処理コロイドシリカから製造
された、ケイ素、酸素および炭素から成るガラス組成物
に関する。
ガラス質シリカは耐火性ガラスであるが、それは約11
00℃の温度下で失透する。失透とは、ガラスを構成す
るランダム組織が結晶化組織に転移することを意味して
いる。結晶化はガラス質シリカの主たる属性(すなわち
、小さい熱膨張率およびその他多くの望ましい性質)を
劇的に低下させる。それ故、シリカガラス組成物の耐失
透性を向上させることを目的として多くの研究が行われ
てきた。
00℃の温度下で失透する。失透とは、ガラスを構成す
るランダム組織が結晶化組織に転移することを意味して
いる。結晶化はガラス質シリカの主たる属性(すなわち
、小さい熱膨張率およびその他多くの望ましい性質)を
劇的に低下させる。それ故、シリカガラス組成物の耐失
透性を向上させることを目的として多くの研究が行われ
てきた。
ケイ素、炭素および酸素の閏の反応は広範囲にわたって
研究されてきた。ケイ素・炭素・酸素系に関する既知の
反応の中には、酸素がケイ素と化合してシリカ(主とし
て二酸化ケイ素)を生成する過程を含むものがある0次
いで、温度が1100℃を越えると、シリカは結晶化し
てクリストバル石を生成するようになる。クリストバル
石はシリカの一般的な鉱物質形態の1つである。炭素は
ケイ素と反応して結晶質の炭化ケイ素を生成することも
あれば、あるいは酸素と反応して一酸化炭素を生成する
こともある。
研究されてきた。ケイ素・炭素・酸素系に関する既知の
反応の中には、酸素がケイ素と化合してシリカ(主とし
て二酸化ケイ素)を生成する過程を含むものがある0次
いで、温度が1100℃を越えると、シリカは結晶化し
てクリストバル石を生成するようになる。クリストバル
石はシリカの一般的な鉱物質形態の1つである。炭素は
ケイ素と反応して結晶質の炭化ケイ素を生成することも
あれば、あるいは酸素と反応して一酸化炭素を生成する
こともある。
ケイ素、炭素および酸素の間における反応の熱力学は、
オクシデーション・オブ・メタルズ(Ox−iditi
on or Metals)第4巻第3号(1972年
)に収載されたイー・エイ・グルブランセンおよびニス
・エイ・ジャンソン(E、A、 G++lI+rims
en & S、A。
オクシデーション・オブ・メタルズ(Ox−iditi
on or Metals)第4巻第3号(1972年
)に収載されたイー・エイ・グルブランセンおよびニス
・エイ・ジャンソン(E、A、 G++lI+rims
en & S、A。
Jingson)の論文「ケイ素および炭化ケイ素の高
温酸化、還元および揮発反応」中において論じられてい
る。グルブランセン等の熱力学的解析によれば、120
0℃において、シリカおよび炭素は気体状の一酸化ケイ
素および一酸化炭素または固体状の炭化ケイ素(S i
C)を生成することが示されている。しかるに、ケイ素
、酸素および炭素を含有する単一の物質が生成すること
は予想されていない、グルブランセン等の結論に基づけ
ば、1125℃を越える還元雰囲気中においてシリカを
使用することは、−酸化ケイ素ガスを生成するために推
奨されなかった。また、酸素含有環境中において炭化ケ
イ素を使用することも、それの酸化を招くという理由の
ために推奨されなかった。
温酸化、還元および揮発反応」中において論じられてい
る。グルブランセン等の熱力学的解析によれば、120
0℃において、シリカおよび炭素は気体状の一酸化ケイ
素および一酸化炭素または固体状の炭化ケイ素(S i
C)を生成することが示されている。しかるに、ケイ素
、酸素および炭素を含有する単一の物質が生成すること
は予想されていない、グルブランセン等の結論に基づけ
ば、1125℃を越える還元雰囲気中においてシリカを
使用することは、−酸化ケイ素ガスを生成するために推
奨されなかった。また、酸素含有環境中において炭化ケ
イ素を使用することも、それの酸化を招くという理由の
ために推奨されなかった。
ところで、炭素変性ガラス質シリカとして記述される材
料が存在している。これはシリカに1〜3%の炭素を添
加して成るものであって、本明細書中においては「黒色
ガラス」と呼ばれる。黒色ガラスの製造方法は、スミス
(Swith)等の米国特許第3378431号明細書
中に開示されている。
料が存在している。これはシリカに1〜3%の炭素を添
加して成るものであって、本明細書中においては「黒色
ガラス」と呼ばれる。黒色ガラスの製造方法は、スミス
(Swith)等の米国特許第3378431号明細書
中に開示されている。
その方法に従えば、カーボワックスのごとき炭素質有機
物をシリカに添加し、そして得られた混合物を約120
0℃で熱間圧縮することによって黒色ガラスが製造され
る。シー・エフ・スミス・ジュニア(C,F、 S諷1
tk、 Jr、)は、彼の学位論文r高純度のガラス質
シリカおよび化学的に置換されたガラス質シリカの振動
スペクトル」 (アルフレッド大学、ニューヨーク州ア
ルフレッド市、1973年5月)中において、赤外分光
分析によって黒色ガラスの特性を決定した。スミスによ
れば、黒色ガラス中には元素状炭素が分散しているばか
りでなく、一部の炭素が酸素と結合してカルボナト基を
生成していることが明らかにされた。カルボナト基は1
個の炭素原子が3個の酸素原子と結合して成る基を表わ
す名称であって、それは下記のごとき構造を有している
。
物をシリカに添加し、そして得られた混合物を約120
0℃で熱間圧縮することによって黒色ガラスが製造され
る。シー・エフ・スミス・ジュニア(C,F、 S諷1
tk、 Jr、)は、彼の学位論文r高純度のガラス質
シリカおよび化学的に置換されたガラス質シリカの振動
スペクトル」 (アルフレッド大学、ニューヨーク州ア
ルフレッド市、1973年5月)中において、赤外分光
分析によって黒色ガラスの特性を決定した。スミスによ
れば、黒色ガラス中には元素状炭素が分散しているばか
りでなく、一部の炭素が酸素と結合してカルボナト基を
生成していることが明らかにされた。カルボナト基は1
個の炭素原子が3個の酸素原子と結合して成る基を表わ
す名称であって、それは下記のごとき構造を有している
。
黒色ガラスの機械的強度は炭素を含まない通常のシリカ
ガラスの強度と同等であるが、黒色ガラスは通常のシリ
カガラスに比べて耐失透性の向上を示す、すなわち、通
常のシリカガラスが約1100℃で失透し始めるのに対
し、黒色ガラスは約1250℃で失透し始める。このよ
うに熱安定性の向上を示すことにより、黒色ガラスは通
常のシリカガラスが失透するような高い温度下でも使用
することが可能である。
ガラスの強度と同等であるが、黒色ガラスは通常のシリ
カガラスに比べて耐失透性の向上を示す、すなわち、通
常のシリカガラスが約1100℃で失透し始めるのに対
し、黒色ガラスは約1250℃で失透し始める。このよ
うに熱安定性の向上を示すことにより、黒色ガラスは通
常のシリカガラスが失透するような高い温度下でも使用
することが可能である。
「ニカロン(Nicalon>」 の商品名で市販さ
れている炭化ケイ素の連続セラミック繊維においては、
約10%の酸素を繊維中に導入することによってそれの
架橋が行われる。架橋後に繊維の熱分解が行われるが、
酸素は非晶質汚染物(恐らくはシリカ)として繊維の一
部を成すものと信じられている。かかる繊維を各種の環
境中において熱処理した場合に起こる劣化挙動が、ジャ
ーナル・オブ・マテリアル・サイエンス(Journa
l of Materia15cience)第19巻
(1984年)の1191〜1201頁に収載されたテ
ィー・マー(T、 Mah)等の論文rsic繊維にカ
ロン)の熱安定性」中に報告されている。マー等によれ
ば、熱処理時の環境条件にかかわらず、ニカロン繊維の
強度は1200℃を越える温度への暴露によって低下す
ることが判明した。かかる繊維の劣化は、繊維から一酸
化炭素が喪失すること、および繊維中にβ−炭化ケイ素
の結晶粒が成長することに関連してルまた。
れている炭化ケイ素の連続セラミック繊維においては、
約10%の酸素を繊維中に導入することによってそれの
架橋が行われる。架橋後に繊維の熱分解が行われるが、
酸素は非晶質汚染物(恐らくはシリカ)として繊維の一
部を成すものと信じられている。かかる繊維を各種の環
境中において熱処理した場合に起こる劣化挙動が、ジャ
ーナル・オブ・マテリアル・サイエンス(Journa
l of Materia15cience)第19巻
