JPH03196444A - 蛍光膜の乾燥装置 - Google Patents
蛍光膜の乾燥装置Info
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- JPH03196444A JPH03196444A JP33744689A JP33744689A JPH03196444A JP H03196444 A JPH03196444 A JP H03196444A JP 33744689 A JP33744689 A JP 33744689A JP 33744689 A JP33744689 A JP 33744689A JP H03196444 A JPH03196444 A JP H03196444A
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- Japan
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- fluorescent film
- heater
- drying
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- temperature
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- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
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Landscapes
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、カラー受像管の蛍光膜を形成する工程で用い
られる乾燥装置に関する。
られる乾燥装置に関する。
Ｃ従来の技術〕
カラー受像管では、パネル内面に各色、例えば青、緑、
赤の各蛍光膜パターンが所定の位置関係をもって塗り分
けられており、この蛍光膜がら所定の間隔をへたてて、
シャドウマスクあるいはアパーチャーグリル等の色選択
用電極が取付けられ、これによって青、緑、赤に対応す
る電子ビームをそれぞれ蛍光膜上の対応する色の蛍光膜
パターン上に射突するようにしている。
赤の各蛍光膜パターンが所定の位置関係をもって塗り分
けられており、この蛍光膜がら所定の間隔をへたてて、
シャドウマスクあるいはアパーチャーグリル等の色選択
用電極が取付けられ、これによって青、緑、赤に対応す
る電子ビームをそれぞれ蛍光膜上の対応する色の蛍光膜
パターン上に射突するようにしている。
このようなカラー受像管の蛍光膜パターン形成の一般的
な方法としては、パネル内面を洗浄した後、通常下塗り
という、パネルと蛍光体との接着強度をもたせるために
、ポリビニールアルコールを主成分とした液を塗布した
後、乾燥を行ない、その上にポリビニールアルコールと
これに感光性を付与し露光によって架橋反応を起こさせ
る重クロム酸塩、例えば、重クロム酸アンモニウムと、
青色蛍光体粉体を混合した蛍光体スラリーを塗布、乾燥
し、均一な膜を作る。この膜をシャドウマスクを通して
露光を行ない、青の電子ビームと対応する位置に架橋反
応を起させ、現像によって露光された位置に青の蛍光膜
パターンを作成する。この様な作業を繰返して、順次、
緑、赤の蛍光膜パターンを所定の配列で作成する。
な方法としては、パネル内面を洗浄した後、通常下塗り
という、パネルと蛍光体との接着強度をもたせるために
、ポリビニールアルコールを主成分とした液を塗布した
後、乾燥を行ない、その上にポリビニールアルコールと
これに感光性を付与し露光によって架橋反応を起こさせ
る重クロム酸塩、例えば、重クロム酸アンモニウムと、
青色蛍光体粉体を混合した蛍光体スラリーを塗布、乾燥
し、均一な膜を作る。この膜をシャドウマスクを通して
露光を行ない、青の電子ビームと対応する位置に架橋反
応を起させ、現像によって露光された位置に青の蛍光膜
パターンを作成する。この様な作業を繰返して、順次、
緑、赤の蛍光膜パターンを所定の配列で作成する。
上記方法によって蛍光膜を形成する場合、蛍光体スラリ
ー塗布後の乾燥工程では均一に乾燥することが重要であ
る。例えば、乾燥が強くなりすぎると、次工程の現像処
理がうまく出来ず、蛍光膜パターンを形成しているドツ
トまたはストライブが分離せず、いわゆる、かぶり現象
が生じ、逆に弱すぎると、前記ドツトまたはストライプ
が落下し、蛍光膜パターンの一部が欠落してしまうとい
う現象が生じる不具合がある。このような不具合を生じ
させないように、蛍光体スラリー塗布後の乾燥を一定に
保つことが必要である。
ー塗布後の乾燥工程では均一に乾燥することが重要であ
る。例えば、乾燥が強くなりすぎると、次工程の現像処
理がうまく出来ず、蛍光膜パターンを形成しているドツ
トまたはストライブが分離せず、いわゆる、かぶり現象
が生じ、逆に弱すぎると、前記ドツトまたはストライプ
が落下し、蛍光膜パターンの一部が欠落してしまうとい
う現象が生じる不具合がある。このような不具合を生じ
させないように、蛍光体スラリー塗布後の乾燥を一定に
保つことが必要である。
従来、このような蛍光体スラリー塗布後の乾燥の熱源と
しては、第４図のブロック系統図のように、遠赤外線ヒ
ータ９を使用し、各色毎に複数ポジションに配列し、お
のおののポジションにおいては、パーセンテージタイマ
ー１５により、一定時間、例えば１５秒を１００％とし
、マグネットスイッチ１４を制御し、設定パーセンテー