(1984年)の1191〜1201頁に収載されたテ
ィー・マー(T、 Mah)等の論文rsic繊維にカ
ロン)の熱安定性」中に報告されている。マー等によれ
ば、熱処理時の環境条件にかかわらず、ニカロン繊維の
強度は1200℃を越える温度への暴露によって低下す
ることが判明した。かかる繊維の劣化は、繊維から一酸
化炭素が喪失すること、および繊維中にβ−炭化ケイ素
の結晶粒が成長することに関連してルまた。
一般に、セラミック材料は高い強度および低い破砕靭性
によって特徴づけられる脆性挙動を示す。
によって特徴づけられる脆性挙動を示す。
破砕靭性とは、材料中における亀裂の成長に対する抵抗
性である。セラミックの脆性挙動を緩和するための手段
として、セラミック組成物の開発が研究されてきた。「
ニカロン」は優れたセラミック繊維であるが、それは1
200℃を越える温度下で劣化する。望蒙しい機械的性
質を有しかつ1200℃よりも実質的に高い温度に耐え
得る保護セラミック母材中に「ニカロン」繊維を包埋す
れば、改良されたセラミック複合材料が得られるはずで
ある。しかしながら、上記の議論がら明らかな通り、既
知のセラミックまたはガラス(とりわけ、ケイ素、酸素
および炭素を含有するもの)の性質は、たとえば炭化ケ
イ素の分解あるいは通常のガラスの失透が起こる結果と
して劣化することが避けられない。
性である。セラミックの脆性挙動を緩和するための手段
として、セラミック組成物の開発が研究されてきた。「
ニカロン」は優れたセラミック繊維であるが、それは1
200℃を越える温度下で劣化する。望蒙しい機械的性
質を有しかつ1200℃よりも実質的に高い温度に耐え
得る保護セラミック母材中に「ニカロン」繊維を包埋す
れば、改良されたセラミック複合材料が得られるはずで
ある。しかしながら、上記の議論がら明らかな通り、既
知のセラミックまたはガラス(とりわけ、ケイ素、酸素
および炭素を含有するもの)の性質は、たとえば炭化ケ
イ素の分解あるいは通常のガラスの失透が起こる結果と
して劣化することが避けられない。
本発明の目的の1つは、実質的な部分の炭素原子がケイ
素原子と化学結合しており、かつ残りの炭素がガラス母
体中に分散した元素状炭素として存在しているような、
ケイ素、酸素および炭素から成るガラスを提供すること
にある。約1600℃までの温度において、かかるガラ
スは酸化雰囲気や還元雰囲気中でも分解せず、また失透
も起こさない。
素原子と化学結合しており、かつ残りの炭素がガラス母
体中に分散した元素状炭素として存在しているような、
ケイ素、酸素および炭素から成るガラスを提供すること
にある。約1600℃までの温度において、かかるガラ
スは酸化雰囲気や還元雰囲気中でも分解せず、また失透
も起こさない。
また、ケイ素、酸素および炭素から成るガラスをシロキ
サノール処理コロイドシリカの熱分解によって製造する
ための方法を提供することも本発明の目的の1つである
。
サノール処理コロイドシリカの熱分解によって製造する
ための方法を提供することも本発明の目的の1つである
。
更にまた、シロキサノール処理コロイドシリカからガラ
ス製品を製造するための方法を提供することも本発明の
目的の1つである。
ス製品を製造するための方法を提供することも本発明の
目的の1つである。
発明の概要
本発明者等は、非酸化性雰囲気中においてシロキサノー
ル処理コロイドシリカを熱分解することにより、特異な
ガラス組成物が得られることを見出した。意外にも、非
酸化性雰囲気中においてシロキサノール処理コロイドシ
リカを約1600℃よりも低い温度下で熱分解した場合
には、シリカ、クリストバル石、炭化ケイ素、−酸化炭
素、またはシリカと元素状炭素との混合物は生成されな
いことが判明した。
ル処理コロイドシリカを熱分解することにより、特異な
ガラス組成物が得られることを見出した。意外にも、非
酸化性雰囲気中においてシロキサノール処理コロイドシ
リカを約1600℃よりも低い温度下で熱分解した場合
には、シリカ、クリストバル石、炭化ケイ素、−酸化炭
素、またはシリカと元素状炭素との混合物は生成されな
いことが判明した。
本発明の組織的に安定な非晶質ガラスを製造するために
は、シロキサノール処理コロイドシリカを熱分解するこ
とにより、実質的な部分の炭素原子がケイ素原子と化学
結合しているような状態でケイ素、酸素および炭素から
成るガラスを生成させればよい、約1600℃までの温
度において、これらのガラスは結晶化を起こさず、また
酸化雰囲気や還元雰囲気中でも分解しない、更にまた、
本発明のガラス中に存在する炭素の実質的な部分はケイ
素と結合していると共に、残りの炭素はガラス母体中に
分散した元素状炭素として存在しており、従って検出可
能なカルボナト基は存在しない 本発明のガラス中において発見された炭素−ケイ素結合
は、従来のシリカガラス中においては知られていなかっ
たものである。シリカガラス、とりわけ黒色ガラス中に
おいては、炭素はシリカ母体中に非結合状態の元素とし
て存在するか、あるいは炭素と酸素とが結合して成るカ
ルボナト基として存在することが知られているだけであ
った。
は、シロキサノール処理コロイドシリカを熱分解するこ
とにより、実質的な部分の炭素原子がケイ素原子と化学
結合しているような状態でケイ素、酸素および炭素から
成るガラスを生成させればよい、約1600℃までの温
度において、これらのガラスは結晶化を起こさず、また
酸化雰囲気や還元雰囲気中でも分解しない、更にまた、
本発明のガラス中に存在する炭素の実質的な部分はケイ
素と結合していると共に、残りの炭素はガラス母体中に
分散した元素状炭素として存在しており、従って検出可
能なカルボナト基は存在しない 本発明のガラス中において発見された炭素−ケイ素結合
は、従来のシリカガラス中においては知られていなかっ
たものである。シリカガラス、とりわけ黒色ガラス中に
おいては、炭素はシリカ母体中に非結合状態の元素とし
て存在するか、あるいは炭素と酸素とが結合して成るカ
ルボナト基として存在することが知られているだけであ
った。
上記のごとき化学結合によって特徴づけられる本発明の
ガラスは、本明細書中においては「オキシ炭化ケイ素ガ
ラス」と呼ばれる。
ガラスは、本明細書中においては「オキシ炭化ケイ素ガ
ラス」と呼ばれる。
本発明のガラスは、非酸化性雰囲気中においてシロキサ
ノール処理コロイドシリカを加熱して熱分解することに
よって製造される。ここで言う「非酸化性雰囲気」とは
、熱分解時に起こる反応に影響を及ぼすことなしに熱分
解中の樹脂から副生物を除去するような、実質的に酸素
を含まない雰囲気を意味する。かかる非酸化性雰囲気の
実例としては、約10−4気圧未満の真空、ヘリウム、
アルゴンおよび窒素のごとき不活性雰囲気、並びに水素
のごとき還元雰囲気が挙げられる。
ノール処理コロイドシリカを加熱して熱分解することに
よって製造される。ここで言う「非酸化性雰囲気」とは
、熱分解時に起こる反応に影響を及ぼすことなしに熱分
解中の樹脂から副生物を除去するような、実質的に酸素
を含まない雰囲気を意味する。かかる非酸化性雰囲気の
実例としては、約10−4気圧未満の真空、ヘリウム、
アルゴンおよび窒素のごとき不活性雰囲気、並びに水素
のごとき還元雰囲気が挙げられる。
ここで言う「シロキサノール処理コロイドシリカ」とは
、式RSi(OH)sで表わされるシラノールの部分縮
合物中にコロイドシリカを分散させたものから成ってい
る。かかる部分縮合物は、オルガノトリアルコキシシラ
ンを加水分解することによって生成される。上記式中の
Rは約1〜12個の炭素原子を有する1価の炭化水素基
であって、その実例はハロゲン化炭化水素基、Cロー1
21アルキル基、C16−121アリール基、およびメ
タクリレート基やアクリレート基のごときエステル基で
ある。なお、上記のごときシラノールの少なくとも70
(重量)%はメチルトリヒドロキシシランである。かか
るシラノールの部分網金物がシロキサノールである0本
明細書中においては、シロキサノール処理コロイドシリ
カを単に「処理シリカ」または「処理コロイドシリカ」
と呼ぶこともある。
、式RSi(OH)sで表わされるシラノールの部分縮
合物中にコロイドシリカを分散させたものから成ってい
る。かかる部分縮合物は、オルガノトリアルコキシシラ
ンを加水分解することによって生成される。上記式中の
Rは約1〜12個の炭素原子を有する1価の炭化水素基
であって、その実例はハロゲン化炭化水素基、Cロー1
21アルキル基、C16−121アリール基、およびメ
タクリレート基やアクリレート基のごときエステル基で
ある。なお、上記のごときシラノールの少なくとも70
(重量)%はメチルトリヒドロキシシランである。かか
るシラノールの部分網金物がシロキサノールである0本
明細書中においては、シロキサノール処理コロイドシリ
カを単に「処理シリカ」または「処理コロイドシリカ」
と呼ぶこともある。
処理シリカを熱分解した場合には、ケイ素、酸素および
炭素原子の間において電子が継続的に共有されているこ
とを特徴とするオキシ炭素ケイ素ガラスが生成される。
炭素原子の間において電子が継続的に共有されているこ
とを特徴とするオキシ炭素ケイ素ガラスが生成される。
オキシ炭素ケイ素ガラス中においては、ケイ素原子は4
種までの多原子単位を成して存在している。テトラオキ
シケイ素と呼ばれる第1の単位においては、1個のケイ
素原子が4個の酸素原子と結合している。モノカルボシ
ロキサンと呼ばれる第2の単位においては、1個のケイ
素原子が3個の酸素原子および1個の炭素原子と結合し
ている。ジカルボシロキサンと呼ばれる第3の単位にお
いては、1個のケイ素原子が2個の酸素原子および2個
の炭素原子と結合している。テトラカルボケイ素と呼ば
れる第4の単位においては、1個のケイ素原子が4個の
炭素原子と結合している。
種までの多原子単位を成して存在している。テトラオキ
シケイ素と呼ばれる第1の単位においては、1個のケイ
素原子が4個の酸素原子と結合している。モノカルボシ
ロキサンと呼ばれる第2の単位においては、1個のケイ
素原子が3個の酸素原子および1個の炭素原子と結合し
ている。ジカルボシロキサンと呼ばれる第3の単位にお
いては、1個のケイ素原子が2個の酸素原子および2個
の炭素原子と結合している。テトラカルボケイ素と呼ば
れる第4の単位においては、1個のケイ素原子が4個の
炭素原子と結合している。
約1.8:1の比率でメチルトリメトキシシランの部分
網金物とコロイドシリカとを含有する処理シリカを熱分
解した場合には、約76〜86(重量)%のテトラオキ
シケイ素、約11〜21(重量)%のモノカルボシロキ
サン、および約8(重量)%までのジカルボシロキサン
を含む多原子単位と、ガラス母体中に分散した少なくと
も約3(重量)%の元素状炭素とから成るオキシ炭化ケ
イ素ガラスが生成される。上記の多原子単位は主として
ケイ素−酸素結合により結合されているのであって、炭
素原子と酸素原子との間の結合は僅かしか存在しない。
網金物とコロイドシリカとを含有する処理シリカを熱分
解した場合には、約76〜86(重量)%のテトラオキ
シケイ素、約11〜21(重量)%のモノカルボシロキ
サン、および約8(重量)%までのジカルボシロキサン
を含む多原子単位と、ガラス母体中に分散した少なくと
も約3(重量)%の元素状炭素とから成るオキシ炭化ケ
イ素ガラスが生成される。上記の多原子単位は主として
ケイ素−酸素結合により結合されているのであって、炭
素原子と酸素原子との間の結合は僅かしか存在しない。
添付の図面を参照しながら以下の詳細な説明を読めば、
本発明は一層容易に理解されよう。
本発明は一層容易に理解されよう。
発明の詳細な説明
一般に、ガラスは極めて粘稠な過冷却液体から生成され
ると共に、近距離秩序を示す網状高分子構造を有してい
る0本発明のガラスは過冷却液体から生成されるもので
はないが、近距離秩序を示す網状高分子構造を有してい
る0本発明のガラスは、液体を過冷却する代りに、非酸
化性雰囲気中においてシロキサノール処理コロイドシリ
カを熱分解することによって生成される。とは言え、本
発明のガラスは一般のガラスにおいて見出される近距離
秩序特性を示すのである。
ると共に、近距離秩序を示す網状高分子構造を有してい
る0本発明のガラスは過冷却液体から生成されるもので
はないが、近距離秩序を示す網状高分子構造を有してい
る0本発明のガラスは、液体を過冷却する代りに、非酸
化性雰囲気中においてシロキサノール処理コロイドシリ
カを熱分解することによって生成される。とは言え、本
発明のガラスは一般のガラスにおいて見出される近距離
秩序特性を示すのである。
本発明の実施に際して使用し得るシロキサノール処理コ
ロイドシリカは、式RSi(OHhで表わされるシラノ
ールの部分輪金物中にコロイドシリカを分散させたもの
から成っている。上記式中のRは約1〜12個の炭素原
子を有する1価の炭化水素基であって、その実例はハロ
ゲン化炭化水素基、C,、−、、、アルキル基、Cl−
121アリール基、およびメタクリレート基やアクリレ
ート基のごときエステル基である。なお、上記のごとき
シラノールの少なくとも70(重量)%はメチルトリヒ
ドロキシシランである。かかる部分網金物で処理された
コロイドシリカは、乾燥して粉末にすることもできるし
、あるいは約10〜50(重量)%の固形分を含有する
脂肪族アルコール−水溶液を成すように希釈することも
できる。後者の場合、固形分は10〜70(重量)%の
コロイドシリカと30〜90(重量)%の部分網金物と
から成り、また溶液のpHは3.5〜&0の範囲内にあ
る。
ロイドシリカは、式RSi(OHhで表わされるシラノ
ールの部分輪金物中にコロイドシリカを分散させたもの
から成っている。上記式中のRは約1〜12個の炭素原
子を有する1価の炭化水素基であって、その実例はハロ
ゲン化炭化水素基、C,、−、、、アルキル基、Cl−
121アリール基、およびメタクリレート基やアクリレ
ート基のごときエステル基である。なお、上記のごとき
シラノールの少なくとも70(重量)%はメチルトリヒ
ドロキシシランである。かかる部分網金物で処理された
コロイドシリカは、乾燥して粉末にすることもできるし
、あるいは約10〜50(重量)%の固形分を含有する
脂肪族アルコール−水溶液を成すように希釈することも
できる。後者の場合、固形分は10〜70(重量)%の
コロイドシリカと30〜90(重量)%の部分網金物と
から成り、また溶液のpHは3.5〜&0の範囲内にあ
る。
上記のごとき処理シリカを調製するためには、式R91
(OR’)3(ただし、Rは前記に定義された通りであ
り、またR゛はC1l−8)アルキル基である)で表わ
されるトリアルコキシシランまたはトリアルコキシシラ
ン混合物を水性コロイドシリカ分散液の存在下で加水分
解すればよい。
(OR’)3(ただし、Rは前記に定義された通りであ
り、またR゛はC1l−8)アルキル基である)で表わ
されるトリアルコキシシランまたはトリアルコキシシラ
ン混合物を水性コロイドシリカ分散液の存在下で加水分
解すればよい。
適当な水性コロイドシリカ分散液は、一般に5〜150
ミリミクロンの粒度を持ったコロイドシリカを含有する
ものである。かかるコロイドシリカ分散液は当業界にお
いて公知であって、それの商業的に入手可能な実例はデ
ュポン(DaPo++t)社製のルドックス(Lado
x)およびナルコ・ケミカル社(NALCOChemi
cal Co、)製のすlレコーダ(Nalcoag)
である、かかるコロイドシリカは、酸性および塩基性の
しドロゾルとして入手することができる。
ミリミクロンの粒度を持ったコロイドシリカを含有する
ものである。かかるコロイドシリカ分散液は当業界にお
いて公知であって、それの商業的に入手可能な実例はデ
ュポン(DaPo++t)社製のルドックス(Lado
x)およびナルコ・ケミカル社(NALCOChemi
cal Co、)製のすlレコーダ(Nalcoag)
である、かかるコロイドシリカは、酸性および塩基性の
しドロゾルとして入手することができる。
なお、5〜25ミリミクロンの平均粒度を有するコロイ
ドシリカが好適である0本発明の目的にとって特に好適
なコロイドシリカ分散液は、デュポン社から販売されて
いるルドックスAS−40である。
ドシリカが好適である0本発明の目的にとって特に好適
なコロイドシリカ分散液は、デュポン社から販売されて
いるルドックスAS−40である。
上記のごとき処理シリカを調製する際には、アルキルト
リアルコキシシランまたはアリールトリアルコキシシラ
ンに水性コロイドシラン分散液が添加される。かかるト
リアルコキシシランは、酢酸のごとき緩衝剤を含有して
いてもよい6あるいはまた、トリアルコキシシランおよ
び酸の代りにアルキルトリアセトキシシランを使用する
こともできる。所望ならば、かかる反応混合物中に少量
のジアルキルジアルコキシシランを使用することもでき
る6反応混合物の温度は約20〜約40℃の範囲内に維
持されるが、好ましくは25℃より低く維持される。約