ジの時間だけ、遠赤外線ヒータ９に通電１発熱させ、こ
れを繰返すことにより、又、複数ポジションでこの様な
設定をし、これらの乾燥部をパネルが連続的に通過する
ことにより乾燥されるようになっていた。
しては、第４図のブロック系統図のように、遠赤外線ヒ
ータ９を使用し、各色毎に複数ポジションに配列し、お
のおののポジションにおいては、パーセンテージタイマ
ー１５により、一定時間、例えば１５秒を１００％とし
、マグネットスイッチ１４を制御し、設定パーセンテー
ジの時間だけ、遠赤外線ヒータ９に通電１発熱させ、こ
れを繰返すことにより、又、複数ポジションでこの様な
設定をし、これらの乾燥部をパネルが連続的に通過する
ことにより乾燥されるようになっていた。
上述した従来の乾燥装置は、制御電源からの通電、遮断
信号の繰返しにより発熱の程度を制御するもので、各ポ
ジションに設置された１本、１本の遠赤外線ヒータエレ
メントの性能上の偏差、すなわち、エレメントの電気抵
抗値の偏差により、表面温度がそれ応じて差が出る。こ
れにより、パネルに与えられるヒータよりの放射エネル
ギが不安定になる欠点があった。
信号の繰返しにより発熱の程度を制御するもので、各ポ
ジションに設置された１本、１本の遠赤外線ヒータエレ
メントの性能上の偏差、すなわち、エレメントの電気抵
抗値の偏差により、表面温度がそれ応じて差が出る。こ
れにより、パネルに与えられるヒータよりの放射エネル
ギが不安定になる欠点があった。
上記課題に対し本発明は、このような、乾燥の不安定さ
の欠点を除去するものであり、乾燥装置を通過する蛍光
体スラリーの塗布されたパネルに−様な放射エネルギー
を与えるために、複数ポジションに分散設置した遠赤外
線ヒータエレメントに対し、各ヒータエレメントの表面
に接触させた温度検出器を設け、さらにヒータエレメン
トの表面温度設定器と、Ｐ、 １． Ｄ、 （ｐｒｏｐ
ｏｒｔｉｏｎａｌ。
の欠点を除去するものであり、乾燥装置を通過する蛍光
体スラリーの塗布されたパネルに−様な放射エネルギー
を与えるために、複数ポジションに分散設置した遠赤外
線ヒータエレメントに対し、各ヒータエレメントの表面
に接触させた温度検出器を設け、さらにヒータエレメン
トの表面温度設定器と、Ｐ、 １． Ｄ、 （ｐｒｏｐ
ｏｒｔｉｏｎａｌ。
ｉｎｔｅｇｒａｌ ａｎｄ ｄｅｒｉＴｖａｔｉｖｅ）
制御ユニットとを備えしめて、ヒータエレメントの表面
温度を一定値に制御している。
制御ユニットとを備えしめて、ヒータエレメントの表面
温度を一定値に制御している。
赤外線の放射強度、スペクトル材分布及び温度の関係は
Ｐｌａｎｋの法則で表わされる。すなわち、１ Ｗａ＝ （ｅｘｐ Ｃ２／λＴ −１）−１λに こでＷ＜は単位面積当り、単位波長間隔当り、波長λで
、放出される放射線量（Ｗ／ｅ１１り、Ｔは、放射体の
絶対温度（°Ｋ）、λは放出される放射線の波長（ｃｍ
）、Ｃ１およびＣ６は定数。
Ｐｌａｎｋの法則で表わされる。すなわち、１ Ｗａ＝ （ｅｘｐ Ｃ２／λＴ −１）−１λに こでＷ＜は単位面積当り、単位波長間隔当り、波長λで
、放出される放射線量（Ｗ／ｅ１１り、Ｔは、放射体の
絶対温度（°Ｋ）、λは放出される放射線の波長（ｃｍ
）、Ｃ１およびＣ６は定数。
これにより、各ヒータエレメントの表面温度Ｔを所望の
一定値に参雫保つことにより、Ｗλ、放射線量が一定と
なり、安定した乾燥が行なわれる。
一定値に参雫保つことにより、Ｗλ、放射線量が一定と
なり、安定した乾燥が行なわれる。
５一
つぎに本発明について図面を参照して説明する。
第１図は、本発明の一実施例に係る蛍光膜塗布装置の１
部の斜視図である。第１図において、上部レール１．下
部レール２．及びスラストレール３に懸架され、かつ連
続なチェーン４にパネルを搭載するキャリア６が自転可
能で、かつ傾斜支点７を中心にリードレール８に沿って
、傾斜する様に取付けられて、ある周期時間のもとに間
欠運動するものである。
部の斜視図である。第１図において、上部レール１．下
部レール２．及びスラストレール３に懸架され、かつ連
続なチェーン４にパネルを搭載するキャリア６が自転可
能で、かつ傾斜支点７を中心にリードレール８に沿って
、傾斜する様に取付けられて、ある周期時間のもとに間
欠運動するものである。
第２図は、塗布装置のキャリア６の停止位置に相対して
設置されるヒータユニットであり、複数本の遠赤外線ヒ
ータエレメント９を有し、各エレメントには表面温度検
出器１０が取付けられている。
設置されるヒータユニットであり、複数本の遠赤外線ヒ
ータエレメント９を有し、各エレメントには表面温度検
出器１０が取付けられている。
第３図は、制御部のブロック系統図であり、ヒータエレ
メント表面温度設定器１１による設定基準温度と、ヒー
タエレメントの表面温度検出器１０との値の差によりＰ
ＩＤ制御ユニット１２が作動し、電源ユニット１３へ信
号を送り、前記検出温度と設定器の設定温度の差が零に
なるように６− ヒータエレメントに通電され、ヒータエレメントの表面
温度を設定器の設定温度を保持するように制御する。
メント表面温度設定器１１による設定基準温度と、ヒー
タエレメントの表面温度検出器１０との値の差によりＰ
ＩＤ制御ユニット１２が作動し、電源ユニット１３へ信
号を送り、前記検出温度と設定器の設定温度の差が零に
なるように６− ヒータエレメントに通電され、ヒータエレメントの表面
温度を設定器の設定温度を保持するように制御する。
以上説明したように本発明は、パネル内面に塗布された
感光性蛍光体スラリーからなる感光性の蛍光膜を乾燥さ
せるための遠赤外線を発生するヒータエレメントの表面