6〜8時間後には、十分な量のトリアルコキシシランが
反応する結果、当初の二相液体混合物はコロイドシリカ
の分散した単一の液相になることが判明した。
リアルコキシシランまたはアリールトリアルコキシシラ
ンに水性コロイドシラン分散液が添加される。かかるト
リアルコキシシランは、酢酸のごとき緩衝剤を含有して
いてもよい6あるいはまた、トリアルコキシシランおよ
び酸の代りにアルキルトリアセトキシシランを使用する
こともできる。所望ならば、かかる反応混合物中に少量
のジアルキルジアルコキシシランを使用することもでき
る6反応混合物の温度は約20〜約40℃の範囲内に維
持されるが、好ましくは25℃より低く維持される。約
6〜8時間後には、十分な量のトリアルコキシシランが
反応する結果、当初の二相液体混合物はコロイドシリカ
の分散した単一の液相になることが判明した。
一般に、加水分解反応は最終生成物の所望粘度に応じて
約12〜48時間にわたって継続させられる。加水分解
反応を継続させる時間が長いほど、反応混合物の粘度は
高くなる。
約12〜48時間にわたって継続させられる。加水分解
反応を継続させる時間が長いほど、反応混合物の粘度は
高くなる。
加水分解の完了後、反応混合物にアルコール(好ましく
はイソプロパツール)を添加することによって固形分含
量が調整される。かかる目的のために適したその他のア
ルコールとしては、メタノール、エタノール、イソブタ
ノール、イソプロパツール、n−ブチルアルコールおよ
びt−ブチルアルコールのごとき低級脂肪族アルコール
並びにそれらの混合物が挙げられる0部分縮合物が溶解
状態にあるような処理シリカを使用することが所望され
る場合には、溶媒系は約20〜75(重量)%のアルコ
ールを含有していればよい。
はイソプロパツール)を添加することによって固形分含
量が調整される。かかる目的のために適したその他のア
ルコールとしては、メタノール、エタノール、イソブタ
ノール、イソプロパツール、n−ブチルアルコールおよ
びt−ブチルアルコールのごとき低級脂肪族アルコール
並びにそれらの混合物が挙げられる0部分縮合物が溶解
状態にあるような処理シリカを使用することが所望され
る場合には、溶媒系は約20〜75(重量)%のアルコ
ールを含有していればよい。
こうして得られた処理シリカのpHは約3.5〜&0の
範囲内にあればよいが、約6.6〜約7.8または3.
8〜5.7の範囲内にあることが好威しい。
範囲内にあればよいが、約6.6〜約7.8または3.
8〜5.7の範囲内にあることが好威しい。
必要ならば、弱塩基(たとえば、水酸化アンモニウム)
または弱M(たとえば、酢酸)の添加によってpHを所
望の範囲に調整することができる。
または弱M(たとえば、酢酸)の添加によってpHを所
望の範囲に調整することができる。
上記のごとき酸は、当初の二相液体混合物の塩基性度を
調整し、それによって加水分解速度を調節するために使
用される。氷酢酸以外には、10ピオン酸、酪酸、クエ
ン酸、安息香酸、ギ酸、シュウ酸などのごとき有機酸を
使用することもできる。炭素原子数1〜6のアルキル基
を含有するアルキルトリアセトキシシランを使用するこ
ともできるが、その場合には炭素原子数1〜3のアルキ
ル基を含有するものが好適である。中でも、メチルトリ
アセトキシシランが最も好適である。
調整し、それによって加水分解速度を調節するために使
用される。氷酢酸以外には、10ピオン酸、酪酸、クエ
ン酸、安息香酸、ギ酸、シュウ酸などのごとき有機酸を
使用することもできる。炭素原子数1〜6のアルキル基
を含有するアルキルトリアセトキシシランを使用するこ
ともできるが、その場合には炭素原子数1〜3のアルキ
ル基を含有するものが好適である。中でも、メチルトリ
アセトキシシランが最も好適である。
前述のごときシラントリオールRS i(OH)3は、
水性媒質(すなわち、水性コロイドシリカ分散液)を用
いて対応するトリアルコキシシランを加水分解する結果
として生成される。トリアルコキシシランの実例はメト
キシ、エトキシ、イソプロポキシおよびn−ブトキシ置
換基を有するものであって、これらは加水分解によって
シラントリオールおよび対応するアルコールを生成する
。トリアルコキシシランの混合物を使用した場合には、
相異なるシラントリオールと相異なるアルコールとの混
合物が生成される。塩基性の水性媒質中においてシラン
トリオールまたはシラントリオール混合物が生成すると
、ヒドロキシル基同士の縮合によって下記のごとき結合
が生じる。
水性媒質(すなわち、水性コロイドシリカ分散液)を用
いて対応するトリアルコキシシランを加水分解する結果
として生成される。トリアルコキシシランの実例はメト
キシ、エトキシ、イソプロポキシおよびn−ブトキシ置
換基を有するものであって、これらは加水分解によって
シラントリオールおよび対応するアルコールを生成する
。トリアルコキシシランの混合物を使用した場合には、
相異なるシラントリオールと相異なるアルコールとの混
合物が生成される。塩基性の水性媒質中においてシラン
トリオールまたはシラントリオール混合物が生成すると
、ヒドロキシル基同士の縮合によって下記のごとき結合
が生じる。
このような縮合が一定の時間にわたって起こるが、これ
は完全に進行する反応ではない、すなわち、このように
して生成したシロキサンは相当量のケイ素結合ヒドロキ
シル基を保持しているのであって、そのために生成物は
アルコール−水溶媒系中に可溶である。かかる可溶な部
分縮合縮合物は、3個の 5io− 単位毎に少なくとも1個のケイ素結合しドロキシル基を
有するようなシロキサノール重合体として特徴づけるこ
とができるものと考えられる。
は完全に進行する反応ではない、すなわち、このように
して生成したシロキサンは相当量のケイ素結合ヒドロキ
シル基を保持しているのであって、そのために生成物は
アルコール−水溶媒系中に可溶である。かかる可溶な部
分縮合縮合物は、3個の 5io− 単位毎に少なくとも1個のケイ素結合しドロキシル基を
有するようなシロキサノール重合体として特徴づけるこ
とができるものと考えられる。
上記のごとき処理シリカの不揮発性固形分は、コロイド
シリカとシラノールの部分輪金物(またはシロキサノー
ル)との混合物である0部分績合物(またはシロキサノ
ール)の大部分もしくは全部は、メチルトリヒドロキシ
シランの縮合によって得られたものである0部分輪金物
の一部は、加水分解反応において使用される成分に応じ
、たとえば、メチルトリヒドロキシシランとエチルトリ
ヒドロキシシランまたはプロピルトリヒドロキシシラン
との縮合、メチルトリヒドロキシシランとC、H5S
i(OH)3との縮合、あるいはそれらの組合せから得
られたものとなることがある。なお、メチルトリメトキ
シシランのみを使用し、それによってメチルシラントリ
オールのみを生成させることが好ましい、こうして得ら
れた処理シリカは、乾燥によって粉末にすることができ
る。かかる処理シリカはまた、部分輪金物が固形分の約
55〜ダ 75(重量)%を占める場合、約50〜9g(重量)%
のアルコールと残部の水とから成る溶媒系中に溶解する
こともできる。
シリカとシラノールの部分輪金物(またはシロキサノー
ル)との混合物である0部分績合物(またはシロキサノ
ール)の大部分もしくは全部は、メチルトリヒドロキシ
シランの縮合によって得られたものである0部分輪金物
の一部は、加水分解反応において使用される成分に応じ
、たとえば、メチルトリヒドロキシシランとエチルトリ
ヒドロキシシランまたはプロピルトリヒドロキシシラン
との縮合、メチルトリヒドロキシシランとC、H5S
i(OH)3との縮合、あるいはそれらの組合せから得
られたものとなることがある。なお、メチルトリメトキ
シシランのみを使用し、それによってメチルシラントリ
オールのみを生成させることが好ましい、こうして得ら
れた処理シリカは、乾燥によって粉末にすることができ
る。かかる処理シリカはまた、部分輪金物が固形分の約
55〜ダ 75(重量)%を占める場合、約50〜9g(重量)%
のアルコールと残部の水とから成る溶媒系中に溶解する
こともできる。
オキシ炭化ケイ素ガラスを生成させるためには、非酸化
性雰囲気中においてシロキサノール処理コロイドシリカ
を約900〜1600℃の温度下で熱分解すればよい、
かかる熱分解時の加熱速度は、オキシ炭化ケイ素ガラス
中に空隙や気泡を形成することなしに副生物を逃がし得
るように調節することが好ましい、実際には、毎分1.