温度を一定にすることにより、前記パネルの感光性の蛍
光膜へ一定の放射量が与えられ、パネル毎の蛍光膜の乾
燥の差を低減することが出来、高品質の蛍光膜が形成さ
れ、工程の安定化が達成でき、品質向上、歩留向上の効
果が大である。
感光性蛍光体スラリーからなる感光性の蛍光膜を乾燥さ
せるための遠赤外線を発生するヒータエレメントの表面
温度を一定にすることにより、前記パネルの感光性の蛍
光膜へ一定の放射量が与えられ、パネル毎の蛍光膜の乾
燥の差を低減することが出来、高品質の蛍光膜が形成さ
れ、工程の安定化が達成でき、品質向上、歩留向上の効
果が大である。
第１図は本発明の一実施例に係る蛍光膜塗布装置の一例
の部分斜視図、第２図は本発明の一実施例のヒータユニ
ットの斜視図、第３図は本発明の一実施例の制御系統を
示すブロック系統図、第４図は従来の乾燥装置のブロッ
ク系統図である。 １・・・・・・上部レール、２・・・・・・下部レール
、３・・・・・・スラストレール、４・・・・・・チェ
ーン、５・・・・・・パネル、６・・・・・・キャリア
、７・・・・・・傾斜支点、８・・・・・・リードレー
ル、９・・・・・・ヒータエレメント、１０・・・・・
・表面温度検出器、１１・・・・・・表面温度設定器、
１２・・・・・・ＰＩＤ制御ユニット、１３・・・・・
・電源ユニット。
の部分斜視図、第２図は本発明の一実施例のヒータユニ
ットの斜視図、第３図は本発明の一実施例の制御系統を
示すブロック系統図、第４図は従来の乾燥装置のブロッ
ク系統図である。 １・・・・・・上部レール、２・・・・・・下部レール
、３・・・・・・スラストレール、４・・・・・・チェ
ーン、５・・・・・・パネル、６・・・・・・キャリア
、７・・・・・・傾斜支点、８・・・・・・リードレー
ル、９・・・・・・ヒータエレメント、１０・・・・・
・表面温度検出器、１１・・・・・・表面温度設定器、
１２・・・・・・ＰＩＤ制御ユニット、１３・・・・・
・電源ユニット。
Claims (1)
- パネル内面に塗布された感光性蛍光体スラリーからなる
感光性の蛍光膜を乾燥するための乾燥装置において、所
定位置に移動された前記パネルの蛍光面に乾燥用の遠赤
外線を照射する遠赤外線ヒータエレメントと、このヒー
タエメレントの表面温度を検出しこの検出された温度と
基準の温度とを比較し、前記ヒータエメレントの表面温
度が所定の一定値を保持するように制御する制御装置と
を備えたことを特徴とする蛍光膜の乾燥装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1337446A JPH07120507B2 (ja) | 1989-12-25 | 1989-12-25 | 蛍光膜の乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1337446A JPH07120507B2 (ja) | 1989-12-25 | 1989-12-25 | 蛍光膜の乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03196444A true JPH03196444A (ja) | 1991-08-27 |
| JPH07120507B2 JPH07120507B2 (ja) | 1995-12-20 |
Family
ID=18308711
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1337446A Expired - Lifetime JPH07120507B2 (ja) | 1989-12-25 | 1989-12-25 | 蛍光膜の乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07120507B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10380707B2 (en) | 2012-02-24 | 2019-08-13 | Itip Development, Llc | Patent life cycle management system |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63104681A (ja) * | 1986-10-23 | 1988-05-10 | Noritake Co Ltd | 遠赤外線パネル式ヒ−タを備えた塗装乾燥装置 |
-
1989
- 1989-12-25 JP JP1337446A patent/JPH07120507B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63104681A (ja) * | 1986-10-23 | 1988-05-10 | Noritake Co Ltd | 遠赤外線パネル式ヒ−タを備えた塗装乾燥装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10380707B2 (en) | 2012-02-24 | 2019-08-13 | Itip Development, Llc | Patent life cycle management system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07120507B2 (ja) | 1995-12-20 |
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