0℃未満の加熱速度を使用することが好ましい、熱分解
に際しては、処理シリカは副生物を放出して重量の減少
を示しながら緻密化する。熱分解を受ける処理シリカが
重量の減少を示すとは言え、同時にそれの体積が減少す
るために処理シリカの密度は増大する。熱分解を受ける
処理シリカの重量が実質的に一定の値に到達した時点に
おいて、熱分解反応は実質的に完了している。一般に、
実質的に一定の重量は約900〜1250℃の温度にお
いて達成される。とは言え、重量の減少が終了した後に
も加熱を続けると、処理シリカは一層の緻密化を受ける
ことがある。それ故、処理シリカが完全に緻密化した後
、換言すれば体積の減少が停止した後に加熱および熱分
解を停止することが望ましい場合もある。なお、ある処
理シリカの熱分解時における重量の減少を測定したとこ
ろ、約14%であることがわかった。
性雰囲気中においてシロキサノール処理コロイドシリカ
を約900〜1600℃の温度下で熱分解すればよい、
かかる熱分解時の加熱速度は、オキシ炭化ケイ素ガラス
中に空隙や気泡を形成することなしに副生物を逃がし得
るように調節することが好ましい、実際には、毎分1.
0℃未満の加熱速度を使用することが好ましい、熱分解
に際しては、処理シリカは副生物を放出して重量の減少
を示しながら緻密化する。熱分解を受ける処理シリカが
重量の減少を示すとは言え、同時にそれの体積が減少す
るために処理シリカの密度は増大する。熱分解を受ける
処理シリカの重量が実質的に一定の値に到達した時点に
おいて、熱分解反応は実質的に完了している。一般に、
実質的に一定の重量は約900〜1250℃の温度にお
いて達成される。とは言え、重量の減少が終了した後に
も加熱を続けると、処理シリカは一層の緻密化を受ける
ことがある。それ故、処理シリカが完全に緻密化した後
、換言すれば体積の減少が停止した後に加熱および熱分
解を停止することが望ましい場合もある。なお、ある処
理シリカの熱分解時における重量の減少を測定したとこ
ろ、約14%であることがわかった。
本発明のガラスは、少なくとも1600℃までの温度に
おいて組織的に安定であり、従って失透を起こさない、
ここで言う「組織的に安定」とは、室温から約1600
℃までの温度範囲内において塊状材料が本質的に同じ顕
微鏡組織を保持することを表わしている。ところで、非
晶質母体中に形成された約100オングストロームまで
の小さな結晶化領域は、塊状材料の性質にほとんど悪影
響を及ぼさない、それ故、本発明の組織的に安定なガラ
スは本質的に非晶質のものであるが、ガラス母体中に(
たとえば、黒鉛、クリストバル石または炭化ケイ素から
成る)小さな結晶化領域を含有していてもよいし、ある
いはガラス表面上に存在する少量のクリストバル石を含
有していてもよいのである。
おいて組織的に安定であり、従って失透を起こさない、
ここで言う「組織的に安定」とは、室温から約1600
℃までの温度範囲内において塊状材料が本質的に同じ顕
微鏡組織を保持することを表わしている。ところで、非
晶質母体中に形成された約100オングストロームまで
の小さな結晶化領域は、塊状材料の性質にほとんど悪影
響を及ぼさない、それ故、本発明の組織的に安定なガラ
スは本質的に非晶質のものであるが、ガラス母体中に(
たとえば、黒鉛、クリストバル石または炭化ケイ素から
成る)小さな結晶化領域を含有していてもよいし、ある
いはガラス表面上に存在する少量のクリストバル石を含
有していてもよいのである。
オキシ炭化ケイ素ガラスの製品を製造するためには、当
業界において公知の粉砕機を用いて熱分解後の処理シリ
カが微粉砕される。こうして得られたオキシ炭化ケイ素
ガラス粉末を熱間圧縮によって合体させれば、所望の製
品を製造することができる。熱間圧縮を施すための方法
の一例は、約1550〜1600℃の温度下で少なくと
も約5ksiの一軸方向圧力を粉末に加えることである
。
業界において公知の粉砕機を用いて熱分解後の処理シリ
カが微粉砕される。こうして得られたオキシ炭化ケイ素
ガラス粉末を熱間圧縮によって合体させれば、所望の製
品を製造することができる。熱間圧縮を施すための方法
の一例は、約1550〜1600℃の温度下で少なくと
も約5ksiの一軸方向圧力を粉末に加えることである
。
rksi」 という単位は1平方インチ当りのキロポ
ンド数を表わすものであって、1ksiは1平方インチ
当り1000ポンドに等しい、かかる圧力−温度条件は
、緻密化した製品を製造するのに十分なものである。
ンド数を表わすものであって、1ksiは1平方インチ
当り1000ポンドに等しい、かかる圧力−温度条件は
、緻密化した製品を製造するのに十分なものである。
また、処理シリカから直接に成形品を製造することもで
きる。先ず最初に、処理シリカがイソプロパツールのご
とき溶剤中に溶解され、そして所望の形状に注型される
。処理シリカを溶解するために適することが判明した溶
剤の実例としては、メタノール、エタノール、イソブタ
ノール、n−ブチルアルコールおよびt−ブチルアルコ
ールのごとき低級脂肪族アルコール並びにそれらの混合
物が挙げられるが、中でもイソプロパツールが好適であ
る。処理シリカは約20〜75(重量)%の溶剤中に溶
解することができる。
きる。先ず最初に、処理シリカがイソプロパツールのご
とき溶剤中に溶解され、そして所望の形状に注型される
。処理シリカを溶解するために適することが判明した溶
剤の実例としては、メタノール、エタノール、イソブタ
ノール、n−ブチルアルコールおよびt−ブチルアルコ
ールのごとき低級脂肪族アルコール並びにそれらの混合
物が挙げられるが、中でもイソプロパツールが好適であ
る。処理シリカは約20〜75(重量)%の溶剤中に溶
解することができる。
注型後の処理シリカが室温下で乾燥され、次いで本明細
書中、に記載されたような非酸化性雰囲気中においてゆ
っくりと熱分解される。かかる熱分解に際しては、ガス
が発生して処理シリカの重量減少をもたらすから、空隙
や気泡の形成を防止するような遅い加熱速度が使用され
る。処理シリカの重量が安定化すれば、熱分解は完了す
る。あるいはまた、通例は粉末状を成す処理シリカを熱
間圧縮によって成形することもできる。
書中、に記載されたような非酸化性雰囲気中においてゆ
っくりと熱分解される。かかる熱分解に際しては、ガス
が発生して処理シリカの重量減少をもたらすから、空隙
や気泡の形成を防止するような遅い加熱速度が使用され
る。処理シリカの重量が安定化すれば、熱分解は完了す
る。あるいはまた、通例は粉末状を成す処理シリカを熱
間圧縮によって成形することもできる。
更にまた、処理シリカのイソプロパツール溶液から繊維
を形成することもできる。処理シリカ溶液を水酸化アン
モニウムのごとき塩基で処理してそれの粘度を高めれば
、固形物体を該溶液中に浸してから取出すことにより、
該溶液から処理シリカのストランドを引出すことができ
る。このような浸漬法により、処理シリカ溶液がら繊維
を形成することができるのである。あるいはまた、軽度
の真空を用いてテフロン管中に処理シリカ溶液を吸込む
こともできる。イソプロパツールの蒸発および処理シリ
カ溶液の粘度増大に伴って繊維は収縮するので、テフロ
ン管からそれを押出すことができる。かかる繊維を約5
0℃に加熱して強化すれば、取扱いを容易にすることが
できる。その後、上記のごとき非酸化性雰囲気または真
空中において繊維が熱分解される。
を形成することもできる。処理シリカ溶液を水酸化アン
モニウムのごとき塩基で処理してそれの粘度を高めれば
、固形物体を該溶液中に浸してから取出すことにより、
該溶液から処理シリカのストランドを引出すことができ
る。このような浸漬法により、処理シリカ溶液がら繊維
を形成することができるのである。あるいはまた、軽度
の真空を用いてテフロン管中に処理シリカ溶液を吸込む
こともできる。イソプロパツールの蒸発および処理シリ
カ溶液の粘度増大に伴って繊維は収縮するので、テフロ
ン管からそれを押出すことができる。かかる繊維を約5
0℃に加熱して強化すれば、取扱いを容易にすることが
できる。その後、上記のごとき非酸化性雰囲気または真
空中において繊維が熱分解される。
更にまた、オキシ炭化ケイ素ガラスとセラミック充填剤
とから成る母体中にセラミック繊維を含むようなセラミ
ック複合材料を製造することもできる。すなわち、処理
シリカを溶剤中に溶解し、次いでかかる溶液中にセラミ
ック充填剤の粒子を分散させることによって浸透用スラ
リーが調製される0粒子状のセラミック充填剤は熱分解
時における母体の収縮を調節するためのものであって、
母体が使用すべき補強用繊維と適合性を有するように選
定すればよい、セラミック充填剤の実例としては、炭化
ケイ素粉末、ケイソウ土、およびムライトと呼ばれるア
ルミノケイ酸塩(2SiO2・3AI20.)が挙げら
れる。
とから成る母体中にセラミック繊維を含むようなセラミ
ック複合材料を製造することもできる。すなわち、処理
シリカを溶剤中に溶解し、次いでかかる溶液中にセラミ
ック充填剤の粒子を分散させることによって浸透用スラ
リーが調製される0粒子状のセラミック充填剤は熱分解
時における母体の収縮を調節するためのものであって、
母体が使用すべき補強用繊維と適合性を有するように選
定すればよい、セラミック充填剤の実例としては、炭化
ケイ素粉末、ケイソウ土、およびムライトと呼ばれるア
ルミノケイ酸塩(2SiO2・3AI20.)が挙げら
れる。
次に、セラミック繊維(またはかかる繊維で作られた布
)が浸透用スラリーの攪拌洛中に通される。セラミック
繊維の実例としては、炭素繊維、炭化ケイ素繊維および
アルミノホウケイ酸塩繊維が挙げられる。含浸済みの繊
維を成形した後、乾燥することによって溶剤が蒸発させ
られる。成形方法の一例は、含浸済みの繊維をドラム上
にらせん状に巻付けてパネルを形成するというものであ
る。加熱および加圧によって繊維の層を合体させれば、
セラミック繊維を包囲する連続した処理シリカ母体を形
成することができる0次いで、かかる複合材料が上記の
ごとき非酸化性雰囲気味たは真空中において熱分解され
る。処理シリカが緻密化してセラミック繊維を結合する
実質的に非晶質のオキシ炭化ケイ素ガラスを生成する結
果、該繊維の周囲には連続した母体が形成される。使用
する熱分解温度に応じ、セラミック充填剤はガラス母体
中において分散状態、部分的な焼結状態、または完全な
焼結状態を示す。
)が浸透用スラリーの攪拌洛中に通される。セラミック
繊維の実例としては、炭素繊維、炭化ケイ素繊維および
アルミノホウケイ酸塩繊維が挙げられる。含浸済みの繊
維を成形した後、乾燥することによって溶剤が蒸発させ
られる。成形方法の一例は、含浸済みの繊維をドラム上
にらせん状に巻付けてパネルを形成するというものであ
る。加熱および加圧によって繊維の層を合体させれば、
セラミック繊維を包囲する連続した処理シリカ母体を形
成することができる0次いで、かかる複合材料が上記の
ごとき非酸化性雰囲気味たは真空中において熱分解され
る。処理シリカが緻密化してセラミック繊維を結合する
実質的に非晶質のオキシ炭化ケイ素ガラスを生成する結
果、該繊維の周囲には連続した母体が形成される。使用
する熱分解温度に応じ、セラミック充填剤はガラス母体
中において分散状態、部分的な焼結状態、または完全な
焼結状態を示す。
所望ならば、処理シリカを溶剤中に溶解して成る溶液を
゛上記のセラミック複合材料に再浸透させることにより
、それの気孔率を低下させることができる。すなわち、
真空条件の下で複合材料が再浸透用溶液中に浸漬される
。その際には、加圧によって該溶液が複合材料の細孔中
に圧入される。
゛上記のセラミック複合材料に再浸透させることにより
、それの気孔率を低下させることができる。すなわち、
真空条件の下で複合材料が再浸透用溶液中に浸漬される
。その際には、加圧によって該溶液が複合材料の細孔中
に圧入される。
溶剤を蒸発させた後、再浸透済みの複合材料が上記のご
とき非酸化性雰囲気または真空中において熱分解される
。このような再浸透および熱分解を必要な回数だけ繰返
せば、母体の密度を所望のレベルにまで高めることがで
きる。
とき非酸化性雰囲気または真空中において熱分解される
。このような再浸透および熱分解を必要な回数だけ繰返
せば、母体の密度を所望のレベルにまで高めることがで
きる。
非晶質のオキシ炭化ケイ素ガラスとセラミック充填剤と
から成る母体がセラミック繊維を包囲して保護する結果
、セラミック繊維は約1600℃までの温度を有する酸
化雰囲気および還元雰囲気中においても分解することが
なくなる。オキシ炭化ケイ素ガラスは化学的に不活性で
あるから、セラミック繊維と反応してそれの性質を劣化
させることなしにそれを包埋し得ることが判明した。そ
の結果、適当なセラミック充填剤を含有するオキシ炭化
ケイ素ガラスは多くの既知セラミック繊維に対する母材
として使用することができるのである。
から成る母体がセラミック繊維を包囲して保護する結果
、セラミック繊維は約1600℃までの温度を有する酸
化雰囲気および還元雰囲気中においても分解することが
なくなる。オキシ炭化ケイ素ガラスは化学的に不活性で
あるから、セラミック繊維と反応してそれの性質を劣化
させることなしにそれを包埋し得ることが判明した。そ
の結果、適当なセラミック充填剤を含有するオキシ炭化
ケイ素ガラスは多くの既知セラミック繊維に対する母材
として使用することができるのである。
本発明のオキシ炭化ケイ素ガラス並びにかかるガラスお
よびガラス製品の製造方法を一層詳しく説明するため、
以下に実施例を示す。
よびガラス製品の製造方法を一層詳しく説明するため、
以下に実施例を示す。
実施例1
熱重量分析によって重量の減少を測定しながら、メチル
トリメトキシシランから誘導された部分縮合物およびコ
ロイドシリカを約1.8:1の重量比率で含有するシロ
キサノール処理コロイドシリカを熱分解した。熱重量分
析は、加熱中の試料の重量減少を測定するための方法で
ある。試料は水素雰囲気中において毎分10℃の速度で
1250℃まで加熱した。熱分解後に得られたオキシ炭
化ケイ素ガラスについて測定された重量減少は約14%
であった。
トリメトキシシランから誘導された部分縮合物およびコ
ロイドシリカを約1.8:1の重量比率で含有するシロ
キサノール処理コロイドシリカを熱分解した。熱重量分
析は、加熱中の試料の重量減少を測定するための方法で
ある。試料は水素雰囲気中において毎分10℃の速度で
1250℃まで加熱した。熱分解後に得られたオキシ炭
化ケイ素ガラスについて測定された重量減少は約14%
であった。
処理シリカの熱分解によって得られた重量減少データを
第1図のグラフに示す、第1図のグラフにおいては、試
料の重量減少の百分率が縦軸上にプロットされている一
方、加熱温度の上昇が横軸上にプロットされている。第
1図のグラフを見れば、試料の重量減少は約900℃で
ほぼ完了したことがわかる。熱分解後の試料のX線回折
分析によれば、結晶化はほとんど認めらなかった。
第1図のグラフに示す、第1図のグラフにおいては、試
料の重量減少の百分率が縦軸上にプロットされている一
方、加熱温度の上昇が横軸上にプロットされている。第
1図のグラフを見れば、試料の重量減少は約900℃で
ほぼ完了したことがわかる。熱分解後の試料のX線回折
分析によれば、結晶化はほとんど認めらなかった。
各種のガラスの組成は、ガラス中に存在する各元素の量
を用いて概略的に定義することができる。
を用いて概略的に定義することができる。
しかしながら、ガラスに様々な性質を付与するのはそれ
の近距離秩序特性である。それ故、ガラス中における近
距離秩序特性を決定することにより、各種のガラスを性
質の面から定義することができる。すなわち、実施例1
において得られたオキシ炭化ケイ素ガラスの近距離秩序
特性は、該ガラス中に存在する多原子単位(すなわち、
モノカルボシロキサン、ジカルボシロキサンおよびテト
ラオキシケイ素)の比率を測定することによって決定さ
れるのである。
の近距離秩序特性である。それ故、ガラス中における近
距離秩序特性を決定することにより、各種のガラスを性
質の面から定義することができる。すなわち、実施例1
において得られたオキシ炭化ケイ素ガラスの近距離秩序
特性は、該ガラス中に存在する多原子単位(すなわち、
モノカルボシロキサン、ジカルボシロキサンおよびテト
ラオキシケイ素)の比率を測定することによって決定さ
れるのである。
上記のごとくにして得られたオキシ炭化ケイ素ガラスの
試料を用いて記録された29S1一固体核磁気共鳴スベ
クトルを第2図に示す、また、「ニカロン」炭化ケイ素
繊維の試料を用いて記録された298H−核磁気共鳴ス
ペクトルを第3図に示す、第2および3図の縦軸上には
、励起された試料について測定された電磁波の強度がプ
ロットされている。横軸上には、それのゼロ点に該当す
るテトラメチルケイ素標準物質からの化学シフトがpp
m単位でプロットされている。 ppm単位の化学シフ
ト値は数多くの多原子単位について知られている。
試料を用いて記録された29S1一固体核磁気共鳴スベ
クトルを第2図に示す、また、「ニカロン」炭化ケイ素
繊維の試料を用いて記録された298H−核磁気共鳴ス
ペクトルを第3図に示す、第2および3図の縦軸上には
、励起された試料について測定された電磁波の強度がプ
ロットされている。横軸上には、それのゼロ点に該当す
るテトラメチルケイ素標準物質からの化学シフトがpp
m単位でプロットされている。 ppm単位の化学シフ
ト値は数多くの多原子単位について知られている。
たとえば、テトラオキシケイ素、ジカルボシロキサンお
よびモノカルボシロキサンに関する化学シフト値は、ビ
ー・ディールおよびアール・コスフェルト(P、 Di
ebl l R,にosfcld)編rNMR−ベーシ
ック・プリンシプルズ・アンド・プログレス:”Si−
NMR・スペクトロスコーピック・リザルツ(NMRB
a5ic Pr1nciples !Ill Prog
ress: ”Si−NMR5pectroscopi
c Res++Its)」(シュプリンガー・フエアラ
ーク社、ベルリン−ハイデルベルク、1981年)の1
86.184および178頁に示されている。それ故、
第2および3図中の各ピークは特定の多原子単位に関す
る近距離秩序特性を表わすことになる。
よびモノカルボシロキサンに関する化学シフト値は、ビ
ー・ディールおよびアール・コスフェルト(P、 Di
ebl l R,にosfcld)編rNMR−ベーシ
ック・プリンシプルズ・アンド・プログレス:”Si−
NMR・スペクトロスコーピック・リザルツ(NMRB
a5ic Pr1nciples !Ill Prog
ress: ”Si−NMR5pectroscopi
c Res++Its)」(シュプリンガー・フエアラ
ーク社、ベルリン−ハイデルベルク、1981年)の1
86.184および178頁に示されている。それ故、
第2および3図中の各ピークは特定の多原子単位に関す
る近距離秩序特性を表わすことになる。
第2図に示されたオキシ炭化ケイ素のスペクトルはピー
ク1〜3を含んでいる。ピーク1はジカルボシロキサン
、ピーク2はモノカルボシロキサン、そしてピーク3は
テトラオキシケイ素である。
ク1〜3を含んでいる。ピーク1はジカルボシロキサン
、ピーク2はモノカルボシロキサン、そしてピーク3は
テトラオキシケイ素である。
各ピークの下方の面積を積分することにより、該ガラス
中に存在する各多原子単位の比率を求めることができる
。なお、第2および3図のスペクトルについては、各ピ
ークの下方の面積を求めるのに先立ってバックグラウン
ドの妨害に対する補正を行った。
中に存在する各多原子単位の比率を求めることができる
。なお、第2および3図のスペクトルについては、各ピ
ークの下方の面積を求めるのに先立ってバックグラウン
ドの妨害に対する補正を行った。
第2図のスペクトルにおいて各ピークの下方の面積を積
分すれば、上記のごとくにして得られたオキシ炭化ケイ
素ガラスの組成は約8(重量)%までのジカルボシロキ
サン、約11〜21(重量)%のモノカルボシロキサン
、および約76〜86(重量)%のテトラオキシケイ素
から成ることがわかる。また、かかるガラスの核磁気共
鳴スベクトルの分析および黒色の外観に基づけば、少な
くとも約3(重量)%の元素状炭素が原子状態または小
さなりラスタを成してガラス母体中に分散していること
がわかる。
分すれば、上記のごとくにして得られたオキシ炭化ケイ
素ガラスの組成は約8(重量)%までのジカルボシロキ
サン、約11〜21(重量)%のモノカルボシロキサン
、および約76〜86(重量)%のテトラオキシケイ素
から成ることがわかる。また、かかるガラスの核磁気共
鳴スベクトルの分析および黒色の外観に基づけば、少な
くとも約3(重量)%の元素状炭素が原子状態または小
さなりラスタを成してガラス母体中に分散していること
がわかる。
シロキサノールと:コロイドシリカとを様々な比率で含
有する処理シリカを熱分解することにより、オキシ炭化
ケイ素ガラスを生成させることができる。その場合、シ
ロキサノールとコロイドシリカとの比率が1゜8:1よ
りも大きいような処理シリカを使用すれば、テトラオキ
シケイ素含量は76〜86(重量)%の範囲の下方部分
あるいはそれ以下になるものと予想される。逆に、シロ
キサノールとコロイドシリカとの比率が1.8:1より
も小さいような処理シリカを使用すれば、テトラオキシ
ケイ素含量は76〜86(重量)%の範囲の上方部分あ
るいはそれ以上になるものと予想される。
有する処理シリカを熱分解することにより、オキシ炭化
ケイ素ガラスを生成させることができる。その場合、シ
ロキサノールとコロイドシリカとの比率が1゜8:1よ
りも大きいような処理シリカを使用すれば、テトラオキ
シケイ素含量は76〜86(重量)%の範囲の下方部分
あるいはそれ以下になるものと予想される。逆に、シロ
キサノールとコロイドシリカとの比率が1.8:1より
も小さいような処理シリカを使用すれば、テトラオキシ
ケイ素含量は76〜86(重量)%の範囲の上方部分あ
るいはそれ以上になるものと予想される。
第2図のスペクトルと比較しながら、「ニカロンノ炭化
ケイ素繊維の試料を用いて記録された第3図のスペクト
ルを調べてみよう、第3因に示された「ニカロン」繊維
の組成は、(重量百分率で表わして)約68%の炭化ケ
イ素、約8%のジカルボシロキサン、約17%のモノカ
ルボシロキサン、および約7%のテトラオキシケイ素か
ら成っている。第3因のスペクトルかられかる通り、「
ニカロン」繊維は主として炭化ケイ素から成っていて、
ジカルボシロキサン、モノカルボシロキサンおよびテト
ラオキシケイ素の含量は少ない。
ケイ素繊維の試料を用いて記録された第3図のスペクト
ルを調べてみよう、第3因に示された「ニカロン」繊維
の組成は、(重量百分率で表わして)約68%の炭化ケ
イ素、約8%のジカルボシロキサン、約17%のモノカ
ルボシロキサン、および約7%のテトラオキシケイ素か
ら成っている。第3因のスペクトルかられかる通り、「
ニカロン」繊維は主として炭化ケイ素から成っていて、
ジカルボシロキサン、モノカルボシロキサンおよびテト
ラオキシケイ素の含量は少ない。
それに対し、第2図のスペクトルによって示されたごと
く、オキシ炭化ケイ素ガラスは実質的な量のジカルボシ
ロキサン、モノカルボシロキサンおよびテトラオキシケ
イ素から成っている。このように、オキシ炭化ケイ素ガ
ラスは従来のガラスにおいて知られていなかった仕方で
炭素とケイ素とを結合させる特異な近距離秩序特性を示
している。
く、オキシ炭化ケイ素ガラスは実質的な量のジカルボシ
ロキサン、モノカルボシロキサンおよびテトラオキシケ
イ素から成っている。このように、オキシ炭化ケイ素ガ
ラスは従来のガラスにおいて知られていなかった仕方で
炭素とケイ素とを結合させる特異な近距離秩序特性を示
している。
このことが失透および分解に対する抵抗性の増大をもた
らし、そして本発明のガラスを特徴づけているのである
。
らし、そして本発明のガラスを特徴づけているのである
。
上記のごときオキシ炭化ケイ素ガラスおよび「ニカロン
」繊維の組成はまた、各多原子単位のモル百分率を用い
て記述することもできる。下記第1表中には、それらの
物質の組成を重量百分率からモル百分率に換算して表わ
した結果が示されている。
」繊維の組成はまた、各多原子単位のモル百分率を用い
て記述することもできる。下記第1表中には、それらの
物質の組成を重量百分率からモル百分率に換算して表わ
した結果が示されている。
ロン」炭化ケイ素繊維においては、約90〜100%の
ケイ素原子が炭素原子と結合しているのである。
ケイ素原子が炭素原子と結合しているのである。
第1図はシロキサノール処理コロイドシリカの熱分解時
における重量の減少を示すグラフ、第2図はシロキサノ
ール処理コロイドシリカの熱分解によって生成されたオ
キシ炭化ケイ素ガラスの2931−核磁気共鳴スペクト
ルを示すグラフ、そして第3図は「ニカロン」炭化ケイ
素繊維の29Si−核磁気共鳴スペクトルを示すグラフ
である。 モル百分率は、試料中に存在する各多原子単位の比率を
分子基準で表わす、それ故、酸素または炭素原子と結合
したケイ素原子の割合はモル百分率を用いて求めること
ができるのである。実施例1のオキシ炭化ケイ素ガラス
においては、約16〜26%のケイ素原子が少なくとも
1個の炭素原子と結合していることになる。しかるに、
「ニカ鉦i5成少(%〕
における重量の減少を示すグラフ、第2図はシロキサノ
ール処理コロイドシリカの熱分解によって生成されたオ
キシ炭化ケイ素ガラスの2931−核磁気共鳴スペクト
ルを示すグラフ、そして第3図は「ニカロン」炭化ケイ
素繊維の29Si−核磁気共鳴スペクトルを示すグラフ
である。 モル百分率は、試料中に存在する各多原子単位の比率を
分子基準で表わす、それ故、酸素または炭素原子と結合
したケイ素原子の割合はモル百分率を用いて求めること
ができるのである。実施例1のオキシ炭化ケイ素ガラス
においては、約16〜26%のケイ素原子が少なくとも
1個の炭素原子と結合していることになる。しかるに、
「ニカ鉦i5成少(%〕
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、非酸化性雰囲気中においてシロキサノール処理コロ
イドシリカを十分な時間にわたり加熱して熱分解するこ
とにより、1600℃までの温度下で組織的に安定なオ
キシ炭化ケイ素ガラスを生成させることを特徴とするガ
ラスの製造方法。 2、非酸化性雰囲気中においてシロキサノール処理コロ
イドシリカを十分な時間にわたり加熱して熱分解するこ
とにより、1250℃以上の温度下で組織的に安定なオ
キシ炭化ケイ素ガラスを生成させることを特徴とするガ
ラスの製造方法。 3、前記熱分解が約900〜1600℃の温度に加熱す
ることによって達成される請求項2記載の方法。 4、前記シロキサノール処理コロイドシリカの熱分解に
よる重量減少が実質的に安定化するまでの時間にわたっ
て前記加熱が実施される請求項3記載の方法。 5、前記シロキサノール処理コロイドシリカが完全に緻
密化するまでの時間にわたつて前記加熱が実施される請
求項3記載の方法。 6、前記熱分解が水素ガス雰囲気中において実施される
請求項2記載の方法。 7、前記シロキサノール処理コロイドシリカが、約5〜
150ミリミクロンの粒度を有するコロイドシリカを式
RSi(OH)_3(ただし、Rは約1〜12個の炭素
原子を有する1価の炭化水素基である)で表わされるシ
ラノールの部分縮合物中に分散させたものから成る請求
項2記載の方法。 8、前記シロキサノール処理コロイドシリカが、約5〜
150ミリミクロンの粒度を有するコロイドシリカを式
RSi(OH)_3(ただし、Rはメチル基である)で
表わされるシラノールの部分縮合物中に分散させたもの
から成る請求項2記載の方法。 9、前記部分縮合物がメチルトリメトキシシランの加水
分解によって生成されたものであり、かつ前記部分縮合
物と前記コロイドシリカとの比率が約1.8:1である
請求項7記載の方法。 10、非酸化性雰囲気中においてシロキサノール処理コ
ロイドシリカを十分な時間にわたり加熱して熱分解する
ことにより、1600℃までの温度下で組織的に安定な
オキシ炭化ケイ素ガラスを生成させることから成る方法
によって製造されることを特徴とする、酸素原子と炭素
原子との間の化学結合が実質的に存在しない状態で化学
結合したケイ素、酸素および炭素から成るガラス。 11、非酸化性雰囲気中においてシロキサノール処理コ
ロイドシリカを十分な時間にわたり加熱して熱分解する
ことにより、約1250℃以上の温度下で組織的に安定
なオキシ炭化ケイ素ガラスを生成させることから成る方
法によって製造されることを特徴とする、酸素原子と炭
素原子との間の化学結合が実質的に存在しない状態で化
学結合したケイ素、酸素および炭素から成るガラス。 12、前記シロキサノール処理コロイドシリカが、約5
〜150ミリミクロンの粒度を有するコロイドシリカを
式RSi(OH)_3(ただし、Rは約1〜12個の炭
素原子を有する1価の炭化水素基である)で表わされる
シラノールの部分縮合物中に分散させたものから成る請
求項11記載のガラス。 13、前記シロキサノール処理コロイドシリカが、約5
〜150ミリミクロンの粒度を有するコロイドシリカを
式RSi(OH)_3(ただし、Rはメチル基である)
で表わされるシラノールの部分縮合物中に分散させたも
のから成る請求項11記載のガラス。 14、前記部分縮合物がメチルトリメトキシシランの加
水分解によって生成されたものであり、かつ前記部分縮
合物と前記コロイドシリカとの比率が約1.8:1であ
る請求項11記載のガラス。 15、約11〜21(重量)%のモノカルボシロキサン
、約8(重量)%までのジカルボシロキサン、および約
76〜86(重量)%のテトラオキシケイ素を含む多原
子単位を成して存在しているケイ素、酸素および炭素と
、ガラス母体中に分散した少なくとも約3(重量)%ま
での元素状炭素とから成ることを特徴とする、約125
0℃以上の温度下で組織的に安定なガラス。 16、約11〜21(重量)%のモノカルボシロキサン
、約8(重量)%までのジカルボシロキサン、および約
76〜86(重量)%のテトラオキシケイ素を含む多原
子単位を成して存在しているケイ素、酸素および炭素と
、ガラス母体中に分散した少なくとも約3(重量)%ま
での元素状炭素とから成ることを特徴とする、約160
0℃までの温度下で組織的に安定なガラス。 17、約16〜26%のケイ素原子の各々が少なくとも
1個の炭素原子と結合しているようなオキシ炭化ケイ素
ガラスの塊状体を成して存在しているケイ素、酸素およ
び炭素から成ることを特徴とする、約1250℃以上の
温度下で組織的に安定なガラス。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US43905989A | 1989-11-20 | 1989-11-20 | |
US439,059 | 1989-11-20 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03197334A true JPH03197334A (ja) | 1991-08-28 |
Family
ID=23743116
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2308991A Pending JPH03197334A (ja) | 1989-11-20 | 1990-11-16 | シロキサノール処理コロイドシリカからオキシ炭化ケイ素ガラスを製造する方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03197334A (ja) |
CA (1) | CA2021614A1 (ja) |
DE (1) | DE4034996A1 (ja) |
FR (1) | FR2654718A1 (ja) |
GB (1) | GB2238307A (ja) |
IT (1) | IT1243923B (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19951375A1 (de) * | 1999-10-26 | 2001-05-17 | Fraunhofer Ges Forschung | Glasartiger anorganischer Festkörper, Verfahren zur Herstellung eines solchen Festkörpers und dessen Verwendung |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3378431A (en) * | 1967-03-20 | 1968-04-16 | Pfaudler Permutit Inc | Method of making carbon-containing glass and product thereof |
US3898090A (en) * | 1974-06-24 | 1975-08-05 | Dow Corning | Foundry mold and core compositions |
EP0107943B1 (en) * | 1982-10-29 | 1986-12-17 | Dow Corning Corporation | Carbon-containing monolithic glasses prepared by a sol-gel process |
-
1990
- 1990-07-19 CA CA002021614A patent/CA2021614A1/en not_active Abandoned
- 1990-10-29 GB GB9023473A patent/GB2238307A/en not_active Withdrawn
- 1990-11-03 DE DE4034996A patent/DE4034996A1/de not_active Withdrawn
- 1990-11-16 JP JP2308991A patent/JPH03197334A/ja active Pending
- 1990-11-16 FR FR9014254A patent/FR2654718A1/fr not_active Withdrawn
- 1990-11-20 IT IT02211790A patent/IT1243923B/it active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IT9022117A0 (it) | 1990-11-20 |
GB9023473D0 (en) | 1990-12-12 |
GB2238307A (en) | 1991-05-29 |
FR2654718A1 (fr) | 1991-05-24 |
IT1243923B (it) | 1994-06-28 |
DE4034996A1 (de) | 1991-05-23 |
CA2021614A1 (en) | 1991-05-21 |
IT9022117A1 (it) | 1992-05-20 |
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